JPH10253709A - Test head for semiconductor, method and system for testing semiconductor using the test head - Google Patents

Test head for semiconductor, method and system for testing semiconductor using the test head

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JPH10253709A
JPH10253709A JP9056441A JP5644197A JPH10253709A JP H10253709 A JPH10253709 A JP H10253709A JP 9056441 A JP9056441 A JP 9056441A JP 5644197 A JP5644197 A JP 5644197A JP H10253709 A JPH10253709 A JP H10253709A
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test
signal
semiconductor
pattern
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Tatsuhiro Gamou
毛 辰 弘 我
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a test head for semiconductor, along with a method and a system for testing a semiconductor, in which the delay time of output signal from a semiconductor to be tested (DUT: device under test) is compensated for various hardwares of semiconductor tester being employed in each fabrication process. SOLUTION: A test head for semiconductor where an additional capacitor 61 is connected between a semiconductor switch 14 and an input part 20 through a relay 65 is employed in a semiconductor tester for test program developing process and correlation between the capacitance before/after switching a relay 65 and a signal delay time from a DUT is derived. Subsequently, the capacitance is measured for every semiconductor tester to other process and inputted to a conversion program along with the correlation thus generating a test program compensating for the signal delay time in each test process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、測定装置並びにこ
れを用いた測定方法及び測定システム、特に半導体試験
用ヘッド並びにこれを用いた半導体試験方法及び半導体
テストシステムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a measuring apparatus, a measuring method and a measuring system using the same, and more particularly to a semiconductor test head and a semiconductor testing method and a semiconductor test system using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置の集積度は加速的に向
上し、LSI、VLSIからULSIとなるに従い、集
積回路の機能はますます複雑になり、廉価で信頼性の高
い半導体装置を提供するために迅速かつ高精度の試験方
法の検討が各製造工程で重要となり、特に設計の開発段
階で重要な位置を占めるようになった。
2. Description of the Related Art In recent years, the degree of integration of semiconductor devices has been rapidly increasing, and the functions of integrated circuits have become more and more complicated as LSIs and VLSIs have changed to ULSIs. Therefore, quick and accurate examination of test methods has become important in each manufacturing process, especially at the stage of design development.

【0003】ここでLSIの開発段階での試験工程につ
いて図面を参照しながら説明する。
Here, a test process in the development stage of an LSI will be described with reference to the drawings.

【0004】図12は、LSIの開発段階での製造工程
における試験工程のフロー図である。
FIG. 12 is a flow chart of a test process in a manufacturing process in an LSI development stage.

【0005】先ず、設計段階では、試験を考慮に入れた
設計がなされ、この段階で各製造工程におけるテストプ
ログラムが作成される(S200)。
First, in the design stage, a design is made in consideration of a test, and a test program in each manufacturing process is created at this stage (S200).

【0006】次に、マスク製造(S210)、ウェーハ
工程(S220)を経て行われるウェーハプロービング
試験(S230)では、ウェーハ状態でLSIチップの
ボンディングパッドに探針を機械的に接触させ、電気的
特性を測定する。
[0006] Next, in a wafer probing test (S230) performed through a mask manufacturing (S210) and a wafer process (S220), a probe is mechanically brought into contact with a bonding pad of an LSI chip in a wafer state, and electrical characteristics are obtained. Is measured.

【0007】また、組立工程(S240)後の電気的特
性試験(S250)では、様々な側面から詳細なデータ
を収集し、整理・解析してLSIの性能を評価する。
In the electrical characteristic test (S250) after the assembly process (S240), detailed data is collected from various aspects, organized and analyzed to evaluate the performance of the LSI.

【0008】さらに、信頼性評価試験における電気的特
性試験(S260)では、ストレス印加と各種特性の経
時安定性を評価する。
Further, in the electrical characteristic test (S260) in the reliability evaluation test, the application of stress and the aging stability of various characteristics are evaluated.

【0009】ウェーハプロービング試験(S230)、
組立工程後の電気的特性試験(S250)、信頼性評価
試験における電気的特性試験(S260)で被試験LS
Iの不良が発見されたときは、その原因が解析され(S
270)、設計・テストプログラム作成(S200)、
マスク製造(S210)、ウェーハ工程(S220)に
直ちにフィードバックされ、すべての特性試験をパスし
たときに、LSI開発・設計の完成となる(S30
0)。
[0009] Wafer probing test (S230),
LS to be tested in the electrical characteristic test (S250) after the assembly process and the electrical characteristic test (S260) in the reliability evaluation test
When a defect of I is found, its cause is analyzed (S
270), design / test program creation (S200),
It is immediately fed back to the mask manufacturing (S210) and the wafer process (S220), and when all the characteristic tests pass, the LSI development / design is completed (S30).
0).

【0010】このように、半導体装置の開発においては
様々な試験が必要であり、各工程別に試験装置が開発さ
れ、使用されている。
As described above, various tests are required in the development of semiconductor devices, and test devices are developed and used for each process.

【0011】電気的特性の試験の中心になるのは、機能
試験であり、LSIに所定の動作条件を与えたとき、L
SIの機能が正常に動作するか否かを確認するための試
験である。この機能試験のうち、最も困難なのが、論理
LSIのロジックテストである。
The center of the electrical characteristic test is a functional test. When a predetermined operating condition is given to the LSI, the function test is performed.
This is a test for confirming whether the function of the SI operates normally. The most difficult of these functional tests is the logic test of a logic LSI.

【0012】図13は、汎用的なLSI機能試験におけ
るロジックテストの方法の概略を示すブロック図であ
る。
FIG. 13 is a block diagram showing an outline of a logic test method in a general-purpose LSI function test.

【0013】先ず、ロジックパターン発生手段124に
より試験用のロジックパターンと合否判定の基準となる
期待値パターンを発生させる。次に、ロジックパターン
供給手段125により被試験LSI300(以下、DU
T:Device Under Test という。)の入力端子290に
該ロジックパターンを入力する。
First, the logic pattern generation means 124 generates a test logic pattern and an expected value pattern which is a reference for pass / fail judgment. Next, the LSI under test 300 (hereinafter referred to as DU)
T: Device Under Test. ) Is input to the input terminal 290.

【0014】さらに、電源190により駆動されるDU
T300の論理回路がこのロジックパターンに応じて出
力端子310に出力するパターンをパターン比較手段1
45が期待値パターン供給手段126から供給される期
待値パターンと比較し、合否判定手段400により合否
の判定を行う。
Further, the DU driven by the power supply 190
The pattern which the logic circuit of T300 outputs to the output terminal 310 according to the logic pattern is compared with the pattern comparing means 1
45 is compared with the expected value pattern supplied from the expected value pattern supply means 126, and the pass / fail determination means 400 makes a pass / fail judgment.

【0015】なお、図13には図示していないが、DU
Tの入力端子290に試験用の信号を入力し、これに応
じた出力信号を出力端子310から受け取り、該出力信
号と所定の基準電圧との比較を行い、その結果をパター
ン比較手段145に供給するのが半導体試験用ヘッドで
ある。また、DUTとの入力及び出力のインタフェース
が上記半導体試験用ヘッドのテスタピンである。テスタ
ピンの数はDUTの信号のピン数分必要である。
Although not shown in FIG.
A test signal is input to the input terminal 290 of T, an output signal corresponding thereto is received from the output terminal 310, the output signal is compared with a predetermined reference voltage, and the result is supplied to the pattern comparison means 145. This is the semiconductor test head. The input and output interfaces with the DUT are tester pins of the semiconductor test head. The number of tester pins is required for the number of DUT signal pins.

【0016】図14は、従来の技術における半導体試験
用ヘッド10の回路図である。近年の半導体試験用ヘッ
ドでは、出力部37及び入力部20の双方でテスタピン
18を共有できるよう、各テスタピン18に対し、テス
トパターン入力ドライバ11及び信号比較器15、16
が搭載されている。なお、以下の各図において、図14
に対応する部分には同一の符号を使用する。
FIG. 14 is a circuit diagram of a conventional semiconductor test head 10. In recent semiconductor test heads, a test pattern input driver 11 and signal comparators 15 and 16 are provided to each tester pin 18 so that the output section 37 and the input section 20 can share the tester pin 18.
Is installed. In each of the following figures, FIG.
The same reference numerals are used for portions corresponding to.

【0017】図14において、高レベル信号比較器15
は、DUTからの出力信号のうち、高レベルのものを設
定値と比較する。また、低レベル信号比較器16は、D
UTからの出力信号のうちの低レベルのものを設定値と
比較する。
In FIG. 14, a high-level signal comparator 15
Compares a high level signal among output signals from the DUT with a set value. The low-level signal comparator 16 outputs D
A low-level output signal from the UT is compared with a set value.

【0018】半導体スイッチ12は、それぞれテストパ
ターン入力ドライバ11及び信号比較器15、16をテ
スタピン18から電気的に切り離すための接続制御手段
であり、テストパターン信号を出力するとき半導体スイ
ッチ12がONとなり、また、DUTからの入力信号を
受けるときは半導体スイッチ12がOFFとなり、信号
比較器15、16に信号が流れるようにする。
The semiconductor switch 12 is connection control means for electrically disconnecting the test pattern input driver 11 and the signal comparators 15 and 16 from the tester pin 18, respectively. When the test pattern signal is output, the semiconductor switch 12 is turned on. Further, when receiving an input signal from the DUT, the semiconductor switch 12 is turned off so that the signal flows to the signal comparators 15 and 16.

【0019】また、バックマッチ抵抗13は、テストパ
ターン入力ドライバ11でテストパターン信号を出力す
るときの半導体試験用ヘッド10の特性インピーダンス
をDUTに整合するように調整するための抵抗である。
The backmatch resistor 13 is a resistor for adjusting the characteristic impedance of the semiconductor test head 10 when the test pattern input driver 11 outputs a test pattern signal so that the characteristic impedance matches the DUT.

【0020】半導体スイッチ14は、半導体試験用ヘッ
ド10自体の入出力を制御するための接続制御手段であ
る。
The semiconductor switch 14 is connection control means for controlling the input / output of the semiconductor test head 10 itself.

【0021】このような従来の技術による半導体テスト
システムの半導体試験用ヘッドとDUT300との1接
続例を図15の回路図に示す。また、図15に示す回路
図のうち、DUT300の出力ドライバ32から半導体
試験用ヘッド10の信号比較器36までの部分の等価回
路図を図16に示す。
FIG. 15 is a circuit diagram showing an example of a connection between the DUT 300 and a semiconductor test head of such a conventional semiconductor test system. FIG. 16 shows an equivalent circuit diagram of a portion from the output driver 32 of the DUT 300 to the signal comparator 36 of the semiconductor test head 10 in the circuit diagram shown in FIG.

【0022】図15において、半導体試験用ヘッド10
の出力部37は、半導体試験装置本体(図示せず)から
送られたロジックパターン信号をDUTの入力端子に対
し印加する。その応答信号は、DUTの出力端子からピ
ンケーブル153を介して半導体試験用ヘッド10の信
号比較器36に取り込まれ、所定の基準電圧と比較され
る。この比較結果は、半導体試験装置本体のパターン値
比較器(図示せず)に送られ、期待値パターンとの比較
が行われ、DUTの論理機能の評価がなされる。
In FIG. 15, a semiconductor test head 10 is shown.
Output unit 37 applies a logic pattern signal sent from a semiconductor test apparatus main body (not shown) to an input terminal of the DUT. The response signal is taken from the output terminal of the DUT via the pin cable 153 into the signal comparator 36 of the semiconductor test head 10 and compared with a predetermined reference voltage. The comparison result is sent to a pattern value comparator (not shown) of the semiconductor test apparatus main body, where it is compared with an expected value pattern, and the logic function of the DUT is evaluated.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術に基づく上記の半導体試験用ヘッド及びこれを用い
た半導体テストシステムについては、DUTからの出力
信号に遅れ時間が発生するという問題点があった。以
下、図面を参照しながらこの問題点を説明する。
However, the above-described semiconductor test head based on the prior art and the semiconductor test system using the same have a problem that a delay time occurs in the output signal from the DUT. . Hereinafter, this problem will be described with reference to the drawings.

【0024】DUTとしての半導体デバイスの多くは、
図15に示すDUTの出力ドライバ32の出力抵抗33
の値が半導体試験用ヘッド10のテスタピン(図14参
照)の伝送抵抗の抵抗値よりもかなり大きいため、DU
T出力抵抗、ピンケーブル153の伝送抵抗及び半導体
試験用ヘッド10の入力抵抗の一致をとることは困難で
ある。このためDUTからの出力信号を得るにあたり、
半導体試験用ヘッドの入力抵抗をかなり大きくし、信号
比較器15、16にて直接信号を受けている。しかしこ
の方法では、図16に示すように、DUT側からみてピ
ンケーブル153がケーブルキャパシタ41として、ま
た、半導体試験用ヘッド10が入力キャパシタ42とし
ての負荷容量として働くため、DUTからの出力、即ち
信号比較器への入力では図17(b)に示すような信号
波形となり、実際のデバイスの応答を示す図17(a)
と比較して、信号遅れ時間57、58が発生する。さら
に、DUTの各出力ピンの出力抵抗は必ずしも同一の抵
抗値で設計されていないため、出力抵抗がさらに大きい
場合は、図17(c)の59、60に示すように信号遅
れ時間はさらに大きくなる。この問題は、設計上でDU
Tの出力ピン毎に異なる比較レベルを設定している場合
も同様に発生する。
Most semiconductor devices as DUTs
The output resistance 33 of the output driver 32 of the DUT shown in FIG.
Is considerably larger than the resistance value of the transmission resistance of the tester pin (see FIG. 14) of the semiconductor test head 10,
It is difficult to match the T output resistance, the transmission resistance of the pin cable 153, and the input resistance of the semiconductor test head 10. Therefore, in obtaining the output signal from the DUT,
The input resistance of the semiconductor test head is considerably increased, and signals are directly received by the signal comparators 15 and 16. However, in this method, as shown in FIG. 16, the pin cable 153 acts as a cable capacitor 41 and the semiconductor test head 10 acts as a load capacitance as an input capacitor 42 when viewed from the DUT side. At the input to the signal comparator, the signal waveform becomes as shown in FIG. 17B, and FIG. 17A showing the response of the actual device.
, Signal delay times 57 and 58 occur. Further, since the output resistance of each output pin of the DUT is not necessarily designed to have the same resistance value, when the output resistance is further increased, the signal delay time is further increased as shown by 59 and 60 in FIG. Become. This problem is due to DU
This also occurs when a different comparison level is set for each T output pin.

【0025】上記問題は、半導体試験装置のハードウエ
アの種類が同一であれば、テストプログラムの開発時に
予め考慮することにより、ある程度解消することはでき
る。
The above problem can be solved to some extent by considering the same kind of hardware of the semiconductor test apparatus in advance when developing a test program.

【0026】しかし、半導体の試験評価は各製造工程毎
に同一の試験を実施しなければならない一方、前述の通
り、ウェーハ工程後のウェーハプロービング試験、組立
工程後の電気的特性試験などで、使用するハードウェア
が異なり、DUT側からみた負荷容量もそれぞれ異な
る。例えば、図18に示すテストプログラム開発工程用
の装置と比較して、図19に示すウェーハ工程用の装置
では、DUTボード74とDUT300との間にリング
75及び針カード76が、また図20に示す製造試験工
程用の装置では、DUTボード74とDUT300との
間にソケットボード77がソケットボードケーブル78
を介して設置されており、DUT側からみるとこれらの
部分だけ負荷容量が増加することとなる。
However, the same test must be carried out for each semiconductor device in the test evaluation of the semiconductor, but as described above, it is used in the wafer probing test after the wafer process and the electrical characteristic test after the assembly process. And the load capacity seen from the DUT side also differs. For example, as compared with the test program development process apparatus shown in FIG. 18, in the wafer process apparatus shown in FIG. 19, a ring 75 and a needle card 76 are provided between the DUT board 74 and the DUT 300, and FIG. In the apparatus for the manufacturing test process shown, a socket board 77 is provided between a DUT board 74 and a DUT 300 by a socket board cable 78.
When viewed from the DUT side, the load capacity increases only in these portions.

【0027】従って、このような種々の半導体試験装置
の各々のテストプログラムについて、比較タイミングを
変更して相関関係を維持する必要が生ずる一方、各ハー
ドウェア毎に出力抵抗、比較レベルが異なるため、該タ
イミングの調整は極めて困難であり、その作業には膨大
な時間を必要とする。
Therefore, it is necessary to change the comparison timing for each test program of such various semiconductor test apparatuses to maintain the correlation, while the output resistance and the comparison level are different for each hardware. It is extremely difficult to adjust the timing, and the operation requires an enormous amount of time.

【0028】以上説明したように、半導体試験装置の個
々のハードウェアについてDUTからの出力信号の遅れ
時間を調整しなければならない従来の技術では、生産ラ
イン構築の遅延と製品コストの上昇を招くという欠点が
あった。
As described above, the conventional technique in which the delay time of the output signal from the DUT must be adjusted for each piece of hardware of the semiconductor test apparatus causes a delay in production line construction and an increase in product cost. There were drawbacks.

【0029】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は半導体装置の試験評価において、DU
Tからの出力信号の遅れ時間を事前に検出し、異なるハ
ードウェアについて容易に補償する方法並びにこれを実
施するための半導体試験用ヘッド及びこれを用いた半導
体テストシステムを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object the purpose of testing and evaluating a DU in a semiconductor device.
An object of the present invention is to provide a method of detecting a delay time of an output signal from T in advance and easily compensating for different hardware, a semiconductor test head for performing the method, and a semiconductor test system using the same.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】本発明(請求項1)によ
れば、被試験半導体にテストパターン信号を出力する出
力部と、前記テストパターン信号に応じて前記被試験半
導体装置から入力された信号の電圧を基準電圧と比較す
る信号比較器を有する入力部と、前記被試験半導体装置
との間で信号の送受を行うテスタピンと、前記テスタピ
ンと前記入力部との間に第1の接続制御手段を介して接
続され、半導体試験装置に起因する信号遅れ時間を補償
する信号遅れ補償手段とを備えた半導体試験用ヘッドが
提供される。
According to the present invention (claim 1), an output section for outputting a test pattern signal to a semiconductor device to be tested, and an input section from the semiconductor device under test in response to the test pattern signal. An input unit having a signal comparator for comparing a signal voltage with a reference voltage; a tester pin for transmitting and receiving signals to and from the semiconductor device under test; and a first connection control between the tester pin and the input unit. And a signal delay compensating means connected through the means for compensating a signal delay time caused by the semiconductor test apparatus.

【0031】前記信号遅れ補償手段は、テスタピン毎に
設けられていることが望ましい。
The signal delay compensating means is preferably provided for each tester pin.

【0032】また、前記第1の接続制御手段は、複数の
信号遅れ補償手段との接続を選択的に制御する手段であ
ることが望ましい。
Further, it is preferable that the first connection control means is means for selectively controlling connection with a plurality of signal delay compensation means.

【0033】また、前記信号遅れ補償手段は、キャパシ
タでなる信号遅れ補償手段であるとよい。
The signal delay compensating means may be a signal delay compensating means comprising a capacitor.

【0034】また、前記第1の接続制御手段は、半導体
スイッチ回路でなる接続制御手段であるとよい。
The first connection control means may be a connection control means comprising a semiconductor switch circuit.

【0035】さらに、前記テスタピンは、第2の接続制
御手段を介して前記出力部及び前記入力部と選択的に接
続されていることが望ましい。
Further, it is preferable that the tester pin is selectively connected to the output section and the input section via second connection control means.

【0036】また、本発明(請求項7)によれば、被試
験半導体装置に対するテストパターンと判定基準パター
ンとを含むテストプログラムを使用し、前記テストパタ
ーンの信号を被試験半導体装置に入力し、前記被試験半
導体装置から出力された信号を前記判定基準パターンと
比較することにより被試験半導体装置の良否を判定する
半導体試験方法において、一の半導体試験装置について
テスタピン毎に静電容量を測定する第1の過程と、前記
半導体試験装置のテスタピンと入力部との間にキャパシ
タを選択的に接続し、前記キャパシタの接続前及び接続
後の出力信号遅れ時間を前記テスタピン毎にそれぞれ測
定し、静電容量と信号遅れ時間との相関関係を導く第2
の過程と、他の半導体試験装置についてテスタピン毎に
静電容量を測定する第3の過程と、前記第2の過程によ
り得られた相関関係と前記第3の過程により得られた測
定値から、前記他の半導体試験装置についてテスタピン
毎に信号遅れ時間を算出する第4の過程と、前記第4の
過程により得られた算出値を入力して前記テストプログ
ラムを変換して出力信号遅れ時間を補償する第5の過程
とを有することを特徴とする半導体試験方法が提供され
る。
According to the present invention (claim 7), a signal of the test pattern is input to the semiconductor device under test by using a test program including a test pattern for the semiconductor device under test and a determination reference pattern. In a semiconductor test method for determining the quality of a semiconductor device under test by comparing a signal output from the semiconductor device under test with the determination reference pattern, a capacitance measurement is performed for each tester pin for one semiconductor test device. Step 1, and selectively connecting a capacitor between a tester pin and an input unit of the semiconductor test apparatus, measuring output signal delay times before and after connection of the capacitor for each of the tester pins, Second to derive a correlation between capacity and signal delay time
And a third step of measuring the capacitance for each tester pin for another semiconductor test apparatus, and from the correlation obtained in the second step and the measurement value obtained in the third step, A fourth step of calculating a signal delay time for each tester pin for the other semiconductor test apparatus, and inputting the calculated value obtained in the fourth step and converting the test program to compensate for an output signal delay time A semiconductor test method comprising:

【0037】さらに、本発明(請求項8)によれば、各
種の指令信号を発してシステム全体の制御を行うCPU
と、各種の情報を格納する記憶手段と、前記CPUの操
作及び情報の表示を行う入出力手段とを有する制御部
と、内部電源供給手段と、前記CPUの指令によりテス
トパターン信号と期待値パターン信号を発生させるロジ
ックパターン発生手段と、前記CPUの指令により試験
のタイミングを決定するクロックパルスを発生するタイ
ミング信号発生手段と、前記タイミング信号発生手段か
ら送られるタイミング信号により前記パターン発生手段
から送られるテストパターン信号の波形整形を行い、半
導体試験用ヘッドに出力するフォーマット制御手段と、
前記CPUから送られるディジタル信号をアナログ信号
に変換して出力信号及び入力信号の基準電圧を設定して
前記半導体試験用ヘッドの入力ドライバ及び信号比較器
を制御するD−A変換手段と、前記フォーマット制御手
段から送られた前記テストパターン信号を前記入力ドラ
イバにより被試験半導体装置に出力し、前記被試験半導
体装置から入力された信号を前記信号比較器により基準
電圧と比較してその結果をパターン値比較手段に送る請
求項1ないし6のいずれかに記載の半導体試験用ヘッド
と、前記半導体試験用ヘッドから送られる比較結果信号
と前記ロジックパターン発生手段から送られる期待値パ
ターン信号との比較解析を行い、解析結果をフェイル解
析記憶手段に送るパターン値比較手段と、前記パターン
値比較手段での解析結果の情報を格納する前記フェイル
解析記憶手段とを有する計測部とを備えた半導体テスト
システムが提供される。
Further, according to the present invention (claim 8), a CPU for issuing various command signals to control the entire system.
A control unit having an input / output unit for operating the CPU and displaying information; an internal power supply unit; a test pattern signal and an expected value pattern in accordance with instructions from the CPU. A logic pattern generating means for generating a signal, a timing signal generating means for generating a clock pulse for determining a test timing in accordance with a command from the CPU, and a timing signal transmitted from the timing signal generating means. Format control means for performing waveform shaping of a test pattern signal and outputting the waveform to a semiconductor test head;
DA conversion means for converting a digital signal sent from the CPU into an analog signal, setting a reference voltage for an output signal and an input signal, and controlling an input driver and a signal comparator of the semiconductor test head; The test driver sends the test pattern signal to the semiconductor device under test by the input driver, compares the signal input from the semiconductor device under test with a reference voltage by the signal comparator, and compares the result with the pattern value. 7. The semiconductor test head according to claim 1, which is sent to comparison means, and a comparison analysis between a comparison result signal sent from the semiconductor test head and an expected value pattern signal sent from the logic pattern generation means. Pattern value comparing means for sending the analysis result to the fail analysis storage means, and a solution by the pattern value comparing means. The semiconductor test system that includes a measurement portion having said fail analyzing memory means for storing the results of the information is provided.

【0038】本発明によれば、DUTの各出力ピン毎に
負荷容量と信号遅れ時間との関係を事前に測定すること
により、各試験装置のハードウェアの静電容量から該信
号遅れ時間を算出することができるので、各半導体試験
工程における半導体試験システムの立ち上げをテストプ
ログラムの開発工程で事前に実施することができる。こ
れにより、製品の開発から量産に至るまでのリードタイ
ムを短縮させることができる。さらに、各テスト工程間
の相関関係を理論的に整合させることができるので、デ
バイスの品質管理も容易となる。
According to the present invention, the relationship between the load capacitance and the signal delay time is measured in advance for each output pin of the DUT, so that the signal delay time is calculated from the capacitance of the hardware of each test apparatus. Therefore, the start-up of the semiconductor test system in each semiconductor test process can be performed in advance in the test program development process. Thus, the lead time from product development to mass production can be reduced. Further, since the correlation between the test steps can be theoretically matched, the quality control of the device is also facilitated.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の実施の形態のいくつかについて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Some embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0040】先ず、本発明にかかる半導体試験方法の原
理を図6から図8を参照しながら説明する。
First, the principle of the semiconductor test method according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0041】一般に負荷容量に対する信号遅れ時間を予
測するためには、DUTの出力抵抗を知る必要がある。
しかし、図6(a)、(b)に示すDUTの出力信号特
性図からわかるとおり、DUTの出力抵抗は定数として
は定まらない。この一方、図7(a)、(b)の特性図
からは、負荷容量と出力信号遅れ時間との関係はほぼ線
形な特性があることがわかる。本発明はこの関係を利用
したものである。
Generally, in order to predict the signal delay time with respect to the load capacitance, it is necessary to know the output resistance of the DUT.
However, as can be seen from the output signal characteristic diagrams of the DUT shown in FIGS. 6A and 6B, the output resistance of the DUT is not determined as a constant. On the other hand, it can be seen from the characteristic diagrams of FIGS. 7A and 7B that the relationship between the load capacitance and the output signal delay time has a substantially linear characteristic. The present invention utilizes this relationship.

【0042】図8に示すように、あるDUTのある出力
ピンについて静電容量A[pF]のテストプログラム開
発用の半導体試験装置があり、これを使用したときの信
号遅れ時間がTa[ns]と測定されたとする。また、
静電容量B[pF]の他の半導体試験装置で測定したと
き、信号遅れ時間がTb[ns]であったとする。する
と、負荷容量C[pF]の測定装置を使用するときの信
号遅れ時間Tcは、 Tc=(b−a)*C/(B−A)+a−(b−a)*A/(B−A)[ns ]………(1) で容易に算出することができる。
As shown in FIG. 8, there is a semiconductor test apparatus for developing a test program of a capacitance A [pF] for a certain output pin of a certain DUT, and a signal delay time when using this is Ta [ns]. Is measured. Also,
It is assumed that the signal delay time is Tb [ns] when measured by another semiconductor test device having a capacitance B [pF]. Then, the signal delay time Tc when using the measuring device of the load capacitance C [pF] is as follows: Tc = (ba) * C / (BA) + a- (ba) * A / (B- A) It can be easily calculated by [ns] (1).

【0043】従って、テストプログラム開発用の半導体
試験装置の追加の負荷容量を選択的に接続し、接続の前
後の信号遅れ時間をDUTの各ピン毎に測定することに
より、上述の(1)の相関関係を導くことができる。
Therefore, by selectively connecting the additional load capacitance of the semiconductor test apparatus for test program development and measuring the signal delay time before and after the connection for each pin of the DUT, the above-mentioned (1) can be achieved. A correlation can be derived.

【0044】他の工程における測定装置のハードウェア
の静電容量は公知の容量計、例えば低電流型容量計で容
易に測定することができるので、各テスタピン毎に一旦
測定しておけば、その測定値を標準値として、DUTの
種類が変わった場合でもほぼ同じ値を使用することがで
き、(1)の相関関係からDUT出力の信号遅れ時間を
予測でき、容易に補償できることになる。
The capacitance of the hardware of the measuring device in the other steps can be easily measured by a known capacitance meter, for example, a low-current capacitance meter. With the measured value as a standard value, almost the same value can be used even when the type of DUT changes, and the signal delay time of the DUT output can be predicted from the correlation of (1) and can be easily compensated.

【0045】次に、上述の原理に基づく本発明にかかる
半導体試験方法の実施の1形態について図4のフロー図
及び図5の特性図を参照しながら説明する。
Next, an embodiment of a semiconductor test method according to the present invention based on the above-described principle will be described with reference to a flowchart of FIG. 4 and a characteristic diagram of FIG.

【0046】先ず、開発工程用のテストプログラムの作
成とともに、該プログラムを他工程用のプログラムに変
換するための変換プログラムを作成する(S100)。
First, a test program for a development process is created, and a conversion program for converting the program into a program for another process is created (S100).

【0047】次に、他の各工程における半導体試験装置
のハードウェアの静電容量を半導体試験用ヘッドのテス
タピン毎に測定し(S110)、変換プログラムに入力
する(S120)。
Next, the capacitance of the hardware of the semiconductor test apparatus in each of the other steps is measured for each tester pin of the semiconductor test head (S110), and is input to a conversion program (S120).

【0048】次に、DUTの各出力ピン毎に負荷容量に
対する信号遅れ時間をテストプログラム開発工程で使用
する半導体試験装置のハードウェアを使用して追加の負
荷容量の接続時・非接続時について測定し、(1)の相
関関係の各定数の値を定める(S130)。
Next, the signal delay time with respect to the load capacitance for each output pin of the DUT is measured using the hardware of the semiconductor test apparatus used in the test program development process when connecting and disconnecting the additional load capacitance. Then, the value of each constant of the correlation of (1) is determined (S130).

【0049】例えば、図5に示すように、静電容量30
pF(A点)のテストプログラム開発用の測定装置があ
り、これをあるDUTのあるピンについて使用したとき
の信号遅れ時間Taが50ns(a点)と測定されたと
する。この測定装置とDUTとの間に70pFの負荷容
量を加えて合計100pF(B点)として測定したと
き、信号遅れ時間Tbが60ns(b点)であった。従
って、(1)の関係式は次のように特定される。 Tc
=(60−50)C/(100−30)+50−(60
−50)*30/(100−30)=C/7+50−3
0/7[ns]……(2) このようにして、各DUTについて信号遅れ時間を測定
して、(2)の相関関係を求めていく。
For example, as shown in FIG.
It is assumed that there is a measuring device for developing a test program of pF (point A), and a signal delay time Ta when this is used for a certain pin of a certain DUT is measured as 50 ns (point a). When a total of 100 pF (point B) was measured by adding a load capacitance of 70 pF between the measurement device and the DUT, the signal delay time Tb was 60 ns (point b). Therefore, the relational expression of (1) is specified as follows. Tc
= (60-50) C / (100-30) + 50- (60
−50) * 30 / (100−30) = C / 7 + 50−3
0/7 [ns] (2) In this way, the signal delay time is measured for each DUT, and the correlation of (2) is obtained.

【0050】この相関関係を該開発工程で作成されたテ
ストプログラムに入力して信号遅れ時間の補正を行う
(S140)。その後、該信号遅れ時間のデータを基に
して変換プログラムを使用して手動または自動でプログ
ラム変換を行い、他工程用のテストプログラムを完成さ
せる(S150)。
The correlation is input to the test program created in the development process to correct the signal delay time (S140). Thereafter, the program conversion is performed manually or automatically using a conversion program based on the data of the signal delay time to complete a test program for another process (S150).

【0051】この結果、図5の例であれば、テストプロ
グラム開発用の測定装置については、50ns分の補正
ができ、また、例えば、ウェーハ工程用の測定装置の該
当するテスタピンについての静電容量が70pFである
ときは、(2)の相関関係においてC=70pFとな
り、信号遅れ時間Tc=55.7ns(c点)となるの
で、55.7ns分の補正を該ウェーハ工程用のテスト
プログラムについて行うことができる。
As a result, in the example of FIG. 5, for the measuring device for test program development, a correction of 50 ns can be made. For example, the capacitance of the corresponding tester pin of the measuring device for the wafer process can be corrected. Is 70 pF, C = 70 pF in the correlation of (2), and the signal delay time Tc = 55.7 ns (point c). Therefore, correction for 55.7 ns is performed for the test program for the wafer process. It can be carried out.

【0052】次に、本発明にかかる半導体試験用ヘッド
の実施の形態のいくつかについて図面を参照しながら説
明する。
Next, some embodiments of the semiconductor test head according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0053】図1は、本発明にかかる半導体試験用ヘッ
ドの第1の実施の形態の回路図である。図1において、
テストパターン入力ドライバ、半導体スイッチ及びバッ
クマッチ抵抗を備えた出力部、入出力制御手段、高レベ
ル信号比較器及び低レベル信号比較器を備えた入力部
は、従来技術を説明するための図14と同一なので、同
一部分には同一の参照番号を付してその説明は省略す
る。
FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of a semiconductor test head according to the present invention. In FIG.
A test pattern input driver, an output unit including a semiconductor switch and a backmatch resistor, an input / output control unit, and an input unit including a high-level signal comparator and a low-level signal comparator are described with reference to FIGS. Since they are the same, the same portions are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0054】図1に示すとおり、追加キャパシタ接続リ
レー65及び追加キャパシタ61が本発明において特徴
的な部分であり、追加キャパシタ61は、半導体スイッ
チ14と入力部20との間の結線17に追加キャパシタ
接続リレー65を介して選択的に接続されている。追加
キャパシタ61は、容易に交換でき、その容量値は各試
験装置間の静電容量のばらつきから経験に基づいた標準
値とすることができる。追加キャパシタ接続リレー65
を開閉することにより追加キャパシタ61の接続前後で
DUTの各出力ピン毎に信号遅れ時間を測定することが
できるので、各DUT毎に(1)の関係式を導くことが
できる。
As shown in FIG. 1, an additional capacitor connection relay 65 and an additional capacitor 61 are characteristic parts of the present invention. The additional capacitor 61 is connected to the connection 17 between the semiconductor switch 14 and the input section 20 by an additional capacitor. It is selectively connected via a connection relay 65. The additional capacitor 61 can be easily replaced, and its capacitance value can be set to a standard value based on experience from the variation in capacitance between the test devices. Additional capacitor connection relay 65
By opening and closing, the signal delay time can be measured for each output pin of the DUT before and after the connection of the additional capacitor 61, so that the relational expression (1) can be derived for each DUT.

【0055】図2は、図1に示す本発明の第1の実施の
形態をより具体的に示したものであり、追加キャパシタ
接続リレーとして半導体スイッチ70を用いたものの回
路図である。
FIG. 2 shows the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 more specifically, and is a circuit diagram of a device using a semiconductor switch 70 as an additional capacitor connection relay.

【0056】接続リレーとして半導体スイッチ回路を使
用するので、半導体試験用ヘッドの小型軽量化を実現す
ることができる。
Since the semiconductor switch circuit is used as the connection relay, the size and weight of the semiconductor test head can be reduced.

【0057】図3は、本発明にかかる半導体試験用ヘッ
ドの第2の実施の形態の回路図である。図3において
も、テストパターン入力ドライバ11、半導体スイッチ
12及びバックマッチ抵抗13を備えた出力部37、半
導体スイッチ14、高レベル信号比較器15及び低レベ
ル信号比較器16を備えた入力部20は、従来技術を説
明するための図14と同一である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a second embodiment of the semiconductor test head according to the present invention. Also in FIG. 3, the test pattern input driver 11, the output unit 37 including the semiconductor switch 12 and the backmatch resistor 13, the semiconductor switch 14, the input unit 20 including the high-level signal comparator 15 and the low-level signal comparator 16 include: And FIG. 14 for explaining the prior art.

【0058】本実施形態においては、2つの追加のキャ
パシタ61、62が追加キャパシタ接続リレー69を介
して半導体試験用ヘッドの入力部20に選択的に接続さ
れるようになっている点に特徴がある。従って、この第
2の実施の形態においては、キャパシタ1個のみを接続
した第1の形態に比べ、キャパシタ交換の回数が低減す
るため、作業効率が向上し、各工程のテストプログラム
の補正・信号遅れ時間の補償を早期に実現でき、試験に
要する時間が大幅に短縮されるので、製品開発から量産
までのリードタイムを大幅に短縮させることができる。
The present embodiment is characterized in that two additional capacitors 61 and 62 are selectively connected to the input section 20 of the semiconductor test head via an additional capacitor connection relay 69. is there. Therefore, in the second embodiment, since the number of times of replacement of the capacitor is reduced as compared with the first embodiment in which only one capacitor is connected, the work efficiency is improved, and the correction / signal of the test program of each process is improved. The delay time can be compensated at an early stage, and the time required for the test is greatly reduced, so that the lead time from product development to mass production can be significantly reduced.

【0059】次に、本発明にかかる半導体テストシステ
ムの実施の形態について図面を参照しながら説明する。
Next, an embodiment of a semiconductor test system according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0060】図9は、本発明にかかる半導体テストシス
テムの第1の実施の形態の構成を示したブロック図であ
る。
FIG. 9 is a block diagram showing the configuration of the first embodiment of the semiconductor test system according to the present invention.

【0061】図9に示す半導体テストシステムは、DU
Tの様々な特性を測定する計測部100とこれを制御す
る制御部200とで構成される。
The semiconductor test system shown in FIG.
It comprises a measuring unit 100 for measuring various characteristics of T and a control unit 200 for controlling the same.

【0062】制御部200は、ミニコンピュータなどの
CPU(Central Processing Unit)210、磁気ディ
スク装置、フレキシブルディスク装置などの記憶装置2
20、キーボード、ラインプリンタなどの入出力装置2
30などで構成される。
The control unit 200 includes a CPU (Central Processing Unit) 210 such as a minicomputer, and a storage device 2 such as a magnetic disk device or a flexible disk device.
20, input / output devices 2 such as a keyboard and a line printer
30 and the like.

【0063】計測部100は、CPUの指令によりテス
トパターン信号を発生するロジックパターン発生器12
0、試験のタイミングを決定するクロックパルスを発生
するタイミング発生器110、タイミング発生器110
のパルス信号に基づいてテストパターン信号の波形整形
を行うフォーマットコントローラ130、CPU210
から送られるディジタル信号をアナログ信号に変換する
D−A変換器170、テストパターン信号をDUTに出
力し、内蔵する信号比較器によりDUTから入力された
信号を基準電圧と比較する半導体試験用ヘッド150、
該比較結果の信号と期待値パターン信号との比較解析を
行うパターン値比較器140、該解析結果の情報を格納
するフェイル解析メモリ160及びプログラマブル電源
190などで構成される。
The measuring section 100 includes a logic pattern generator 12 for generating a test pattern signal according to a command from the CPU.
0, a timing generator 110 for generating a clock pulse for determining test timing, a timing generator 110
Format controller 130 and CPU 210 for shaping the waveform of the test pattern signal based on the pulse signal of
A digital-to-analog converter 170 that converts a digital signal sent from the DUT into an analog signal, outputs a test pattern signal to the DUT, and compares a signal input from the DUT with a reference voltage by a built-in signal comparator 150. ,
It comprises a pattern value comparator 140 for comparing and analyzing the signal of the comparison result with the expected value pattern signal, a fail analysis memory 160 for storing information of the analysis result, a programmable power supply 190 and the like.

【0064】各構成部分間の動作関係は次の通りであ
る。
The operational relationship between the components is as follows.

【0065】先ず、CPU210の指令により、ロジッ
クパターン発生器120が機能試験用のパターン信号を
発生し、フォーマットコントローラ130に送る。な
お、該ロジックパターン発生器120は、DUTへの信
号を駆動し、パターン毎にDUTからの信号と期待値と
の比較を実施するか否かの信号も出力する。
First, in response to a command from the CPU 210, the logic pattern generator 120 generates a pattern signal for a function test and sends it to the format controller 130. The logic pattern generator 120 drives a signal to the DUT and also outputs a signal as to whether or not to compare the signal from the DUT with an expected value for each pattern.

【0066】また、タイミング発生器110は、CPU
210の指令により、機能試験の周期やクロックパルス
の立ち上がり、立ち下がりのタイミングパルスを発生
し、フォーマットコントローラ130に送る。なお、タ
イミングエッジとしてはドライブ用と比較用があり、ド
ライブ用タイミングエッジには、半導体試験用ヘッド1
50の入出力共用テスタピンにおける入出力切り替え用
のものもある。
The timing generator 110 has a CPU
In accordance with the command of 210, a functional test cycle or a rising or falling timing pulse of a clock pulse is generated and sent to the format controller 130. Note that the timing edges include those for driving and those for comparison. The timing edges for driving include the semiconductor test head 1.
There is also one for switching input / output at 50 input / output shared tester pins.

【0067】次に、フォーマットコントローラ130
は、ロジックパターン発生器120から発生される論理
「1」、論理「0」の試験パターン信号をタイミング発
生器110から送られるタイミングパルスにより所定の
波形モードに整形し、半導体試験用ヘッド150へ送
る。
Next, the format controller 130
Is used to shape a test pattern signal of logic “1” and logic “0” generated from the logic pattern generator 120 into a predetermined waveform mode by a timing pulse sent from the timing generator 110, and send it to the semiconductor test head 150. .

【0068】一方、D−A変換器170は、CPU21
0から送られるディジタル信号をアナログ信号に変換
し、半導体試験用ヘッド150のDUT300への入力
パターンのレベル設定やDUT300からの出力パター
ンの判定レベルの設定を行う。
On the other hand, the DA converter 170
The digital signal transmitted from 0 is converted into an analog signal, and the level setting of the input pattern to the DUT 300 of the semiconductor test head 150 and the determination level of the output pattern from the DUT 300 are performed.

【0069】次に、半導体試験用ヘッド150は、D−
A変換器170によりレベル設定されたテストパターン
入力ドライバ151によりフォーマットコントローラ1
30から送られたテストパターン信号の電圧レベルを定
め、テスタピン(図1参照)を介してDUT300の入
力ピンに印加する。
Next, the semiconductor test head 150 is
The format controller 1 is controlled by the test pattern input driver 151 whose level is set by the A converter 170.
The voltage level of the test pattern signal sent from the terminal 30 is determined and applied to the input pin of the DUT 300 via the tester pin (see FIG. 1).

【0070】さらに、半導体試験用ヘッド150は、D
UT300が入力されたテストパターン信号に応じて出
力した信号をテスタピン(図1参照)を介して受け、信
号比較器155、156により、D−A変換器170で
設定された基準電圧との比較を行い、該比較結果をパタ
ーン値比較器140へ送る。このときDUTからの入力
信号のうち、高レベルのものは高レベル信号比較器15
5により、また、低レベルの入力信号は、低レベル信号
比較器156により比較判断される。
Further, the semiconductor test head 150 has a D
A signal output from the UT 300 in accordance with the input test pattern signal is received via a tester pin (see FIG. 1), and is compared with the reference voltage set by the DA converter 170 by the signal comparators 155 and 156. Then, the comparison result is sent to the pattern value comparator 140. At this time, of the input signals from the DUT, a high level signal is input to the high level signal comparator 15.
5 and the low-level input signal is compared and determined by the low-level signal comparator 156.

【0071】次に、パターン値比較器140は、半導体
試験用ヘッド150の信号比較器155、156から送
られた比較結果信号を期待値と比較し、該比較結果をフ
ェイル解析メモリ160に送る。期待値としては、論理
「1」、論理「0」の他、高インピーダンス状態などが
ある。また、比較結果の情報としては、ピン毎の良否の
試験結果の情報や不良が発生した試験パターンのアドレ
ス位置などがある。
Next, the pattern value comparator 140 compares the comparison result signal sent from the signal comparators 155 and 156 of the semiconductor test head 150 with the expected value, and sends the comparison result to the fail analysis memory 160. The expected value includes a logic “1”, a logic “0”, and a high impedance state. In addition, the information on the comparison result includes information on a test result of pass / fail of each pin, an address position of a test pattern in which a defect occurs, and the like.

【0072】フェイル解析メモリ160は、パターン値
比較器140から送られた上述の比較結果の情報を記憶
する。これらの情報は研究開発・信頼性評価に極めて重
要であり、DUT300の不良解析、機能試験パターン
のデバッグなどに使用される。
The fail analysis memory 160 stores the information of the comparison result sent from the pattern value comparator 140. These pieces of information are extremely important for research and development and reliability evaluation, and are used for failure analysis of the DUT 300, debugging of functional test patterns, and the like.

【0073】以上の操作を様々なロジックパターンにつ
いて繰り返すことによりDUTの良否が判定される。
The above operation is repeated for various logic patterns to determine the quality of the DUT.

【0074】図9に示す半導体テストシステムは半導体
試験用ヘッドとして、図1に示した本発明にかかる半導
体試験用ヘッドを採用しているため、DUTの出力ピン
毎の出力信号の遅れ時間をテスタピン毎に事前に算出し
て、他の半導体試験工程における半導体試験システムの
テストプログラムを補正して信号遅れ時間の補償を行う
ことが容易にできる。これにより、各製造工程における
試験時間を大幅に短縮することができる。
Since the semiconductor test system shown in FIG. 9 employs the semiconductor test head according to the present invention shown in FIG. 1 as the semiconductor test head, the delay time of the output signal for each output pin of the DUT is measured by the tester pin. It can be easily calculated in advance every time, and the test program of the semiconductor test system in another semiconductor test process can be corrected to easily compensate for the signal delay time. As a result, the test time in each manufacturing process can be significantly reduced.

【0075】なお、図10は、本発明にかかる半導体テ
ストシステムの第2の実施の形態の構成を示したブロッ
ク図であり、DUTに電流を流して電圧を測定し、また
は電圧を印加して電流を測定する手段であるDC試験ユ
ニット180を備えた半導体試験システムにおいて、図
1に示す本発明にかかる半導体試験用ヘッドを採用して
いる。
FIG. 10 is a block diagram showing the configuration of a second embodiment of the semiconductor test system according to the present invention, in which a current is applied to a DUT to measure a voltage or to apply a voltage. In a semiconductor test system provided with a DC test unit 180 which is a means for measuring current, the semiconductor test head according to the present invention shown in FIG. 1 is employed.

【0076】従って、図10に示す半導体テストシステ
ムにおいても、DUTの出力ピン毎の出力信号の遅れ時
間をテスタピン毎に事前に算出し、他の半導体試験工程
における半導体試験システムのテストプログラムを補正
して信号遅れ時間の補償を行うことが容易にできる。こ
れにより、各製造工程における試験時間を大幅に短縮す
ることができる。
Therefore, also in the semiconductor test system shown in FIG. 10, the delay time of the output signal for each output pin of the DUT is calculated in advance for each tester pin, and the test program of the semiconductor test system in another semiconductor test process is corrected. Therefore, it is possible to easily compensate for the signal delay time. As a result, the test time in each manufacturing process can be significantly reduced.

【0077】図11は、本発明にかかる半導体テストシ
ステムの第3の実施の形態の構成を示したブロック図で
ある。半導体試験用ヘッドとして、図3に示した本発明
にかかる半導体試験用ヘッドの第2の実施の形態を採用
している。本システムの使用により、DUTの出力ピン
毎の出力信号の遅れ時間の算出をより迅速に行うことが
でき、他の試験工程用のテストプログラムの補正・信号
遅れ時間の補正がさらに容易になる。これにより、各製
造工程における試験時間をさらに大幅に短縮することが
でき、製品開発から量産までのリードタイムを大幅に短
縮させることができる。
FIG. 11 is a block diagram showing the configuration of the third embodiment of the semiconductor test system according to the present invention. As the semiconductor test head, the second embodiment of the semiconductor test head according to the present invention shown in FIG. 3 is employed. By using the present system, the delay time of the output signal for each output pin of the DUT can be calculated more quickly, and the correction of the test program and the correction of the signal delay time for other test processes are further facilitated. As a result, the test time in each manufacturing process can be further reduced, and the lead time from product development to mass production can be significantly reduced.

【0078】なお、本発明の実施の形態は上記の形態に
限るものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変
形して実施することができる。例えば、本発明にかかる
半導体試験用ヘッドについても、選択的に接続するキャ
パシタは3個以上であってもよく、また、追加キャパシ
タ接続リレーも、接続制御手段であれば、MOSリレー
などに適宜変更することができる。
The embodiment of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified and implemented without departing from the gist thereof. For example, in the semiconductor test head according to the present invention, three or more capacitors may be selectively connected, and the additional capacitor connection relay may be appropriately changed to a MOS relay if the connection control means. can do.

【0079】[0079]

【発明の効果】以上詳述したとおり、本発明にかかる半
導体試験用ヘッド並びにこれを用いた半導体試験方法及
び半導体テストシステムは、以下の効果を奏する。
As described in detail above, the semiconductor test head according to the present invention, the semiconductor test method and the semiconductor test system using the same have the following effects.

【0080】即ち、本発明(請求項1)にかかる半導体
試験用ヘッドでは、信号遅れ補償手段が接続リレーを介
して半導体試験用ヘッドの入力部に選択的に接続されて
いるので、DUT毎に静電容量と信号遅れ時間との相関
関係を容易に導くことができる。このため、各試験装置
のハードウェアについて各DUT毎に信号遅れ時間を事
前に算出し、該信号遅れ時間を迅速かつ、容易に補償す
ることができるので、各半導体試験工程における半導体
試験システムの立ち上げをテストプログラムの開発工程
で事前に実施することができる。これにより、製品の開
発から量産に至るまでのリードタイムを短縮させること
ができ、製造コストを低減させることかできるという効
果がある。
That is, in the semiconductor test head according to the present invention (claim 1), the signal delay compensating means is selectively connected to the input section of the semiconductor test head via the connection relay, and therefore, for each DUT. The correlation between the capacitance and the signal delay time can be easily derived. For this reason, the signal delay time can be calculated in advance for each DUT for the hardware of each test apparatus, and the signal delay time can be quickly and easily compensated. Can be performed in advance in the test program development process. As a result, the lead time from product development to mass production can be shortened, and the manufacturing cost can be reduced.

【0081】また、本発明(請求項2)にかかる半導体
試験用ヘッドでは、上記の信号遅れ補償手段が半導体試
験用ヘッドの各テスタピン毎に設けられているので、D
UTの各出力ピン毎に静電容量と信号遅れ時間との相関
関係を容易に導くことができる。このため、各試験装置
のハードウェアについて各DUTの各出力ピン毎に信号
遅れ時間を事前に算出することができるので、DUTか
らの信号遅れ時間の補償をより迅速に行うことができる
という効果がある。
In the semiconductor test head according to the present invention (claim 2), the signal delay compensating means is provided for each tester pin of the semiconductor test head.
The correlation between the capacitance and the signal delay time can be easily derived for each output pin of the UT. For this reason, the signal delay time can be calculated in advance for each output pin of each DUT for the hardware of each test apparatus, so that the signal delay time from the DUT can be compensated more quickly. is there.

【0082】また、本発明(請求項3)にかかる半導体
試験用ヘッドでは、複数の信号遅れ補償手段が上記接続
手段を介して半導体試験用ヘッドの入力部に選択的に接
続されているため、DUTの各出力ピン毎に静電容量と
信号遅れ時間との相関関係をさらに効率良く導くことが
できる。このため、各試験装置のハードウェアについて
の各DUTの各出力ピン毎に信号遅れ時間の算出が早期
にできるので、DUTからの信号遅れ時間の補償をより
一層迅速に行うことができるという効果がある。
Further, in the semiconductor test head according to the present invention (claim 3), a plurality of signal delay compensating means are selectively connected to the input section of the semiconductor test head via the connection means. The correlation between the capacitance and the signal delay time can be more efficiently derived for each output pin of the DUT. As a result, the signal delay time can be calculated earlier for each output pin of each DUT for the hardware of each test apparatus, so that the signal delay time from the DUT can be compensated more quickly. is there.

【0083】また、本発明(請求項7)にかかる半導体
試験方法では、半導体試験装置のテスタピンと入力部と
の間にキャパシタを選択的に接続し、接続前及び接続後
の出力信号遅れ時間をテスタピン毎にそれぞれ測定して
導かれた静電容量と出力信号遅れ時間との相関関係に基
づいて、各試験装置のハードウェアについて各DUT毎
に信号遅れ時間を事前に算出し、出力信号遅れ時間を補
償するので、各半導体試験工程における半導体試験シス
テムの立ち上げをテストプログラムの開発工程で事前に
実施することができる。これにより、試験の効率が大幅
に向上し、製品の開発から量産に至るまでのリードタイ
ムを短縮させることができ、製造コストを低減させるこ
とかできるという効果がある。
In the semiconductor test method according to the present invention (claim 7), a capacitor is selectively connected between the tester pin of the semiconductor test apparatus and the input section, and the output signal delay time before and after the connection is reduced. The signal delay time is calculated in advance for each DUT for the hardware of each test device based on the correlation between the measured capacitance and the output signal delay time for each tester pin, and the output signal delay time is calculated. Therefore, the start-up of the semiconductor test system in each semiconductor test process can be performed in advance in the test program development process. As a result, the efficiency of the test is greatly improved, and the lead time from product development to mass production can be shortened, and the production cost can be reduced.

【0084】また、本発明(請求項8)にかかる半導体
テストシステムでは、本発明(請求項1ないし6)にか
かる半導体試験用ヘッド及び本発明(請求項7)にかか
る半導体試験方法を使用しているため、効率の高い半導
体テストを迅速に行うことができる。このため、製品の
開発から量産に至るまでのリードタイムを短縮させるこ
とができ、製造コストを低減させることができるという
効果がある。
The semiconductor test system according to the present invention (claim 8) uses the semiconductor test head according to the present invention (claims 1 to 6) and the semiconductor test method according to the present invention (claim 7). Therefore, a highly efficient semiconductor test can be performed quickly. For this reason, there is an effect that the lead time from product development to mass production can be shortened, and the manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる半導体試験用ヘッドの第1の実
施の形態を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor test head according to the present invention.

【図2】図1に示す本発明の第1の実施の形態のうち、
追加キャパシタ接続リレーとして半導体スイッチ70を
用いたものの回路図である。
FIG. 2 shows a first embodiment of the present invention shown in FIG.
FIG. 11 is a circuit diagram of a device using a semiconductor switch 70 as an additional capacitor connection relay.

【図3】本発明にかかる半導体試験用ヘッドの第2の実
施の形態を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor test head according to the present invention.

【図4】本発明にかかる半導体試験方法を説明するため
のフロー図である。
FIG. 4 is a flowchart for explaining a semiconductor test method according to the present invention.

【図5】本発明にかかる半導体試験方法の実施の1形態
を説明するための信号遅れ時間と負荷容量との相関関係
を示す特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing a correlation between a signal delay time and a load capacity for explaining one embodiment of a semiconductor test method according to the present invention.

【図6】DUTの出力信号における出力電流I0 と出力
電圧V0 との関係を示す特性図である。即ち、図6
(a)は、NチャネルDUTの出力信号における出力電
流I0 と出力電圧V0 との関係を示す特性図であり、図
6(b)は、PチャネルDUTの出力信号における出力
電流I0 と出力電圧V0 との関係を示す特性図である。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a relationship between an output current I0 and an output voltage V0 in an output signal of the DUT. That is, FIG.
6A is a characteristic diagram showing the relationship between the output current I0 and the output voltage V0 in the output signal of the N-channel DUT, and FIG. 6B is the characteristic diagram showing the output current I0 and the output voltage V0 in the output signal of the P-channel DUT. FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship between

【図7】DUTの出力信号における信号遅れ時間と負荷
容量との関係を示す特性図である。即ち、図7(a)
は、NチャネルDUTの出力信号における信号遅れ時間
tPLH と負荷容量CL との関係を示す特性図であり、図
7(b)は、PチャネルDUTの出力信号における信号
遅れ時間tPHL と負荷容量CL との関係を示す特性図で
ある。
FIG. 7 is a characteristic diagram showing a relationship between a signal delay time and a load capacitance in an output signal of a DUT. That is, FIG.
FIG. 7B is a characteristic diagram showing the relationship between the signal delay time tPLH and the load capacitance CL in the output signal of the N-channel DUT. FIG. 7B shows the signal delay time tPHL and the load capacitance CL in the output signal of the P-channel DUT. FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship of FIG.

【図8】本発明にかかるDUT出力信号遅れ時間の予測
原理を説明するための信号遅れ時間と負荷容量との相関
関係を示す特性図である。
FIG. 8 is a characteristic diagram illustrating a correlation between a signal delay time and a load capacity for explaining a principle of predicting a DUT output signal delay time according to the present invention.

【図9】本発明にかかる半導体テストシステムの第1の
実施の形態を示すブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram showing a first embodiment of the semiconductor test system according to the present invention.

【図10】本発明にかかる半導体テストシステムの第2
の実施の形態を示すブロック図である。
FIG. 10 shows a second example of the semiconductor test system according to the present invention.
It is a block diagram showing an embodiment.

【図11】本発明にかかる半導体テストシステムの第3
の実施の形態を示すブロック図である。
FIG. 11 shows a third example of the semiconductor test system according to the present invention.
It is a block diagram showing an embodiment.

【図12】LSIの開発段階での製造工程における試験
工程のフロー図である。
FIG. 12 is a flowchart of a test process in a manufacturing process in an LSI development stage.

【図13】汎用的なLSI機能試験におけるロジックテ
ストの方法の概略を示すブロック図である。
FIG. 13 is a block diagram illustrating an outline of a logic test method in a general-purpose LSI function test.

【図14】従来の技術による半導体試験用ヘッドの1例
を示す回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor test head.

【図15】従来の技術による半導体テストシステムの半
導体試験用ヘッドとDUTとの1接続例を示す回路図で
ある。
FIG. 15 is a circuit diagram showing one connection example between a semiconductor test head and a DUT in a semiconductor test system according to a conventional technique.

【図16】図15に示す回路図のうち、DUT出力から
半導体試験用ヘッドの信号比較器までの部分の等価回路
である。
16 is an equivalent circuit of a portion from a DUT output to a signal comparator of a semiconductor test head in the circuit diagram shown in FIG.

【図17】DUTからの出力信号の信号波形を示す波形
図である。即ち、図17(a)は、DUTからの出力信
号の実際の信号波形を示す波形図であり、図17(b)
は、信号遅れ時間57、58が発生したときのDUTか
らの出力信号の信号波形を示す波形図である。また、図
17(c)は、図17(b)57、58よりもさらに長
い信号遅れ時間59、60が発生したときのDUTから
の出力信号の信号波形を示す波形図である。
FIG. 17 is a waveform diagram showing a signal waveform of an output signal from the DUT. That is, FIG. 17A is a waveform diagram showing an actual signal waveform of an output signal from the DUT, and FIG.
FIG. 7 is a waveform diagram showing a signal waveform of an output signal from the DUT when signal delay times 57 and 58 occur. FIG. 17C is a waveform diagram showing a signal waveform of an output signal from the DUT when signal delay times 59 and 60 longer than those in FIGS. 17B and 57 are generated.

【図18】テストプログラム開発工程に使用される半導
体試験装置のうち、DUT300、DUTボード74及
び半導体試験用ヘッド10の接続関係の1具体例を示す
斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view showing a specific example of a connection relationship among a DUT 300, a DUT board 74, and a semiconductor test head 10 in a semiconductor test apparatus used in a test program development process.

【図19】ウェーハ工程に使用される半導体試験装置の
うち、DUT300、リング76、針カード75、DU
Tボード74及び半導体試験用ヘッド10の接続関係の
1具体例を示す斜視図である。
FIG. 19 shows DUT 300, ring 76, needle card 75, and DU among semiconductor test devices used in the wafer process.
FIG. 3 is a perspective view showing one specific example of a connection relationship between a T board 74 and a semiconductor test head 10.

【図20】製品試験工程に使用される半導体試験装置の
うち、DUT300、ソケットボード77、ソケットボ
ードケーブル78、DUTボード74及び半導体試験用
ヘッド10の接続関係の1具体例を示す斜視図である。
FIG. 20 is a perspective view showing a specific example of a connection relationship among a DUT 300, a socket board 77, a socket board cable 78, a DUT board 74, and a semiconductor test head 10 among semiconductor test apparatuses used in a product test process. .

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、150、250、400 半導体試験用ヘッド 11、151 テストパターン入力ドライバ 12、14、70 半導体スイッチ 13 バックマッチ抵抗 15、155 高レベル信号比較器 16、156 低レベル信号比較器 17 入出力リレー14と入力部との間の結線 18 テスタピン 20 入力部 32 出力ドライバ 33 出力抵抗 36 信号比較器 37 出力部 41 ケーブルキャパシタ 42 入力キャパシタ 51 無負荷時のDUT出力波形 52 低容量負荷時のDUT出力波形 53 高容量負荷時のDUT出力波形 55 高比較レベル 56 低比較レベル 57 信号遅れ時間t1 58 信号遅れ時間t2 59 信号遅れ時間t3 60 信号遅れ時間t4 61 第1の追加キャパシタ 62 第2の追加キャパシタ 65、69 追加キャパシタ接続リレー 74 DUTボード 75 リング 76 針カード 77 ソケットボード 78 ソケットボードケーブル 100 計測部 110 タイミング発生器 120 ロジックパターン発生器 124 ロジックパターン発生手段 125 ロジックパターン供給手段 126 期待値パターン供給手段 130 フォーマトコントローラ 140 パターン値比較器 145 パターン比較手段 153 ピンケーブル 160 フェイル解析メモリ 170 D−A変換器 180 DC試験ユニット 190 プログラマブル電源 200 制御部 210 CPU 220 記憶装置 230 入出力装置 290 DUTの入力端子 300 DUT 310 DUTの出力端子 400 合否判定手段 10, 150, 250, 400 Semiconductor test head 11, 151 Test pattern input driver 12, 14, 70 Semiconductor switch 13 Backmatch resistor 15, 155 High level signal comparator 16, 156 Low level signal comparator 17 I / O relay 14 18 between tester pin 20 input section 32 output driver 33 output resistance 36 signal comparator 37 output section 41 cable capacitor 42 input capacitor 51 DUT output waveform at no load 52 DUT output waveform at low capacity load 53 DUT output waveform under high capacity load 55 High comparison level 56 Low comparison level 57 Signal delay time t1 58 Signal delay time t2 59 Signal delay time t3 60 Signal delay time t4 61 First additional capacitor 62 Second additional capacitor 65, 69 Additional capacitor connection relay 74 DUT board 75 Ring 76 Needle card 77 Socket board 78 Socket board cable 100 Measurement unit 110 Timing generator 120 Logic pattern generator 124 Logic pattern generation means 125 Logic pattern supply means 126 Expected value pattern supply means 130 Format controller 140 Pattern value comparison 145 Pattern comparison means 153 Pin cable 160 Fail analysis memory 170 DA converter 180 DC test unit 190 Programmable power supply 200 Control unit 210 CPU 220 Storage device 230 Input / output device 290 DUT input terminal 300 DUT 310 DUT output terminal 400 Pass / fail judgment means

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被試験半導体装置にテストパターン信号を
出力する出力部と、 前記テストパターン信号に応じて前記被試験半導体装置
から入力された信号の電圧を基準電圧と比較する信号比
較器を有する入力部と、 前記被試験半導体装置との間で信号の送受を行うテスタ
ピンと、 前記テスタピンと前記入力部との間に第1の接続制御手
段を介して接続され、半導体試験装置に起因する信号遅
れ時間を補償する信号遅れ補償手段とを備えた半導体試
験用ヘッド。
An output unit that outputs a test pattern signal to the semiconductor device under test; and a signal comparator that compares a voltage of a signal input from the semiconductor device under test with a reference voltage according to the test pattern signal. An input unit, a tester pin for transmitting and receiving signals between the semiconductor device under test, and a signal connected to the tester pin and the input unit via first connection control means, the signal being caused by the semiconductor test device. A semiconductor test head comprising: signal delay compensation means for compensating a delay time.
【請求項2】前記信号遅れ補償手段は、テスタピン毎に
設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導
体試験用ヘッド。
2. The semiconductor test head according to claim 1, wherein said signal delay compensating means is provided for each tester pin.
【請求項3】前記第1の接続制御手段は、複数の信号遅
れ補償手段との接続を選択的に制御する手段であること
を特徴とする請求項1または2に記載の半導体試験用ヘ
ッド。
3. The semiconductor test head according to claim 1, wherein said first connection control means is means for selectively controlling connection with a plurality of signal delay compensation means.
【請求項4】前記信号遅れ補償手段は、キャパシタでな
ることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載
の半導体試験用ヘッド。
4. The semiconductor test head according to claim 1, wherein said signal delay compensation means comprises a capacitor.
【請求項5】前記第1の接続制御手段は、半導体スイッ
チ回路でなることを特徴とする請求項1ないし4のいず
れかに記載の半導体試験用ヘッド。
5. The semiconductor test head according to claim 1, wherein said first connection control means comprises a semiconductor switch circuit.
【請求項6】前記テスタピンは、第2の接続制御手段を
介して前記出力部及び前記入力部と選択的に接続されて
いることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記
載の半導体試験用ヘッド。
6. The semiconductor according to claim 1, wherein said tester pin is selectively connected to said output section and said input section via second connection control means. Test head.
【請求項7】被試験半導体装置に対するテストパターン
と判定基準パターンとを含むテストプログラムを使用
し、 前記テストパターンの信号を被試験半導体装置に入力
し、前記被試験半導体装置から出力された信号を前記判
定基準パターンと比較することにより被試験半導体装置
の良否を判定する半導体試験方法において、 一の半導体試験装置についてテスタピン毎に静電容量を
測定する第1の過程と、 前記半導体試験装置のテスタピンと入力部との間にキャ
パシタを選択的に接続し、前記キャパシタの接続前及び
接続後の出力信号遅れ時間を前記テスタピン毎にそれぞ
れ測定し、静電容量と出力信号遅れ時間との相関関係を
導く第2の過程と、 他の半導体試験装置についてテスタピン毎に静電容量を
測定する第3の過程と、 前記第2の過程により得られた相関関係と前記第3の過
程により得られた測定値から、前記他の半導体試験装置
についてテスタピン毎に出力信号遅れ時間を算出する第
4の過程と、 前記第4の過程により得られた算出値を入力して前記テ
ストプログラムを変換して出力信号遅れ時間を補償する
第5の過程とを有することを特徴とする半導体試験方
法。
7. A test program including a test pattern and a judgment reference pattern for a semiconductor device under test, a signal of the test pattern is input to the semiconductor device under test, and a signal output from the semiconductor device under test is In a semiconductor test method for judging pass / fail of a semiconductor device under test by comparing with a judgment reference pattern, a first step of measuring a capacitance for each tester pin for one semiconductor test device, and a tester pin of the semiconductor test device And an input unit, a capacitor is selectively connected, an output signal delay time before and after the connection of the capacitor is measured for each of the tester pins, and a correlation between the capacitance and the output signal delay time is determined. A second step of guiding; a third step of measuring capacitance for each tester pin for another semiconductor test apparatus; A fourth step of calculating an output signal delay time for each tester pin for the other semiconductor test device from the correlation obtained in the step and the measurement value obtained in the third step; A fifth step of inputting the calculated value and converting the test program to compensate for the output signal delay time.
【請求項8】各種の指令信号を発してシステム全体の制
御を行うCPUと、各種の情報を格納する記憶手段と、
前記CPUの操作及び情報の表示を行う入出力手段とを
有する制御部と、 内部電源供給手段と、 前記CPUの指令によりテストパターン信号と期待値パ
ターン信号を発生させるロジックパターン発生手段と、 前記CPUの指令により試験のタイミングを決定するク
ロックパルスを発生するタイミング信号発生手段と、 前記タイミング信号発生手段から送られるタイミング信
号により前記パターン発生手段から送られるテストパタ
ーン信号の波形整形を行い、半導体試験用ヘッドに出力
するフォーマット制御手段と、 前記CPUから送られるディジタル信号をアナログ信号
に変換して出力信号及び入力信号の基準電圧を設定して
前記半導体試験用ヘッドの入力ドライバ及び信号比較器
を制御するD−A変換手段と、 前記フォーマット制御手段から送られた前記テストパタ
ーン信号を前記入力ドライバにより被試験半導体装置に
出力し、前記被試験半導体装置から入力された信号を前
記信号比較器により基準電圧と比較してその結果をパタ
ーン値比較手段に送る請求項1ないし6のいずれかに記
載の半導体試験用ヘッドと、 前記半導体試験用ヘッドから送られる比較結果信号と前
記ロジックパターン発生手段から送られる期待値パター
ン信号との比較解析を行い、解析結果をフェイル解析記
憶手段に送るパターン値比較手段と、 前記パターン値比較手段での解析結果の情報を格納する
前記フェイル解析記憶手段とを有する計測部とを備えた
半導体テストシステム。
8. A CPU for controlling the entire system by issuing various command signals, a storage means for storing various information,
A control unit having input / output means for operating the CPU and displaying information; an internal power supply means; a logic pattern generating means for generating a test pattern signal and an expected value pattern signal according to a command from the CPU; A timing signal generating means for generating a clock pulse for determining a test timing in accordance with the command of the above; A format control means for outputting to the head; a digital signal sent from the CPU being converted into an analog signal to set a reference voltage of an output signal and an input signal to control an input driver and a signal comparator of the semiconductor test head. DA conversion means, and the format control means The test driver sends the test pattern signal to the semiconductor device under test by the input driver, compares the signal input from the semiconductor device under test with a reference voltage by the signal comparator, and compares the result with pattern value comparing means. The semiconductor test head according to any one of claims 1 to 6, wherein a comparison result signal transmitted from the semiconductor test head and an expected value pattern signal transmitted from the logic pattern generation unit are compared and analyzed. A semiconductor test system comprising: a pattern value comparison unit that sends an analysis result to a failure analysis storage unit; and a measurement unit that includes the fail analysis storage unit that stores information on an analysis result obtained by the pattern value comparison unit.
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