JPH10239384A - Package for failure analysis of semiconductor integrated circuit device and its analyzing method - Google Patents

Package for failure analysis of semiconductor integrated circuit device and its analyzing method

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JPH10239384A
JPH10239384A JP9044145A JP4414597A JPH10239384A JP H10239384 A JPH10239384 A JP H10239384A JP 9044145 A JP9044145 A JP 9044145A JP 4414597 A JP4414597 A JP 4414597A JP H10239384 A JPH10239384 A JP H10239384A
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integrated circuit
semiconductor integrated
circuit device
package
analysis
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謙治 北川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable analyzing a semiconductor integrated circuit device from the circuit surface side and analyzing the device from the surface side opposite to the circuit surface, without mounting again the semiconductor integrated circuit. SOLUTION: This package for failure analysis contains a semiconductor integrated circuit device 10, a package 20, a mounting surface which is formed in the package 20 and mounts the semiconductor integrated circuit device 10, and a through hole 25 which is formed in the mounting surface and exposes the main surface of the device 10. The through hole 25 exposes the circuit surface 11 and the opposite mounting surface 12 of the device 10. The through hole 25 has a dimension larger than or equal to that of a region to be analyzed in the circuit surface 11 of the device 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置の故障解析用パッケージおよびその解析方法に関し、
特に半導体集積回路装置の解析が容易な半導体集積回路
装置の故障解析用パッケージおよびその解析方法に関す
る。
The present invention relates to a package for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit device and a method of analyzing the package.
In particular, the present invention relates to a package for failure analysis of a semiconductor integrated circuit device, which can easily analyze the semiconductor integrated circuit device, and a method of analyzing the package.

【0001】[0001]

【従来の技術】従来この種の半導体集積回路装置は、半
導体集積回路装置の配線基板への取り付けや半導体集積
回路装置の解析を容易にするため、半導体集積回路装置
をパッケージに搭載している。半導体集積回路装置単体
では電気信号を印可するのが困難であるためである。
2. Description of the Related Art Conventionally, this type of semiconductor integrated circuit device has a semiconductor integrated circuit device mounted on a package in order to facilitate mounting of the semiconductor integrated circuit device on a wiring board and analysis of the semiconductor integrated circuit device. This is because it is difficult to apply an electric signal with a semiconductor integrated circuit device alone.

【0002】従来の半導体集積回路装置の実装構造の一
例であるピン・グリッド・アレイ(PGA)パッケージ
が日経BP社から発行された書籍「実践講座 VLSI
パッケージング技術(上)」香山 晋、成瀬 邦彦監
修、第170頁に開示されている。
A pin grid array (PGA) package which is an example of a mounting structure of a conventional semiconductor integrated circuit device is disclosed in a book "Practical Course VLSI" published by Nikkei BP.
Packaging Technology (1) ", edited by Susumu Kayama and Kunihiko Naruse, p. 170.

【0003】図6を参照すると、上記文献記載のPGA
パッケージ2は、セラミック層および配線層が積層され
てなる積層板3と、複数の電気的接続用のピン4とから
構成される。積層板の中央部には凹部5が設けられ、該
凹部5の底部に半導体集積回路装置1が接着され搭載さ
れる。
Referring to FIG. 6, a PGA described in the above-mentioned document is described.
The package 2 includes a laminated plate 3 in which a ceramic layer and a wiring layer are laminated, and a plurality of pins 4 for electrical connection. A concave portion 5 is provided in the center of the laminated plate, and the semiconductor integrated circuit device 1 is bonded and mounted on the bottom of the concave portion 5.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】半導体集積回路装置の
回路面のトランジスタはリーク故障すると微小な光を発
生する。半導体集積回路装置に用いられるシリコン基板
は波長が1マイクロメートル以上の赤外線を透過するた
め、半導体集積回路装置の回路面で発生した発光は半導
体集積回路装置を透過して搭載面まで到達する。エミッ
ション顕微鏡によって半導体集積回路装置の回路面と反
対の面側からこの微弱な光を検出することにより半導体
集積回路装置のトランジスタを解析することができる。
A transistor on the circuit surface of a semiconductor integrated circuit device generates a small amount of light when a leak failure occurs. Since a silicon substrate used in a semiconductor integrated circuit device transmits infrared light having a wavelength of 1 μm or more, light generated on a circuit surface of the semiconductor integrated circuit device passes through the semiconductor integrated circuit device and reaches a mounting surface. The transistor of the semiconductor integrated circuit device can be analyzed by detecting this weak light from the side opposite to the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device with an emission microscope.

【0005】しかしながら、上述の従来技術では、半導
体集積回路装置がパッケージに実装された状態で該半導
体集積回路装置の回路面と反対の面から発光解析を行お
うとしても、該半導体集積回路装置の回路面と反対の面
はパッケージに覆われている回路面で発光した光が透過
でないという問題があった。このため、半導体集積回路
装置の回路面と反対の面側からエミッション顕微鏡によ
る発光解析を行うためには半導体集積回路装置を搭載し
なおさねばならないという問題があった。
However, according to the above-mentioned prior art, even if an attempt is made to perform light emission analysis from a surface opposite to a circuit surface of the semiconductor integrated circuit device in a state where the semiconductor integrated circuit device is mounted on a package, the semiconductor integrated circuit device cannot be analyzed. The surface opposite to the circuit surface has a problem that light emitted from the circuit surface covered by the package is not transmitted. For this reason, there is a problem that the semiconductor integrated circuit device must be mounted again in order to perform light emission analysis with the emission microscope from the side opposite to the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device.

【0006】本発明の目的は、半導体集積回路装置の回
路面からの解析と、回路面と反対の面からの解析とを両
立できる半導体集積回路装置の故障解析用パッケージを
提供することにある。より具体的には、半導体集積回路
装置の回路面側からの解析と、回路面と反対の面側から
の解析とを半導体集積回路装置を実装しなおすことなく
行えるようにする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a package for failure analysis of a semiconductor integrated circuit device, which can perform both analysis from the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device and analysis from the surface opposite to the circuit surface. More specifically, the analysis from the circuit surface side of the semiconductor integrated circuit device and the analysis from the surface side opposite to the circuit surface can be performed without remounting the semiconductor integrated circuit device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の半導体集積回路装置の故障解析用パッケージ
は、半導体集積回路装置と、実装基板と、この実装基板
に搭載された前記半導体集積回路装置の下面の一部を外
部に露出させるよう前記実装基板に設けた貫通孔とを含
む。
According to the present invention, there is provided a package for failure analysis of a semiconductor integrated circuit device, comprising: a semiconductor integrated circuit device, a mounting board, and the semiconductor integrated circuit mounted on the mounting board. And a through hole provided in the mounting board so as to expose a part of the lower surface of the circuit device to the outside.

【0008】また、本発明の他の半導体集積回路装置の
故障解析用パッケージは、前記半導体集積回路装置の下
面の周辺部と前記実装基板の前記貫通孔の周辺部とが固
定されることを特徴とする。
In another aspect of the present invention, a peripheral portion of a lower surface of the semiconductor integrated circuit device and a peripheral portion of the through hole of the mounting substrate are fixed. And

【0009】さらに、本発明の他の半導体集積回路装置
の故障解析用パッケージは、前記半導体集積回路装置が
搭載された前記実装基板の面とは反対側の面に設けられ
た外部接続用端子を含む。
Furthermore, another package for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes an external connection terminal provided on a surface opposite to a surface of the mounting substrate on which the semiconductor integrated circuit device is mounted. Including.

【0010】また、本発明の他の半導体集積回路装置の
故障解析用パッケージは、前記半導体集積回路装置が搭
載された前記実装基板の面と同じ側の面に設けられた外
部接続用端子を含む。
[0010] A failure analysis package for another semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes an external connection terminal provided on the same surface as the surface of the mounting substrate on which the semiconductor integrated circuit device is mounted. .

【0011】さらに、本発明の他の半導体集積回路装置
の故障解析用パッケージは、前記貫通孔は前記半導体集
積回路装置の回路面における被解析領域の大きさよりも
大きいかまたは同一の大きさを有することを特徴とす
る。
Further, in another package for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the through hole has a size larger than or equal to a size of a region to be analyzed on a circuit surface of the semiconductor integrated circuit device. It is characterized by the following.

【0012】また、本発明の他の半導体集積回路装置の
故障解析用パッケージは、半導体集積回路装置と、この
半導体集積回路装置が実装される実装基板と、この実装
基板に設けられ前記半導体集積回路装置を収容する凹部
と、この凹部に設けられ前記半導体集積回路装置の下面
を露出させる貫通孔とを含む。
Further, another package for failure analysis of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a semiconductor integrated circuit device, a mounting substrate on which the semiconductor integrated circuit device is mounted, and the semiconductor integrated circuit provided on the mounting substrate. The semiconductor integrated circuit device includes a recess for accommodating the device, and a through hole provided in the recess to expose a lower surface of the semiconductor integrated circuit device.

【0013】本発明の半導体集積回路装置の解析方法
は、半導体集積回路装置を該半導体集積回路装置の下面
を露出させる貫通孔を有する実装基板に実装して解析を
行う半導体集積回路装置の解析方法であって、前記貫通
孔から露出された前記半導体集積回路装置の下面に対し
てエミッション顕微鏡による解析を行うことを特徴とす
る。
A method for analyzing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention is a method for analyzing a semiconductor integrated circuit device in which a semiconductor integrated circuit device is mounted on a mounting substrate having a through hole exposing a lower surface of the semiconductor integrated circuit device and analyzed. And analyzing the lower surface of the semiconductor integrated circuit device exposed from the through hole with an emission microscope.

【0014】また、本発明の他の半導体集積回路装置の
解析方法は、半導体集積回路装置を該半導体集積回路装
置の下面を露出させる貫通孔を有する実装基板に実装し
て解析を行う半導体集積回路装置の解析方法であって、
前記貫通孔から露出された前記半導体集積回路装置の下
面に対してエミッション顕微鏡による解析を行う工程
と、前記半導体集積回路装置の回路面に対し電子ビーム
を照射して解析を行う工程とを含むことを特徴とする半
導体集積回路装置の解析方法。
According to another method for analyzing a semiconductor integrated circuit device of the present invention, the semiconductor integrated circuit device is mounted on a mounting substrate having a through hole exposing a lower surface of the semiconductor integrated circuit device, and analysis is performed. An analysis method of the device,
Analyzing the lower surface of the semiconductor integrated circuit device exposed from the through-hole with an emission microscope, and irradiating the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device with an electron beam for analysis. A method for analyzing a semiconductor integrated circuit device, comprising:

【0015】また、本発明の他の半導体集積回路装置の
故障解析用パッケージは、半導体集積回路装置を搭載し
たときに該半導体集積回路装置の下面の一部を外部に露
出させる貫通孔が設けられた実装基板を含む。
Further, another failure analysis package for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention is provided with a through hole for exposing a part of the lower surface of the semiconductor integrated circuit device to the outside when the semiconductor integrated circuit device is mounted. Including mounting boards.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に本発明の半導体集積回路装置
の故障解析用パッケージの実施の形態について図面を参
照して詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a package for failure analysis of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0017】図1を参照すると、本発明の半導体集積回
路装置の故障解析用パッケージの第一の実施の形態は、
パッケージ20には凹部24が設けられ、凹部24の内
部に貫通孔25が設けられている。パッケージ20には
半導体集積回路装置10が搭載される。
Referring to FIG. 1, a first embodiment of a package for failure analysis of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention is as follows.
A concave portion 24 is provided in the package 20, and a through hole 25 is provided inside the concave portion 24. The semiconductor integrated circuit device 10 is mounted on the package 20.

【0018】半導体集積回路装置10は回路面11と実
装面12とを有し、実装面12を用いてパッケージ20
に実装される。
The semiconductor integrated circuit device 10 has a circuit surface 11 and a mounting surface 12.
Implemented in

【0019】パッケージ20は、絶縁層21と配線層2
2とが積層されてなる。配線層22はパッケージ内部に
おいて配線を形成する。絶縁層21の材料はセラミック
が望ましい。後述するエレクトロンビーム(EB)テス
タによって半導体集積回路装置10が実装されたパッケ
ージ20を解析する場合、真空状態下に置かれたときに
ガスが発生することがないためである。配線層22の材
料はニッケル、銅、アルミニウムまたは金などが望まし
い。電気伝導特性が良好であるためである。
The package 20 includes an insulating layer 21 and a wiring layer 2.
2 are laminated. The wiring layer 22 forms a wiring inside the package. The material of the insulating layer 21 is preferably ceramic. This is because when the package 20 on which the semiconductor integrated circuit device 10 is mounted is analyzed by an electron beam (EB) tester described later, no gas is generated when the package 20 is placed in a vacuum state. The material of the wiring layer 22 is preferably nickel, copper, aluminum, gold, or the like. This is because the electric conduction characteristics are good.

【0020】パッケージ20の下面には複数のピン23
が植立されている。ピン23はパッケージ内部におい
て、配線層21と電気的に接続されている。
A plurality of pins 23 are provided on the lower surface of the package 20.
Has been planted. The pins 23 are electrically connected to the wiring layer 21 inside the package.

【0021】半導体集積回路装置10の入出力端子とパ
ッケージ20の配線層22とはボンディングワイヤ24
によって接続されている。
The input / output terminals of the semiconductor integrated circuit device 10 and the wiring layer 22 of the package 20 are connected to bonding wires 24
Connected by

【0022】図1および図2を参照すると、パッケージ
20には半導体集積回路装置10が収容される凹部24
が設けられている。凹部24には貫通孔25が設けられ
ている。貫通孔25は半導体集積回路装置10の実装面
12を露出させる。
Referring to FIGS. 1 and 2, a package 20 has a recess 24 in which the semiconductor integrated circuit device 10 is housed.
Is provided. The recess 24 is provided with a through hole 25. The through-hole 25 exposes the mounting surface 12 of the semiconductor integrated circuit device 10.

【0023】貫通孔25は半導体集積回路装置10の回
路面11における被解析領域の大きさよりも大きいかま
たは同一の大きさを有する。より具体的には、貫通孔2
5は実装面12において回路面11の被解析領域と反対
に位置する領域を露出させる。被解析領域とは解析対象
の論理回路を含む領域である。
The through hole 25 has a size larger than or equal to the size of the region to be analyzed on the circuit surface 11 of the semiconductor integrated circuit device 10. More specifically, the through hole 2
5 exposes a region on the mounting surface 12 opposite to the region to be analyzed on the circuit surface 11. The analyzed area is an area including a logic circuit to be analyzed.

【0024】半導体集積回路装置10は実装面12の周
辺部によってパッケージ20に実装されている。実装面
12の周辺部とパッケージ20の貫通孔25の周辺部と
が樹脂接着剤によって接着される。
The semiconductor integrated circuit device 10 is mounted on a package 20 around the mounting surface 12. The peripheral portion of the mounting surface 12 and the peripheral portion of the through hole 25 of the package 20 are bonded with a resin adhesive.

【0025】半導体集積回路装置10の回路面11の上
部にはカバーやキャップ等のようなシールド部材を設け
ず、回路面11を露出させたままにする。
No shield member such as a cover or a cap is provided above the circuit surface 11 of the semiconductor integrated circuit device 10, and the circuit surface 11 is left exposed.

【0026】次に本発明の半導体集積回路装置の故障解
析用パッケージの実施例について図面を参照して説明す
る。
Next, an embodiment of a failure analysis package for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0027】図1を参照すると、パッケージ20は配線
層22となる配線パターンが印刷されたグリーンシート
が絶縁層21として積層されて形成されている。グリー
ンシートの厚さは200マイクロメートルであり、この
上に配線パターンが印刷されている。配線は厚さ100
マイクロメートルのニッケルに厚さ10マイクロメート
ルの銅メッキが施されている。グリーンシートにはヴィ
アが設けられて各配線を電気的に接続する。本実施例で
は、配線が設けられたグリーンシートが4層積層され焼
結されてパッケージ20が形成される。
Referring to FIG. 1, a package 20 is formed by laminating a green sheet on which a wiring pattern to be a wiring layer 22 is printed as an insulating layer 21. The thickness of the green sheet is 200 micrometers, and a wiring pattern is printed thereon. Wiring thickness 100
Micrometer nickel is plated with copper with a thickness of 10 micrometers. A via is provided in the green sheet to electrically connect each wiring. In the present embodiment, the package 20 is formed by laminating and sintering four layers of green sheets provided with wiring.

【0028】半導体集積回路装置10の外形は15ミリ
メートル四方である。パッケージ20には、半導体集積
回路装置10を収容するための17ミリメートル四方の
凹部24が設けられる。凹部24の中央部に13ミリメ
ートル四方の貫通孔25が設けられる。貫通孔25はパ
ッケージ20の裏面まで貫通している。
The outer shape of the semiconductor integrated circuit device 10 is 15 mm square. The package 20 is provided with a 17 mm square recess 24 for accommodating the semiconductor integrated circuit device 10. A 13 mm square through hole 25 is provided at the center of the recess 24. The through hole 25 penetrates to the back surface of the package 20.

【0029】パッケージの裏面には長さ6ミリメート
ル、直径0.5ミリメートルのピン23が設けられてい
る。ピンの材質は銅であり、表面に金メッキが施されて
いる。
A pin 23 having a length of 6 mm and a diameter of 0.5 mm is provided on the back surface of the package. The material of the pin is copper, and the surface is plated with gold.

【0030】次に、本発明の半導体集積回路装置の解析
方法について図面を参照して詳細に説明する。
Next, a method of analyzing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0031】半導体集積回路装置に不良が発生した場合
や、半導体集積回路装置内部の電気信号の時系列変化を
調べる場合、エレクトロン・ビーム(以下、EBとい
う)テスタが用いられる。
An electron beam (hereinafter, referred to as EB) tester is used when a failure occurs in a semiconductor integrated circuit device or when a time series change of an electric signal in the semiconductor integrated circuit device is examined.

【0032】図3を参照すると、EBテスタ100は真
空ポンプ101と、電子銃102と、電子レンズ103
と、二次電子検出器104と、波形観測装置105と、
テスタ106とから構成される。テスタ106と半導体
集積回路装置10が搭載されたパッケージ20の信号ピ
ンおよび電源ピンの各々とは、信号線107および電源
線108によってそれぞれ接続されている。
Referring to FIG. 3, an EB tester 100 includes a vacuum pump 101, an electron gun 102, and an electron lens 103.
, A secondary electron detector 104, a waveform observation device 105,
And a tester 106. The tester 106 and the signal pins and the power pins of the package 20 on which the semiconductor integrated circuit device 10 is mounted are connected by signal lines 107 and power lines 108, respectively.

【0033】テスタ106から信号線107を介して与
えられる信号は、パッケージ20の信号ピンに入力さ
れ、パッケージ20内部の配線を介して半導体集積回路
装置10に印可される。印可された信号によって半導体
集積回路装置10内部の配線の電圧が変化する。
A signal provided from the tester 106 via the signal line 107 is input to a signal pin of the package 20 and applied to the semiconductor integrated circuit device 10 via a wiring inside the package 20. The voltage of the wiring inside the semiconductor integrated circuit device 10 changes according to the applied signal.

【0034】真空ポンプ101がパッケージ20に搭載
された半導体集積回路装置10の測定環境を真空に保
つ。この状態で電子銃102から電子ビームが半導体集
積回路装置10に照射される。半導体集積回路装置10
から放出される二次電子を二次電子検出器104で検出
し、波形観測装置105により波形が観測される。この
波形を用いて半導体集積回路装置10が解析される。
The vacuum pump 101 maintains the measurement environment of the semiconductor integrated circuit device 10 mounted on the package 20 in a vacuum. In this state, the electron beam is emitted from the electron gun 102 to the semiconductor integrated circuit device 10. Semiconductor integrated circuit device 10
The secondary electrons emitted from are detected by the secondary electron detector 104, and the waveform is observed by the waveform observation device 105. The semiconductor integrated circuit device 10 is analyzed using this waveform.

【0035】次に、半導体集積回路装置10の実装面側
からのエミッション顕微鏡による発光解析について説明
する。エミッション顕微鏡による発光解析では、半導体
集積回路装置10のトランジスタの不良を検出できる。
Next, light emission analysis by the emission microscope from the mounting surface side of the semiconductor integrated circuit device 10 will be described. The light emission analysis by the emission microscope can detect a defect of the transistor of the semiconductor integrated circuit device 10.

【0036】半導体集積回路装置10内部のトランジス
タがリーク故障している場合に微小な光が発生する。半
導体集積回路装置10に用いられるシリコン基板は波長
が1マイクロメートル以上の赤外線を透過するため、半
導体集積回路装置10の回路面で発生した発光は半導体
集積回路装置10を透過して搭載面まで到達する。エミ
ッション顕微鏡によって半導体集積回路装置10の回路
面と反対の面側からこの微弱な光を検出する。
When a transistor in the semiconductor integrated circuit device 10 has a leak failure, a small amount of light is generated. Since the silicon substrate used in the semiconductor integrated circuit device 10 transmits infrared light having a wavelength of 1 micrometer or more, light emitted on the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device 10 passes through the semiconductor integrated circuit device 10 and reaches the mounting surface. I do. The weak light is detected from the surface opposite to the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device 10 by the emission microscope.

【0037】図4を参照すると、顕微鏡201とパッケ
ージ20の貫通孔25から露出している半導体集積回路
装置10の回路面と反対の面とが対向するように配置さ
れている。半導体集積回路装置10が搭載されたパッケ
ージ20のピンには電源203や信号制御装置204か
ら信号が与えられる。このとき、半導体集積回路装置1
0のトランジスタにリーク箇所があると、微弱な発光が
発生する。
Referring to FIG. 4, the microscope 201 and the surface opposite to the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device 10 exposed from the through hole 25 of the package 20 are arranged so as to face each other. A signal is supplied from a power supply 203 or a signal control device 204 to pins of the package 20 on which the semiconductor integrated circuit device 10 is mounted. At this time, the semiconductor integrated circuit device 1
If there is a leak point in the 0 transistor, weak light emission occurs.

【0038】半導体集積回路装置10の回路面で発生し
た発光は顕微鏡201で拡大され冷却CCDカメラ20
2に入射される。冷却CCDカメラ202は、−40゜
Cに冷却されている。冷却CCDカメラ202は微弱な
光を蓄積することによって微弱な発光を観測する。
Light emitted from the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device 10 is magnified by a microscope 201 and cooled by a cooled CCD camera 20.
2 is incident. The cooled CCD camera 202 is cooled to -40 ° C. The cooled CCD camera 202 observes weak light emission by accumulating weak light.

【0039】このように、本実施の形態では、パッケー
ジ20に半導体集積回路装置10の回路面と反対の面を
露出させる貫通孔25を設けたため、エミッション顕微
鏡により半導体集積回路装置10の発光解析を行う場合
に、半導体集積回路装置10を他のパッケージに実装し
直す必要がなく、パッケージ20に実装したまま解析を
行える。
As described above, in the present embodiment, since the through hole 25 for exposing the surface opposite to the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device 10 is provided in the package 20, light emission analysis of the semiconductor integrated circuit device 10 can be performed by the emission microscope. In this case, it is not necessary to remount the semiconductor integrated circuit device 10 in another package, and the analysis can be performed while the semiconductor integrated circuit device 10 is mounted in the package 20.

【0040】次に、本発明の第二の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。この第二の実施の
形態の特徴は、パッケージの下面に半田ボールが設けら
れている点にある。
Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The feature of the second embodiment resides in that solder balls are provided on the lower surface of the package.

【0041】図5を参照すると、パッケージ20の下面
に半田ボール26が設けられている。半田ボールはパッ
ケージ20内部の配線と接続されている。パッケージ2
0を構成する絶縁層27の材料は有機樹脂である。より
具体的には、絶縁層27の材料はエポキシ樹脂である。
その他の構成は第一の実施の形態と同様である。
Referring to FIG. 5, a solder ball 26 is provided on the lower surface of the package 20. The solder balls are connected to wiring inside the package 20. Package 2
The material of the insulating layer 27 constituting 0 is an organic resin. More specifically, the material of the insulating layer 27 is an epoxy resin.
Other configurations are the same as in the first embodiment.

【0042】上述の実施の形態では、パッケージの開口
部が設けられる面と、外部接続用のピンや半田ボールが
接続される面とが互いに異なるキャビティアップ構造の
例について説明したが、パッケージの開口部が設けられ
る面と、外部接続用のピンや半田ボールが接続される面
とが同一であるキャビティダウン構造であってもよい。
In the above-described embodiment, an example of the cavity-up structure in which the surface where the opening of the package is provided and the surface where the pins for external connection and the solder balls are connected are different from each other has been described. A cavity-down structure in which the surface on which the portion is provided and the surface to which pins for external connection or solder balls are connected may be the same.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明で
は、パッケージに半導体集積回路装置の回路面と反対の
面を露出させる貫通孔を設けたため、半導体集積回路装
置の回路面側からの解析と、回路面と反対の面側からの
解析とを半導体集積回路装置を実装しなおすことなく行
えるという効果がある。
As is apparent from the above description, according to the present invention, a through hole for exposing a surface opposite to the circuit surface of the semiconductor integrated circuit device is provided in the package, so that the semiconductor integrated circuit device is viewed from the circuit surface side. There is an effect that the analysis and the analysis from the side opposite to the circuit surface can be performed without mounting the semiconductor integrated circuit device again.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第一の実施の形態の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明のEBテスタによる解析方法を示す図で
ある。
FIG. 3 is a diagram illustrating an analysis method using an EB tester according to the present invention.

【図4】本発明のエミッション顕微鏡による解析方法を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an analysis method using an emission microscope of the present invention.

【図5】本発明の第二の実施の形態の断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a second embodiment of the present invention.

【図6】従来のPGAパッケージの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a conventional PGA package.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 半導体集積回路装置 20 パッケージ 21 絶縁層 22 配線層 23 ピン 24 凹部 25 貫通孔 26 ボンディングワイヤ 27 半田ボール 28 絶縁層 100 EBテスタ 101 真空ポンプ 102 電子銃 103 電子レンズ 104 二次電子検出器 105 波形観測装置 106 テスタ 201 顕微鏡 202 冷却CCDカメラ 203 電源 204 信号制御装置 Reference Signs List 10 semiconductor integrated circuit device 20 package 21 insulating layer 22 wiring layer 23 pin 24 recess 25 through hole 26 bonding wire 27 solder ball 28 insulating layer 100 EB tester 101 vacuum pump 102 electron gun 103 electron lens 104 secondary electron detector 105 waveform observation Device 106 Tester 201 Microscope 202 Cooled CCD camera 203 Power supply 204 Signal control device

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体集積回路装置と、 実装基板と、 この実装基板に搭載された前記半導体集積回路装置の下
面の一部を外部に露出させるよう前記実装基板に設けた
貫通孔とを含むことを特徴とする半導体集積回路装置の
故障解析用パッケージ。
1. A semiconductor integrated circuit device, comprising: a mounting substrate; and a through hole provided in the mounting substrate to expose a part of a lower surface of the semiconductor integrated circuit device mounted on the mounting substrate to the outside. A package for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit device, characterized in that:
【請求項2】 前記半導体集積回路装置の下面の周辺部
と前記実装基板の前記貫通孔の周辺部とが固定されるこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置の故
障解析用パッケージ。
2. A package for analyzing a failure of a semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein a peripheral portion of a lower surface of said semiconductor integrated circuit device and a peripheral portion of said through hole of said mounting substrate are fixed. .
【請求項3】 前記半導体集積回路装置が搭載された前
記実装基板の面とは反対側の面に設けられた外部接続用
端子を含むことを特徴とする請求項1記載の半導体集積
回路装置の故障解析用パッケージ。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising an external connection terminal provided on a surface opposite to a surface of said mounting substrate on which said semiconductor integrated circuit device is mounted. Package for failure analysis.
【請求項4】 前記半導体集積回路装置が搭載された前
記実装基板の面と同じ側の面に設けられた外部接続用端
子を含むことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回
路装置の故障解析用パッケージ。
4. The failure of the semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising an external connection terminal provided on a surface on the same side as a surface of the mounting substrate on which the semiconductor integrated circuit device is mounted. Analysis package.
【請求項5】 前記貫通孔は前記半導体集積回路装置の
回路面における被解析領域の大きさよりも大きいかまた
は同一の大きさを有することを特徴とする請求項1記載
の半導体集積回路装置の故障解析用パッケージ。
5. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said through hole has a size larger than or equal to a size of a region to be analyzed on a circuit surface of said semiconductor integrated circuit device. Analysis package.
【請求項6】 半導体集積回路装置と、 この半導体集積回路装置が実装される実装基板と、 この実装基板に設けられ前記半導体集積回路装置を収容
する凹部と、 この凹部に設けられ前記半導体集積回路装置の下面を露
出させる貫通孔とを含むことを特徴とする半導体集積回
路装置の故障解析用パッケージ。
6. A semiconductor integrated circuit device, a mounting substrate on which the semiconductor integrated circuit device is mounted, a concave portion provided on the mounting substrate for housing the semiconductor integrated circuit device, and a semiconductor integrated circuit provided in the concave portion. A through hole for exposing a lower surface of the device; and a failure analysis package for the semiconductor integrated circuit device.
【請求項7】 半導体集積回路装置を該半導体集積回路
装置の下面を露出させる貫通孔を有する実装基板に実装
して解析を行う半導体集積回路装置の解析方法におい
て、 前記貫通孔から露出された前記半導体集積回路装置の下
面に対してエミッション顕微鏡による解析を行うことを
特徴とする半導体集積回路装置の解析方法。
7. An analysis method for a semiconductor integrated circuit device, wherein the semiconductor integrated circuit device is mounted on a mounting substrate having a through hole exposing a lower surface of the semiconductor integrated circuit device, and the analysis is performed. An analysis method for a semiconductor integrated circuit device, wherein the lower surface of the semiconductor integrated circuit device is analyzed by an emission microscope.
【請求項8】 半導体集積回路装置を該半導体集積回路
装置の下面を露出させる貫通孔を有する実装基板に実装
して解析を行う半導体集積回路装置の解析方法におい
て、 前記貫通孔から露出された前記半導体集積回路装置の下
面に対してエミッション顕微鏡による解析を行う工程
と、 前記半導体集積回路装置の回路面に対し電子ビームを照
射して解析を行う工程とを含むことを特徴とする半導体
集積回路装置の解析方法。
8. A method for analyzing a semiconductor integrated circuit device, wherein the semiconductor integrated circuit device is mounted on a mounting substrate having a through hole exposing a lower surface of the semiconductor integrated circuit device and analysis is performed, the method comprising: A semiconductor integrated circuit device comprising: a step of performing analysis by an emission microscope on a lower surface of the semiconductor integrated circuit device; and a step of irradiating an electron beam on a circuit surface of the semiconductor integrated circuit device to perform analysis. Analysis method.
【請求項9】 半導体集積回路装置を搭載したときに該
半導体集積回路装置の下面の一部を外部に露出させる貫
通孔が設けられた実装基板を含むことを特徴とする半導
体集積回路装置の故障解析用パッケージ。
9. A failure of the semiconductor integrated circuit device, comprising a mounting substrate provided with a through hole for exposing a part of a lower surface of the semiconductor integrated circuit device to the outside when the semiconductor integrated circuit device is mounted. Analysis package.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2021056059A (en) * 2019-09-30 2021-04-08 株式会社岩崎電機製作所 Mounting circuit board inspection device and mounting circuit board inspection method

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