JPH10239352A - Probe apparatus - Google Patents
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- JPH10239352A JPH10239352A JP4442697A JP4442697A JPH10239352A JP H10239352 A JPH10239352 A JP H10239352A JP 4442697 A JP4442697 A JP 4442697A JP 4442697 A JP4442697 A JP 4442697A JP H10239352 A JPH10239352 A JP H10239352A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プローブピンやソ
ケットピン等として用いられ、半導体ICチップや液晶
デバイス等の各端子に接触して電気的なテストを行うコ
ンタクトプローブを備えたプローブ装置(プローブカー
ド)に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe device (probe) which is used as a probe pin or a socket pin and has a contact probe for performing an electrical test by contacting each terminal of a semiconductor IC chip or a liquid crystal device. Card).
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、ICチップやLSIチップ等の
半導体チップ又はLCD(液晶表示体)の各端子に接触
させて電気的なテストを行うために、コンタクトピンが
用いられている。近年、ICチップ等の高集積化および
微細化に伴って電極であるコンタクトパッドが狭ピッチ
化されるとともに、コンタクトピンの多ピン狭ピッチ化
が要望されている。しかしながら、コンタクトピンとし
て用いられていたタングステン針のコンタクトプローブ
では、タングステン針の径の限界から多ピン狭ピッチへ
の対応が困難になっていた。2. Description of the Related Art In general, a contact pin is used to conduct an electrical test by contacting a semiconductor chip such as an IC chip or an LSI chip or each terminal of an LCD (liquid crystal display). In recent years, as the integration and miniaturization of IC chips and the like have increased, the pitch of contact pads, which are electrodes, has been reduced, and the pitch of contact pins has been required to be narrower. However, with a tungsten needle contact probe used as a contact pin, it has been difficult to cope with a multi-pin narrow pitch due to the limitation of the diameter of the tungsten needle.
【0003】これに対して、図9および図10に示すよ
うに、複数のパターン配線3が樹脂フィルム201上に
形成されこれらのパターン配線3の各先端が前記樹脂フ
ィルム201から突出状態に配されてコンタクトピン3
aとされるコンタクトプローブ200の技術が提案され
ている。この技術例では、複数のパターン配線3の先端
をコンタクトピン3aとすることによって、多ピン狭ピ
ッチ化を図るものである。On the other hand, as shown in FIGS. 9 and 10, a plurality of pattern wirings 3 are formed on a resin film 201, and the tips of these pattern wirings 3 are arranged so as to protrude from the resin film 201. Contact pin 3
The technology of the contact probe 200 referred to as “a” has been proposed. In this technology example, the tip of the plurality of pattern wirings 3 is used as a contact pin 3a, thereby achieving a narrow pitch of the multi-pin.
【0004】このコンタクトプローブ200は、例え
ば、図11に示すようなLCD用プローブ装置100に
用いられる。このLCD用プローブ装置100は、前記
コンタクトプローブ200を挟持するコンタクトプロー
ブ挟持体110と、このコンタクトプローブ挟持体11
0を額縁状フレーム120に固定してなる構造を有して
おり(実際には複数個のコンタクトプローブ挟持体11
0が取り付けられるがここでは1つのみを図示した)、
このコンタクトプローブ挟持体110から突出した前記
コンタクトピン3aの先端がLCD90の端子(図示せ
ず)に接触するようになっている。The contact probe 200 is used, for example, in an LCD probe device 100 as shown in FIG. The LCD probe device 100 includes a contact probe holding body 110 that holds the contact probe 200 and a contact probe holding body 11 that holds the contact probe 200.
0 is fixed to the frame frame 120 (actually, a plurality of contact probe holding bodies 11
0 is attached, but only one is shown here),
The tip of the contact pin 3a protruding from the contact probe holding body 110 comes into contact with a terminal (not shown) of the LCD 90.
【0005】ところで、図12に示すように、コンタク
トプローブ200におけるコンタクトピン3aは、その
先端が正常な先端Sの他に、上方に湾曲した先端S1や
下方に湾曲した先端S2が生じることがあり、この場
合、図13に示すように、コンタクトピン3aをLCD
90の端子に押しつけても、正常な先端S1および下方
に湾曲した先端S2は、LCD90の端子に接触する
が、上方に湾曲した先端S1は、接触せず、仮に接触し
たとしても十分な接触圧が得られず、接触不良から正確
な電気テストが行えないことがあった。また、テスト時
に所望の接触圧を得るためにコンタクトピン3aの押し
付け量を増減させるが、大きな接触圧を得るためには大
きな押し付け量が必要となるものの、針の形状からその
量には限度があり、大きな接触圧を得られないことがあ
った。As shown in FIG. 12, the contact pin 3a of the contact probe 200 may have an upwardly curved distal end S1 or a downwardly curved distal end S2 in addition to a normal distal end S. In this case, as shown in FIG.
Even when pressed against the terminal 90, the normal tip S1 and the downwardly curved tip S2 contact the terminal of the LCD 90, but the upwardly curved tip S1 does not contact, and even if the tip S1 makes contact, it has a sufficient contact pressure. And electrical tests could not be performed accurately due to poor contact. In addition, the pressing amount of the contact pin 3a is increased or decreased in order to obtain a desired contact pressure at the time of the test, but a large pressing amount is required to obtain a large contact pressure, but the amount is limited due to the shape of the needle. In some cases, a large contact pressure could not be obtained.
【0006】そこで、図14に示すように、コンタクト
ピン3aの上方に湾曲した先端S1と下方に湾曲した先
端S2とを正常な先端Sと整列させるため、樹脂フィル
ム201の上部に強弾性フィルム400を重ね合わせる
構成が採用されている。この強弾性フィルム400は、
上方に湾曲した先端S1を押圧するため、前記上方に湾
曲した先端S1であってもLCD90の端子に確実に接
触する。さらに、強弾性フィルム400からのコンタク
トピン3aの突出量を変化させることにより、コンタク
トピン3aを押しつけたときにコンタクトピン3aを上
から押さえるタイミングを変えることが可能となり、所
望の押しつけ量で所望の接触圧を得ることができる。Therefore, as shown in FIG. 14, in order to align the tip S1 curved upward and the tip S2 curved downward on the contact pin 3a with the normal tip S, a ferroelastic film 400 is placed on top of the resin film 201. Are superimposed. This strong elastic film 400
Since the upwardly curved distal end S1 is pressed, even the upwardly curved distal end S1 reliably contacts the terminal of the LCD 90. Further, by changing the amount of protrusion of the contact pin 3a from the ferroelastic film 400, it is possible to change the timing of pressing the contact pin 3a from above when the contact pin 3a is pressed. A contact pressure can be obtained.
【0007】ところが、この場合、強弾性フィルム40
0が、直接、コンタクトピン3aに押圧接触すると、繰
り返しの使用により強弾性フィルム400とコンタクト
ピン3aとの摩擦が繰り返され、これによる歪みが蓄積
されると、コンタクトピン3aが左右に曲がり、接触点
がずれることがあった。However, in this case, the ferroelastic film 40
When 0 directly presses and contacts the contact pin 3a, the friction between the ferroelastic film 400 and the contact pin 3a is repeated by repeated use, and when the resulting distortion is accumulated, the contact pin 3a bends right and left, and The dots sometimes shifted.
【0008】そこで、図15に示すように、従来の樹脂
フィルム201に代えて、強弾性フィルム400よりも
突出量の大きい樹脂フィルム201aが採用されてい
る。これによれば、樹脂フィルム201aは、強弾性フ
ィルム400とコンタクトピン3aとを直接接触させず
に緩衝材として機能するため、繰り返しオーバードライ
ブをかけても、強弾性フィルム400との摩擦によりコ
ンタクトピン3aが歪んで湾曲すること等がなく、端子
に対して安定した接触を保つことができる。Therefore, as shown in FIG. 15, instead of the conventional resin film 201, a resin film 201a having a larger projection than the ferroelastic film 400 is employed. According to this, the resin film 201a functions as a cushioning material without directly contacting the ferroelastic film 400 and the contact pins 3a. 3a is not distorted and curved, and stable contact with the terminal can be maintained.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】図15に示すように、
オーバードライブをかけると、樹脂フィルム201a
は、コンタクトピン3aと共に上向きに撓み、このと
き、該樹脂フィルム201aは、強弾性フィルム400
の先端下面(特に先端角部401)と相対的に摺接す
る。ところで、強弾性フィルム400は、前述したよう
に、上方に湾曲した先端S1(コンタクトピン3a)を
押圧する機能を有するため、一定の剛性が求められ、例
えばセラミックス材が用いられる。一方、樹脂フィルム
201aには、例えばポリイミド樹脂が用いられる。し
たがって、樹脂フィルム201aと強弾性フィルム40
0の硬度を比較すると、強弾性フィルム400の方が硬
く、両者201a,400(401)の摺接が繰り返さ
れると、図16に示すように、樹脂フィルム201aの
摺接面が摩耗していた(符号H参照)。As shown in FIG.
When overdrive is applied, the resin film 201a
Is bent upward together with the contact pins 3a, and at this time, the resin film 201a is
Relatively in contact with the lower surface of the front end (particularly, the front end corner 401). As described above, the ferroelastic film 400 has a function of pressing the tip S1 (the contact pin 3a) that is curved upward, and therefore requires a certain rigidity. For example, a ceramic material is used. On the other hand, for the resin film 201a, for example, a polyimide resin is used. Therefore, the resin film 201a and the ferroelastic film 40
Compared with the hardness of 0, the ferroelastic film 400 was harder, and when the sliding contact between the both 201a and 400 (401) was repeated, the sliding contact surface of the resin film 201a was worn as shown in FIG. (See symbol H).
【0010】樹脂フィルム201aの摺接面が摩耗によ
り荒れて表面に凹部Hが形成されると、オーバードライ
ブ時における該樹脂フィルム201aと強弾性フィルム
400との摺動性が損なわれ、コンタクトピン3aとL
CD90の端子とのコンタクト性が悪化する。If the sliding surface of the resin film 201a is roughened by abrasion and the concave portion H is formed on the surface, the slidability between the resin film 201a and the ferroelastic film 400 during overdrive is impaired, and the contact pins 3a And L
The contact property with the terminal of the CD 90 is deteriorated.
【0011】のみならず、樹脂フィルム201aの摺接
面に凹部Hが形成されると、該樹脂フィルム201aを
介した強弾性フィルム400による押圧力が、凹部Hの
分だけ減らされて、コンタクトピン3aに所定の押圧量
だけ作用しないことがあった。その結果、コンタクトピ
ン3aのLCD90の端子に対する押しつけ量が不足
し、接触不良の原因となっていた。また、この場合、周
辺機器からの振動(例えば、プローバーのモータの振
動)の影響を受け易くなり、コンタクトピン3aが前記
端子に着いたり離れたりすることがあった。In addition, when the concave portion H is formed on the sliding contact surface of the resin film 201a, the pressing force of the ferroelastic film 400 through the resin film 201a is reduced by the concave portion H, and the contact pin In some cases, a predetermined amount of pressing did not act on 3a. As a result, the pressing amount of the contact pins 3a against the terminals of the LCD 90 is insufficient, which causes a contact failure. Further, in this case, the contact pins 3a are likely to be affected by the vibration from the peripheral device (for example, the vibration of the prober motor), and the contact pins 3a may come and go from the terminals.
【0012】また、同様の理由から、仮に、コンタクト
ピン3aの前記端子に対する接触状態が保たれていたと
しても、コンタクトピン3aの前記端子に対する押しつ
け量がそれぞれ相違していることから、前記端子に対す
る接触圧に差が生じ、その結果、繰り返しの使用による
コンタクトピン3aの摩耗状態(ピン先の平坦度)が異
なって、それが接触不良の原因となることがあった。For the same reason, even if the contact state of the contact pin 3a to the terminal is maintained, the amount of pressing of the contact pin 3a to the terminal is different from each other. A difference occurs in the contact pressure, and as a result, the wear state (flatness of the pin tip) of the contact pin 3a due to repeated use is different, which may cause a contact failure.
【0013】また、前述した通り、プローブ装置100
は、コンタクトプローブ挟持体110を複数個備えるた
め、樹脂フィルム201aの上記摩耗量が各コンタクト
プローブ挟持体110毎に異なることがあり、その場合
には、各コンタクトピン3aの前記端子に対する接触状
態にもばらつきが生じていた。As described above, the probe device 100
Since a plurality of contact probe holding members 110 are provided, the wear amount of the resin film 201a may be different for each contact probe holding member 110. In this case, the contact state of each contact pin 3a with respect to the terminal may be changed. Also varied.
【0014】さらには、樹脂フィルム201aは、摩耗
により発塵するため、それがテスト環境を悪化させると
いう問題もあった。Further, since the resin film 201a generates dust due to abrasion, there is also a problem that it deteriorates the test environment.
【0015】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、押圧用フィルムとの摺接によるフィルムの摩耗が
最小限に抑えられ、該フィルムを介して押圧用フィルム
からコンタクトピンに作用する押圧力(押圧量)が一定
であるプローブ装置を提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and minimizes abrasion of the film due to sliding contact with the pressing film, and acts on the contact pin from the pressing film via the film. It is an object of the present invention to provide a probe device having a constant pressing force (amount of pressing).
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成を採用した。すなわち、請求項
1記載のプローブ装置では、複数のパターン配線がフィ
ルム上に形成されこれらのパターン配線の各先端が前記
フィルムから突出状態に配されてコンタクトピンとされ
るコンタクトプローブを、前記パターン配線の各基端に
接続される端子を有する回路に接続してなるプローブ装
置において、このプローブ装置は、前記フィルム上に配
されて前記コンタクトピンが測定対象物に加圧された状
態で接触するときに前記フィルムを介して該コンタクト
ピンを測定対象物に向けて押圧する押圧用フィルムと、
この押圧用フィルムと前記コンタクトプローブとを保持
する保持部材とを備え、前記押圧用フィルムは、前記フ
ィルムを介して前記コンタクトピンを押圧するときに、
その先端角部と前記フィルムとが非接触状態であるよう
に前記フィルムよりも突出して設けられ、かつ、前記押
圧用フィルムは、前記コンタクトピンと非接触状態であ
るように前記フィルムからの突出量が前記コンタクトピ
ンよりも小さく設定されている技術が採用される。The present invention has the following features to attain the object mentioned above. That is, in the probe device according to the first aspect, a plurality of pattern wirings are formed on a film, and each tip of the pattern wirings is arranged in a protruding state from the film to be a contact probe, and the contact probe is used as a contact pin for the pattern wirings. In a probe device which is connected to a circuit having a terminal connected to each base end, the probe device is arranged on the film, and the contact pin comes into contact with the object to be measured in a pressurized state. A pressing film that presses the contact pin toward the object to be measured through the film,
A holding member that holds the pressing film and the contact probe is provided, and the pressing film is configured to press the contact pin through the film.
The tip corner and the film are provided so as to protrude from the film so as to be in a non-contact state, and the pressing film has an amount of protrusion from the film so as to be in a non-contact state with the contact pin. A technology set smaller than the contact pins is employed.
【0017】このプローブ装置では、前記押圧用フィル
ムは、前記フィルムを介して前記コンタクトピンを押圧
するときに、その先端角部と前記フィルムとが非接触状
態であるように前記フィルムよりも突出して設けられて
いるため、前記押圧用フィルムは、その先端角部以外の
下面でのみフィルムと摺接する。したがって、その分、
押圧用フィルムの前記フィルムに対する接触圧が小さく
なり、該フィルムの摩耗が最小限に抑えられる。したが
って、オーバードライブ時における前記押圧用フィルム
と前記フィルムとの摺動性が損なわれることがなく、コ
ンタクトピンと測定対象物とのコンタクト性が悪化する
ことがない。また、フィルムの摩耗による発塵も最小限
に抑えられる。In this probe device, the pressing film protrudes from the film so that when the contact pin is pressed through the film, the corner of the tip and the film are not in contact with each other. Since the pressing film is provided, the pressing film is in sliding contact with the film only on the lower surface other than the corner at the tip. Therefore,
The contact pressure of the pressing film against the film is reduced and wear of the film is minimized. Therefore, the sliding property between the pressing film and the film during overdrive is not impaired, and the contact property between the contact pin and the object to be measured does not deteriorate. Also, dust generation due to abrasion of the film can be minimized.
【0018】また、フィルム面に摩耗による凹部が形成
されることがないため、押圧用フィルムからの押圧力
は、前記フィルムを介して所定の押圧量だけコンタクト
ピンに作用する。よって、コンタクトピンの測定対象物
に対する押しつけ量が不足することがなく、接触不良の
原因となることもない。また、同様の理由から、各コン
タクトピンの測定対象物に対する接触圧が均一となり、
その結果、繰り返しの使用によるコンタクトピンの摩耗
状態(ピン先の平坦度)も均一化される。Further, since a concave portion due to abrasion is not formed on the film surface, the pressing force from the pressing film acts on the contact pin by a predetermined pressing amount via the film. Therefore, there is no shortage of the amount of pressing of the contact pin against the object to be measured, and there is no possibility of causing poor contact. In addition, for the same reason, the contact pressure of each contact pin on the object to be measured becomes uniform,
As a result, the state of wear of the contact pin (the flatness of the pin tip) due to repeated use is also made uniform.
【0019】また、このプローブ装置では、押圧用フィ
ルムが、前記フィルムを介して前記コンタクトピンを押
圧するときに、前記コンタクトピンと非接触状態である
ように前記樹脂フィルムからの突出量が前記コンタクト
ピンよりも小さく設定されているため、前記押圧用フィ
ルムが前記コンタクトピンを直接、押圧することはな
く、それらの間の前記フィルムが、前記押圧用フィルム
からの押圧力を緩衝する。したがって、繰り返し使用し
ても、前記押圧用フィルムとの摩擦により前記コンタク
トピンが歪んで湾曲すること等がない。Further, in this probe device, when the pressing film presses the contact pin through the film, the amount of protrusion from the resin film is such that the pressing film is not in contact with the contact pin. The pressing film does not directly press the contact pins because it is set to be smaller than that, and the film between them buffers the pressing force from the pressing film. Therefore, even if the contact pin is repeatedly used, the contact pin does not bend and bend due to friction with the pressing film.
【0020】請求項2記載のプローブ装置では、請求項
1記載のプローブ装置において、前記フィルムは、前記
押圧用フィルムが該フィルムを介して前記コンタクトピ
ンを押圧するときに前記押圧用フィルムと接触する接触
部に、摩擦係数を下げる処理が施されている技術が採用
される。In the probe device according to the second aspect, in the probe device according to the first aspect, the film comes into contact with the pressing film when the pressing film presses the contact pin through the film. A technique in which a process of reducing the friction coefficient is applied to the contact portion is adopted.
【0021】このプローブ装置では、前記フィルムの前
記押圧用フィルムとの接触部に、例えば、油脂等の塗布
またはメッキ処理などの、摩擦係数を下げる処理が施さ
れているため、前記押圧用フィルムと前記フィルムとの
摺動が円滑でコンタクトピンと測定対象物とのコンタク
ト性が向上するのは勿論、前記フィルムの摩耗を最小限
に抑えることができ、コンタクトピンの測定対象物に対
する押しつけ量および、コンタクトピンの摩耗度を一定
にすることができる。また、発塵を最小限にすることが
できる。In this probe device, the contact portion of the film with the pressing film is subjected to a process of lowering the coefficient of friction, such as, for example, coating or plating with oil or the like. Not only is the sliding with the film smooth and the contact property between the contact pin and the object to be measured is improved, but also the abrasion of the film can be minimized, the amount of pressing of the contact pin against the object to be measured, and the amount of contact. Pin wear can be kept constant. In addition, dust generation can be minimized.
【0022】請求項3記載のプローブ装置では、請求項
1または2記載のプローブ装置において、前記フィルム
には、金属フィルムが直接張り付けられて設けられてい
る技術が採用される。According to a third aspect of the present invention, in the probe device according to the first or second aspect, a technique is employed in which a metal film is directly attached to the film.
【0023】このプローブ装置では、前記フィルムが、
例えば水分を吸収して伸張し易い樹脂フィルム等であっ
ても、該フィルムには、金属フィルムが直接張り付けら
れて設けられているため、該金属フィルムにより前記フ
ィルムの伸びが抑制される。したがって、フィルムの伸
びによってコンタクトピンのピッチがずれることがな
く、各測定対象物との確実なコンタクトをとることがで
きる。In this probe device, the film is
For example, even if it is a resin film or the like which easily absorbs moisture and stretches, since the metal film is directly attached to the film, the metal film suppresses the elongation of the film. Therefore, the pitch of the contact pins does not shift due to the elongation of the film, and a reliable contact with each measurement object can be obtained.
【0024】さらに、該金属フィルムは、グラウンドと
して用いることができ、それにより、コンタクトプロー
ブの先端近くまでインピーダンスマッチングをとる設計
が可能となり、高周波域でのテストを行う場合にも反射
雑音による悪影響を防ぐことができる。すなわち、テス
ターからの伝送線路の途中で基板配線側とコンタクトピ
ンとの間の特性インピーダンスが合わないと反射雑音が
生じ、その場合、特性インピーダンスの異なる伝送線路
が長ければ長いほど大きな反射雑音が生じるという問題
がある。反射雑音は信号歪となり、高周波になると誤動
作の原因になり易い。本プローブ装置では、前記金属フ
ィルムをグラウンドとして用いることによりコンタクト
ピン先の近くまで基板配線側との特性インピーダンスの
ずれを最小限に抑えることができ、反射雑音による誤動
作を抑えることができる。Further, the metal film can be used as a ground, thereby enabling a design to take impedance matching up to near the tip of the contact probe. Even when a test in a high frequency range is performed, the adverse effect due to reflection noise is reduced. Can be prevented. That is, if the characteristic impedance between the substrate wiring side and the contact pin does not match in the middle of the transmission line from the tester, reflected noise occurs. In that case, the longer the transmission line having a different characteristic impedance is, the larger the reflected noise is. There's a problem. Reflected noise causes signal distortion, and tends to cause malfunction at higher frequencies. In the present probe device, by using the metal film as the ground, it is possible to minimize the deviation of the characteristic impedance from the substrate wiring side to the vicinity of the contact pin tip, and it is possible to suppress malfunction due to reflected noise.
【0025】請求項4記載のプローブ装置では、請求項
3記載のプローブ装置において、前記金属フィルムに
は、第二のフィルムが直接張り付けられて設けられてい
る技術が採用される。According to a fourth aspect of the present invention, in the probe device according to the third aspect, a technique is employed in which a second film is directly attached to the metal film.
【0026】このプローブ装置では、前記金属フィルム
に第二のフィルムが直接張り付けられて設けられている
ため、前記保持部材によるコンタクトプローブの組み込
み時の締付けに対して緩衝材となるという作用効果が得
られる。したがって、組み込み時に配線パターンに与え
るダメージを軽減させることができる。また、金属フィ
ルムと他の回路の端子とのショートを防止することがで
きる。In this probe device, since the second film is directly attached to the metal film, an effect is obtained that it serves as a cushioning material against tightening when the contact probe is assembled by the holding member. Can be Therefore, it is possible to reduce damage to the wiring pattern at the time of assembling. Further, a short circuit between the metal film and a terminal of another circuit can be prevented.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るプローブ装置
の一実施形態を図1から図8を参照しながら説明する。
本実施形態では、前述した従来のプローブ装置100に
おいて、前記強弾性フィルム400の突出量(長さ)を
工夫した点に特徴がある。したがって、前記従来例にお
いて説明した箇所と同様の点については同符号を付し、
その詳細な説明は省略する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the probe device according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
The present embodiment is characterized in that the protruding amount (length) of the ferroelastic film 400 is devised in the conventional probe device 100 described above. Therefore, the same reference numerals are given to the same points as those described in the conventional example,
Detailed description is omitted.
【0028】本実施形態のプローブ装置101では、図
1および図2に示すように、強弾性フィルム(押圧用フ
ィルム)410は、樹脂フィルム201aを介してコン
タクトピン3aを押圧するときに、その先端角部411
と樹脂フィルム201aとが非接触状態であるように樹
脂フィルム201aよりも突出して設けられている。In the probe device 101 of the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the ferroelastic film (pressing film) 410 has its tip when the contact pin 3a is pressed through the resin film 201a. Corner 411
And the resin film 201a is provided so as to protrude from the resin film 201a so as to be in a non-contact state.
【0029】また、強弾性フィルム410は、同様に、
樹脂フィルム201aを介してコンタクトピン3aを押
圧するときに、該コンタクトピン3aと非接触状態であ
るように樹脂フィルム201aからの突出量がコンタク
トピン3aよりも小さく設定されている。The ferroelastic film 410 also has
When the contact pin 3a is pressed via the resin film 201a, the amount of protrusion from the resin film 201a is set smaller than that of the contact pin 3a so that the contact pin 3a is not in contact with the contact pin 3a.
【0030】強弾性フィルム410は、有機材料または
無機材料からなり、有機材料であれば、ポリエチレンテ
レフタレートなどからなり、無機材料であれば、セラミ
ックス、特にアルミナ製フィルムからなることが好まし
い。The ferroelastic film 410 is preferably made of an organic material or an inorganic material. If it is an organic material, it is preferably made of polyethylene terephthalate or the like, and if it is an inorganic material, it is preferably made of a ceramic, especially an alumina film.
【0031】樹脂フィルム201aの強弾性フィルム4
10との接触部201bには、摩擦係数を下げるため
に、油脂が塗布されている。Strong elastic film 4 of resin film 201a
Oil is applied to the contact portion 201b with the oil-in-oil 10 to reduce the friction coefficient.
【0032】コンタクトプローブ200aの基本構成
は、図4に示す通り、ポリイミド樹脂フィルム201,
201aの片面に金属で形成されるパターン配線3を張
り付けた構造となっており、前記樹脂フィルム201,
201aの端部から前記パターン配線3の先端が突出し
てコンタクトピン3aとされている。The basic structure of the contact probe 200a is as shown in FIG.
201a has a structure in which a pattern wiring 3 made of metal is attached to one surface of the resin film 201a.
The end of the pattern wiring 3 protrudes from the end of 201a to form a contact pin 3a.
【0033】次に、図3および図4を参照して、前記コ
ンタクトプローブ200aの作製工程について工程順に
説明する。Next, with reference to FIGS. 3 and 4, the steps of manufacturing the contact probe 200a will be described in the order of steps.
【0034】〔支持金属板およびベースメタル層形成工
程〕まず、図3の(a)に示すように、ステンレス製の
支持金属板(基板層)5の上に、Cu(銅)メッキによ
りベースメタル層6を形成する。このベースメタル層6
は、支持金属板5の上面に均一の厚さで形成する。[Support Metal Plate and Base Metal Layer Forming Step] First, as shown in FIG. 3A, a base metal is formed on a stainless steel support metal plate (substrate layer) 5 by Cu (copper) plating. The layer 6 is formed. This base metal layer 6
Is formed on the upper surface of the supporting metal plate 5 with a uniform thickness.
【0035】〔パターン形成工程〕次に、このベースメ
タル層6の上に、フォトレジスト層(マスク)7を形成
した後、図3の(b)に示すように、写真製版技術によ
り、フォトレジスト層7に所定のパターンのフォトマス
ク8を施して露光し、図3の(c)に示すように、フォ
トレジスト層7を現像して前記パターン配線3となる部
分を除去して残存するフォトレジスト層7に開口部(マ
スクされていない部分)7aを形成する。また、本実施
形態においては、フォトレジスト層7をネガ型フォトレ
ジストによって形成しているが、ポジ型フォトレジスト
を採用して所望の開口部7aを形成しても構わない。ま
た、本実施形態においては、前記フォトレジスト層7
が、「マスク」に相当する。但し、「マスク」とは、本
実施形態のフォトレジスト層7のように、フォトマスク
8を用いた露光・現像工程を経て開口部7aが形成され
るものに限定されるわけではない。例えば、メッキ処理
される箇所に予め孔が形成された(すなわち、予め、図
3(c)の符号7で示す状態に形成されている)フィル
ム等でもよい。このようなフィルム等を「マスク」とし
て用いる場合には、本実施形態におけるパターン形成工
程は不要である。[Pattern Forming Step] Next, a photoresist layer (mask) 7 is formed on the base metal layer 6, and then, as shown in FIG. A photomask 8 having a predetermined pattern is applied to the layer 7 and exposed, and as shown in FIG. 3C, the photoresist layer 7 is developed to remove the portion that will become the pattern wiring 3 and the remaining photoresist is removed. An opening (unmasked portion) 7 a is formed in the layer 7. Further, in the present embodiment, the photoresist layer 7 is formed of a negative photoresist, but a desired opening 7a may be formed by employing a positive photoresist. In the present embodiment, the photoresist layer 7
Correspond to a “mask”. However, the “mask” is not limited to the one in which the openings 7 a are formed through the exposure and development steps using the photomask 8 like the photoresist layer 7 of the present embodiment. For example, a film or the like in which a hole is formed in advance in a portion to be plated (that is, the film is formed in advance in a state indicated by reference numeral 7 in FIG. 3C) may be used. When such a film or the like is used as a “mask”, the pattern forming step in the present embodiment is unnecessary.
【0036】〔電解メッキ工程〕そして、図3の(d)
に示すように、前記開口部7aに前記パターン配線3と
なるNiまたはNi合金層Nをメッキ処理により形成す
る。その後、図3の(e)に示すように、フォトレジス
ト層7を除去する。[Electroplating Step] Then, FIG.
As shown in FIG. 7, a Ni or Ni alloy layer N serving as the pattern wiring 3 is formed in the opening 7a by plating. Thereafter, as shown in FIG. 3E, the photoresist layer 7 is removed.
【0037】〔フィルム被着工程〕次に、図3の(f)
に示すように、前記NiまたはNi合金層Nの上であっ
て、図3に示した前記パターン配線3の先端、すなわ
ち、コンタクトピン3aとなる部分以外に、前記樹脂フ
ィルム201,201aを接着剤2aにより接着する。
この樹脂フィルム201,201aは、ポリイミド樹脂
PIに金属フィルム(銅箔)500が一体に設けられた
二層テープである。このフィルム被着工程の前までに、
二層テープのうちの銅面500に、写真製版技術を用い
て銅エッチングを施して、グラウンド面を形成してお
き、このフィルム被着工程では、二層テープのうちの樹
脂面PIを接着剤2aを介して前記NiまたはNi合金
層Nに被着させる。なお、金属フィルム500は、銅箔
に加えて、Ni、Ni合金等でもよい。 〔分離工程〕そして、図3の(g)に示すように、樹脂
フィルム201,201aとパターン配線3とベースメ
タル層6とからなる部分を、支持金属板5から分離させ
た後、Cuエッチングを経て、樹脂フィルム201,2
01aにパターン配線3のみを接着させた状態とする。[Film Adhering Step] Next, FIG.
As shown in FIG. 3, on the Ni or Ni alloy layer N, except for the tip of the pattern wiring 3 shown in FIG. 2a.
The resin films 201 and 201a are two-layer tapes in which a metal film (copper foil) 500 is integrally provided on a polyimide resin PI. Before this film deposition process,
The copper surface 500 of the two-layer tape is subjected to copper etching using a photoengraving technique to form a ground surface, and in this film attaching step, the resin surface PI of the two-layer tape is bonded with an adhesive. 2a is applied to the Ni or Ni alloy layer N. The metal film 500 may be made of Ni, Ni alloy or the like in addition to the copper foil. [Separation Step] Then, as shown in FIG. 3 (g), after the portion composed of the resin films 201, 201a, the pattern wiring 3 and the base metal layer 6 is separated from the supporting metal plate 5, Cu etching is performed. Through the resin film 201,
It is assumed that only the pattern wiring 3 is adhered to 01a.
【0038】〔金コーティング工程〕次に、露出状態の
パターン配線3に、図3の(h)に示すように、Auメ
ッキを施し、表面にAuメッキ層Aを形成する。このと
き、樹脂フィルム201,201aから突出状態とされ
た前記コンタクトピン3aでは、全周に亙る表面全体に
Au層Aが形成される。[Gold Coating Step] Next, as shown in FIG. 3H, an Au plating is applied to the exposed pattern wiring 3 to form an Au plating layer A on the surface. At this time, the Au layer A is formed on the entire surface of the contact pins 3a protruding from the resin films 201, 201a over the entire circumference.
【0039】〔第2のフィルム被着工程〕図4に示すよ
うに、前記金属フィルム500の上面に、第二の樹脂フ
ィルム202を接着剤で直接張り付ける。[Second Film Adhering Step] As shown in FIG. 4, a second resin film 202 is directly adhered to the upper surface of the metal film 500 with an adhesive.
【0040】〔油脂塗布工程〕図2に示すように、樹脂
フィルム201aの上面において、オーバードライブ時
に、強弾性フィルム410と接触する部分201bに、
油脂を塗布する。[Oil coating step] As shown in FIG. 2, on the upper surface of the resin film 201a, a portion 201b that comes into contact with the ferroelastic film 410 during overdrive is
Apply grease.
【0041】以上の工程により、図4および図5に示す
ような、樹脂フィルム201,201aにパターン配線
3を接着させたコンタクトプローブ200aが作製され
る。Through the above steps, as shown in FIGS. 4 and 5, a contact probe 200a in which the pattern wiring 3 is bonded to the resin films 201, 201a is manufactured.
【0042】本実施形態に係るプローブ装置101は、
前記従来例と同様に、コンタクトプローブ挟持体(保持
部材)110と、このコンタクトプローブ挟持体110
を額縁状フレーム120に固定してなる構造を有してい
る。The probe device 101 according to the present embodiment
As in the conventional example, the contact probe holding body (holding member) 110 and the contact probe holding body 110
Is fixed to the frame-like frame 120.
【0043】コンタクトプローブ挟持体110は、図5
に示すように、トップクランプ111とボトムクランプ
115とを備えている。トップクランプ111は、本体
部111aと、この本体部111aに対してボルト11
1cで固定される先端部111bとからなっている。先
端部111bには、コンタクトピン3aの先端側を押さ
える第一突起112が形成され、本体部111aには、
ドライバーICであるTABIC(回路)300側の端
子301を押さえる第二突起113およびリードを押さ
える第三突起114が形成されている。ボトムクランプ
115は、傾斜板116、取付板117および底板11
8から構成されている。The contact probe holding body 110 is shown in FIG.
As shown in FIG. 2, a top clamp 111 and a bottom clamp 115 are provided. The top clamp 111 includes a main body 111a and a bolt 11 with respect to the main body 111a.
1c. A first projection 112 for pressing the distal end of the contact pin 3a is formed on the distal end 111b, and the main body 111a has
A second protrusion 113 for pressing the terminal 301 on the TABIC (circuit) 300 side as a driver IC and a third protrusion 114 for pressing the lead are formed. The bottom clamp 115 includes an inclined plate 116, a mounting plate 117 and a bottom plate 11.
8.
【0044】次に、図1および図5から図7を参照し
て、コンタクトプローブ挟持体110の組立方法につい
て説明する。Next, a method of assembling the contact probe holding body 110 will be described with reference to FIG. 1 and FIGS.
【0045】まず、コンタクトプローブ200aを、前
記第二の樹脂フィルム202面が上方を向くように傾斜
板116の上に載置する。次に、TABIC300の端
子301を、コンタクトプローブ200aの樹脂フィル
ム201a,201間のパターン配線3に接触するよう
に載置する(図1および図2ではTABIC300は不
図示)。そして、本体部111aの第二突起113で両
者301,3を押圧するとともに、第二突起113の前
面113aに前記強弾性フィルム410の後端面を当接
させて位置決めする。First, the contact probe 200a is placed on the inclined plate 116 such that the surface of the second resin film 202 faces upward. Next, the terminal 301 of the TABIC 300 is placed so as to be in contact with the pattern wiring 3 between the resin films 201a, 201 of the contact probe 200a (the TABIC 300 is not shown in FIGS. 1 and 2). The two protrusions 301 and 3 are pressed by the second protrusion 113 of the main body 111a, and the rear end surface of the strong elastic film 410 is brought into contact with the front surface 113a of the second protrusion 113 for positioning.
【0046】次いで、先端部111bの第一突起112
を強弾性フィルム410および先端側の第2の樹脂フィ
ルム202の上に乗せるとともに、先端部111bを本
体部111aに対してボルト111cで締付け固定す
る。さらに、トップクランプ111とボトムクランプ1
15とをボルト130により締め付けて、コンタクトプ
ローブ挟持体110が組み立てられる。Next, the first protrusion 112 of the tip 111b is formed.
Is placed on the ferroelastic film 410 and the second resin film 202 on the distal end side, and the distal end portion 111b is fastened and fixed to the main body portion 111a with a bolt 111c. Further, the top clamp 111 and the bottom clamp 1
15 are tightened by bolts 130, and the contact probe holding body 110 is assembled.
【0047】プローブ装置101を用いたLCD90の
電気的テストは、コンタクトピン3aの先端をLCD9
0の端子(図示せず)に接触させた状態で、TABIC
300を駆動させて種々のテスト用信号を送り、該信号
に反応してコンタクトピン3aから得られた信号をTA
BIC300を通して外部に取り出すことにより行われ
る。In the electrical test of the LCD 90 using the probe device 101, the tip of the contact pin 3a is
0 terminal (not shown), TABIC
300 is driven to send various test signals, and the signal obtained from the contact pin 3a is
This is performed by taking out to the outside through the BIC 300.
【0048】このプローブ装置101では、強弾性フィ
ルム410は、樹脂フィルム201aを介してコンタク
トピン3aを押圧するときに、その先端角部411と樹
脂フィルム201aとが非接触状態であるように樹脂フ
ィルム201aよりも突出して設けられているため、強
弾性フィルム410は、その先端角部411以外の下面
410aでのみ樹脂フィルム201aと摺接する。した
がって、先端角部411で接触する場合に比べて、それ
以外の下面410aで接触する方が、樹脂フィルム20
1aに対する接触圧が小さくなり、該樹脂フィルム20
1aの摩耗が最小限に抑えられる。したがって、オーバ
ードライブ時における強弾性フィルム410と樹脂フィ
ルム201aとの摺動性が損なわれることがなく、コン
タクトピン3aとLCD90の端子とのコンタクト性が
悪化することがない。また、樹脂フィルム201aの摩
耗による発塵も最小限に抑えられる。In the probe device 101, the ferroelastic film 410 is formed so that the tip corner 411 and the resin film 201a are not in contact with each other when the contact pin 3a is pressed through the resin film 201a. Since the ferroelastic film 410 is provided so as to protrude from the resin film 201a, the ferroelastic film 410 comes into sliding contact with the resin film 201a only at the lower surface 410a other than the tip corner 411. Therefore, compared with the case of contact at the tip corner 411, the contact with the other lower surface 410 a is more effective for the resin film 20.
1a is reduced and the resin film 20
Wear of 1a is minimized. Therefore, the slidability between the ferroelastic film 410 and the resin film 201a during overdrive is not impaired, and the contact property between the contact pins 3a and the terminals of the LCD 90 does not deteriorate. Further, dust generation due to abrasion of the resin film 201a is also minimized.
【0049】また、樹脂フィルム201a面に摩耗によ
る凹部が形成されることがないため、強弾性フィルム4
10からの押圧力は、前記樹脂フィルム201aを介し
て所定の押圧量だけコンタクトピン3aに作用する。よ
って、コンタクトピン3aのLCD90の端子に対する
押しつけ量が不足することがなく、接触不良の原因とな
ることもない。また、同様の理由から、各コンタクトピ
ン3aの前記端子に対する接触圧が均一となり、その結
果、繰り返しの使用によるコンタクトピン3aの摩耗状
態(ピン先の平坦度)も均一化される。Further, since no recess is formed on the surface of the resin film 201a due to abrasion, the strong elastic film 4
The pressing force from 10 acts on the contact pin 3a by a predetermined pressing amount via the resin film 201a. Therefore, there is no shortage of the pressing amount of the contact pins 3a against the terminals of the LCD 90, and there is no possibility of causing a contact failure. For the same reason, the contact pressure of each contact pin 3a against the terminal becomes uniform, and as a result, the wear state (flatness of the pin tip) of the contact pin 3a due to repeated use is also uniformed.
【0050】さらに、このプローブ装置101では、強
弾性フィルム410が、樹脂フィルム201aを介して
コンタクトピン3aを押圧するときに、コンタクトピン
3aと非接触状態であるように樹脂フィルム201aか
らの突出量がコンタクトピン3aよりも小さく設定され
ているため、強弾性フィルム410がコンタクトピン3
aを直接、押圧することはなく、それらの間の樹脂フィ
ルム201aが、強弾性フィルム410からの押圧力を
緩衝する。したがって、繰り返し使用しても、強弾性フ
ィルム410との摩擦によりコンタクトピン3aが歪ん
で湾曲すること等がない。Further, in the probe device 101, when the ferroelastic film 410 presses the contact pins 3a via the resin film 201a, the protruding amount from the resin film 201a is set so as not to be in contact with the contact pins 3a. Are set smaller than the contact pins 3a, the ferroelastic film 410
a is not directly pressed, and the resin film 201 a between them buffers the pressing force from the ferroelastic film 410. Therefore, even if the contact pin 3a is repeatedly used, the contact pin 3a is not distorted and bent due to friction with the ferroelastic film 410.
【0051】また、このプローブ装置101では、樹脂
フィルム201aの強弾性フィルム410との接触部2
01bに、油脂が塗布されて摩擦係数が下げられている
ため、強弾性フィルム410と樹脂フィルム201aと
の摺動が円滑でコンタクトピン3aとLCD90の端子
とのコンタクト性が向上するのは勿論、樹脂フィルム2
01aの摩耗を最小限に抑えることができ、コンタクト
ピン3aの前記端子に対する押しつけ量および、コンタ
クトピン3aの摩耗度を一定にすることができる。ま
た、樹脂フィルム201aの発塵を最小限にすることが
できる。In the probe device 101, the contact portion 2 of the resin film 201a with the ferroelastic film 410 is formed.
Since oil and fat are applied to 01b to reduce the coefficient of friction, the sliding between the ferroelastic film 410 and the resin film 201a is smooth, so that the contact between the contact pins 3a and the terminals of the LCD 90 is improved. Resin film 2
01a can be minimized, and the amount of contact pin 3a pressed against the terminal and the degree of wear of contact pin 3a can be made constant. Further, dust generation of the resin film 201a can be minimized.
【0052】さらに、図8に示すように、前記樹脂フィ
ルム201a,201は、ポリイミド樹脂であり水分を
吸収して伸張し易いが、金属フィルム500が直接張り
付けられて設けられているため、該金属フィルム500
により樹脂フィルム201a,201の伸びが抑制され
る。したがって、樹脂フィルム201a,201の伸び
によってコンタクトピン3aのピッチtがずれることが
なく、各端子との確実なコンタクトをとることができ
る。Further, as shown in FIG. 8, the resin films 201a and 201 are polyimide resins and easily expand by absorbing moisture. However, since the metal films 500 are provided directly on the resin films 201a and 201, Film 500
Thereby, the elongation of the resin films 201a and 201 is suppressed. Therefore, the pitch t of the contact pins 3a does not shift due to the extension of the resin films 201a, 201, and reliable contact with each terminal can be obtained.
【0053】さらに、金属フィルム500は、グラウン
ドとして用いることができ、それにより、コンタクトプ
ローブ200aの先端近くまでインピーダンスマッチン
グをとる設計が可能となり、高周波域でのテストを行う
場合にも反射雑音による悪影響を防ぐことができる。す
なわち、テスターからの伝送線路の途中で基板配線側と
コンタクトピン3aとの間の特性インピーダンスが合わ
ないと反射雑音が生じ、その場合、特性インピーダンス
の異なる伝送線路が長ければ長いほど大きな反射雑音が
生じるという問題がある。反射雑音は信号歪となり、高
周波になると誤動作の原因になり易い。プローブ装置1
01では、金属フィルム500をグラウンドとして用い
ることによりコンタクトピン3a先の近くまで基板配線
側との特性インピーダンスのずれを最小限に抑えること
ができ、反射雑音による誤動作を抑えることができる。Further, the metal film 500 can be used as a ground, which makes it possible to design impedance matching up to the vicinity of the tip of the contact probe 200a. Even when a test in a high frequency range is performed, adverse effects due to reflected noise are caused. Can be prevented. That is, if the characteristic impedance between the substrate wiring side and the contact pin 3a does not match in the middle of the transmission line from the tester, reflected noise occurs. In this case, the longer the transmission line having a different characteristic impedance is, the larger the reflected noise is. There is a problem that arises. Reflected noise causes signal distortion, and tends to cause malfunction at higher frequencies. Probe device 1
In No. 01, by using the metal film 500 as the ground, it is possible to minimize the deviation of the characteristic impedance from the substrate wiring side to the vicinity of the contact pin 3a, and to suppress the malfunction due to the reflection noise.
【0054】このプローブ装置101では、金属フィル
ム500に第二のフィルム202が直接張り付けられて
設けられているため、コンタクトプローブ挟持体110
によるコンタクトプローブ200aの組み込み時の締付
けに対して緩衝材となるという作用効果が得られる。し
たがって、組み込み時に配線パターン3に与えるダメー
ジを軽減させることができる。また、TABIC300
の端子301とコンタクトピン3aとの接続に際して
は、樹脂フィルム201の上の金属フィルム500に第
二の樹脂フィルム202が設けられていることで、該金
属フィルム500とTABIC300の端子301との
ショートを防止することができる。また、第二の樹脂フ
ィルム202を設けることで、金属フィルム500の表
面が覆われることになり、大気中での酸化の進行を有効
に抑えることができる。In the probe device 101, since the second film 202 is directly attached to the metal film 500, the contact probe holding member 110 is provided.
The function and the effect of being a cushioning material against the tightening when the contact probe 200a is assembled due to the above can be obtained. Therefore, damage to the wiring pattern 3 at the time of assembling can be reduced. Also, TABIC300
When the terminal 301 and the contact pin 3a are connected to each other, a short circuit between the metal film 500 and the terminal 301 of the TABIC 300 is prevented by providing the second resin film 202 on the metal film 500 on the resin film 201. Can be prevented. Further, by providing the second resin film 202, the surface of the metal film 500 is covered, and the progress of oxidation in the atmosphere can be effectively suppressed.
【0055】なお、本実施形態は、LCD用のプローブ
装置に適用したが、本発明において、測定対象物はLC
Dに限定されるわけではなく、例えば半導体チップであ
ってもよい。この場合には、コンタクトプローブを半導
体チップ測定用に切り出し、また、半導体チップ測定用
の保持部材(メカニカルパーツ)を用いればよい。ま
た、本実施形態は、いわゆるプローブカード101に適
用したが、本発明に係るプローブ装置は、他の測定用治
具等であっても構わない。例えば、ICチップを内側に
保持して保護し、ICチップのバーンインテスト用装置
等に搭載されるICチップテスト用ソケット等に適用し
てもよい。Although the present embodiment is applied to a probe device for an LCD, in the present invention, the object to be measured is an LC probe.
It is not limited to D, but may be a semiconductor chip, for example. In this case, the contact probe may be cut out for measuring the semiconductor chip, and a holding member (mechanical part) for measuring the semiconductor chip may be used. Further, the present embodiment is applied to a so-called probe card 101, but the probe device according to the present invention may be another measuring jig or the like. For example, the present invention may be applied to an IC chip test socket or the like mounted on an IC chip burn-in test device or the like for holding and protecting the IC chip inside.
【0056】[0056]
【発明の効果】請求項1記載のプローブ装置によれば、
前記押圧用フィルムは、前記フィルムを介して前記コン
タクトピンを押圧するときに、その先端角部と前記フィ
ルムとが非接触状態であるように前記フィルムよりも突
出して設けられ、かつ、前記押圧用フィルムは、前記コ
ンタクトピンと非接触状態であるように前記フィルムか
らの突出量が前記コンタクトピンよりも小さく設定され
ているため、前記押圧用フィルムは、その先端角部以外
の下面でのみフィルムと摺接し、その分、押圧用フィル
ムの前記フィルムに対する接触圧が小さくなり、該フィ
ルムの摩耗が最小限に抑えられる。したがって、オーバ
ードライブ時における前記押圧用フィルムと前記フィル
ムとの摺動性が損なわれることがなく、コンタクトピン
と測定対象物とのコンタクト性が悪化することがない。
また、フィルムの摩耗による発塵も最小限に抑えられ
る。According to the probe device of the first aspect,
The pressing film, when pressing the contact pins through the film, is provided so as to protrude from the film so that the tip corner and the film are in a non-contact state, and the pressing film The projecting amount of the film from the film is set smaller than that of the contact pins so that the film is not in contact with the contact pins. Therefore, the pressing film slides on the film only on the lower surface other than the corners of the tip. As a result, the contact pressure of the pressing film against the film is reduced correspondingly, and wear of the film is minimized. Therefore, the sliding property between the pressing film and the film during overdrive is not impaired, and the contact property between the contact pin and the object to be measured does not deteriorate.
Also, dust generation due to abrasion of the film can be minimized.
【0057】また、フィルム面に摩耗による凹部が形成
されることがないため、押圧用フィルムからの押圧力
は、前記フィルムを介して所定の押圧量だけコンタクト
ピンに作用する。よって、コンタクトピンの測定対象物
に対する押しつけ量が不足することがなく、接触不良の
原因となることもない。また、同様の理由から、各コン
タクトピンの測定対象物に対する接触圧が均一となり、
その結果、繰り返しの使用によるコンタクトピンの摩耗
状態(ピン先の平坦度)も均一化される。Further, since a concave portion due to abrasion is not formed on the film surface, the pressing force from the pressing film acts on the contact pin by a predetermined pressing amount via the film. Therefore, there is no shortage of the amount of pressing of the contact pin against the object to be measured, and there is no possibility of causing poor contact. In addition, for the same reason, the contact pressure of each contact pin on the object to be measured becomes uniform,
As a result, the state of wear of the contact pin (the flatness of the pin tip) due to repeated use is also made uniform.
【0058】また、このプローブ装置によれば、押圧用
フィルムが、前記フィルムを介して前記コンタクトピン
を押圧するときに、前記コンタクトピンと非接触状態で
あるように前記樹脂フィルムからの突出量が前記コンタ
クトピンよりも小さく設定されているため、前記押圧用
フィルムが前記コンタクトピンを直接、押圧することは
なく、それらの間の前記フィルムが、前記押圧用フィル
ムからの押圧力を緩衝する。したがって、繰り返し使用
しても、前記押圧用フィルムとの摩擦により前記コンタ
クトピンが歪んで湾曲すること等がない。Further, according to this probe device, when the pressing film presses the contact pin through the film, the projecting amount from the resin film is set so as to be in a non-contact state with the contact pin. Since it is set smaller than the contact pins, the pressing film does not directly press the contact pins, and the film between them buffers the pressing force from the pressing film. Therefore, even if the contact pin is repeatedly used, the contact pin does not bend and bend due to friction with the pressing film.
【0059】請求項2記載のプローブ装置によれば、請
求項1記載のプローブ装置において、前記フィルムは、
前記押圧用フィルムが該フィルムを介して前記コンタク
トピンを押圧するときに前記押圧用フィルムと接触する
接触部に、摩擦係数を下げる処理が施されているため、
前記押圧用フィルムと前記フィルムとの摺動が円滑でコ
ンタクトピンと測定対象物とのコンタクト性が向上する
のは勿論、前記フィルムの摩耗を最小限に抑えることが
でき、コンタクトピンの測定対象物に対する押しつけ量
および、コンタクトピンの摩耗度を一定にすることがで
きる。また、発塵を最小限にすることができる。According to the probe device of the second aspect, in the probe device of the first aspect, the film comprises:
Since the contact portion that comes into contact with the pressing film when the pressing film presses the contact pin through the film has been subjected to a process of reducing the coefficient of friction,
Not only is the sliding between the pressing film and the film smooth and the contact property between the contact pin and the object to be measured is improved, but also the abrasion of the film can be minimized, and the contact pin with respect to the object to be measured. The pressing amount and the degree of wear of the contact pin can be made constant. In addition, dust generation can be minimized.
【0060】請求項3記載のプローブ装置によれば、請
求項1または2記載のプローブ装置において、前記フィ
ルムには、金属フィルムが直接張り付けられて設けられ
ているので、前記フィルムが、例えば水分を吸収して伸
張し易い樹脂フィルム等であっても、該金属フィルムに
より前記フィルムの伸びが抑制され、したがって、フィ
ルムの伸びによってコンタクトピンのピッチがずれるこ
とがなく、各測定対象物との確実なコンタクトをとるこ
とができる。According to the probe device of the third aspect, in the probe device of the first or second aspect, the film is provided with a metal film directly adhered thereto. Even in the case of a resin film or the like that is easily absorbed and stretched, the elongation of the film is suppressed by the metal film, so that the pitch of the contact pins does not shift due to the elongation of the film, and a reliable Contact can be made.
【0061】さらに、該金属フィルムは、グラウンドと
して用いることができ、それにより、コンタクトプロー
ブの先端近くまでインピーダンスマッチングをとる設計
が可能となり、高周波域でのテストを行う場合にも反射
雑音による悪影響を防ぐことができる。Further, the metal film can be used as a ground, thereby making it possible to design the impedance matching up to the vicinity of the tip of the contact probe, and to reduce the adverse effect of reflected noise even when performing a test in a high frequency range. Can be prevented.
【0062】請求項4記載のプローブ装置によれば、請
求項3記載のプローブ装置において、前記金属フィルム
には、第二のフィルムが直接張り付けられて設けられて
いる技術が採用されるため、前記保持部材によるコンタ
クトプローブの組み込み時の締付けに対して緩衝材とな
るという作用効果が得られる。したがって、組み込み時
に配線パターンに与えるダメージを軽減させることがで
きる。また、金属フィルムと他の回路の端子とのショー
トを防止することができる。According to the probe device of the fourth aspect, in the probe device of the third aspect, a technique is employed in which a second film is directly attached to the metal film. The effect of being a buffer material against the tightening when the contact probe is assembled by the holding member is obtained. Therefore, it is possible to reduce damage to the wiring pattern at the time of assembling. Further, a short circuit between the metal film and a terminal of another circuit can be prevented.
【図1】 本発明に係るプローブ装置の一実施形態にお
ける要部を示す側面図である。FIG. 1 is a side view showing a main part of an embodiment of a probe device according to the present invention.
【図2】 同装置の使用状態を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing a use state of the device.
【図3】 同装置を構成するコンタクトプローブの製造
方法を工程順に示す要部断面図である。FIG. 3 is a fragmentary cross-sectional view showing a method of manufacturing a contact probe constituting the same device in order of steps.
【図4】 同コンタクトプローブの側断面図である。FIG. 4 is a side sectional view of the contact probe.
【図5】 同プローブ装置の要部を示す分解斜視図であ
る。FIG. 5 is an exploded perspective view showing a main part of the probe device.
【図6】 同断面図である。FIG. 6 is a sectional view of the same.
【図7】 同斜視図である。FIG. 7 is a perspective view of the same.
【図8】 同コンタクトプローブの金属フィルムを説明
するための正面図である。FIG. 8 is a front view for explaining a metal film of the contact probe.
【図9】 一般のプローブ装置におけるコンタクトプロ
ーブを示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a contact probe in a general probe device.
【図10】 図9のA−A線断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along line AA of FIG. 9;
【図11】 同装置の使用状態を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing a use state of the device.
【図12】 同装置に関してコンタクトプローブの従来
の欠点を示す側面図である。FIG. 12 is a side view showing a conventional defect of a contact probe in the device.
【図13】 同装置の従来の欠点を示す側面図である。FIG. 13 is a side view showing a conventional defect of the device.
【図14】 同欠点を解決する手段を採用した同装置を
示す側面図である。FIG. 14 is a side view showing the same device adopting a means for solving the same disadvantage.
【図15】 同装置の別の欠点を解決する手段を採用し
た同装置を示す側面図である。FIG. 15 is a side view showing the same device employing a means for solving another disadvantage of the same device.
【図16】 同装置のさらに別の欠点を誇張して示す拡
大側面図である。FIG. 16 is an enlarged side view exaggerating yet another drawback of the device.
3 パターン配線 3a コンタクトピン 90 測定対象物(LCD) 101 プローブ装置 110 保持部材(コンタクトプローブ挟持体) 201a 樹脂フィルム 201b 接触部 202 第二のフィルム 300 回路 301 端子 410 強弾性フィルム 411 先端角部 500 金属フィルム Reference Signs List 3 pattern wiring 3a contact pin 90 object to be measured (LCD) 101 probe device 110 holding member (contact probe holding body) 201a resin film 201b contact portion 202 second film 300 circuit 301 terminal 410 strong elastic film 411 tip corner portion 500 metal the film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 秀昭 兵庫県三田市テクノパーク十二番の六 三 菱マテリアル株式会社三田工場内 (72)発明者 立川 宣芳 兵庫県三田市テクノパーク十二番の六 三 菱マテリアル株式会社三田工場内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideaki Yoshida, 12th Techno Park, Mita City, Hyogo Sanritsu Materials Co., Ltd.Mita Plant (72) Inventor Nobuyoshi Tachikawa, 12th Techno Park, Mita City, Hyogo Prefecture Noroku Sanritsu Material Co., Ltd. Mita Plant
Claims (4)
(201a)上に形成されこれらのパターン配線(3)
の各先端が前記フィルム(201a)から突出状態に配
されてコンタクトピン(3a)とされるコンタクトプロ
ーブ(200a)を、前記パターン配線(3)の各基端
に接続される端子(301)を有する回路(300)に
接続してなるプローブ装置(101)において、 このプローブ装置(101)は、前記フィルム(201
a)上に配されて前記コンタクトピン(3a)が測定対
象物(90)に加圧された状態で接触するときに前記フ
ィルム(201a)を介して該コンタクトピン(3a)
を測定対象物(90)に向けて押圧する押圧用フィルム
(410)と、 この押圧用フィルム(410)と前記コンタクトプロー
ブ(200a)とを保持する保持部材(110)とを備
え、 前記押圧用フィルム(410)は、前記フィルム(20
1a)を介して前記コンタクトピン(3a)を押圧する
ときに、その先端角部(411)と前記フィルム(20
1a)とが非接触状態であるように前記フィルム(20
1a)よりも突出して設けられ、かつ、前記押圧用フィ
ルム(410)は、前記コンタクトピン(3a)と非接
触状態であるように前記フィルム(201a)からの突
出量が前記コンタクトピン(3a)よりも小さく設定さ
れていることを特徴とするプローブ装置。1. A plurality of pattern wirings (3) are formed on a film (201a) and these pattern wirings (3) are formed.
A contact probe (200a) having a distal end protruding from the film (201a) and serving as a contact pin (3a) is connected to a terminal (301) connected to each base end of the pattern wiring (3). A probe device (101) connected to a circuit (300) having the film (201).
a) the contact pins (3a) disposed on the contact pins (3a) via the film (201a) when the contact pins (3a) come into contact with the object to be measured (90) in a pressurized state;
And a holding member (110) for holding the pressing film (410) and the contact probe (200a). The film (410) is the film (20).
When the contact pin (3a) is pressed through 1a), the tip corner (411) and the film (20) are pressed.
1a) in a non-contact state.
1a), and the amount of protrusion of the pressing film (410) from the film (201a) is such that the pressing film (410) is out of contact with the contact pin (3a). A probe device characterized in that the probe device is set smaller than the probe device.
において、 前記フィルム(201a)は、前記押圧用フィルム(4
10)が該フィルム(201a)を介して前記コンタク
トピン(3a)を押圧するときに前記押圧用フィルム
(410)と接触する接触部(201b)に、摩擦係数
を下げる処理が施されていることを特徴とするプローブ
装置。2. The probe device (101) according to claim 1, wherein:
In the above-mentioned (201a), the film for press (4)
10) The contact portion (201b) that comes into contact with the pressing film (410) when the contact pin (3a) is pressed via the film (201a) is subjected to a process of reducing the coefficient of friction. A probe device characterized by the above-mentioned.
(101)において、 前記フィルム(201a)には、金属フィルム(50
0)が直接張り付けられて設けられていることを特徴と
するプローブ装置。3. The probe device (101) according to claim 1, wherein the film (201a) includes a metal film (50).
0) is directly attached to the probe device.
において、 前記金属フィルム(500)には、第二のフィルム(2
02)が直接張り付けられて設けられていることを特徴
とするプローブ装置。4. The probe device (101) according to claim 3, wherein
In the metal film (500), a second film (2
02) is directly attached.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4442697A JPH10239352A (en) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | Probe apparatus |
TW086108124A TW364060B (en) | 1996-06-28 | 1997-06-12 | Contact probe for liquid crystal display test and liquid crystal display test device having the same |
US08/880,524 US20010040451A1 (en) | 1996-06-28 | 1997-06-23 | Contact probe for testing liquid crystal display and liquid crystal display testing device having thereof |
KR1019970028335A KR980003729A (en) | 1996-06-28 | 1997-06-27 | Contact probe for liquid crystal display test and liquid crystal display test apparatus provided with this |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4442697A JPH10239352A (en) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | Probe apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10239352A true JPH10239352A (en) | 1998-09-11 |
Family
ID=12691174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4442697A Pending JPH10239352A (en) | 1996-06-28 | 1997-02-27 | Probe apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10239352A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000079289A1 (en) * | 1999-06-18 | 2000-12-28 | Nhk Spring Co., Ltd. | Wiring substrate for conductive contact unit |
KR101063187B1 (en) | 2010-01-27 | 2011-09-07 | 주식회사 코디에스 | Film Type Probe Unit |
KR101077277B1 (en) | 2009-11-04 | 2011-10-27 | (주)이노웍스 | Probe apparatus used for testing lighting of a display panel |
KR102002256B1 (en) * | 2018-06-12 | 2019-10-01 | 고기돈 | Film type probe card for RF chip test |
-
1997
- 1997-02-27 JP JP4442697A patent/JPH10239352A/en active Pending
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