JPH10261625A - プラズマエッチャーの終点検出装置 - Google Patents
プラズマエッチャーの終点検出装置Info
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- JPH10261625A JPH10261625A JP9066713A JP6671397A JPH10261625A JP H10261625 A JPH10261625 A JP H10261625A JP 9066713 A JP9066713 A JP 9066713A JP 6671397 A JP6671397 A JP 6671397A JP H10261625 A JPH10261625 A JP H10261625A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 波長選択を行う場合や構成要素の位置ずれの
有無を判定する場合の作業性、保守性の良好なプラズマ
エッチャーの終点検出装置を提供する。 【解決手段】 プラズマエッチャーのチャンバ内で発生
するプラズマ光を入射して分光角度に応じた波長選択を
行う回動可能なグレーティングミラー２と、このグレー
ティングミラー２の回動角度の変更を行う精密ネジ機構
４と、前記グレーティングミラー２により波長選択され
たプラズマ光を検出しプラズマエッチャーにおけるエッ
チング終了時点を検出する光電子増倍管１とを有すると
ともに、光遮蔽型のフォトインタラプタ２４を用いた第
１の位置検出手段１１によりグレーティングミラー２の
回動位置を検出し、光反射型のフォトインタラプタ２４
を用いた第２の位置検出手段１２より精密ネジ機構４の
位置を検出し、第１、第２の各位置検出手段１１、１２
の検出結果を第１、第２の発光ダイオード２６、２７に
より報知するようにしたものである。
有無を判定する場合の作業性、保守性の良好なプラズマ
エッチャーの終点検出装置を提供する。 【解決手段】 プラズマエッチャーのチャンバ内で発生
するプラズマ光を入射して分光角度に応じた波長選択を
行う回動可能なグレーティングミラー２と、このグレー
ティングミラー２の回動角度の変更を行う精密ネジ機構
４と、前記グレーティングミラー２により波長選択され
たプラズマ光を検出しプラズマエッチャーにおけるエッ
チング終了時点を検出する光電子増倍管１とを有すると
ともに、光遮蔽型のフォトインタラプタ２４を用いた第
１の位置検出手段１１によりグレーティングミラー２の
回動位置を検出し、光反射型のフォトインタラプタ２４
を用いた第２の位置検出手段１２より精密ネジ機構４の
位置を検出し、第１、第２の各位置検出手段１１、１２
の検出結果を第１、第２の発光ダイオード２６、２７に
より報知するようにしたものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、終点検出装置に関
し、より詳しくは、半導体産業におけるシリコンウェハ
のプラズマエッチャーによるプラズマエッチング工程の
終点検出に用いられる終点検出装置に関する。
し、より詳しくは、半導体産業におけるシリコンウェハ
のプラズマエッチャーによるプラズマエッチング工程の
終点検出に用いられる終点検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマガスを用いたシリコンウェハの
エッチング作業において、そのエッチング作業の終了を
自動的に検出するために、作業中のエッチング用チャン
バー内のプラズマ光の特定波長の光量をモニタし、一定
の光量変化の発生した点をエッチング作業の終了点とし
て、エッチング装置又は作業者が検知、判別するために
使用される終点検出装置として、図２に示す構成のもの
が知られている（特開平７−２４０４０５号公報、特開
平５−６２９４３公報）。
エッチング作業において、そのエッチング作業の終了を
自動的に検出するために、作業中のエッチング用チャン
バー内のプラズマ光の特定波長の光量をモニタし、一定
の光量変化の発生した点をエッチング作業の終了点とし
て、エッチング装置又は作業者が検知、判別するために
使用される終点検出装置として、図２に示す構成のもの
が知られている（特開平７−２４０４０５号公報、特開
平５−６２９４３公報）。
【０００３】この図２に示す終点検出装置は、図示しな
いエッチングチャンバー内から射出されるプラズマ光を
検出する光電子増倍管（ＰＭＴ）３１と、光電子増倍管
３１への入射光の波長を選択するためのグレーティング
ミラー（分光器）３２と、グレーティングミラー３２を
図２に示す矢印ａ、ｂ方向に回動させ選択波長を変更す
るための機構であるサインバー機構３３と、サインバー
機構３３及びグレーティングミラー３２に対して図２に
示す支軸４０を支点とした回動力を付与するマイクロメ
ータ３４と、グレーティングミラー３２への入射光の幅
を決定するためのスリット３５と、スリット３５を通過
したプラズマ光を反射してグレーティングミラー３２へ
導く全反射ミラー３７と、グレーティングミラー３２か
らの光を反射して光電子増倍管３１へ導く全反射ミラー
３８及び３９と、光電子増倍管３１へ不要な光の入光を
防ぐためのスリット３６とを具備している。
いエッチングチャンバー内から射出されるプラズマ光を
検出する光電子増倍管（ＰＭＴ）３１と、光電子増倍管
３１への入射光の波長を選択するためのグレーティング
ミラー（分光器）３２と、グレーティングミラー３２を
図２に示す矢印ａ、ｂ方向に回動させ選択波長を変更す
るための機構であるサインバー機構３３と、サインバー
機構３３及びグレーティングミラー３２に対して図２に
示す支軸４０を支点とした回動力を付与するマイクロメ
ータ３４と、グレーティングミラー３２への入射光の幅
を決定するためのスリット３５と、スリット３５を通過
したプラズマ光を反射してグレーティングミラー３２へ
導く全反射ミラー３７と、グレーティングミラー３２か
らの光を反射して光電子増倍管３１へ導く全反射ミラー
３８及び３９と、光電子増倍管３１へ不要な光の入光を
防ぐためのスリット３６とを具備している。
【０００４】この終点検出装置において、前記マイクロ
メータ３４の伸縮体３４ａの直線的な伸縮に伴い、図２
に示す支軸４０により支持されているサインバー機構３
３に取り付けられたグレーティングミラー３２が回転
し、グレーティングミラー３２から全反射ミラー３８に
向けて出射する光の波長が変更される。
メータ３４の伸縮体３４ａの直線的な伸縮に伴い、図２
に示す支軸４０により支持されているサインバー機構３
３に取り付けられたグレーティングミラー３２が回転
し、グレーティングミラー３２から全反射ミラー３８に
向けて出射する光の波長が変更される。
【０００５】ここで、マイクロメータ３４の伸縮体３４
ａの伸縮量と、サインバー機構３３の回転角度との間に
適当な関係式を定めておき、マイクロメータ３４の周面
の目盛３４ｂの値を読み取ることで、この終点検出装置
が検出する光の波長を任意に設定することができる。
ａの伸縮量と、サインバー機構３３の回転角度との間に
適当な関係式を定めておき、マイクロメータ３４の周面
の目盛３４ｂの値を読み取ることで、この終点検出装置
が検出する光の波長を任意に設定することができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した終点検出装置
の場合、図２に示した終点検出装置のサインバー機構３
３やマイクロメータ３４は、製造時には伸縮体３４ａの
伸縮量を示す目盛３４ｂの位置と前記グレーティングミ
ラー３２による選択波長との関係は精密に調整されてい
る。
の場合、図２に示した終点検出装置のサインバー機構３
３やマイクロメータ３４は、製造時には伸縮体３４ａの
伸縮量を示す目盛３４ｂの位置と前記グレーティングミ
ラー３２による選択波長との関係は精密に調整されてい
る。
【０００７】しかし、プラズマエッチングを行うある素
材に関して、波長の異なる複数の発光スペクトルについ
ての終点検出を実行したい場合が生じる。この場合に
は、発光スペクトル波長の相違に応じたグレーティング
ミラー３２の位置調整を行うことが必要となる。
材に関して、波長の異なる複数の発光スペクトルについ
ての終点検出を実行したい場合が生じる。この場合に
は、発光スペクトル波長の相違に応じたグレーティング
ミラー３２の位置調整を行うことが必要となる。
【０００８】また、輸送、運搬時、使用中の不注意によ
る落下等で加わる衝撃等を原因として、前記伸縮体３４
ａの伸縮量に対する選択波長の関係が狂ってしまう事態
が生じる。この場合、マイクロメータ３４の目盛３４ｂ
の位置と、選択波長の関連が正しいか否かを確認するこ
とが必要となる。
る落下等で加わる衝撃等を原因として、前記伸縮体３４
ａの伸縮量に対する選択波長の関係が狂ってしまう事態
が生じる。この場合、マイクロメータ３４の目盛３４ｂ
の位置と、選択波長の関連が正しいか否かを確認するこ
とが必要となる。
【０００９】このような確認作業は、通常、例えば水銀
灯等の複数の既知のピーク波長を有する光源を用い、光
電子増倍管３１の出力電圧を検出し、各々のピーク位置
におけるマイクロメータ３４の目盛３４ｂの位置と、既
知のピーク波長値との誤差の有無からこの終点検出装置
の狂いの有無を判断し、かかる後再調整作業を行うのが
通常である。
灯等の複数の既知のピーク波長を有する光源を用い、光
電子増倍管３１の出力電圧を検出し、各々のピーク位置
におけるマイクロメータ３４の目盛３４ｂの位置と、既
知のピーク波長値との誤差の有無からこの終点検出装置
の狂いの有無を判断し、かかる後再調整作業を行うのが
通常である。
【００１０】しかしながら、上述した選択波長の狂いの
検査作業は、前述の如く適当な光源を必要とし、また、
この終点検出装置が使用される半導体製造工場内で障害
発生の都度実施することは極めて煩雑であり、作業性、
保守性の点でることは否めない。
検査作業は、前述の如く適当な光源を必要とし、また、
この終点検出装置が使用される半導体製造工場内で障害
発生の都度実施することは極めて煩雑であり、作業性、
保守性の点でることは否めない。
【００１１】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、波長選択を任意に行う場合や構成要素の位置ず
れの有無を判定する場合の作業性、保守性の良好な終点
検出装置を提供することを目的とする。
であり、波長選択を任意に行う場合や構成要素の位置ず
れの有無を判定する場合の作業性、保守性の良好な終点
検出装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
プラズマエッチャーのチャンバ内で発生するプラズマ光
を入射して分光角度に応じた波長選択を行う回動可能な
分光手段と、この分光手段の回動角度の変更を行う角度
変更手段と、前記分光手段により波長選択されたプラズ
マ光を検出しプラズマエッチャーにおけるエッチング終
了時点を検出する光検出素子とを有するプラズマエッチ
ャーの終点検出装置において、前記分光手段の回動位置
を検出する位置検出手段と、この位置検出手段による前
記分光手段の回動位置の検出結果を報知する報知手段と
を有することを特徴とするものである。
プラズマエッチャーのチャンバ内で発生するプラズマ光
を入射して分光角度に応じた波長選択を行う回動可能な
分光手段と、この分光手段の回動角度の変更を行う角度
変更手段と、前記分光手段により波長選択されたプラズ
マ光を検出しプラズマエッチャーにおけるエッチング終
了時点を検出する光検出素子とを有するプラズマエッチ
ャーの終点検出装置において、前記分光手段の回動位置
を検出する位置検出手段と、この位置検出手段による前
記分光手段の回動位置の検出結果を報知する報知手段と
を有することを特徴とするものである。
【００１３】この発明によれば、位置検出手段が前記分
光手段の回動位置を検出し、報知手段が位置検出手段に
よる前記分光手段の回動位置の検出結果を報知するもの
であるから、従来例のような確認用の光源等を使用せず
に前記分光手段の位置ずれ等によるプラズマ光の波長設
定のズレを容易に検知でき、また、分光手段を回動させ
て波長選択を任意に行う際の分光手段の位置検出を容易
に行うことができ、前記分光手段に対する調整作業性、
保守性の向上を図ることができる。
光手段の回動位置を検出し、報知手段が位置検出手段に
よる前記分光手段の回動位置の検出結果を報知するもの
であるから、従来例のような確認用の光源等を使用せず
に前記分光手段の位置ずれ等によるプラズマ光の波長設
定のズレを容易に検知でき、また、分光手段を回動させ
て波長選択を任意に行う際の分光手段の位置検出を容易
に行うことができ、前記分光手段に対する調整作業性、
保守性の向上を図ることができる。
【００１４】請求項２記載の発明は、プラズマエッチャ
ーのチャンバ内で発生するプラズマ光を入射して分光角
度に応じた波長選択を行う回動可能な分光手段と、この
分光手段の回動角度の変更を行う角度変更手段と、前記
分光手段により波長選択されたプラズマ光を検出しプラ
ズマエッチャーにおけるエッチング終了時点を検出する
光検出素子とを有するプラズマエッチャーの終点検出装
置において、前記分光手段の回動位置を検出する第１の
位置検出手段と、前記角度変更手段の位置を検出する第
２の位置検出手段と、前記第１、第２の各位置検出手段
の検出結果を報知する第１、第２の報知手段とを有する
ことを特徴とするものである。
ーのチャンバ内で発生するプラズマ光を入射して分光角
度に応じた波長選択を行う回動可能な分光手段と、この
分光手段の回動角度の変更を行う角度変更手段と、前記
分光手段により波長選択されたプラズマ光を検出しプラ
ズマエッチャーにおけるエッチング終了時点を検出する
光検出素子とを有するプラズマエッチャーの終点検出装
置において、前記分光手段の回動位置を検出する第１の
位置検出手段と、前記角度変更手段の位置を検出する第
２の位置検出手段と、前記第１、第２の各位置検出手段
の検出結果を報知する第１、第２の報知手段とを有する
ことを特徴とするものである。
【００１５】この発明によれば、第１の位置検出手段が
前記分光手段の回動位置を検出し、第１の報知手段が位
置検出手段による前記分光手段の回動位置の検出結果を
報知するとともに、第２の位置検出手段が前記角度変更
手段の位置を検出し第２の報知手段が第２の位置検出手
段の検出結果を報知するものであるから、従来例のよう
な確認用の光源等を使用せずに前記分光手段や角度変更
手段の位置ずれ等によるプラズマ光の波長設定のズレを
容易に検知でき、前記分光手段や角度変更手段に対する
調整時の作業性、保守性の向上を図ることができる。ま
た、分光手段を回動させて波長選択を任意に行う際の分
光手段の位置検出を容易に行うことができる。
前記分光手段の回動位置を検出し、第１の報知手段が位
置検出手段による前記分光手段の回動位置の検出結果を
報知するとともに、第２の位置検出手段が前記角度変更
手段の位置を検出し第２の報知手段が第２の位置検出手
段の検出結果を報知するものであるから、従来例のよう
な確認用の光源等を使用せずに前記分光手段や角度変更
手段の位置ずれ等によるプラズマ光の波長設定のズレを
容易に検知でき、前記分光手段や角度変更手段に対する
調整時の作業性、保守性の向上を図ることができる。ま
た、分光手段を回動させて波長選択を任意に行う際の分
光手段の位置検出を容易に行うことができる。
【００１６】請求項３記載の発明は、プラズマエッチャ
ーのチャンバ内で発生するプラズマ光を入射して分光角
度に応じた波長選択を行う回動可能なグレーティングミ
ラーと、このグレーティングミラーの回動角度の変更を
行う精密ネジ機構と、前記グレーティングミラーにより
波長選択されたプラズマ光を検出しプラズマエッチャー
におけるエッチング終了時点を検出する光検出素子とを
有するプラズマエッチャーの終点検出装置において、前
記グレーティングミラーの回動位置を検出する光遮蔽型
のフォトインタラプタを用いた第１の位置検出手段と、
前記精密ネジ機構の位置を検出する光反射型のフォトイ
ンタラプタを用いた第２の位置検出手段と、前記第１、
第２の各位置検出手段の検出結果を報知する第１、第２
の発光ダイオードとを有することを特徴とするものであ
る。
ーのチャンバ内で発生するプラズマ光を入射して分光角
度に応じた波長選択を行う回動可能なグレーティングミ
ラーと、このグレーティングミラーの回動角度の変更を
行う精密ネジ機構と、前記グレーティングミラーにより
波長選択されたプラズマ光を検出しプラズマエッチャー
におけるエッチング終了時点を検出する光検出素子とを
有するプラズマエッチャーの終点検出装置において、前
記グレーティングミラーの回動位置を検出する光遮蔽型
のフォトインタラプタを用いた第１の位置検出手段と、
前記精密ネジ機構の位置を検出する光反射型のフォトイ
ンタラプタを用いた第２の位置検出手段と、前記第１、
第２の各位置検出手段の検出結果を報知する第１、第２
の発光ダイオードとを有することを特徴とするものであ
る。
【００１７】この発明によれば、光遮蔽型のフォトイン
タラプタを用いた第１の位置検出手段が前記グレーティ
ングミラーの回動位置を検出し、第１の発光ダイオード
が第１の位置検出手段による前記グレーティングミラー
の回動位置の検出結果を報知する。また、光反射型のフ
ォトインタラプタを用いた第２の位置検出手段が、前記
精密ネジ機構の位置を検出し第２の発光ダイオードが第
２の位置検出手段の検出結果を報知するものであるか
ら、従来例のような確認用の光源等を使用せずに前記グ
レーティングミラーや精密ネジ機構の位置ずれ等による
プラズマ光の波長設定のズレを容易に検知でき、前記グ
レーティングミラーや精密ネジ機構に対する調整時の作
業性、保守性の向上を図ることができる。また、グレー
ティングミラーを回動させて波長選択を任意に行う際の
分光手段の位置検出を容易に行うことができる。
タラプタを用いた第１の位置検出手段が前記グレーティ
ングミラーの回動位置を検出し、第１の発光ダイオード
が第１の位置検出手段による前記グレーティングミラー
の回動位置の検出結果を報知する。また、光反射型のフ
ォトインタラプタを用いた第２の位置検出手段が、前記
精密ネジ機構の位置を検出し第２の発光ダイオードが第
２の位置検出手段の検出結果を報知するものであるか
ら、従来例のような確認用の光源等を使用せずに前記グ
レーティングミラーや精密ネジ機構の位置ずれ等による
プラズマ光の波長設定のズレを容易に検知でき、前記グ
レーティングミラーや精密ネジ機構に対する調整時の作
業性、保守性の向上を図ることができる。また、グレー
ティングミラーを回動させて波長選択を任意に行う際の
分光手段の位置検出を容易に行うことができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】図１に示す本実施の形態の終点検
出装置は、図２に示す従来装置と同様、図示しないエッ
チングチャンバー内から射出されるプラズマ光を検出す
る光検出素子である光電子増倍管（ＰＭＴ）１と、光電
子増倍管１への入射光の波長を選択するための分光手段
であるグレーティングミラー（分光器）２と、グレーテ
ィングミラー２を図１に示す矢印ａ、ｂ方向に回動させ
選択波長を変更するための機構であるサインバー機構３
と、サインバー機構３及びグレーティングミラー２に対
して図１に示す支軸１０を支点とした回動力を付与する
角度変更手段である精密ネジ機構（マイクロメータ）４
と、グレーティングミラー２への入射光の幅を決定する
ためのスリット５と、スリット５を通過したプラズマ光
を反射してグレーティングミラー２へ導く全反射ミラー
７と、グレーティングミラー２からの光を反射して光電
子増倍管１へ導く全反射ミラー８及び９と、光電子増倍
管１へ不要な光の入光を防ぐためのスリット６とを具備
している。
出装置は、図２に示す従来装置と同様、図示しないエッ
チングチャンバー内から射出されるプラズマ光を検出す
る光検出素子である光電子増倍管（ＰＭＴ）１と、光電
子増倍管１への入射光の波長を選択するための分光手段
であるグレーティングミラー（分光器）２と、グレーテ
ィングミラー２を図１に示す矢印ａ、ｂ方向に回動させ
選択波長を変更するための機構であるサインバー機構３
と、サインバー機構３及びグレーティングミラー２に対
して図１に示す支軸１０を支点とした回動力を付与する
角度変更手段である精密ネジ機構（マイクロメータ）４
と、グレーティングミラー２への入射光の幅を決定する
ためのスリット５と、スリット５を通過したプラズマ光
を反射してグレーティングミラー２へ導く全反射ミラー
７と、グレーティングミラー２からの光を反射して光電
子増倍管１へ導く全反射ミラー８及び９と、光電子増倍
管１へ不要な光の入光を防ぐためのスリット６とを具備
している。
【００１９】本実施の形態の終点検出装置は、さらに、
図１に示すように、グレーティングミラー２の回動位置
の検出を行う第１の位置検出手段１１と、精密ネジ機構
４の伸縮体４ａの位置の検出を行う第２の位置検出手段
１２とを具備している。
図１に示すように、グレーティングミラー２の回動位置
の検出を行う第１の位置検出手段１１と、精密ネジ機構
４の伸縮体４ａの位置の検出を行う第２の位置検出手段
１２とを具備している。
【００２０】前記第１の位置検出手段１１は、装置基板
２３上に取り付けた光遮断型フォトインタラプタ２１
と、グレーティングミラー２の一方の端部に取り付けた
フォトインタラプタ開閉手段である金属板製の遮蔽板２
２とを具備している。
２３上に取り付けた光遮断型フォトインタラプタ２１
と、グレーティングミラー２の一方の端部に取り付けた
フォトインタラプタ開閉手段である金属板製の遮蔽板２
２とを具備している。
【００２１】前記第２の位置検出手段１２は、装置基板
２３上において前記精密ネジ機構４の伸縮体４ａの伸縮
領域に臨む位置に配置した光反射型フォトインタラプタ
２４と、前記精密ネジ機構４の伸縮体４ａに設けた円板
状の先端突部４ｃとにより構成している。
２３上において前記精密ネジ機構４の伸縮体４ａの伸縮
領域に臨む位置に配置した光反射型フォトインタラプタ
２４と、前記精密ネジ機構４の伸縮体４ａに設けた円板
状の先端突部４ｃとにより構成している。
【００２２】前記装置基板２３上には、光遮断型フォト
インタラプタ２１及び光反射型フォトインタラプタ２４
に電力を供給する電源部２５と、光遮断型フォトインタ
ラプタ２１及び光反射型フォトインタラプタ２４のオン
／オフ状態を発光の有無により可視的に知らせる第１、
第２の発光ダイオード２６、２７とが配置されている。
インタラプタ２１及び光反射型フォトインタラプタ２４
に電力を供給する電源部２５と、光遮断型フォトインタ
ラプタ２１及び光反射型フォトインタラプタ２４のオン
／オフ状態を発光の有無により可視的に知らせる第１、
第２の発光ダイオード２６、２７とが配置されている。
【００２３】次に、図１に示す終点検出装置の作用を説
明する。
明する。
【００２４】第１の位置検出手段１１は、この終点検出
装置のグレーティングミラー２の選択波長範囲（例えば
２００乃至８００ｎｍ）の最短波長位置において光遮断
型フォトインタラプタ２１がオンになるように遮蔽板２
２の位置が予め調整されている。
装置のグレーティングミラー２の選択波長範囲（例えば
２００乃至８００ｎｍ）の最短波長位置において光遮断
型フォトインタラプタ２１がオンになるように遮蔽板２
２の位置が予め調整されている。
【００２５】また、第２の位置検出手段１２は、グレー
ティングミラー２の最短波長（例えば２００ｎｍ）位置
にあるときに対応して光反射型フォトインタラプタ２４
が精密ネジ機構４の先端突部４ｃを検出してオンになる
ように予め調整されている。
ティングミラー２の最短波長（例えば２００ｎｍ）位置
にあるときに対応して光反射型フォトインタラプタ２４
が精密ネジ機構４の先端突部４ｃを検出してオンになる
ように予め調整されている。
【００２６】以上の第１、第２の位置検出手段１１、１
２の調整状態で、精密ネジ機構４の伸縮体４ａをグレー
ティングミラー２による選択波長を最短値とするべく、
目盛４ｂの指示値を視認しながら伸縮させサインバー機
構３及びグレーティングミラー２を回動させると、光遮
断型フォトインタラプタ２１は前記遮蔽板２２により３
遮蔽されてオンとなり、また、光反射型フォトインタラ
プタ２４は精密ネジ機構４の先端突部４ｃを検出してオ
ンになる。
２の調整状態で、精密ネジ機構４の伸縮体４ａをグレー
ティングミラー２による選択波長を最短値とするべく、
目盛４ｂの指示値を視認しながら伸縮させサインバー機
構３及びグレーティングミラー２を回動させると、光遮
断型フォトインタラプタ２１は前記遮蔽板２２により３
遮蔽されてオンとなり、また、光反射型フォトインタラ
プタ２４は精密ネジ機構４の先端突部４ｃを検出してオ
ンになる。
【００２７】光遮断型フォトインタラプタ２１、光反射
型フォトインタラプタ２４の各々のオン状態は、第１、
第２の発光ダイオード２６、２７の点灯によって視覚に
より確認することができる。
型フォトインタラプタ２４の各々のオン状態は、第１、
第２の発光ダイオード２６、２７の点灯によって視覚に
より確認することができる。
【００２８】ここで、最短波長位置において精密ネジ機
構４の伸縮体４ａの位置を示す第２の発光ダイオード２
７のみが点灯し、グレーティングミラー２の位置を示す
第１の発光ダイオード２６が点灯しなければ、グレーテ
ィングミラー２の位置関係に狂いが生じていることが判
明し、グレーティングミラー２の位置の再調整又は修理
を必要とすることが確認できる。
構４の伸縮体４ａの位置を示す第２の発光ダイオード２
７のみが点灯し、グレーティングミラー２の位置を示す
第１の発光ダイオード２６が点灯しなければ、グレーテ
ィングミラー２の位置関係に狂いが生じていることが判
明し、グレーティングミラー２の位置の再調整又は修理
を必要とすることが確認できる。
【００２９】逆に、最短波長位置において精密ネジ機構
４の伸縮体４ａの位置を示す第２の発光ダイオード２７
が点灯せず、グレーティングミラー２の位置を示す第１
の発光ダイオード２６が点灯すれば、精密ネジ機構４の
再調整又は修理を必要とすることが確認できる。
４の伸縮体４ａの位置を示す第２の発光ダイオード２７
が点灯せず、グレーティングミラー２の位置を示す第１
の発光ダイオード２６が点灯すれば、精密ネジ機構４の
再調整又は修理を必要とすることが確認できる。
【００３０】また、上述した初期設定状態とは別に、前
記精密ネジ機構４の伸縮体４ａを所定量伸ばし、又は縮
めてグレーティングミラー２を回動させ、グレーティン
グミラー２により分光する光の波長を変更した場合にお
いて、前記遮蔽板２２の変位を光遮断型フォトインタラ
プタ２１により検出し第１の発光ダイオード２６を点灯
させるようにすれば、グレーティングミラー２の回動に
よる任意の波長の選択を検出することが可能となり、プ
ラズマ光の複数の波長を検出したい場合に好適である。
記精密ネジ機構４の伸縮体４ａを所定量伸ばし、又は縮
めてグレーティングミラー２を回動させ、グレーティン
グミラー２により分光する光の波長を変更した場合にお
いて、前記遮蔽板２２の変位を光遮断型フォトインタラ
プタ２１により検出し第１の発光ダイオード２６を点灯
させるようにすれば、グレーティングミラー２の回動に
よる任意の波長の選択を検出することが可能となり、プ
ラズマ光の複数の波長を検出したい場合に好適である。
【００３１】さらに、図１に示す終点検出装置おいて、
光遮断型フォトインタラプタ２１、光反射型フォトイン
タラプタ２４が、各々図示しないプラズマエッチング装
置がモニターすべき波長でオンの状態になるように前記
グレーティングミラー２及び精密ネジ機構４の位置を調
整した場合には、プラズマエッチング工程内で常用する
波長位置からの終点検出装置の設定波長のずれの有無
を、第１、第２の発光ダイオード２６、２７の点灯の有
無により確認することが可能となる。
光遮断型フォトインタラプタ２１、光反射型フォトイン
タラプタ２４が、各々図示しないプラズマエッチング装
置がモニターすべき波長でオンの状態になるように前記
グレーティングミラー２及び精密ネジ機構４の位置を調
整した場合には、プラズマエッチング工程内で常用する
波長位置からの終点検出装置の設定波長のずれの有無
を、第１、第２の発光ダイオード２６、２７の点灯の有
無により確認することが可能となる。
【００３２】上述した本発明によれば、以下の構成を付
記できる。 （１）光電子増倍管（ＰＭＴ）等の光検出素子に対する
入射光波長を選択するグレーティングミラーと、このグ
レーティングミラーの角度変更手段としてのマイクロメ
ータとを有する終点検出装置において、前記グレーティ
ングミラー側に設けられた第１の位置検出手段と、マイ
クロメータ側に設けられた第２の位置検出手段とを有す
ることを特徴とする終点検出装置。この構成によれば、
前記グレーティングミラー、マイクロメータの各々の位
置検出を個別に行い、グレーティングミラーによる入射
光波長の選択状態、マイクロメータの位置の狂い等を的
確に検出できる。
記できる。 （１）光電子増倍管（ＰＭＴ）等の光検出素子に対する
入射光波長を選択するグレーティングミラーと、このグ
レーティングミラーの角度変更手段としてのマイクロメ
ータとを有する終点検出装置において、前記グレーティ
ングミラー側に設けられた第１の位置検出手段と、マイ
クロメータ側に設けられた第２の位置検出手段とを有す
ることを特徴とする終点検出装置。この構成によれば、
前記グレーティングミラー、マイクロメータの各々の位
置検出を個別に行い、グレーティングミラーによる入射
光波長の選択状態、マイクロメータの位置の狂い等を的
確に検出できる。
【００３３】（２）前記第１、第２の位置検出手段が、
各々フォトインタラプタと、フォトインタラプタの光路
の開閉手段とで構成されることを特徴とする付記（１）
記載の終点検出装置。この構成によれば、前記グレーテ
ィングミラー、マイクロメータの各々の位置検出を各々
フォトインタラプタを用いて個別に行い、グレーティン
グミラーによる入射光波長の選択状態、マイクロメータ
の位置の狂い等を的確に検出できる。
各々フォトインタラプタと、フォトインタラプタの光路
の開閉手段とで構成されることを特徴とする付記（１）
記載の終点検出装置。この構成によれば、前記グレーテ
ィングミラー、マイクロメータの各々の位置検出を各々
フォトインタラプタを用いて個別に行い、グレーティン
グミラーによる入射光波長の選択状態、マイクロメータ
の位置の狂い等を的確に検出できる。
【００３４】
【発明の効果】以上説明した請求項１記載の発明によれ
ば、従来例のような確認用の光源等を使用せずにプラズ
マ光の波長設定のズレを容易に検知でき、また、分光手
段を回動させて波長選択を任意に行う際の分光手段の位
置検出を容易に行うことができ、前記分光手段に対する
調整作業性、保守性の向上を図ることができるプラズマ
エッチャーの終点検出装置を提供できる。
ば、従来例のような確認用の光源等を使用せずにプラズ
マ光の波長設定のズレを容易に検知でき、また、分光手
段を回動させて波長選択を任意に行う際の分光手段の位
置検出を容易に行うことができ、前記分光手段に対する
調整作業性、保守性の向上を図ることができるプラズマ
エッチャーの終点検出装置を提供できる。
【００３５】請求項２記載の発明によれば、分光手段や
角度変更手段の位置ずれ等によるプラズマ光の波長設定
のズレを容易に検知でき、また、分光手段を回動させて
波長選択を任意に行う際の分光手段の位置検出を容易に
行うことが可能で調整作業性、保守性の向上を図ること
ができるプラズマエッチャーの終点検出装置を提供でき
る。
角度変更手段の位置ずれ等によるプラズマ光の波長設定
のズレを容易に検知でき、また、分光手段を回動させて
波長選択を任意に行う際の分光手段の位置検出を容易に
行うことが可能で調整作業性、保守性の向上を図ること
ができるプラズマエッチャーの終点検出装置を提供でき
る。
【００３６】請求項３記載の発明によれば、グレーティ
ングミラーや精密ネジ機構の位置ずれ等によるプラズマ
光の波長設定のズレを容易に検知でき、前記グレーティ
ングミラーや精密ネジ機構に対する調整時の作業性、保
守性の向上を図ることができ、また、グレーティングミ
ラーを回動させて波長選択を任意に行う際の分光手段の
位置検出を容易に行うことができるプラズマエッチャー
の終点検出装置を提供できる。
ングミラーや精密ネジ機構の位置ずれ等によるプラズマ
光の波長設定のズレを容易に検知でき、前記グレーティ
ングミラーや精密ネジ機構に対する調整時の作業性、保
守性の向上を図ることができ、また、グレーティングミ
ラーを回動させて波長選択を任意に行う際の分光手段の
位置検出を容易に行うことができるプラズマエッチャー
の終点検出装置を提供できる。
【図１】本発明の実施の形態のプラズマエッチャーの終
点検出装置を示す概略構成図である。
点検出装置を示す概略構成図である。
【図２】従来のプラズマエッチャーの終点検出装置を示
す概略構成図である。
す概略構成図である。
１ 光電子増倍管 ２ グレーティングミラー ３ サインバー機構 ４ 精密ネジ機構 ５ スリット ６ スリット ７ 全反射ミラー ８ 全反射ミラー ９ 全反射ミラー １１ 第１の位置検出手段 １２ 第２の位置検出手段 ２１ 光遮断型フォトインタラプタ ２２ 遮蔽板 ２３ 装置基板 ２４ 光反射型フォトインタラプタ ２６ 第１の発光ダイオード ２７ 第２の発光ダイオード
Claims (3)
- 【請求項１】 プラズマエッチャーのチャンバ内で発生
するプラズマ光を入射して分光角度に応じた波長選択を
行う回動可能な分光手段と、この分光手段の回動角度の
変更を行う角度変更手段と、前記分光手段により波長選
択されたプラズマ光を検出しプラズマエッチャーにおけ
るエッチング終了時点を検出する光検出素子とを有する
プラズマエッチャーの終点検出装置において、 前記分光手段の回動位置を検出する位置検出手段と、 この位置検出手段による前記分光手段の回動位置の検出
結果を報知する報知手段と、 を有することを特徴とするプラズマエッチャーの終点検
出装置。 - 【請求項２】 プラズマエッチャーのチャンバ内で発生
するプラズマ光を入射して分光角度に応じた波長選択を
行う回動可能な分光手段と、この分光手段の回動角度の
変更を行う角度変更手段と、前記分光手段により波長選
択されたプラズマ光を検出しプラズマエッチャーにおけ
るエッチング終了時点を検出する光検出素子とを有する
プラズマエッチャーの終点検出装置において、 前記分光手段の回動位置を検出する第１の位置検出手段
と、 前記角度変更手段の位置を検出する第２の位置検出手段
と、 前記第１、第２の各位置検出手段の検出結果を報知する
第１、第２の報知手段と、 を有することを特徴とするプラズマエッチャーの終点検
出装置。 - 【請求項３】 プラズマエッチャーのチャンバ内で発生
するプラズマ光を入射して分光角度に応じた波長選択を
行う回動可能なグレーティングミラーと、このグレーテ
ィングミラーの回動角度の変更を行う精密ネジ機構と、
前記グレーティングミラーにより波長選択されたプラズ
マ光を検出しプラズマエッチャーにおけるエッチング終
了時点を検出する光検出素子とを有するプラズマエッチ
ャーの終点検出装置において、 前記グレーティングミラーの回動位置を検出する光遮蔽
型のフォトインタラプタを用いた第１の位置検出手段
と、 前記精密ネジ機構の位置を検出する光反射型のフォトイ
ンタラプタを用いた第２の位置検出手段と、 前記第１、第２の各位置検出手段の検出結果を報知する
第１、第２の発光ダイオードと、 を有することを特徴とするプラズマエッチャーの終点検
出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9066713A JPH10261625A (ja) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | プラズマエッチャーの終点検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9066713A JPH10261625A (ja) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | プラズマエッチャーの終点検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10261625A true JPH10261625A (ja) | 1998-09-29 |
Family
ID=13323840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9066713A Pending JPH10261625A (ja) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | プラズマエッチャーの終点検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10261625A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019014343A1 (en) * | 2017-07-12 | 2019-01-17 | Tokyo Electron Limited | SPECTROSCOPY OF OPTICAL EMISSION (SEO) WITH SPATIAL RESOLUTION IN THE CONTEXT OF PLASMA TREATMENT |
| US10215704B2 (en) | 2017-03-02 | 2019-02-26 | Tokyo Electron Limited | Computed tomography using intersecting views of plasma using optical emission spectroscopy during plasma processing |
| US10473525B2 (en) | 2013-11-01 | 2019-11-12 | Tokyo Electron Limited | Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing |
-
1997
- 1997-03-19 JP JP9066713A patent/JPH10261625A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10473525B2 (en) | 2013-11-01 | 2019-11-12 | Tokyo Electron Limited | Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing |
| US10215704B2 (en) | 2017-03-02 | 2019-02-26 | Tokyo Electron Limited | Computed tomography using intersecting views of plasma using optical emission spectroscopy during plasma processing |
| WO2019014343A1 (en) * | 2017-07-12 | 2019-01-17 | Tokyo Electron Limited | SPECTROSCOPY OF OPTICAL EMISSION (SEO) WITH SPATIAL RESOLUTION IN THE CONTEXT OF PLASMA TREATMENT |
| KR20200019258A (ko) * | 2017-07-12 | 2020-02-21 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 프로세싱에서의 공간적으로 분해된 광학적 방출 스펙트로스코피(oes) |
| CN110998260A (zh) * | 2017-07-12 | 2020-04-10 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理中的空间分辨光学发射光谱(oes) |
| JP2020527705A (ja) * | 2017-07-12 | 2020-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理における空間分解発光分光法（ｏｅｓ） |
| CN110998260B (zh) * | 2017-07-12 | 2022-04-12 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理中的空间分辨光学发射光谱(oes) |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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