JPH10235554A - 研磨装置のヘッド - Google Patents

研磨装置のヘッド

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JPH10235554A
JPH10235554A JP5840497A JP5840497A JPH10235554A JP H10235554 A JPH10235554 A JP H10235554A JP 5840497 A JP5840497 A JP 5840497A JP 5840497 A JP5840497 A JP 5840497A JP H10235554 A JPH10235554 A JP H10235554A
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JP
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ring member
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outer peripheral
polishing
work
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JP5840497A
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Ken Togashi
謙 富樫
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SpeedFam Co Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 研磨作業時の研磨装置のヘッドのリテーナリ
ングの摩耗を防止することにより、長期に亘つてワーク
に対する所期の研磨精度を維持する。 【解決手段】 ヘッド4は、ワーク100を下定盤1側
に押圧するためのプレッシャプレート45と、プレッシ
ャプレート45の外周部に取り付けられたチャックホル
ダ44と、プレッシャプレート45の外周側面とチャッ
クホルダ44とに狭持され、下面がプレッシャプレ一ト
45の表面よりも下定盤1側に所定量だけ突出してワー
ク100を保持するリテーナリング46とを具備してい
る。そして、チャックホルダ44とリテーナリング46
の少なくとも一方が、研磨パッドlaよりも硬質なセラ
ミック材料で形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ等
のワークの表面を平坦に研磨するための研磨装置、特
に、長期に亘ってワーク表面を精密に研磨加工しうる耐
久性に優れた高精度の研磨用のヘッドに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】このような研磨装置の一例として、半導
体ウエハ等のワークの一面を研磨する片面ポリッシング
装置が知られている。このような片面ポリッシング装置
は、ヘッドで半導体ウエハ等のワークを保持し、このワ
ークの下面を下定盤表面の研磨パッドに圧接させて、ワ
ークと下定盤とを相対的に回転させることにより、ワー
ク表面を研磨する構造となっている。そして、このよう
な片面ポリッシング装置のヘッドでは、研磨時のワーク
の横ずれを防止すると共にワークの研磨量を正確に規制
するため、プレッシャプレートの外周面に、ワーク外周
縁部に当接してその移動を規制するリテーナリングを設
け、このリテーナリングを、その外側に設けたチャック
ホルダによりヘッドに固定保持するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の技術では、次のような問題がある。チャックホ
ルダやリテーナリングが共に、比較的柔らかなデルリン
(ポリアセタール)等の軟質材で形成されていたため、
研磨加工中におけるワークの研磨パッドへの沈み込みよ
り、ワークの外周に配置されたチャックホルダやリテー
ナリングが研磨パッドに接触して摩耗してしまう。この
結果、リテーナリングの突出量が変化してしまい、ワー
クの研磨量が変化して研磨精度が低下するという問題点
があった。また、リテーナリングの摩耗によって、リテ
ーナリングで保持されていたワークが横ずれしたり外れ
てしまい、ワークを所定位置にしっかり保持することが
できなくなり、ワークを研磨することができなくなると
いう問題点もあった。特に、上記のような問題は、研磨
パッドがSUBA−600等の柔らかい材質のパッドで
ある場合に顕著に現れる。
【0004】この発明は上述した課題を解決するために
なされたもので、保持リング部材(リテーナリング)の
摩耗を防止することにより、長期に亘って所期の研磨精
度を維持しうる研磨装置のヘッドを提供することを目的
とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明は、ワークを下定盤側に押圧するた
めの押圧部材と、押圧部材の外周部に取り付けられた外
周リング部材と、押圧部材と外周リング部材とに狭持さ
れ、下面が押圧部材の下面よりも下定盤側に所定量だけ
突出してワークを保持する保持リング部材とを具備する
研磨装置のへッドにおいて、外周リング部材と保持リン
グ部材との少なくとも一方を、下定盤表面部よりも硬質
の材料で形成した構成としてある。かかる構成により、
研磨作業中に、少なくとも外周リング部材と保持リング
部材とのうちの硬質材料で形成された方が下定盤表面に
接触して、他方の摩耗を防止するので、保持リング部材
の突出量の摩耗による減少を極力防止して、ワークの研
磨精度の低下を回避する。
【0006】また、上記研磨装置のヘッドにおいて、外
周リング部材を、下定盤表面部よりも硬質の材料で形成
し、外周リング部材の下面と保持リング部材の下面とを
面一に配置した構成としてある。かかる構成により、外
周リング部材及び保持リング部材の上面が下定盤に接触
した場合に、硬質の材料で形成された外周リング部材が
保持リング部材の摩耗を防止するように働き、ワークの
研磨精度の低下を回避する。
【0007】さらに、上記研磨装置のヘッドにおいて、
保持リング部材を、下定盤表面よりも硬質の材料で形成
し、保持リング部材の下面を、外周リング部材の下面と
面一あるいはそれより下定盤側に突出するように配置し
た構成としてある。かかる構成により、硬質の材料で形
成された保持リング部材自体の摩耗が抑制され、ワーク
の研磨精度の低下を回避する。
【0008】また、上記研磨装置のヘッドにおいて、硬
質の材料は、セラミックスである構成とした。
【0009】さらに、請求項5の発明では、ワークを下
定盤側に押圧するための押圧部材と、押圧部材の外周部
に取り付けられた外周リング部材と、押圧部材と外周リ
ング部材とに狭持され、下面が押圧部材の下面よりも下
定盤側に所定量だけ突出してワークを保持する保持リン
グ部材とを具備する研磨装置のヘッドにおいて、外周リ
ング部材と保持リング部材との少なくとも一方の下面
に、下定盤表面部よりも硬質の材料で形成される硬質部
分を設け、硬質部分の下面を、押圧部材の下面よりも下
定盤側に所定量だけ突出させた構成としてある。かかる
構成により、研磨作業中に、外周リング部材と保持リン
グ部材との少なくとも一方の下面に設けられた硬質部分
が下定盤表面部に接触して、保持リング部材の摩耗を防
止するので、この保持リング部材の突出量の摩耗による
減少を極力防止して、ワークの研磨精度の低下を回避す
る。
【0010】また、上記研磨装置のヘッドにおいて、硬
質部分を、外周リング部材と保持リング部材との少なく
とも一方の下面に埋設された複数の耐摩耗片により構成
し、全ての耐摩耗片の下面を、面一に配置した構成とし
てある。また、上記研磨装置のヘッドにおいて、硬質部
分を、外周リング部材と保持リング部材との少なくとも
一方の下面に形成された耐摩耗層により構成した構成と
してある。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。 (第1の実施形態)図1は、この発明の第1の実施形態
に適用される研磨装置の一例としての片面ポリッシング
装置を一部破断して示す正面図である。この片面ポリッ
シング装置は、図1に示すように、下定盤1と、昇降機
2と、モータ3と、昇降機2の下端部に取り付けられ、
昇降機2とモータ3との駆動によって、ワークとしての
ウエハ100を回転させながら下定盤1に押圧するヘッ
ド4とを具備している。なお、下定盤1にはその表面部
を形成する研磨パッドlaが設けられている。
【0012】図2は、昇降機2及びモータ3による回転
機構を示す断面図である。昇降機2は、シリンダ20
と、シリンダ20を上下に貫通した筒状のピストンロッ
ド21と、ピストンロッド21の外側に固着され、且つ
シリンダ20内部に気密に嵌められたピストン22とか
ら構成され、空気を図示しないホースを介してシリンダ
20内に流出入することで、ピストン22を上下動させ
ることができる。
【0013】モータ3は、上記昇降機2のピストンロッ
ド21に組み付けられている。具体的には、モータ3の
回転軸に取り付けられたギア30が、ピストンロッド2
1の上部にベアリング31を介して取り付けられたギア
32に噛み合っている。そして、ギア32の上面に設け
られた支持部33に、筒状のインナーロッド34の上端
が固着されている。インナーロッド34は、ピストンロ
ッド21内に挿入されている。
【0014】ヘッド4は、上記のような昇降機2とモー
タ3とに連結されている。図3は、ヘッド4の断面図で
ある。ヘッド4は、図3に示すように、昇降機2のピス
トンロッド21の下端に固着されたハウジング40と、
ハウジング40にベアリング41aを介して回転自在に
連結され、インナーロッド34の下端のギア34aに噛
み合った内歯41bを有する内歯ギア体41と、内菌ギ
ア体41にボルト等の固着具42により固着されたチャ
ック43と、そのチャック43の下面に配置され、外周
部において、外周リング部材としてのチャックホルダ4
4によりチャック43に取り付けられた押圧部材として
のプレッシャプレート45と、そのプレッシャプレート
45の外周面とチャックホルダ44の内周面間に設けら
れた保持リング部材としてのリテーナリング46とで構
成されている。そして、チャック43の下面には、平面
形状が円形の凹部により負圧室43aが形成され、ま
た、プレッシャプレート45には、負圧室43aに連通
する多数の通気孔45aが穿設されている。これら通気
孔45aの下端はプレッシャプレート45の下面に閉口
している。
【0015】図4を参照してヘッド4の構成について詳
細に説明すると、プレッシャプレート45の上部外周に
は環状のフランジ部45bが一体的に形成され、このフ
ランジ部45bが、チャックホルダ44の上部の環状切
り欠き部44aに係合されてボルト47により一体的に
固着される。チャックホルダ44の下部内周に形成され
た環状凹部44bには、リテーナリング46が圧入さ
れ、このリテーナリング46の内外周面には内、外側O
リング48,49がそれぞれ配置されている。これによ
り、これら内、外側Oリング48,49によって、リテ
ーナリング46がプレッシャプレート45の外周面とチ
ャックホルダ44の内周面間に弾力的に保持されてい
る。リテーナリング46の下面は、プレッシャプレート
45の下面から所定量d(例えば0.55mm程度)突
出するように配置されている。このようにして、チャッ
クホルダ44,プレッシャプレート45及びリテーナリ
ング46を組み立てた後、プレッシャプレート45をチ
ャック43の下面に密着させて、プレッシャプレート4
5のフランジ部45b及びチャックホルダ44をボルト
50によりチャック43の外周部に固着する。また、チ
ャック43の外周上部には、環状の切り欠き部43bが
形成され、この環状の切り欠き部43bには、ボルト5
0の取り付け後、環状体51が被着される。なお、符号
52は環状体51とチャック43の間に配置されたOリ
ングである。この実施例では、リテーナリング46の下
面とプレッシャプレートの下面とは面一に配置され、リ
テーナリング46はデルリン等の軟質材により構成され
るが、チャックホルダ44は研磨パッドlaよりも硬質
の材料で構成されている。具体的には、チャックホルダ
44は硬質材であるセラミックスで形成するのが好まし
い。
【0016】かかる構成により、図2に示す昇降機2を
駆動させると、ピストンロッド21に連結したヘッド4
が昇降する。そして、モータ3を駆動させると、インナ
ーロッド34のギア34aの回転が内歯41bを介して
内歯ギア体41に伝達される。この結果、内歯ギア体4
1とプレッシャプレート45とが、ベアリング41aの
作用により、ハウジング40の周りで一体回転する。
【0017】エアポンプ9は、チューブ90を介して負
圧室43a内を吸引することにより、プレッシャプレー
ト45の通気孔45aよりその表面の空気を負圧室43
a内に吸引して、プレッシャプレート45下面にワーク
100を吸着させるものである。具体的には、図2に示
すように、エアポンプ9から延出されたチューブ90
が、上部開口からインナ一ロッド34の内部に挿入され
ている。そして、このチュ一ブ90の先端部が、図3に
示すように、プレッシャプレート45の中央部を貫通し
て負圧室43aの上部に連通する中央孔43cに挿入さ
れている。これにより、負圧室43a内の空気は、チュ
ーブ90を介してエアポンプ9により吸排され、負圧室
43a内の空気圧が変化するようになっている。
【0018】このようにして、エアポンプ9によって負
圧室43a内を負圧にすることで、ワーク100がプレ
ッシャプレート45の下面に吸着され、また、負圧室4
3aを正圧にすることで、ワーク100をプレッシャプ
レート45から離脱させることができる。
【0019】次に、この実施形態の片面ポリッシング装
置が示す動作について説明する。まず、図3に示すよう
に、モータ9を作動させてウエハ100をヘッド4のプ
レッシャプレート45下面に吸着させ、図2に示した昇
降機2を作動させてヘッド4を下定盤1まで下降させ、
ヘッド4の下面に保持されたワーク100が下定盤1の
表面の研磨パッドlaに当接した状態でモータ9の作動
を停止させる。これにより、図5の(a)に示すよう
に、ウエハ100はヘッド4のプレッシャプレート45
によって加圧され、下定盤1の表面部すなわち研磨パッ
ドlaに押圧された状態となる。この状態で、モータ
3,15(図1参照)を駆動させ、ヘッド4と下定盤1
とを回転させると、ウエハ100の下面が下定盤1の表
面の研磨パッドlaによって研磨される。
【0020】この研磨作業中に、ウエハ100の研磨が
進んでいくと、図5の(b)に示すように、研磨パッド
la内に沈み込んだウエハ100の厚さが減少して、研
磨パッドlaがウエハ100の外側に配置されたリテー
ナリング46やチャックホルダ44の下面に当接する。
しかし、セラミックス等の硬質材で形成されたチャック
ホルダ44が研磨パッドlaよりも硬質であるので、チ
ャックホルダ44はほとんど摩耗しない。そして、リテ
ーナリング46の下面はチャックホルダ44の下面と面
一であるので、デルリン等の軟質材より形成されたこの
リテーナリング46の摩耗は、チャックホルダ44によ
って防止される。この結果、リテーナリング46の突出
量が初期値に維持された状態で、ワーク100の研磨が
進行する。そして、ウエハ100の下面が所定量だけ研
磨されたときに、モータ3,15を停止させてヘッド4
及び下定盤1の回転を停止させることで、研磨作業を終
了する。
【0021】このように、この実施形態の片面ポリッシ
ング装置によれば、ワーク100の外側に配置されるチ
ャックホルダの下面とリテーナリング46の下面とを面
一に配置し、且つチャックホルダ44を研磨パッドla
よりも硬質の材料で形成したので、研磨作業中、このチ
ャックホルダ44が研磨パッドlaと接触することによ
り、軟質材よりなるリテーナリング46の摩耗を効果的
に防止してその耐久性を高める。したがって、リテーナ
リング46のプレッシャプレート45下面からの突出量
d(図4参照)が減少することはないので、ウエハ等の
ワーク100を所定の厚さに高精度で研磨加工すること
ができる。
【0022】以上の説明では、チャックホルダ44を硬
質材により形成し、リテーナリング46を軟質材で形成
したが、これを逆にして、リテーナリング46をセラミ
ックス等の硬質材で形成する一方、チャックホルダ44
をデルリン等の軟質材で形成しても略同様の効果が得ら
れるが、特にこの場合には、リテーナリング46自体が
硬質材であるため、その耐久性(摩耗防止効果)を一層
向上させることができる上、上記実施形態のように、リ
テーナリング46よりも体積の大きなチャックホルダ4
4を硬質材により形成した場合に比べて、一般的に軟質
材よりも高価な硬質材の使用量を減少させることがで
き、製造費を安価に抑えることができる。また、りてー
なリング46とチャックホルダ44の双方をセラミック
ス等の硬質材で形成すれば、リテーナリング46の耐久
性を一層向上させることができることは言うまでもな
い。
【0023】(第2の実施形態)図6は、この発明の第
2実施形態によるヘッドの要部を示すもので、図6の
(a)はその下面図、図6の(b)はそのA−A線によ
る断面図である。この実施形態は、ヘッド4のチャック
ホルダ44及びリテーナリング46の少なくとも一方の
一部分のみを、研磨パッド1aよりも硬質な材料により
形成した点が上記第1の実施形態と異なる。
【0024】具体的には、セラミックス等の硬質材から
なる硬質部分としての複数の直方体状の耐摩耗片60を
チャックホルダ44の下面に円周方向に沿って略等間隔
に埋設し、それら全ての耐摩耗片60の下面が面一にな
るように配置したものである。 このような構成によ
り、上記第1の実施形態と略同様の作用効果が得られる
上、チャックホルダ44全体を比較的高価な硬質材より
形成する場合に比べて製造費を低減しうるものである。
【0025】なお、図6の図示例では、耐摩耗片60を
チャックホルダ44の表面に埋設したが、リテーナリン
グ46の下面に埋設しても、あるいはチャックホルダ4
4及びリテーナリング46の両方に埋設しても同様の効
果が得られる。また、耐摩耗片60は必ずしも円周方向
に等間隔に配置する必要はなく、互いに適当な間隔をあ
けて配設するだけでも良い。また、耐摩耗片60の形状
も、直方体状に限らず、円形などの他の断面形状のもの
でも良い。さらに、上記実施形態では、硬質部分として
の耐摩耗片60を別体に形成してチャックホルダ44及
びリテーナリング46の一方の表面に埋め込んだが、硬
質部分は、チャックホルダ44及びリテーナリング46
の少なくとも一方の表面に形成したセラミックスなどの
硬質材によりなる耐摩耗層により構成しても良い。
【0026】なお、この発明は、上記実施形態に限定さ
れるものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の
変形や変更が可能である。例えば、上記実施形態では、
この発明を片面ポリッシング装置に適用したが、、ワー
クをヘッドにより保持して下定盤に押圧してワーク片面
を研磨する装置であるならばすべての研磨装置に適用す
ることができる。すなわち、下定盤1の表面に、研磨パ
ッドlaの代わりに砥石層を設けたグラインダ装置や、
下定盤の表面になにも設けないラッピング装置などにも
適用することができる。
【0027】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、この発明に
よれば、外周リング部材と保持リング部材との少なくと
も一方が、下定盤表面部よりも硬質の材料で形成される
ので、研磨作業中、少なくとも外周リング部材と保持リ
ング部材とのうちの硬質材料で形成された方が下定盤表
面部に接触して、他方の摩耗を防止するので、保持リン
グ部材の突出量の摩耗による減少を極力防止することが
できる。この結果、ワークの所期の研磨精度を維持する
ことができるという優れた効果がある。また、外周リン
グ部材を、下定盤表面部よりも硬質の材料で形成し、且
つ外周リング部材の下面と保持リング部材の下面とを面
一に配置することにより、外周リング部材及び保持リン
グ部材が下定盤に接触した場合に、硬質の材料で形成さ
れた外周リング部材が保持リング部材の摩耗を防止する
ように働き、ワークの研)磨精度の低下を回避すること
ができるという効果がある。さらに、保持リング部材
を、下定盤表面部よりも硬質の材料で形成し、且つ保持
リング部材の下面を、外周リング部材の下面と面一ある
いはそれより下定盤側に突出するように配置することに
より、硬質の材料で形成された保持リング部材自体の摩
耗が抑制され、ワークの研磨精度の低下を回避すること
ができる。また、外周リング部材と保持リング部材との
少なくとも一方の下面に、下定盤表面よりも硬質の材料
で形成される硬質部分を設け、この硬質部分の表面が、
押圧部材の表面よりも下定盤側に所定量だけ突出する構
成とすることにより、研磨作業中に、外周リング部材と
保持リング部材との少なくとも一方の下面に設けられた
硬質部分が下定盤表面部に接触して、保持リング部材の
摩耗を防止するのでこの保持リング部材の突出量の摩耗
による減少を極力防止して、ワークの研磨精度の低下を
回避することができる上、外周リング部材及び保持リン
グ部材の少なくとも一方全体を比較的高価な硬質材によ
り形成した場合に比べて、製造費を大幅に低減できると
いう優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態に適用される片面ポ
リッシング装置を一部彼断して示す正面図である。
【図2】昇降機及びモータによる回転機構を示す断面図
である。
【図3】ヘッドの断面図である。
【図4】ヘッドの一部拡大断面図である。
【図5】ポリッシング作業時のヘッド及び研磨パッドの
状態を示すもので、図5の(aは研磨初期の状態示す部
分拡大断面図、図5の(b)は研磨が進んで研磨パッド
がリテーナリングやチャックホルダに接触している状態
を示す部分拡大断面図である。
【図6】この発明の第2の実施形態を示すもので、図6
の(a)はその下面図、図6の(b)は図6の(a)の
A−A線による断面図である。
【符号の説明】
1・・・下定盤、 la・・・研磨パッド、 4・・・
ヘッド、 44・・・チャックホルダ、 45・・・プ
レッシャプレート、 46・・・リテーナリング、 6
0・・・耐摩耗片、 100・・・ウエハ。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークを下定盤側に押圧するための押圧
    部材と、 上記押圧部材の外周部に取り付けられた外周リング部材
    と、 上記押圧部材と上記外周リング部材とに狭持され、下面
    が上記押圧部材の下面よりも上記下定盤側に所定量だけ
    突出して上記ワークを保持する保持リング部材と、 を具備する研磨装置のヘッドにおいて、 上記外周リング部材と上記保持リング部材との少なくと
    も一方を、上記下定盤表面部よりも硬質の材料で形成し
    た、ことを特徴とする研磨装置のヘッド。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の研磨装置のヘッドにお
    いて、 上記外周リング部材を、上記下定盤表面部よりも硬質の
    材料で形成し、 上記外周リング部材の下面と上記保持リング部材の下面
    とを面一に配置した、 ことを特徴とする研磨装置のヘッド。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の研磨装置のヘッドにお
    いて、 上記保持リング部材を、上記下定盤表面よりも硬質の材
    料で形成し、 上記保持リング部材の下面を、上記外周リング部材の下
    面と面一あるいはそれより上記下定盤側に突出するよう
    に配置した、 ことを特徴とする研磨装置のヘッド。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし請求項3いずれかに記載
    の研磨装置のヘッドにおいて、 上記硬質の材料は、セラミックスである、 ことを特徴とする研磨装置のヘッド。
  5. 【請求項5】 ワークを下定盤側に押圧するための押圧
    部材と、 上記押圧部材の外周部に取り付けられた外周リング部材
    と、 上記押圧部材と上記外周リング部材とに狭持され、下面
    が上記押圧部材の下面よりも上記下定盤側に所定量だけ
    突出して上記ワークを保持する保持リング部材と、 を具備する研磨装置のヘッドにおいて、 上記外周リング部材と上記保持リング部材との少なくと
    も一方の下面に、上記下定盤表面部よりも硬質の材料で
    形成される硬質部分を設け、 上記硬質部分の下面を、上記押圧部材の下面よりも上記
    下定盤側に所定量だけ突出させた、 ことを特徴とする研磨装置のヘッド。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の研磨装置のヘッドにお
    いて、 上記硬質部分を、上記外周リング部材と上記保持リング
    部材との少なくとも一方の下面に埋設された複数の耐摩
    耗片により構成し、 全ての上記耐摩耗片の下面を、面一に配置した・ことを
    特徴とする研磨装置のヘッド。
  7. 【請求項7】 請求項5に記載の研磨装置のヘッドにお
    いて、 上記硬質部分を、上記外周リング部材と上記保持リング
    部材との少なくとも一方の下面に形成された耐摩耗層に
    より構成した、 ことを特徴とする研磨装置のヘッド。
JP5840497A 1997-02-25 1997-02-25 研磨装置のヘッド Withdrawn JPH10235554A (ja)

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