JPH10250233A - 感熱性画像形成要素及びそれを用いて平版印刷版を作製する方法 - Google Patents
感熱性画像形成要素及びそれを用いて平版印刷版を作製する方法Info
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- JPH10250233A JPH10250233A JP10066092A JP6609298A JPH10250233A JP H10250233 A JPH10250233 A JP H10250233A JP 10066092 A JP10066092 A JP 10066092A JP 6609298 A JP6609298 A JP 6609298A JP H10250233 A JPH10250233 A JP H10250233A
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1033—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/442—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱融蝕可能な層と最上層の間の強い接着を有
する、融蝕可能な層に基づくヒートモード画像形成要素
を提供すること。 【解決手段】 本発明に従えば、 ｉ）平版印刷ベース、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層及び ｉｉｉ）インキ又はインキ接着液に関して平版印刷ベー
スと逆の親和性を有する最上層を記載の順序で含み、最
上層が主物質として無機−有機複合材料を含み、ここで
無機相は金属アルコキシドの制御された加水分解及び重
縮合により形成され、有機相は少なくとも１つの無機原
子に結合している有機ポリマー又はコポリマーであるこ
とを特徴とするヒートモード画像形成要素が提供され
る。
する、融蝕可能な層に基づくヒートモード画像形成要素
を提供すること。 【解決手段】 本発明に従えば、 ｉ）平版印刷ベース、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層及び ｉｉｉ）インキ又はインキ接着液に関して平版印刷ベー
スと逆の親和性を有する最上層を記載の順序で含み、最
上層が主物質として無機−有機複合材料を含み、ここで
無機相は金属アルコキシドの制御された加水分解及び重
縮合により形成され、有機相は少なくとも１つの無機原
子に結合している有機ポリマー又はコポリマーであるこ
とを特徴とするヒートモード画像形成要素が提供され
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版の作製の
ためのヒートモード画像形成材料に関する。本発明はさ
らに該ヒートモード画像形成材料から印刷版を作製する
ための方法に関する。
ためのヒートモード画像形成材料に関する。本発明はさ
らに該ヒートモード画像形成材料から印刷版を作製する
ための方法に関する。
【０００２】
【発明の背景】平版印刷は、或る領域が平版印刷インキ
を受容することができるが、他の領域が水で湿らされる
とインキを受容しない特別に作られた表面からの印刷の
方法である。インキを受容する領域は印刷画像領域を形
成し、インキ−反発性領域は背景領域を形成する。
を受容することができるが、他の領域が水で湿らされる
とインキを受容しない特別に作られた表面からの印刷の
方法である。インキを受容する領域は印刷画像領域を形
成し、インキ−反発性領域は背景領域を形成する。
【０００３】写真平版印刷の技術分野の場合、写真材料
は、露光された領域において（ネガティブ作用性）又は
非露光領域において（ポジティブ作用性）、親水性背景
上で画像通りに油性又は脂性インキに対して受容性とさ
れる。
は、露光された領域において（ネガティブ作用性）又は
非露光領域において（ポジティブ作用性）、親水性背景
上で画像通りに油性又は脂性インキに対して受容性とさ
れる。
【０００４】表面平版印刷版（ｓｕｒｆａｃｅ ｌｉｔ
ｈｏ ｐｌａｔｅｓ）又はプラノグラフィー印刷版（ｐ
ｌａｎｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔ
ｅｓ）とも呼ばれる通常の平版印刷版の作製の場合、水
に対して親和性を有するか、又は化学的処理によりその
ような親和性を得る支持体に感光性組成物の薄層がコー
ティングされる。その目的のためのコーティングにはジ
アゾ化合物、ジクロム酸塩−増感親水性コロイド及び多
様な合成感光性樹脂を含有する感光性ポリマー層が含ま
れる。特にジアゾ−増感系が広く用いられる。
ｈｏ ｐｌａｔｅｓ）又はプラノグラフィー印刷版（ｐ
ｌａｎｏｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｐｌａｔ
ｅｓ）とも呼ばれる通常の平版印刷版の作製の場合、水
に対して親和性を有するか、又は化学的処理によりその
ような親和性を得る支持体に感光性組成物の薄層がコー
ティングされる。その目的のためのコーティングにはジ
アゾ化合物、ジクロム酸塩−増感親水性コロイド及び多
様な合成感光性樹脂を含有する感光性ポリマー層が含ま
れる。特にジアゾ−増感系が広く用いられる。
【０００５】そのような感光性層が画像通りに露光され
ると、露光された画像領域は不溶性となり、未露光領域
は溶解性のままである。次いで版は適当な液を用いて現
像され、未露光領域のジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂が
除去される。
ると、露光された画像領域は不溶性となり、未露光領域
は溶解性のままである。次いで版は適当な液を用いて現
像され、未露光領域のジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂が
除去される。
【０００６】感光性組成物を含む画像形成要素はフォト
モード画像形成要素（ｐｈｏｔｏｍｏｄｅ ｉｍａｇｉ
ｎｇ ｅｌｅｍｅｎｔｓ）と呼ばれる。
モード画像形成要素（ｐｈｏｔｏｍｏｄｅ ｉｍａｇｉ
ｎｇ ｅｌｅｍｅｎｔｓ）と呼ばれる。
【０００７】他方、平版印刷版の作製のためにヒートモ
ード画像形成要素も既知であり、その表面は、照射を熱
に変換することにより得られる熱に画像通りに暴露し、
ほとんどの場合続いて現像すると、インキに対して画像
通りに受容性又は反発性とすることができる。印刷版の
作製のための上記のようなフォトモード画像形成要素の
特別な欠点は、それを光から遮蔽しなければならないこ
とである。さらにそれらは保存安定性の観点で感度の問
題を有し、それらは比較的低い解像度を示す。明らかに
市場で、ヒートモード印刷版前駆体に向かう傾向が見ら
れる。
ード画像形成要素も既知であり、その表面は、照射を熱
に変換することにより得られる熱に画像通りに暴露し、
ほとんどの場合続いて現像すると、インキに対して画像
通りに受容性又は反発性とすることができる。印刷版の
作製のための上記のようなフォトモード画像形成要素の
特別な欠点は、それを光から遮蔽しなければならないこ
とである。さらにそれらは保存安定性の観点で感度の問
題を有し、それらは比較的低い解像度を示す。明らかに
市場で、ヒートモード印刷版前駆体に向かう傾向が見ら
れる。
【０００８】いくつかの興味深いヒートモード画像形成
材料は、例えばＵＳ−Ｐ−５，３７９，６９８、５，３
５３，７０５、ＥＰ−Ａ−６８３，７２８、６７８，３
８０、６４９，３７４、５８０，３９３、５８０，３９
４及びＤＥ ２，５１２，０３８に記載されている通
り、親水性表面を有する支持体、疎水性被覆層及び、そ
れらの間にヒートモード層として化学線により融蝕され
る（ａｂｌａｔｅｄ）ことができる層を含有する。特に
興味深い感熱画像形成要素は、化学線により融蝕される
ことができる該層が熱伝導性の低い低融点無毒性金属、
例えばアルミニウム、ビスマス、錫、インジウム、チタ
ン及びテルルのような金属の層である画像形成要素であ
る。
材料は、例えばＵＳ−Ｐ−５，３７９，６９８、５，３
５３，７０５、ＥＰ−Ａ−６８３，７２８、６７８，３
８０、６４９，３７４、５８０，３９３、５８０，３９
４及びＤＥ ２，５１２，０３８に記載されている通
り、親水性表面を有する支持体、疎水性被覆層及び、そ
れらの間にヒートモード層として化学線により融蝕され
る（ａｂｌａｔｅｄ）ことができる層を含有する。特に
興味深い感熱画像形成要素は、化学線により融蝕される
ことができる該層が熱伝導性の低い低融点無毒性金属、
例えばアルミニウム、ビスマス、錫、インジウム、チタ
ン及びテルルのような金属の層である画像形成要素であ
る。
【０００９】現在の融蝕に基づく印刷版前駆体の場合に
起こる問題は、最上層と融蝕可能な層の間の接着があま
り強くないことである。これは印刷版の汚染及び低い印
刷耐久性を生ずる。従って、熱融蝕可能な金属層と最上
層の間に強い接着を有する、融蝕可能層に基づくヒート
モード画像形成要素に対する要求がある。
起こる問題は、最上層と融蝕可能な層の間の接着があま
り強くないことである。これは印刷版の汚染及び低い印
刷耐久性を生ずる。従って、熱融蝕可能な金属層と最上
層の間に強い接着を有する、融蝕可能層に基づくヒート
モード画像形成要素に対する要求がある。
【００１０】
【発明の概略】本発明の目的は、簡単な方法で優れた印
刷特性を有する平版印刷版を作製するためのヒートモー
ド画像形成要素を提供することである。
刷特性を有する平版印刷版を作製するためのヒートモー
ド画像形成要素を提供することである。
【００１１】本発明の他の目的は、該画像形成要素を用
い、簡単な方法で高い質のポジティブ作用性平版印刷版
を得るための方法を提供することである。
い、簡単な方法で高い質のポジティブ作用性平版印刷版
を得るための方法を提供することである。
【００１２】本発明のさらなる目的は下記の記載から明
らかになるであろう。
らかになるであろう。
【００１３】本発明に従えば、 ｉ）平版印刷ベース、 ｉｉ）熱融蝕可能な（ｈｅａｔ ａｂｌａｔａｂｌｅ）
記録層及び ｉｉｉ）インキ又はインキ接着液に関して平版印刷ベー
スと逆の親和性を有する最上層を記載の順序で含み、最
上層が主物質として無機−有機複合もしくはハイブリッ
ド材料を含み、ここで無機相は金属アルコキシドの制御
された加水分解及び重縮合により形成され、有機相は少
なくとも１つの無機原子に結合している有機ポリマー又
はコポリマーであることを特徴とするヒートモード画像
形成要素が提供される。
記録層及び ｉｉｉ）インキ又はインキ接着液に関して平版印刷ベー
スと逆の親和性を有する最上層を記載の順序で含み、最
上層が主物質として無機−有機複合もしくはハイブリッ
ド材料を含み、ここで無機相は金属アルコキシドの制御
された加水分解及び重縮合により形成され、有機相は少
なくとも１つの無機原子に結合している有機ポリマー又
はコポリマーであることを特徴とするヒートモード画像
形成要素が提供される。
【００１４】本発明に従えば、また、 ｉ）上記の画像形成要素を熱又は化学線に画像通りに又
は情報通りに暴露し、それにより暴露された領域におい
て該ヒートモード画像形成要素の加熱を生じさせ、 ｉｉ）該暴露されたヒートモード画像形成要素を液体を
用いて又は用いずにこすり、該暴露された領域において
該熱融蝕可能な記録層及び該最上層を除去する段階を含
む平版印刷版を得るための方法も提供される。
は情報通りに暴露し、それにより暴露された領域におい
て該ヒートモード画像形成要素の加熱を生じさせ、 ｉｉ）該暴露されたヒートモード画像形成要素を液体を
用いて又は用いずにこすり、該暴露された領域において
該熱融蝕可能な記録層及び該最上層を除去する段階を含
む平版印刷版を得るための方法も提供される。
【００１５】
【発明の詳細な記述】上記の画像形成要素を用い、本発
明の方法に従って高い質の平版印刷版を得ることができ
ることが見いだされた。さらに正確には、該最上層と熱
融蝕可能な記録層の間の接着が非常に強いことが見いだ
された。
明の方法に従って高い質の平版印刷版を得ることができ
ることが見いだされた。さらに正確には、該最上層と熱
融蝕可能な記録層の間の接着が非常に強いことが見いだ
された。
【００１６】上記の概略から明らかな通り、本発明の要
点は最上層を形成する主要素：例えばゾル−ゲル法に従
って形成される無機−有機複合材料の化学的性質であ
る。
点は最上層を形成する主要素：例えばゾル−ゲル法に従
って形成される無機−有機複合材料の化学的性質であ
る。
【００１７】科学的文献において周知のゾル−ゲル反応
は、その原型において、溶液におけるコロイド相を介し
てガラス又はセラミックなどの無機ポリマーを合成する
ための化学的経路を述べている。基本的化学は約１５０
年前から知られている（Ｅｂｅｌｍｅｎ，“Ｕｎｔｅｒ
ｓｕｃｈｕｎｇｅｎ ｕｂｅｒ ｄｉｅ Ｖｅｒｂｉｎ
ｄｕｎｇｅｎ ｄｅｒ Ｂｏｒｓａｕｅｒｅ ｕｎｄ
Ｋｉｅｓｅｌｓａｕｅｒｅ ｍｉｔ ｅｔｈｅｒ”，Ａ
ｎｎ．５７（１８４６），ｐ．３１９−３５５を参照さ
れたい）。一般的ゾル−ゲル反応スキームは重縮合段階
と連結された１系列の加水分解段階を含む。成長反応の
間に、ｎｍの領域の粒子又は巨大分子を有するコロイド
相が現れ（ゾル）、最終的にその孔内に第２相を有する
固体を生ずる。
は、その原型において、溶液におけるコロイド相を介し
てガラス又はセラミックなどの無機ポリマーを合成する
ための化学的経路を述べている。基本的化学は約１５０
年前から知られている（Ｅｂｅｌｍｅｎ，“Ｕｎｔｅｒ
ｓｕｃｈｕｎｇｅｎ ｕｂｅｒ ｄｉｅ Ｖｅｒｂｉｎ
ｄｕｎｇｅｎ ｄｅｒ Ｂｏｒｓａｕｅｒｅ ｕｎｄ
Ｋｉｅｓｅｌｓａｕｅｒｅ ｍｉｔ ｅｔｈｅｒ”，Ａ
ｎｎ．５７（１８４６），ｐ．３１９−３５５を参照さ
れたい）。一般的ゾル−ゲル反応スキームは重縮合段階
と連結された１系列の加水分解段階を含む。成長反応の
間に、ｎｍの領域の粒子又は巨大分子を有するコロイド
相が現れ（ゾル）、最終的にその孔内に第２相を有する
固体を生ずる。
【００１８】もっと最近では、ゾル−ゲル反応は無機−
有機複合材料の製造に用いられてきた。この一般的反応
の場合、金属アルコキシド種の加水分解及び重縮合が適
当な触媒、例えば酸の影響下で起こり、その過程で網目
が形成される。この無機網目の堆積の間にアルコキシ金
属置換有機ポリマーもしくはコポリマーも反応媒体中に
存在し、加水分解された金属アルコキシドと同じ重縮合
反応も行い、やはり網目中に挿入される。
有機複合材料の製造に用いられてきた。この一般的反応
の場合、金属アルコキシド種の加水分解及び重縮合が適
当な触媒、例えば酸の影響下で起こり、その過程で網目
が形成される。この無機網目の堆積の間にアルコキシ金
属置換有機ポリマーもしくはコポリマーも反応媒体中に
存在し、加水分解された金属アルコキシドと同じ重縮合
反応も行い、やはり網目中に挿入される。
【００１９】無機−有機複合材料の特定の型はＯＲＭＯ
ＣＥＲＳ（ＯＲｇａｎｉｃａｌｌｙＭＯｄｉｆｉｅｄ
ＣＥｒａｍｉｃｓ）、ＯＲＭＯＳＩＬＳ（ＯＲｇａｎｉ
ｃａｌｌｙ ＭＯｄｉｆｉｅｄ ＳＩＬｉｃａｔｅｓ）
又はＣＥＲＡＭＥＲＳと命名されている。無機−有機複
合材料に関する科学文献には： −“Ｔｈｅ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ
ａｎｄ Ｐｒｏｐｅｒｔｙ ｂｅｈａｖｉｏｕｒ ｏ
ｆ ｉｎｏｒｇａｎｉｃ−ｏｒｇａｎｉｃ ｈｙｂｒｉ
ｄ ｎｅｔｗｏｒｋ ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｐｒｅｐａ
ｒｅｄ ｂｙ ｔｈｅ ｓｏｌ−ｇｅｌ ｐｒｏｃｅｓ
ｓ”，Ｗｉｌｋｅｓ ａｔ ａｌ．，Ｐｒｏｃｅｅｄｉ
ｎｇｓ ｏｆ ＭＲＳ Ｍｅｅｔｉｎｇ，Ｂｏｓｔｏｎ
ＭＡ，ｎｏｖｅｍｂｅｒ １９８９； −“Ｓｏｌ−ｇｅｌ ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ＩＩ：ｉｎ
ｖｅｓｔｉｇａｔｉｏｎａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏ
ｎ”，Ｈ．Ｒｅｕｔｅｒ，ＡｄｖａｎｃｅｄＭａｔｅｒ
ｉａｌｓ，３（１９９１）Ｎｏ １１，ｐ．５６８； −“Ｎｅｗ ｉｎｏｒｇａｎｉｃ−ｏｒｇａｎｉｃ ｈ
ｙｂｒｉｄ ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｔｈｒｏｕｇｈ ｔ
ｈｅ ｓｏｌ−ｇｅｌ ａｐｐｒｏａｃｈ”，Ｗｉｌｋ
ｅｓ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｍａ
ｔｅｒｉａｌｓ，１９９６，ｐａｒｔ ＶＩＩＩ，ｐ
１６６７−１６８１． −“Ｈｙｂｒｉｄ ｉｎｏｒｇａｎｉｃ−ｏｒｇａｎｉ
ｃ ｍａｔｅｒｉａｌｓｂｙ ｓｏｌ−ｇｅｌ ｐｒｏ
ｃｅｓｓｉｎｇ ｏｆ ｏｒｇａｎｏｆｕｎｃｔｉｏｎ
ａｌ ｍｅｔａｌ ａｌｋｏｘｉｄｅｓ”，Ｓｃｈｕｂ
ｅｒｔ ｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（１９９
５），７，ｐ ２０１０−２０２７が含まれる。
ＣＥＲＳ（ＯＲｇａｎｉｃａｌｌｙＭＯｄｉｆｉｅｄ
ＣＥｒａｍｉｃｓ）、ＯＲＭＯＳＩＬＳ（ＯＲｇａｎｉ
ｃａｌｌｙ ＭＯｄｉｆｉｅｄ ＳＩＬｉｃａｔｅｓ）
又はＣＥＲＡＭＥＲＳと命名されている。無機−有機複
合材料に関する科学文献には： −“Ｔｈｅ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ
ａｎｄ Ｐｒｏｐｅｒｔｙ ｂｅｈａｖｉｏｕｒ ｏ
ｆ ｉｎｏｒｇａｎｉｃ−ｏｒｇａｎｉｃ ｈｙｂｒｉ
ｄ ｎｅｔｗｏｒｋ ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｐｒｅｐａ
ｒｅｄ ｂｙ ｔｈｅ ｓｏｌ−ｇｅｌ ｐｒｏｃｅｓ
ｓ”，Ｗｉｌｋｅｓ ａｔ ａｌ．，Ｐｒｏｃｅｅｄｉ
ｎｇｓ ｏｆ ＭＲＳ Ｍｅｅｔｉｎｇ，Ｂｏｓｔｏｎ
ＭＡ，ｎｏｖｅｍｂｅｒ １９８９； −“Ｓｏｌ−ｇｅｌ ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ＩＩ：ｉｎ
ｖｅｓｔｉｇａｔｉｏｎａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏ
ｎ”，Ｈ．Ｒｅｕｔｅｒ，ＡｄｖａｎｃｅｄＭａｔｅｒ
ｉａｌｓ，３（１９９１）Ｎｏ １１，ｐ．５６８； −“Ｎｅｗ ｉｎｏｒｇａｎｉｃ−ｏｒｇａｎｉｃ ｈ
ｙｂｒｉｄ ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｔｈｒｏｕｇｈ ｔ
ｈｅ ｓｏｌ−ｇｅｌ ａｐｐｒｏａｃｈ”，Ｗｉｌｋ
ｅｓ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｍａ
ｔｅｒｉａｌｓ，１９９６，ｐａｒｔ ＶＩＩＩ，ｐ
１６６７−１６８１． −“Ｈｙｂｒｉｄ ｉｎｏｒｇａｎｉｃ−ｏｒｇａｎｉ
ｃ ｍａｔｅｒｉａｌｓｂｙ ｓｏｌ−ｇｅｌ ｐｒｏ
ｃｅｓｓｉｎｇ ｏｆ ｏｒｇａｎｏｆｕｎｃｔｉｏｎ
ａｌ ｍｅｔａｌ ａｌｋｏｘｉｄｅｓ”，Ｓｃｈｕｂ
ｅｒｔ ｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（１９９
５），７，ｐ ２０１０−２０２７が含まれる。
【００２０】無機−有機複合材料は多様な工業的用途に
おいて用いられる。しかしヒートモード画像形成要素の
一部としてのそれらの利用が開示されるのは、我々の知
る限り初めてである。
おいて用いられる。しかしヒートモード画像形成要素の
一部としてのそれらの利用が開示されるのは、我々の知
る限り初めてである。
【００２１】本発明の好ましい実施態様に従うと、該無
機−有機複合材料の無機部分はケイ素アルコキシド、例
えばＴＭＥＯＳ（テトラメチルオルトシリケート）又は
ＴＥＯＳ（テトラエチルオルトシリケート）の加水分解
及び重縮合により得られ、処理過程において網目を形成
するシリケートである。この無機網目の堆積の間にアル
コキシシラン置換有機ポリマーもしくはコポリマーも反
応媒体中に存在し、加水分解されたケイ素アルコキシド
と同じ重縮合反応を行い、やはり網目中に挿入される。
機−有機複合材料の無機部分はケイ素アルコキシド、例
えばＴＭＥＯＳ（テトラメチルオルトシリケート）又は
ＴＥＯＳ（テトラエチルオルトシリケート）の加水分解
及び重縮合により得られ、処理過程において網目を形成
するシリケートである。この無機網目の堆積の間にアル
コキシシラン置換有機ポリマーもしくはコポリマーも反
応媒体中に存在し、加水分解されたケイ素アルコキシド
と同じ重縮合反応を行い、やはり網目中に挿入される。
【００２２】該有機ポリマーもしくはコポリマーは、側
鎖中にアルコキシシラン基を含有するいずれの有機ポリ
マーもしくはコポリマーであることもできる。より好ま
しい実施態様の場合、エチレン性不飽和モノマーＡと、
アルコキシシラン基で官能基化された他のエチレン性不
飽和モノマーＢの共重合により得られ得るコポリマーが
用いられる。好ましくは該（コ）ポリマーは当該技術分
野におけるいずれの熟練者にも周知のラジカル（共）重
合により得られる。
鎖中にアルコキシシラン基を含有するいずれの有機ポリ
マーもしくはコポリマーであることもできる。より好ま
しい実施態様の場合、エチレン性不飽和モノマーＡと、
アルコキシシラン基で官能基化された他のエチレン性不
飽和モノマーＢの共重合により得られ得るコポリマーが
用いられる。好ましくは該（コ）ポリマーは当該技術分
野におけるいずれの熟練者にも周知のラジカル（共）重
合により得られる。
【００２３】該エチレン性不飽和モノマーＡはエチレ
ン、塩化ビニル及びスチレンなどの任意のエチレン性不
飽和モノマーであることもできる。該モノマーＡは、好
ましくは、側鎖に酸基、例えばオレイン酸及び１−オク
タデセン酸又はエステルもしくはアミド基を含むその誘
導体、より好ましくはアクリル酸、メタクリル酸ならび
にエステル、アミド及びニトリルなどのその誘導体を含
むエチレン性不飽和モノマーである。該モノマーＡの該
エステル又はアミド基は、好ましくは炭素数が１〜２０
の炭化水素基を含有することができるが、ペルフルオロ
アルキル基を含有することもできる。
ン、塩化ビニル及びスチレンなどの任意のエチレン性不
飽和モノマーであることもできる。該モノマーＡは、好
ましくは、側鎖に酸基、例えばオレイン酸及び１−オク
タデセン酸又はエステルもしくはアミド基を含むその誘
導体、より好ましくはアクリル酸、メタクリル酸ならび
にエステル、アミド及びニトリルなどのその誘導体を含
むエチレン性不飽和モノマーである。該モノマーＡの該
エステル又はアミド基は、好ましくは炭素数が１〜２０
の炭化水素基を含有することができるが、ペルフルオロ
アルキル基を含有することもできる。
【００２４】該モノマーＢはアクリル酸もしくはメタク
リル酸のエステル又はアミドであり、アルコキシシラン
基がエステル又はアミド官能基を介して（ｏｖｅｒ）
（メタ）アクリロイル基に結合しているのが好ましい。
ポリマーもしくはコポリマー中のモノマーＢの重量によ
る量は１％〜１００％、より好ましくは５％〜５０％、
最も好ましくは１０％〜３５％の範囲である。
リル酸のエステル又はアミドであり、アルコキシシラン
基がエステル又はアミド官能基を介して（ｏｖｅｒ）
（メタ）アクリロイル基に結合しているのが好ましい。
ポリマーもしくはコポリマー中のモノマーＢの重量によ
る量は１％〜１００％、より好ましくは５％〜５０％、
最も好ましくは１０％〜３５％の範囲である。
【００２５】無機−有機複合材料の無機相（ＯＲＭＯＳ
ＩＬの場合Ｓｉ−Ｏ基）対有機相の重量による量の比率
は好ましくは１％〜５０％、より好ましくは２％〜３０
％、最も好ましくは４％〜２０％である。該比率は有機
ポリマーもしくはコポリマーに加えられるアルコキシ金
属の量により決定される。
ＩＬの場合Ｓｉ−Ｏ基）対有機相の重量による量の比率
は好ましくは１％〜５０％、より好ましくは２％〜３０
％、最も好ましくは４％〜２０％である。該比率は有機
ポリマーもしくはコポリマーに加えられるアルコキシ金
属の量により決定される。
【００２６】熱融蝕可能な記録層の上の層として用いら
れる本発明の無機−有機複合コーティングの例は２段階
で調製された： １．ポリ（ＭＭＡ−コ−ＭＯＰＴＳ）と略されるプレポ
リマー、ポリ（メチルメタクリレート−コ−メタクリロ
イルオキシプロピルトリメトキシシラン）の合成； ２．コーティングナイフを用いた層の適用及びＴＥＯＳ
による架橋。
れる本発明の無機−有機複合コーティングの例は２段階
で調製された： １．ポリ（ＭＭＡ−コ−ＭＯＰＴＳ）と略されるプレポ
リマー、ポリ（メチルメタクリレート−コ−メタクリロ
イルオキシプロピルトリメトキシシラン）の合成； ２．コーティングナイフを用いた層の適用及びＴＥＯＳ
による架橋。
【００２７】段階１は下記の通りに行われた。反応は、
還流冷却器、機械的撹拌機、温度計及び液体レベルより
下の窒素のための導入口が備えられた２リットルの二重
壁ガラスシリンダーで行われた。この反応容器に室温で
連続的に：８００ｍｌの炭酸カリウム上で乾燥されたメ
チルエチルケトン；１０ｇのメタクリロイルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン；４０ｇのメチルメタクリレー
ト；０．２５ｇのアゾビスイソブチロニトリルを加え
た。
還流冷却器、機械的撹拌機、温度計及び液体レベルより
下の窒素のための導入口が備えられた２リットルの二重
壁ガラスシリンダーで行われた。この反応容器に室温で
連続的に：８００ｍｌの炭酸カリウム上で乾燥されたメ
チルエチルケトン；１０ｇのメタクリロイルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン；４０ｇのメチルメタクリレー
ト；０．２５ｇのアゾビスイソブチロニトリルを加え
た。
【００２８】反応混合物を窒素ガスで連続的に処理し、
空気から解放した。反応混合物を１００ｒｐｍで撹拌
し、その間に温度を７９℃に上げた。次いで反応混合物
を７９℃で温度一定とした。３０分後、１０ｇのメタク
リロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、１６０ｇ
のメチルメタクリレート及び１ｇのアゾビスイソブチロ
ニトリルの混合物を反応混合物に２時間かけて加えた。
次いで溶液を７９℃でさらに２０時間温度一定とした。
得られたプレポリマーの溶液はさらに精製することなく
段階２に用いることができた。
空気から解放した。反応混合物を１００ｒｐｍで撹拌
し、その間に温度を７９℃に上げた。次いで反応混合物
を７９℃で温度一定とした。３０分後、１０ｇのメタク
リロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、１６０ｇ
のメチルメタクリレート及び１ｇのアゾビスイソブチロ
ニトリルの混合物を反応混合物に２時間かけて加えた。
次いで溶液を７９℃でさらに２０時間温度一定とした。
得られたプレポリマーの溶液はさらに精製することなく
段階２に用いることができた。
【００２９】段階２を行うために、以下のコーティング
組成物を調製した： 段階１に従うプレポリマー溶液 ８７．９ｍｌ ＴＥＯＳ ９．３ｍｌ 水 １．４ｍｌ 蟻酸 １．４ｍｌ 合計 １００ｍｌ このコーティング組成物の３６℃における粘度は２３．
３ｍＰａ．ｓであり、静的表面張力は２５．２ｍＮ／ｍ
であった。
組成物を調製した： 段階１に従うプレポリマー溶液 ８７．９ｍｌ ＴＥＯＳ ９．３ｍｌ 水 １．４ｍｌ 蟻酸 １．４ｍｌ 合計 １００ｍｌ このコーティング組成物の３６℃における粘度は２３．
３ｍＰａ．ｓであり、静的表面張力は２５．２ｍＮ／ｍ
であった。
【００３０】この溶液を室温で１時間撹拌し、次いで熱
融蝕可能な記録層上にコーティングし、乾燥した。
融蝕可能な記録層上にコーティングし、乾燥した。
【００３１】考えられる反応生成物の１つをスキーム１
に示す。
に示す。
【００３２】
【化１】
【００３３】好ましい実施態様の場合、ヒートモード画
像形成要素は、 ｉ）親水性表面を有する平版印刷ベース、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層 ｉｉｉ）主物質として無機−有機複合材料を含み、ここ
で無機相はゾル−ゲル法に従って金属アルコキシドの制
御された加水分解及び重縮合により形成され、有機相は
少なくとも１つの無機原子に結合した有機ポリマーもし
くはコポリマーである疎水性最上層を記載の順序で含
む。
像形成要素は、 ｉ）親水性表面を有する平版印刷ベース、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層 ｉｉｉ）主物質として無機−有機複合材料を含み、ここ
で無機相はゾル−ゲル法に従って金属アルコキシドの制
御された加水分解及び重縮合により形成され、有機相は
少なくとも１つの無機原子に結合した有機ポリマーもし
くはコポリマーである疎水性最上層を記載の順序で含
む。
【００３４】疎水性層は熱融蝕可能な層上に好ましくは
０．１〜５ｇ／ｍ2、より好ましくは０．２〜２ｇ／
ｍ2、最も好ましくは０．４〜０．７ｇ／ｍ2の範囲内の
乾燥重量でコーティングされる。
０．１〜５ｇ／ｍ2、より好ましくは０．２〜２ｇ／
ｍ2、最も好ましくは０．４〜０．７ｇ／ｍ2の範囲内の
乾燥重量でコーティングされる。
【００３５】本発明の１つの実施態様に従う熱融蝕可能
な記録層は、金属又は金属誘導体の蒸着又は真空蒸着層
であるのが好ましい。適した金属は例えばアルミニウ
ム、ビスマス、錫、チタン、インジウム、テルルなどで
ある。ビスマスを用いるのが好ましい。金属酸化物、金
属亜酸化物、金属炭化物、金属窒化物などの金属誘導体
も用いることができる。
な記録層は、金属又は金属誘導体の蒸着又は真空蒸着層
であるのが好ましい。適した金属は例えばアルミニウ
ム、ビスマス、錫、チタン、インジウム、テルルなどで
ある。ビスマスを用いるのが好ましい。金属酸化物、金
属亜酸化物、金属炭化物、金属窒化物などの金属誘導体
も用いることができる。
【００３６】本発明の他の実施態様に従えば、熱融蝕可
能な記録層は、場合により結合剤中に溶解又は分散され
た光を熱に変換する化合物を含むこともできる。光を熱
に変換することができる適当な化合物は好ましくは赤外
吸収成分であるが、用いられる化合物の吸収が画像通り
の露光に用いられる光源の波長領域内にあれば、吸収の
波長は特に重要ではない。特に有用な化合物は例えば色
素、特に赤外色素、カーボンブラック、金属炭化物、ホ
ウ化物、窒化物、炭窒化物、ブロンズ−構造酸化物、及
び構造的にブロンズ群に関連しているがＡ成分がない酸
化物、例えばＷＯ2.9である。導電性ポリマー分散液、
例えばポリピロール又はポリアニリンに基づく導電性ポ
リマー分散液を用いることもできる。得られる平版印刷
性能及び特に印刷耐久性は画像形成要素の感熱性に依存
する。これに関し、カーボンブラックが非常に優れた好
ましい結果を与えることが見いだされた。適した結合剤
は、例えばゼラチン、セルロース、セルロースエステ
ル、例えば酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン、塩化ビニリデ
ンとアクリロニトリルのコポリマー、ポリ（メタ）アク
リレートならびにポリ塩化ビニルである。
能な記録層は、場合により結合剤中に溶解又は分散され
た光を熱に変換する化合物を含むこともできる。光を熱
に変換することができる適当な化合物は好ましくは赤外
吸収成分であるが、用いられる化合物の吸収が画像通り
の露光に用いられる光源の波長領域内にあれば、吸収の
波長は特に重要ではない。特に有用な化合物は例えば色
素、特に赤外色素、カーボンブラック、金属炭化物、ホ
ウ化物、窒化物、炭窒化物、ブロンズ−構造酸化物、及
び構造的にブロンズ群に関連しているがＡ成分がない酸
化物、例えばＷＯ2.9である。導電性ポリマー分散液、
例えばポリピロール又はポリアニリンに基づく導電性ポ
リマー分散液を用いることもできる。得られる平版印刷
性能及び特に印刷耐久性は画像形成要素の感熱性に依存
する。これに関し、カーボンブラックが非常に優れた好
ましい結果を与えることが見いだされた。適した結合剤
は、例えばゼラチン、セルロース、セルロースエステ
ル、例えば酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン、塩化ビニリデ
ンとアクリロニトリルのコポリマー、ポリ（メタ）アク
リレートならびにポリ塩化ビニルである。
【００３７】熱融蝕可能な記録層の厚さは３μｍ以下が
好ましく、１μｍ以下が最も好ましい。記録層として蒸
着又は真空蒸着金属層が用いられる場合、その厚さは、
光学濃度が０．３〜５、より好ましくは１〜４となるよ
うな厚さが好ましい。
好ましく、１μｍ以下が最も好ましい。記録層として蒸
着又は真空蒸着金属層が用いられる場合、その厚さは、
光学濃度が０．３〜５、より好ましくは１〜４となるよ
うな厚さが好ましい。
【００３８】本発明の１つの実施態様に従えば、平版印
刷ベースは陽極酸化されたアルミニウムであることがで
きる。特に好ましい平版印刷ベースは電気化学的に研磨
され、陽極酸化されたアルミニウム支持体である。本発
明に従えば、陽極酸化されたアルミニウム支持体を処理
してその表面の親水性を向上させることができる。例え
ばアルミニウム支持体を、例えば９５℃などの高温でケ
イ酸ナトリウム溶液を用いてその表面を処理することに
より、ケイ酸塩化することができる。別の場合、リン酸
塩処理を適用することができ、それはさらに無機フッ化
物を含有することができるリン酸塩溶液で酸化アルミニ
ウム表面を処理することを含む。さらに、酸化アルミニ
ウム表面をクエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことがで
きる。この処理は室温で行うことができるか、又は約３
０〜５０℃のわずかに高められた温度で行うことができ
る。もっとさらに、酸化アルミニウム表面をポリビニル
ホスホン酸で処理することができる。さらに興味深い処
理は、酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で濯ぐこと
を含む。これらの後処理の１つか又はそれ以上を単独で
又は組み合わせて行うことができることはさらに明らか
である。
刷ベースは陽極酸化されたアルミニウムであることがで
きる。特に好ましい平版印刷ベースは電気化学的に研磨
され、陽極酸化されたアルミニウム支持体である。本発
明に従えば、陽極酸化されたアルミニウム支持体を処理
してその表面の親水性を向上させることができる。例え
ばアルミニウム支持体を、例えば９５℃などの高温でケ
イ酸ナトリウム溶液を用いてその表面を処理することに
より、ケイ酸塩化することができる。別の場合、リン酸
塩処理を適用することができ、それはさらに無機フッ化
物を含有することができるリン酸塩溶液で酸化アルミニ
ウム表面を処理することを含む。さらに、酸化アルミニ
ウム表面をクエン酸又はクエン酸塩溶液で濯ぐことがで
きる。この処理は室温で行うことができるか、又は約３
０〜５０℃のわずかに高められた温度で行うことができ
る。もっとさらに、酸化アルミニウム表面をポリビニル
ホスホン酸で処理することができる。さらに興味深い処
理は、酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で濯ぐこと
を含む。これらの後処理の１つか又はそれ以上を単独で
又は組み合わせて行うことができることはさらに明らか
である。
【００３９】本発明に関連する他の実施態様に従えば、
平版印刷ベースは、架橋された親水性層が設けられたガ
ラス支持体又は柔軟性支持体、例えば紙もしくはプラス
チックフィルムを含む。特に適した架橋された親水性層
は、ホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアナ
ート又は加水分解されたテトラ−アルキルオルトシリケ
ートなどの架橋剤で架橋された親水性結合剤から得るこ
とができる。後者が特に好ましい。
平版印刷ベースは、架橋された親水性層が設けられたガ
ラス支持体又は柔軟性支持体、例えば紙もしくはプラス
チックフィルムを含む。特に適した架橋された親水性層
は、ホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリイソシアナ
ート又は加水分解されたテトラ−アルキルオルトシリケ
ートなどの架橋剤で架橋された親水性結合剤から得るこ
とができる。後者が特に好ましい。
【００４０】親水性結合剤として親水性（コ）ポリマ
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーも
しくはコポリマー又は無水マレイン酸／ビニルメチルエ
ーテルコポリマーを用いることができる。用いられる
（コ）ポリマー又は（コ）ポリマー混合物の親水度は、
少なくとも６０重量パーセント、好ましくは８０重量パ
ーセントの程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルの親
水度と同じか又はそれより高いのが好ましい。
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーも
しくはコポリマー又は無水マレイン酸／ビニルメチルエ
ーテルコポリマーを用いることができる。用いられる
（コ）ポリマー又は（コ）ポリマー混合物の親水度は、
少なくとも６０重量パーセント、好ましくは８０重量パ
ーセントの程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニルの親
水度と同じか又はそれより高いのが好ましい。
【００４１】架橋剤の、特にテトラアルキルオルトシリ
ケートの量は、親水性結合剤の１重量部当たりに少なく
とも０．２重量部、好ましくは０．５〜５重量部、より
好ましくは１．０重量部〜３重量部が好ましい。
ケートの量は、親水性結合剤の１重量部当たりに少なく
とも０．２重量部、好ましくは０．５〜５重量部、より
好ましくは１．０重量部〜３重量部が好ましい。
【００４２】本実施態様に従って用いられる平版印刷ベ
ースにおける架橋された親水性層は、層の機械的強度及
び多孔性を向上させる物質も含有するのが好ましい。こ
の目的のために、コロイドシリカを用いることができ
る。用いられるコロイドシリカは、例えば４０ｎｍまで
の、例えば２０ｎｍの平均粒径を有するいずれの商業的
に入手可能なコロイドシリカの水−分散液の形態である
こともできる。さらにコロイドシリカより寸法の大きな
不活性粒子、例えばＪ．Ｃｏｌｌｏｉｄ ａｎｄＩｎｔ
ｅｒｆａｃｅ Ｓｃｉ．，Ｖｏｌ．２６，１９６８，ｐ
ａｇｅｓ ６２−６９に記載されているＳｔｏｅｂｅｒ
に従って製造されるシリカ、あるいはアルミナ粒子又
は、二酸化チタン又は他の重金属酸化物の粒子である少
なくとも１００ｎｍの平均直径を有する粒子を加えるこ
とができる。これらの粒子の挿入により、架橋された親
水性層の表面が顕微鏡的丘と谷から成る均一な粗いきめ
を与えられ、それは背景領域における水のための保存場
所として働く。
ースにおける架橋された親水性層は、層の機械的強度及
び多孔性を向上させる物質も含有するのが好ましい。こ
の目的のために、コロイドシリカを用いることができ
る。用いられるコロイドシリカは、例えば４０ｎｍまで
の、例えば２０ｎｍの平均粒径を有するいずれの商業的
に入手可能なコロイドシリカの水−分散液の形態である
こともできる。さらにコロイドシリカより寸法の大きな
不活性粒子、例えばＪ．Ｃｏｌｌｏｉｄ ａｎｄＩｎｔ
ｅｒｆａｃｅ Ｓｃｉ．，Ｖｏｌ．２６，１９６８，ｐ
ａｇｅｓ ６２−６９に記載されているＳｔｏｅｂｅｒ
に従って製造されるシリカ、あるいはアルミナ粒子又
は、二酸化チタン又は他の重金属酸化物の粒子である少
なくとも１００ｎｍの平均直径を有する粒子を加えるこ
とができる。これらの粒子の挿入により、架橋された親
水性層の表面が顕微鏡的丘と谷から成る均一な粗いきめ
を与えられ、それは背景領域における水のための保存場
所として働く。
【００４３】本実施態様に従う平版印刷ベースにおける
架橋された親水性層の厚さは０．２〜２５μｍの範囲内
で変化することができ、１〜１０μｍが好ましい。
架橋された親水性層の厚さは０．２〜２５μｍの範囲内
で変化することができ、１〜１０μｍが好ましい。
【００４４】本発明に従って用いるために適した架橋さ
れた親水性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ ６０１２４０、
ＧＢ−Ｐ−１４１９５１２、ＦＲ−Ｐ−２３００３５
４、ＵＳ−Ｐ−３９７１６６０、ＵＳ−Ｐ−４２８４７
０５及びＥＰ−Ａ ５１４４９０に開示されている。
れた親水性層の特定の例は、ＥＰ−Ａ ６０１２４０、
ＧＢ−Ｐ−１４１９５１２、ＦＲ−Ｐ−２３００３５
４、ＵＳ−Ｐ−３９７１６６０、ＵＳ−Ｐ−４２８４７
０５及びＥＰ−Ａ ５１４４９０に開示されている。
【００４５】本実施態様と関連する平版印刷ベースのガ
ラス支持体として、０．５ｍｍ以下の厚さ、少なくとも
１０7Ｐａの破壊応力及び１０11Ｐａ以下のヤング弾性
率を有するガラスを用いることができる。
ラス支持体として、０．５ｍｍ以下の厚さ、少なくとも
１０7Ｐａの破壊応力及び１０11Ｐａ以下のヤング弾性
率を有するガラスを用いることができる。
【００４６】本実施態様と関連する平版印刷ベースの柔
軟性支持体として、プラスチックフィルム、例えば基質
化されたポリエチレンテレフタレートフィルム、酢酸セ
ルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボ
ネートフィルムなどを用いるのが特に好ましい。プラス
チックフィルム支持体は不透明又は透明であることがで
きる。支持体が透明の場合、支持体を介して露光を行う
ことができる。
軟性支持体として、プラスチックフィルム、例えば基質
化されたポリエチレンテレフタレートフィルム、酢酸セ
ルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボ
ネートフィルムなどを用いるのが特に好ましい。プラス
チックフィルム支持体は不透明又は透明であることがで
きる。支持体が透明の場合、支持体を介して露光を行う
ことができる。
【００４７】本発明に従って用いられるヒートモード画
像形成要素は追加の層、例えば熱融蝕可能な記録層の平
版印刷ベースへの接着を向上させるための平版印刷ベー
スと熱融蝕可能な記録層の間の１つ又はそれ以上の層、
あるいは疎水性層と熱融蝕可能な記録層の間の中間層を
含有することができる。画像形成要素の保存寿命は、中
間層の組成により影響を受け得る。
像形成要素は追加の層、例えば熱融蝕可能な記録層の平
版印刷ベースへの接着を向上させるための平版印刷ベー
スと熱融蝕可能な記録層の間の１つ又はそれ以上の層、
あるいは疎水性層と熱融蝕可能な記録層の間の中間層を
含有することができる。画像形成要素の保存寿命は、中
間層の組成により影響を受け得る。
【００４８】本発明と関連するヒートモード画像形成要
素はレーザーを用いて露光されるのが好ましい。用いる
のが好ましいレーザーは、例えば半導体レーザー、ＹＡ
Ｇレーザー、例えばＮｄ−ＹＡＧレーザーなどである。
レーザーは４０〜７５００ｍＷの出力を有することがで
き、スペクトルの赤外部分で働くのが好ましい。画像通
りに露光されたヒートモード記録材料をブラシ、綿パッ
ドなどを用いてこすることができる。本発明と関連する
ヒートモード記録材料は、液体の不在下でこすることが
できる。この方法で、高いコントラスト及び高濃度の画
像を得ることができる。しかし画像の質に悪影響なしで
露光された領域をより良く清浄化するために、液体の存
在下でこすることもできる。
素はレーザーを用いて露光されるのが好ましい。用いる
のが好ましいレーザーは、例えば半導体レーザー、ＹＡ
Ｇレーザー、例えばＮｄ−ＹＡＧレーザーなどである。
レーザーは４０〜７５００ｍＷの出力を有することがで
き、スペクトルの赤外部分で働くのが好ましい。画像通
りに露光されたヒートモード記録材料をブラシ、綿パッ
ドなどを用いてこすることができる。本発明と関連する
ヒートモード記録材料は、液体の不在下でこすることが
できる。この方法で、高いコントラスト及び高濃度の画
像を得ることができる。しかし画像の質に悪影響なしで
露光された領域をより良く清浄化するために、液体の存
在下でこすることもできる。
【００４９】以下の実施例により本発明を具体的に示す
が、本発明は実施例に制限されるものではない。すべて
の部は他に特定されなければ重量による。
が、本発明は実施例に制限されるものではない。すべて
の部は他に特定されなければ重量による。
【００５０】
実施例１ 平版印刷ベースの製造 脱イオン水中に２１．５％のＴｉＯ2（平均粒径０．３
〜０．４μｍ）及び２．５％のポリビニルアルコールを
含有する４４０ｇの分散液に、続いて撹拌しながら水中
の５％のポリビニルアルコール溶液の２５０ｇ、水中の
２２％の加水分解されたテトラメチルオルトシリケート
乳液の１０５ｇ及び１２ｇの湿潤剤の１０％溶液を加え
た。この混合物に１９３ｇの脱イオン水を加え、ｐＨを
ｐＨ＝４に調節した。
〜０．４μｍ）及び２．５％のポリビニルアルコールを
含有する４４０ｇの分散液に、続いて撹拌しながら水中
の５％のポリビニルアルコール溶液の２５０ｇ、水中の
２２％の加水分解されたテトラメチルオルトシリケート
乳液の１０５ｇ及び１２ｇの湿潤剤の１０％溶液を加え
た。この混合物に１９３ｇの脱イオン水を加え、ｐＨを
ｐＨ＝４に調節した。
【００５１】得られた分散液をポリエチレンテレフタレ
ートフィルム支持体（親水性接着層がコーティングされ
ている）上に５０ｇ／ｍ2の湿潤コーティング厚さまで
コーティングし、３０℃で乾燥し、続いてそれを５７℃
の温度に１週間供することにより硬膜させた。
ートフィルム支持体（親水性接着層がコーティングされ
ている）上に５０ｇ／ｍ2の湿潤コーティング厚さまで
コーティングし、３０℃で乾燥し、続いてそれを５７℃
の温度に１週間供することにより硬膜させた。
【００５２】金属フィルムの蒸着 円筒状の真空室は電気的に加熱された耐火トレーを含有
し、その中に金属蒸気源としてビスマスが存在した。高
真空下で（すなわち約１０-2Ｐａの圧力で）得られた金
属蒸気を平版印刷ベースの親水性表面に向けて方向づ
け、０．２μｍの厚さでその上に蒸着させた。
し、その中に金属蒸気源としてビスマスが存在した。高
真空下で（すなわち約１０-2Ｐａの圧力で）得られた金
属蒸気を平版印刷ベースの親水性表面に向けて方向づ
け、０．２μｍの厚さでその上に蒸着させた。
【００５３】疎水性層のコーティング及び硬膜 ビスマス層の上に以下の組成を有するＯＲＭＯＳＩＬの
層をコーテイングした： ７０ｇの、メチル−エチル−ケトン中のコポリマー、メ
チル−メタクリレート（８０）−メタクリレート−プロ
ピルシロキサン（２０）の２７．３５％溶液 ６．７ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ） １ｇの水 １ｇの蟻酸。
層をコーテイングした： ７０ｇの、メチル−エチル−ケトン中のコポリマー、メ
チル−メタクリレート（８０）−メタクリレート−プロ
ピルシロキサン（２０）の２７．３５％溶液 ６．７ｇのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ） １ｇの水 １ｇの蟻酸。
【００５４】１００ｇの溶液当たりに３０．６ｇの材料
を含有する混合物を室温で１時間撹拌した。
を含有する混合物を室温で１時間撹拌した。
【００５５】次いでコーティングナイフを用いて１．５
ｇ／ｍ2の最終的被覆率まで溶液をビスマス層上にコー
ティングした。次いで乾燥後、１．１ｍ／秒の速度で回
転する外部ドラム装置上で材料をＮｄＹＬＦレーザー源
（１０５３ｎｍ）に画像通りに露光した。露光後、水で
湿らされたティッシュで版を清浄化し、画像形成された
部分をこすり落とした。次いで版をＨｅｉｄｅｌｂｅｒ
ｇ ＧＴＯ ４６印刷機上でＡＢＤｉｃｋ １０２０イ
ンキ及びＲｏｔａｍａｔｉｃ湿し液を用いて印刷した。
１００コピーまで印刷し、それは優れた画像の質を示
し、すなわち印刷されたコピー上で単走査線及び平らな
画像領域を明確に見ることができた。
ｇ／ｍ2の最終的被覆率まで溶液をビスマス層上にコー
ティングした。次いで乾燥後、１．１ｍ／秒の速度で回
転する外部ドラム装置上で材料をＮｄＹＬＦレーザー源
（１０５３ｎｍ）に画像通りに露光した。露光後、水で
湿らされたティッシュで版を清浄化し、画像形成された
部分をこすり落とした。次いで版をＨｅｉｄｅｌｂｅｒ
ｇ ＧＴＯ ４６印刷機上でＡＢＤｉｃｋ １０２０イ
ンキ及びＲｏｔａｍａｔｉｃ湿し液を用いて印刷した。
１００コピーまで印刷し、それは優れた画像の質を示
し、すなわち印刷されたコピー上で単走査線及び平らな
画像領域を明確に見ることができた。
【００５６】実施例２ 平版印刷ベースの製造 ５０℃で５ｇ／ｌの水酸化ナトリウムを含有する水溶液
に箔を浸すことにより、０．２０ｍｍの厚さのアルミニ
ウム箔を脱脂し、脱イオン水で濯いだ。次いで４ｇ／ｌ
の塩酸、４ｇ／ｌの硼酸及び５ｇ／ｌのアルミニウムイ
オンを含有する水溶液中で、３５℃及び１２００Ａ／ｍ
2の電流密度において交流を用い、箔を電気化学的に研
磨し、０．５μｍの平均中心線粗さＲａを有する表面ト
ポロジーを形成した。脱イオン水で濯いだ後、次いでア
ルミニウム箔を３００ｇ／ｌの硫酸を含有する水溶液を
用い、６０℃で１８０秒間エッチングし、脱イオン水を
用いて２５℃で３０秒間濯いだ。続いて箔を２００ｇ／
ｌの硫酸を含有する水溶液中で、４５℃の温度、約１０
Ｖの電圧及び１５０Ａ／ｍ2の電流密度において約３０
０秒間陽極酸化に供し、３．００ｇ／ｍ2のＡｌ2Ｏ3の
陽極酸化フィルムを形成し、次いで脱イオン水で濯ぎ、
２０ｇ／ｌの重炭酸ナトリウムを含有する溶液を用いて
４０℃で３０秒間後処理し、続いて脱イオン水を用いて
２０℃において１２０秒間濯ぎ、乾燥した。
に箔を浸すことにより、０．２０ｍｍの厚さのアルミニ
ウム箔を脱脂し、脱イオン水で濯いだ。次いで４ｇ／ｌ
の塩酸、４ｇ／ｌの硼酸及び５ｇ／ｌのアルミニウムイ
オンを含有する水溶液中で、３５℃及び１２００Ａ／ｍ
2の電流密度において交流を用い、箔を電気化学的に研
磨し、０．５μｍの平均中心線粗さＲａを有する表面ト
ポロジーを形成した。脱イオン水で濯いだ後、次いでア
ルミニウム箔を３００ｇ／ｌの硫酸を含有する水溶液を
用い、６０℃で１８０秒間エッチングし、脱イオン水を
用いて２５℃で３０秒間濯いだ。続いて箔を２００ｇ／
ｌの硫酸を含有する水溶液中で、４５℃の温度、約１０
Ｖの電圧及び１５０Ａ／ｍ2の電流密度において約３０
０秒間陽極酸化に供し、３．００ｇ／ｍ2のＡｌ2Ｏ3の
陽極酸化フィルムを形成し、次いで脱イオン水で濯ぎ、
２０ｇ／ｌの重炭酸ナトリウムを含有する溶液を用いて
４０℃で３０秒間後処理し、続いて脱イオン水を用いて
２０℃において１２０秒間濯ぎ、乾燥した。
【００５７】金属フィルムの蒸着を実施例１に記載され
た通りに行った。疎水性層のコーティング及び硬膜、な
らびにヒートモード画像形成要素の露光も、ＯＲＭＯＳ
ＩＬ含有層を３ｇ／ｍ2の最終的厚さまでコーティング
する以外は実施例１に記載された通りに行った。Ｓｃｏ
ｔｃｈ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ａｄｈｅｓｅｖｅテープを
用いて画像形成された部分を破り取ることにより、露光
された画像形成要素を処理した。圧縮可能なゴムブラン
ケットが備えられたＲｏｔａｍａｔｉｃ Ｒ３５印刷機
上で、及びＡＢＤｉｃｋ １０２０インキ及びＲｏｔａ
ｍａｔｉｃ湿し液を用いて印刷すると、画像形成された
領域はもはやインキ受容性でなかった。１００コピーま
で印刷し、それは優れた画像の質を示し、すなわち印刷
されたコピー上で単走査線及び平らな画像領域を明確に
見ることができた。
た通りに行った。疎水性層のコーティング及び硬膜、な
らびにヒートモード画像形成要素の露光も、ＯＲＭＯＳ
ＩＬ含有層を３ｇ／ｍ2の最終的厚さまでコーティング
する以外は実施例１に記載された通りに行った。Ｓｃｏ
ｔｃｈ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ａｄｈｅｓｅｖｅテープを
用いて画像形成された部分を破り取ることにより、露光
された画像形成要素を処理した。圧縮可能なゴムブラン
ケットが備えられたＲｏｔａｍａｔｉｃ Ｒ３５印刷機
上で、及びＡＢＤｉｃｋ １０２０インキ及びＲｏｔａ
ｍａｔｉｃ湿し液を用いて印刷すると、画像形成された
領域はもはやインキ受容性でなかった。１００コピーま
で印刷し、それは優れた画像の質を示し、すなわち印刷
されたコピー上で単走査線及び平らな画像領域を明確に
見ることができた。
【００５８】本発明の主たる特徴及び態様を示せば以下
のとおりである。
のとおりである。
【００５９】１．ｉ）平版印刷ベース、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層及び ｉｉｉ）インキ又はインキ接着液に関して平版印刷ベー
スと逆の親和性を有する最上層を記載の順序で含み、最
上層が主物質として無機−有機複合材料を含み、ここで
無機相は金属アルコキシドの制御された加水分解及び重
縮合により形成され、有機相は少なくとも１つの無機原
子に結合している有機ポリマー又はコポリマーであるこ
とを特徴とするヒートモード画像形成要素。
スと逆の親和性を有する最上層を記載の順序で含み、最
上層が主物質として無機−有機複合材料を含み、ここで
無機相は金属アルコキシドの制御された加水分解及び重
縮合により形成され、有機相は少なくとも１つの無機原
子に結合している有機ポリマー又はコポリマーであるこ
とを特徴とするヒートモード画像形成要素。
【００６０】２．該無機−有機複合材料の無機相がＴＭ
ＥＯＳ（テトラメチルオルトシリケート）又はＴＥＯＳ
（テトラエチルオルトシリケート）などのケイ素アルコ
キシドの加水分解及び重縮合によって得られ、処理過程
において網目を形成するシリケートである上記１に記載
のヒートモード画像形成要素。
ＥＯＳ（テトラメチルオルトシリケート）又はＴＥＯＳ
（テトラエチルオルトシリケート）などのケイ素アルコ
キシドの加水分解及び重縮合によって得られ、処理過程
において網目を形成するシリケートである上記１に記載
のヒートモード画像形成要素。
【００６１】３．該有機相がアルコキシシラン基を含む
エチレン性不飽和モノマーＢの重合又は共重合により得
られ得る有機ポリマー又はコポリマーである上記１又は
２に記載のヒートモード画像形成要素。
エチレン性不飽和モノマーＢの重合又は共重合により得
られ得る有機ポリマー又はコポリマーである上記１又は
２に記載のヒートモード画像形成要素。
【００６２】４．該モノマーＢをエチレン性不飽和モノ
マーＡと共重合させる上記１〜３のいずれかに記載のヒ
ートモード画像形成要素。
マーＡと共重合させる上記１〜３のいずれかに記載のヒ
ートモード画像形成要素。
【００６３】５．該モノマーＡがアクリル酸、メタクリ
ル酸又はエステル、アミド及びニトリルなどのその誘導
体である上記４に記載のヒートモード画像形成要素。
ル酸又はエステル、アミド及びニトリルなどのその誘導
体である上記４に記載のヒートモード画像形成要素。
【００６４】６．該モノマーＢがアクリル酸又はメタク
リル酸のエステル又はアミドであり、ここでアルコキシ
シラン基がエステル又はアミド官能基により（メタ）ア
クリロイル基に結合している上記３に記載のヒートモー
ド画像形成要素。
リル酸のエステル又はアミドであり、ここでアルコキシ
シラン基がエステル又はアミド官能基により（メタ）ア
クリロイル基に結合している上記３に記載のヒートモー
ド画像形成要素。
【００６５】７．ポリマーもしくはコポリマー中のモノ
マーＢの重量による量が１％〜１００％の範囲である上
記１〜６のいずれかに記載のヒートモード画像形成要
素。
マーＢの重量による量が１％〜１００％の範囲である上
記１〜６のいずれかに記載のヒートモード画像形成要
素。
【００６６】８．無機−有機複合材料の無機相対有機相
の重量による量の比率が１％〜５０％である上記１〜７
のいずれかに記載のヒートモード画像形成要素。
の重量による量の比率が１％〜５０％である上記１〜７
のいずれかに記載のヒートモード画像形成要素。
【００６７】９．ｉ）親水性表面を有する平版印刷ベー
ス、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層 ｉｉｉ）主物質として上記１〜８のいずれかに定義され
ている無機−有機複合材料を含む疎水性最上層を記載の
順序で含むヒートモード画像形成要素。
ス、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層 ｉｉｉ）主物質として上記１〜８のいずれかに定義され
ている無機−有機複合材料を含む疎水性最上層を記載の
順序で含むヒートモード画像形成要素。
【００６８】１０．該疎水性層を０．１〜５ｇ／ｍ2の
範囲内の乾燥重量で熱融蝕可能な層上にコーティングす
る上記９に記載のヒートモード画像形成要素。
範囲内の乾燥重量で熱融蝕可能な層上にコーティングす
る上記９に記載のヒートモード画像形成要素。
【００６９】１１．該熱融蝕可能な記録層が金属又は金
属誘導体の蒸着又は真空蒸着層である上記９又は１０に
記載のヒートモード画像形成要素。
属誘導体の蒸着又は真空蒸着層である上記９又は１０に
記載のヒートモード画像形成要素。
【００７０】１２．該熱融蝕可能な記録層が分散液から
コーティングされた層である上記９又は１０に記載のヒ
ートモード画像形成要素。
コーティングされた層である上記９又は１０に記載のヒ
ートモード画像形成要素。
【００７１】１３．ｉ）上記１〜１２のいずれかに記載
の画像形成要素を熱又は化学線に画像通り又は情報通り
に暴露し、それにより暴露された領域において該ヒート
モード画像形成要素の加熱を生じさせ、 ｉｉ）液体を用いて又は用いずに、該暴露されたヒート
モード画像形成要素をこすり、該暴露された領域におい
て該熱融蝕可能な記録層及び該最上層を除去する段階を
含むヒートモード画像形成要素を得るための方法。
の画像形成要素を熱又は化学線に画像通り又は情報通り
に暴露し、それにより暴露された領域において該ヒート
モード画像形成要素の加熱を生じさせ、 ｉｉ）液体を用いて又は用いずに、該暴露されたヒート
モード画像形成要素をこすり、該暴露された領域におい
て該熱融蝕可能な記録層及び該最上層を除去する段階を
含むヒートモード画像形成要素を得るための方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リユク・レーンダース ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 バルト・アエルツ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内
Claims (1)
- 【請求項１】 ｉ）平版印刷ベース、 ｉｉ）熱融蝕可能な記録層及び ｉｉｉ）インキ又はインキ接着液に関して平版印刷ベー
スと逆の親和性を有する最上層を記載の順序で含み、最
上層が主物質として無機−有機複合材料を含み、ここで
無機相は金属アルコキシドの制御された加水分解及び重
縮合により形成され、有機相は少なくとも１つの無機原
子に結合している有機ポリマー又はコポリマーであるこ
とを特徴とするヒートモード画像形成要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19970200689 EP0862998B1 (en) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| DE97200689.4 | 1997-03-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10250233A true JPH10250233A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=8228084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10066092A Withdrawn JPH10250233A (ja) | 1997-03-07 | 1998-03-03 | 感熱性画像形成要素及びそれを用いて平版印刷版を作製する方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0862998B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10250233A (ja) |
| DE (1) | DE69705925T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3743604B2 (ja) * | 1999-03-24 | 2006-02-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷用原板 |
| US6378432B1 (en) | 2000-05-03 | 2002-04-30 | Presstek, Inc. | Lithographic imaging with metal-based, non-ablative wet printing members |
| CN1273291C (zh) * | 2001-03-01 | 2006-09-06 | 压缩技术公司 | 平版印刷部件和使平版印刷部件成像的方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4054094A (en) * | 1972-08-25 | 1977-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser production of lithographic printing plates |
| FR2693727B1 (fr) * | 1992-07-20 | 1994-08-19 | Ceramiques Tech Soc D | Polycondensat organo-minéral et procédé d'obtention. |
-
1997
- 1997-03-07 EP EP19970200689 patent/EP0862998B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-07 DE DE1997605925 patent/DE69705925T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-03 JP JP10066092A patent/JPH10250233A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0862998B1 (en) | 2001-08-01 |
| DE69705925T2 (de) | 2002-04-11 |
| EP0862998A1 (en) | 1998-09-09 |
| DE69705925D1 (de) | 2001-09-06 |
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