JPH10255459A - ラインメモリ - Google Patents

ラインメモリ

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JPH10255459A
JPH10255459A JP9055016A JP5501697A JPH10255459A JP H10255459 A JPH10255459 A JP H10255459A JP 9055016 A JP9055016 A JP 9055016A JP 5501697 A JP5501697 A JP 5501697A JP H10255459 A JPH10255459 A JP H10255459A
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JP
Japan
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line
read
write
transistor
memory cells
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JP9055016A
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Shiro Hosoya
史郎 細谷
Hisanobu Yazawa
弥亘 矢澤
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/403Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh
    • G11C11/405Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh with three charge-transfer gates, e.g. MOS transistors, per cell

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一種のビットラインでラインメモリの機能を
実現する。 【解決手段】 ワード線WLj-1,WLjはこの順に活性
化されるので、メモリセルMCj-1,i,MCj,iへの新た
な書き込みがなされる前にはすでに読み出しが行われて
いる。つまり同一のメモリセルに対して読み出し工程の
後に書き込み工程が実行されるので、従来の技術と同様
にして遅延動作を実現することができる。しかも読み出
し工程と書き込み工程とに応じてトライステートバッフ
ァ11とDラッチ13の動作を制御するので、書き込み
ビット線と読み出しビット線とを兼用することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ラインメモリに
関し、特にメモリセルの構成に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ラインメモリは、映像信号処理における
遅延素子、例えば1走査線を遅延させるための遅延素子
として使用される。その代表的な例は、Masatoshi Kimu
raらによる"A 3V,100MHz,35mW,Dynamic Line Memory Ma
cro Cell for HDTV Application"(CICC Digest of Te
ch,Papers,p.7.4.1,1992)に示されている。
【0003】図5は上記文献に記載されたラインメモリ
の概略を示す回路図である。ラインメモリに順次入力さ
れるデータは、まずシリアル−パラレル変換回路2に入
力され、m個の、例えば8個のパラレルデータに変換さ
れる。このm個のパラレルデータのそれぞれが複数ビッ
トから構成される場合もあり、図5で示されたMCの行
列配置からなる記憶面が、複数ビットの一つ一つに対応
して複数設けられても良い。以下では簡単のためにパラ
レルデータのそれぞれは1ビットであるとして説明され
る。
【0004】ラインメモリはFirst In/First Outのシー
ケンシャルメモリであるが、その重要な点はアドレスポ
インタにある。ラインメモリにおけるアドレスポインタ
1にはワード線WL0〜WLn-1(メモリの行数がnの場
合)が接続され、図示されないクロックに同期して、W
0,WL1,WL2・・・という具合に番号の小さい順
にワード線を択一的に活性化する。
【0005】メモリセルMCの各々はデータ入力端子
D、書き込み制御端子W、データ出力端子Q、読み出し
制御端子Rを備えている。ある行に属するメモリセルM
Cの書き込み制御端子Wの全てと、この行に隣接する行
に属するメモリセルMCの読み出し制御端子Rの全てと
は、原則的に同一のワード線WLj(j=0〜n−1)
に接続されている。ワード線WL0,WLn-1に接続され
るメモリセルMCに関しては例外的な接続がなされ得
る。
【0006】ある列に属するメモリセルMCのデータ入
力端子Dの全ては同一の書き込みビット線WBLi(i
=0〜m−1)に接続され、またある列に属するメモリ
セルMCのデータ出力端子Qの全ては同一の読み出しビ
ット線RBLiに接続される。
【0007】8個のパラレルデータは書き込みビット線
WBL0〜WBL7に送られ、活性化したワード線に接続
された書き込み制御端子Wを備えるメモリセルMCに対
してデータが書き込まれる。その一方、活性化したワー
ド線は、これに接続された読み出し制御端子Rを備える
メモリセルMCからのデータの読み出しをも行わせる。
【0008】読み出し動作は2段階で行われる。第1段
階では読み出しビット線RBL0〜RBL7がプリチャー
ジ回路3によって全て所望のレベル(たとえばVdd>
0のレベル)までプリチャージされる。第2段階ではワ
ード線WLjが活性化されることによって読み出しが行
われ、メモリセルMCに書き込まれている情報によって
読み出しビット線RBLiが“H”または“L”に変化
する。この変化はセンスアンプ4によって増幅され、パ
ラレル−シリアル変換回路5を介してシリアルデータに
変換されて出力される。
【0009】図6は従来のメモリセルの構成を例示する
回路図である。メモリセルMCj-1,i,MCj,iは同一の
構成を有している。まずワード線WLjが“H”となっ
て活性化し、メモリセルMCj,iの読み出しトランジス
タQcがオンする。もしメモリセルMCj,iの記憶用容
量Csが所定の電圧に充電されていれば(“H”が書き
込まれていたことに相当する)、読み出しトランジスタ
Qrもオンしている。従って、読み出しビット線RBL
iにプリチャージされていた電荷はトランジスタQc,
Qrを経由して放電され、読み出しビット線RBLi
“L”となる。
【0010】このようなメモリセルMCj,iからの読み
出しが行われる一方、メモリセルMCj-1,iの書き込み
トランジスタQwがオンし、これを介して書き込みビッ
ト線WBLiに与えられたデータがメモリセルMCj-1,i
の記憶用容量Csに与えられる。
【0011】このようにして、ワード線をクロックに従
って順次活性化させ、これに伴って、読み出しビット線
RBLiのプリチャージ、及び読み出しビット線RBLi
に与えられたデータのセンスアンプでの検出と、書き込
みビット線WBLiに与えるデータの更新を行えば、行
に関して進行するワード線の活性化により、この進行方
向へと順次データを更新しつつ、更新前のデータを読み
出すことができる。
【0012】通常、アドレスポインタは外部リセット入
力により初期アドレスにセットされ、その後はクロック
に応じてアクセスすべきアドレス(活性化すべきワード
線の位置)を増大させていく。したがって外部リセット
入力期間を一定間隔、例えば映像信号処理における1走
査線期間で印加してやると、メモリセルが配列される行
の数がこの走査期間に対応する数以上である限り、丁度
1走査線前のデータを読み出すことになり、1走査線遅
延が容易に実現できる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ラインメモリでは、書き込みビット線WBLiと読み出
しビット線RBLiの両方が必要であった。ラインメモ
リの面積はメモリセルの大きさによって大きく影響を受
けるため、2つのビット線が必要なメモリセルはライン
メモリの面積削減の大きな課題であった。
【0014】本発明は、このような問題点を解消するこ
とを目的とし、一種のビットラインでラインメモリの機
能を実現するものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】この発明のうち請求項1
にかかるものは、少なくとも一つの列に配置され、その
各々が、データ入力端子、書き込み制御端子、データ出
力端子、読み出し制御端子を有する複数のメモリセル
と、隣接する前記複数のメモリセルの一方の前記書き込
み制御端子と、他方の前記読み出し制御端子とに共通し
て接続されるワード線と、前記列毎に設けられ、前記ラ
インメモリに入力する入力データを受ける入力端と、出
力端とを有するトライステートバッファと、前記列毎に
設けられ、前記トライステートバッファの出力端、並び
に前記データ入力端子及び前記データ出力端子に接続さ
れるビット線と、前記ビット線に接続された入力端と、
出力端とを有するラッチ回路とを備えるラインメモリで
ある。
【0016】この発明のうち請求項2にかかるものは、
請求項1記載のラインメモリであって、前記ラッチ回路
及び前記トライステートバッファの動作は同一の制御信
号で制御され、前記トライステートバッファは、前記制
御信号が第1の値を採ることに対応して自身の前記出力
端をハイインピーダンス状態にし、前記制御信号が第2
の値を採ることに対応して前記入力データをバッファリ
ングし、前記制御信号が前記第1の値から前記第2の値
への遷移を行うことによって前記ラッチ回路は自身の前
記入力端の内容をラッチする。
【0017】この発明のうち請求項3にかかるものは、
請求項2記載のラインメモリであって、前記ビット線は
前記遷移に先立つ所定の期間においてプリチャージさ
れ、前記所定の期間においても前記ワード線は活性化す
る。
【0018】この発明のうち請求項4にかかるものは、
請求項1記載のラインメモリであって、前記複数のメモ
リセルの各々は前記書き込み制御端子に接続されたゲー
トを含む書き込みトランジスタと、前記読み出し制御端
子に接続されたゲートを含む第1の読み出しトランジス
タと、記憶用容量と、前記記憶用容量の両端の間で、前
記第1の読み出しトランジスタ及び前記書き込みトラン
ジスタと共に直列に接続され、かつ前記記憶用容量の一
端に接続されたゲートを含む第2の読み出しトランジス
タとを有する。そして、第1の前記ワード線に接続され
た前記ゲートを含む第1の前記複数のメモリセルの前記
書き込みトランジスタと、前記第1の前記ワード線に接
続された前記ゲートを含む第2の前記複数のメモリセル
の前記第1の読み出しトランジスタと、前記第1の前記
ワード線と隣接する第2の前記ワード線に接続された前
記ゲートを含む前記第2の前記複数のメモリセルの前記
書き込みトランジスタと、前記第2の前記ワード線に接
続された前記ゲートを含む第3の前記複数のメモリセル
の前記第1の読み出しトランジスタとは、同一のソース
/ドレイン領域を共有する。
【0019】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.図1は本発明の実施の形態1にかかるラ
インメモリの構造を例示する回路図である。本発明にお
いてもメモリセルは、図5と同様にして複数が行列状に
配置されるが、図1では煩雑を避けるために、同一の第
i列において隣接して配置され、第(j−1)行及び第
j行に配置される2つのメモリセルMCj-1,i,MCj,i
のみを示し、それらの詳細な構造を示している。
【0020】アドレスポインタ1は複数のワード線WL
0〜WLn-1をクロックCLKに同期して、順次WL0
WL1,WL2・・・のように、番号の小さい順にワード
線を択一的に活性化する。
【0021】メモリセルMCj-1,i,MCj,iはいずれも
データ入力端子D、書き込み制御端子W、データ出力端
子Q、読み出し制御端子Rを備えている。メモリセルM
j-1,iの読み出し制御端子R及び書き込み制御端子W
はそれぞれワード線WLj-1,WLjに接続され、メモリ
セルMCj,iの読み出し制御端子R及び書き込み制御端
子Wはそれぞれワード線WLj,WLj+1に接続される。
【0022】従来のラインメモリとは異なり、メモリセ
ルMCj-1,i,MCj,iのいずれのデータ入力端子D、デ
ータ出力端子Qも共通してビット線BLiに接続され
る。このビット線BLiは、後述する制御方法によっ
て、従来の書き込みビット線WBLi及び読み出しビッ
ト線RBLiの両方の機能を果たす。
【0023】ラインメモリに順次入力されるデータは、
まずシリアル−パラレル変換回路2に入力される。図1
では簡単のため、パラレルの態様を成す信号の内の一つ
(以下「パラレル構成信号」)について示されている
が、シリアル−パラレル変換回路2は、パラレル構成信
号の個数(例えば従来技術に即して言えば8個)に対応
して設けられるトライステートバッファ11を介してビ
ット線BLiに接続されている。トライステートバッフ
ァ11は書き込み許可信号WEによって制御され、これ
が“H”に活性化している状態で上記パラレル構成信号
をビット線BLiに与える。
【0024】また、ビット線BLiにはプリチャージ回
路3も接続され、プリチャージ回路3はクロックCLK
と同期して所定期間だけビット線BLiを所定の電位に
プリチャージする。
【0025】更に、ビット線BLiにはバッファ12を
介してDラッチ13が接続され、その出力はセンスアン
プ4に与えられる。Dラッチ13は書き込み許可信号W
Eの立ち上がり時にビット線BLiに与えられていた値
をラッチする。
【0026】センスアンプ4及びパラレル−シリアル変
換回路5の機能は従来の技術と同様であり、行列状に配
置されたメモリセルの内容が順次シリアルに読み出され
て出力される。
【0027】メモリセルMCj-1,i,MCj,iは互いに同
一の構成を有している。読み出しトランジスタQc、書
き込みトランジスタQw、読み出しトランジスタQr
は、接地と記憶用容量Csの一端との間で、データ入力
端子D及びデータ出力端子Q並びにビット線BLiを介
して直列に接続されている。記憶用容量Csの一端は読
み出しトランジスタQrのゲートに接続され、他端は接
地される。読み出しトランジスタQcのゲートは読み出
し制御端子Rに、書き込みトランジスタQwのゲートは
書き込み制御端子Wに、それぞれ接続されている。
【0028】図2は図1に示されたラインメモリの動作
を示すタイミングチャートである。ラインメモリはクロ
ックCLKに同期した3段階で動作する。まずクロック
CLKの立ち上がりにより、プリチャージ回路3がプリ
チャージ期間PCにおいてビット線BLiを含む全ての
ビット線のプリチャージを開始する(第1段階)。この
プリチャージ期間PCにおいてはいずれのワード線も活
性化されない。
【0029】次にプリチャージ期間PCが終了するとと
もに、ワード線WLjが“H”へ活性化して第2段階が
開始する。
【0030】そしてワード線WLjが“H”へ活性化し
た後、次にクロックCLKが立ち上がるまでの間、書き
込み許可信号WEが活性化する(第3段階)。ワード線
WLjは第2段階及び第3段階において活性化してい
る。
【0031】第1段階においてプリチャージされたビッ
ト線BLiは、第2段階において活性化したワード線W
jに接続された読み出し制御端子Rを有するメモリセ
ルMCj,iの読み出しトランジスタQcを介し、読み出
しトランジスタQrに接続される。読み出しトランジス
タQrは、そのゲートに接続された記憶用容量Csの充
電/放電にしたがって、ビット線BLiの電位を低下さ
せ、あるいは保持させる。つまり読み出し工程が実行さ
れる。
【0032】第2段階においては書き込み許可信号WE
が非活性であり、トライステートバッファ11はハイイ
ンピーダンス状態であってビット線BLiに影響を与え
ない。その一方、バッファ12を介してDラッチ13の
入力端にはビット線BLiが接続されている。
【0033】第3段階に入り、書き込み許可信号WEが
立ち上がると、Dラッチ13はその入力端に与えられた
値をラッチする。したがって、第2段階におけるビット
線BLiが示す値がDラッチ13に記憶され、この値が
センスアンプ4へと伝達される。その一方、トライステ
ートバッファは新たなパラレル構成信号をビット線BL
iに与える。第3段階においてもワード線WLjが“H”
へ活性化しているので、これに接続される書き込み制御
端子Wを有するメモリセルMCj-1,iの記憶用容量Cs
には、書き込みトランジスタQwを介して新たなパラレ
ル構成信号に対応した充電/放電が行われる。つまり書
き込み工程が実行される。
【0034】このとき、メモリセルMCj,iの読み出し
トランジスタQcがオンしているので、メモリセルMC
j-1,iに書き込まれるべきデータを与えるトライステー
トバッファ11の出力によって、メモリセルMCj,i
読み出しトランジスタQrに印加される電圧が第2段階
とは異なる可能性がある。しかしメモリセルMCj,i
第2段階まで保持していた情報は、すでにDラッチ13
に格納されているので問題はない。また、トライステー
トバッファ11の駆動能力を大きくしておくことによ
り、メモリセルMCj,iの読み出しトランジスタQcが
オンしていても、十分にメモリセルMCj-1,iの記憶用
容量Csを充電/放電することができる。
【0035】上記の書き込み許可信号WEをクロックC
LKから生成することは容易であるし、アドレスポイン
タ1がワード線を活性化させる期間を第2段階及び第3
段階に限定することは容易に実現できる。
【0036】既述のように、ワード線WLj-1,WLj
この順に活性化されるので、メモリセルMCj-1,i,M
j,iへの新たな書き込みがなされる前にはすでに読み
出しが行われている。つまり同一のメモリセルに対して
読み出し工程の後に書き込み工程が実行されるので、従
来の技術と同様にして遅延動作を実現することができ
る。しかも読み出し工程と書き込み工程とに応じてトラ
イステートバッファ11とDラッチ13の動作を制御す
るので、書き込みビット線と読み出しビット線とを兼用
することができる。
【0037】なお、書き込み許可信号WEをトライステ
ートバッファ11及びDラッチ13のいずれの制御にも
用いたが、これらの制御を別々の信号によって行わせて
も良い。プリチャージ期間PC以外の期間において、ま
ずDラッチ13を動作させ、その後にトライステートバ
ッファ11をオンさせるならば本発明の効果を得ること
ができる。しかし、特に本実施の形態のように、同一の
書き込み許可信号WEを用いれば、ラインメモリの構成
が容易となることは勿論である。
【0038】実施の形態2.図3は実施の形態2にかか
るラインメモリの動作を示すタイミングチャートであ
り、図1に示されたラインメモリの構成において適用す
ることができる。実施の形態1では、プリチャージ期間
PC以外の期間、即ち第2及び第3段階だけワード線を
活性化させる態様を示したが、実施の形態2では第1段
階、即ちプリチャージ期間PCにおいても活性化させ
る。
【0039】実施の形態2によれば、第1段階におい
て、プリチャージ回路3の出力段のトランジスタと、メ
モリセル内の読み出しトランジスタQcが同時にオンす
ることになる。しかしプリチャージ回路3の出力段のト
ランジスタの駆動能力が十分大きければ、ビット線BL
iのプリチャージを十分行わせることができるし、読み
出しトランジスタQcがオンしても記憶用容量Csにか
かる電圧が左右されるわけではないので、特に動作上問
題とはならない。
【0040】実施の形態2によれば、実施の形態1と比
較して、ワード線を選択するためにアドレスポインタ1
に要求される回路の構成が簡単になるという効果があ
る。
【0041】実施の形態3.図4は、実施の形態3にか
かるメモリセルを示す平面図であり、図1に示されたメ
モリセルMCj-1,i,MCj,iの構成、及び図1では省略
されていたメモリセルMCj+1,iの一部の構成を示して
いる。
【0042】図面において、ソース/ドレイン領域10
0〜107は太線で、ソース/ドレイン領域と共にMO
Sトランジスタを形成するゲート201〜207は通常
の太さの実線で、ワード線WLj-1,WLj,WLj+1
一点鎖線で、ビット線BLiは二点鎖線で、それぞれ示
されており、この順に図面に垂直な方向に配置される。
【0043】コンタクトホール301はワード線WL
j-1とゲート201とを、コンタクトホール302はワ
ード線WLjとゲート204,205とを、コンタクト
ホール303はワード線WLj+1とゲート206,20
7とを、コンタクトホール304はソース/ドレイン領
域104とゲート203とを、コンタクトホール305
はソース/ドレイン領域106とゲート202とを、コ
ンタクトホール306は接地線Vssとソース/ドレイ
ン領域102とを接続し、コンタクトホール307はソ
ース/ドレイン領域105とビット線BLiとを接続す
る。
【0044】ソース/ドレイン領域100,101及び
ゲート201はメモリセルMCj-1,iの読み出しトラン
ジスタQcを、ソース/ドレイン領域101,102及
びゲート202はメモリセルMCj-1,iの読み出しトラ
ンジスタQrを、ソース/ドレイン領域102,103
及びゲート203はメモリセルMCj,iの読み出しトラ
ンジスタQrを、ソース/ドレイン領域103,105
及びゲート204はメモリセルMCj,iの読み出しトラ
ンジスタQcを、ソース/ドレイン領域105,106
及びゲート205はメモリセルMCj-1,iの書き込みト
ランジスタQwを、ソース/ドレイン領域104,10
5及びゲート206はメモリセルMCj,iの書き込みト
ランジスタQwを、ソース/ドレイン領域105,10
7及びゲート207はメモリセルMCj+1,iの読み出し
トランジスタQcを、それぞれ構成している。メモリセ
ルMCj-1,i,MCj,iの記憶用容量Csは、それぞれゲ
ート202,203と一体で形成された配線に寄生する
容量によって実現される。
【0045】同図において、たとえばワード線WLj
活性化された場合、メモリセルMCj,iの記憶用容量C
sに記憶されていた情報が読み出され、また新たなデー
タはメモリセルMCj-1,iの記憶用容量Csに書き込ま
れる。またワード線WLj+1が活性化された場合は、メ
モリセルMCj+1,iの読み出しトランジスタQcを介し
てデータが読み出され、新たなデータはメモリセルMC
jの記憶用容量Csに書き込まれる。したがって、実施
の形態1,2と同様にして動作し、同様の効果を得るこ
とができる。
【0046】しかも、ソース/ドレイン領域105は4
つのゲート204〜207によって、その上方を四方か
ら囲まれているので、これは4つのMOSトランジスタ
に共有されている。つまり、4トランジスタ分のソース
/ドレイン領域を共有できるので、ビット線BLiの寄
生容量が低減でき、読み出し速度を高速化することがで
きる。
【0047】
【発明の効果】この発明のうち請求項1にかかるライン
メモリによれば、活性化されたワード線に接続された一
対のメモリセルの一方は読み出し可能となり、他方は書
き込み可能となる。従って、これらのメモリセルに対応
して設けられたビット線について、トライステートバッ
ファの出力端をハイインピーダンス状態にしつつラッチ
回路を先に駆動させることによって一方のメモリセルの
内容を確保し、その後にトライステートバッファの出力
端から入力データをビット線に与えれば他方のメモリセ
ルに新たな情報が書き込まれる。
【0048】かかる動作において、一方のメモリセルの
データ出力端子と他方のメモリセルのデータ入力端子と
がビット線を介して共通に接続されているため、一方の
メモリセルの内容を書き込む際に他方のメモリセルの内
容に影響を与えるが、その後に一方のメモリセルの内容
が新たに書き込まれるので、ラインメモリとしての機能
は損なわれない。
【0049】この発明のうち請求項2にかかるラインメ
モリによれば、同一の制御信号を用いて制御するので、
ラッチ回路及びトライステートバッファの動作の制御が
容易となる。
【0050】この発明のうち請求項3にかかるラインメ
モリによれば、ワード線の選択的な活性においてプリチ
ャージの為の所定の期間を避ける必要がないので、要求
される回路の構成が簡単になる。
【0051】この発明のうち請求項4にかかるラインメ
モリによれば、トランジスタ4個分のソース/ドレイン
領域を共有できるので、ビット線の寄生容量が低減で
き、読み出し速度を高速化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1にかかるラインメモ
リの構成を示す回路図である。
【図2】 この発明の実施の形態1にかかるラインメモ
リの動作を示すタイミングチャートである。
【図3】 この発明の実施の形態2にかかるラインメモ
リの動作を示すタイミングチャートである。
【図4】 この発明の実施の形態3にかかるラインメモ
リのメモリセルの構成を示す平面図である。
【図5】 従来のラインメモリの構成を示す回路図であ
る。
【図6】 従来のメモリセルの構成を例示する回路図で
ある。
【符号の説明】
11 トライステートバッファ、13 Dラッチ、10
0〜107 ソース/ドレイン領域、201〜207
ゲート、BLi ビット線、Cs 記憶用容量、D デ
ータ入力端子、MCj-1,i,MCj,i,MCj+1,i メモ
リセル、PCプリチャージ期間、Q データ出力端子、
Qc,Qr 読み出しトランジスタ、Qw 書き込みト
ランジスタ、R 読み出し制御端子、W 書き込み制御
端子、WE 書き込み許可信号,WLj-1,WLj,WL
j+1 ワード線。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 27/108

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一つの列に配置され、その各
    々が、データ入力端子、書き込み制御端子、データ出力
    端子、読み出し制御端子を有する複数のメモリセルと、 隣接する前記複数のメモリセルの一方の前記書き込み制
    御端子と、他方の前記読み出し制御端子とに共通して接
    続されるワード線と、 前記列毎に設けられ、前記ラインメモリに入力する入力
    データを受ける入力端と、出力端とを有するトライステ
    ートバッファと、 前記列毎に設けられ、前記トライステートバッファの出
    力端、並びに前記データ入力端子及び前記データ出力端
    子に接続されるビット線と、 前記ビット線に接続された入力端と、出力端とを有する
    ラッチ回路とを備えるラインメモリ。
  2. 【請求項2】 前記ラッチ回路及び前記トライステート
    バッファの動作は同一の制御信号で制御され、 前記トライステートバッファは、前記制御信号が第1の
    値を採ることに対応して自身の前記出力端をハイインピ
    ーダンス状態にし、前記制御信号が第2の値を採ること
    に対応して前記入力データをバッファリングし、 前記制御信号が前記第1の値から前記第2の値への遷移
    を行うことによって前記ラッチ回路は自身の前記入力端
    の内容をラッチする、請求項1記載のラインメモリ。
  3. 【請求項3】 前記ビット線は前記遷移に先立つ所定の
    期間においてプリチャージされ、前記所定の期間におい
    ても前記ワード線は活性化する、請求項2記載のライン
    メモリ。
  4. 【請求項4】 前記複数のメモリセルの各々は前記書き
    込み制御端子に接続されたゲートを含む書き込みトラン
    ジスタと、 前記読み出し制御端子に接続されたゲートを含む第1の
    読み出しトランジスタと、 記憶用容量と、 前記記憶用容量の両端の間で、前記第1の読み出しトラ
    ンジスタ及び前記書き込みトランジスタと共に直列に接
    続され、かつ前記記憶用容量の一端に接続されたゲート
    を含む第2の読み出しトランジスタとを有し、 第1の前記ワード線に接続された前記ゲートを含む第1
    の前記複数のメモリセルの前記書き込みトランジスタ
    と、前記第1の前記ワード線に接続された前記ゲートを
    含む第2の前記複数のメモリセルの前記第1の読み出し
    トランジスタと、前記第1の前記ワード線と隣接する第
    2の前記ワード線に接続された前記ゲートを含む前記第
    2の前記複数のメモリセルの前記書き込みトランジスタ
    と、前記第2の前記ワード線に接続された前記ゲートを
    含む第3の前記複数のメモリセルの前記第1の読み出し
    トランジスタとは、同一のソース/ドレイン領域を共有
    する、請求項1記載のラインメモリ。
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