JPH10233400A - Plated parts fixing jig and plating method using it - Google Patents

Plated parts fixing jig and plating method using it

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JPH10233400A
JPH10233400A JP4857197A JP4857197A JPH10233400A JP H10233400 A JPH10233400 A JP H10233400A JP 4857197 A JP4857197 A JP 4857197A JP 4857197 A JP4857197 A JP 4857197A JP H10233400 A JPH10233400 A JP H10233400A
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JP
Japan
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jig
wafer
plated
component
cover
Prior art date
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JP4857197A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Kotani
昭一 児谷
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To simply fix a wafer to a wafer fixing jig with no breakage at the time of performing plating on a wafer using a wafer fixing jig by a dipping method. SOLUTION: In a wafer fixing jig, while sandwiching a wafer 13 from both sides for exposing the surface central part of the wafer 13, the jig body 1 covering the back of the wafer 13 and a jig cover 6 are provided. Then, holding a screw 23 in a loosend state, a space 25 between the jig body and a jig cover 6 is made into a vacuum state followed by tightening the screw 23 and later restoring the vacuum tank inside to an atmospheric pressure state. Thereby, the jig body 1 and the jig cover 6 are integrated so as to sandwich the wafer 13 for being fixed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は被メッキ部品固定
治具及びそれを用いたメッキ方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fixture for fixing a component to be plated and a plating method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、半導体技術においてウエハ(被
メッキ部品)にバンプ電極を形成する場合、ウエハのバ
ンプ電極形成面(表面)にメッキレジスト層を形成し、
このメッキレジスト層をエッチングして開口を形成する
ことにより、この開口を介してウエハのバンプ電極形成
面に設けられたパッド部を露出させ、この露出したパッ
ド部に電解法を用いて金等のメッキを施し、この施した
メッキによってバンプ電極を形成している。
2. Description of the Related Art For example, when bump electrodes are formed on a wafer (component to be plated) in the semiconductor technology, a plating resist layer is formed on a bump electrode formation surface (surface) of the wafer.
By etching the plating resist layer to form an opening, the pad portion provided on the bump electrode forming surface of the wafer is exposed through the opening, and the exposed pad portion is made of gold or the like using an electrolytic method. The bump electrode is formed by plating.

【0003】ところで、このような場合のメッキ方法の
1つとしてディップ方法と呼ばれるものがある。このデ
ィップ方法では、ウエハを全体的にメッキ液中に浸漬す
る方法であるので、ウエハの裏面、つまりバンプ電極形
成面とは反対側の面にメッキ液が付着することによるバ
ンプ電極の品質低下を防止するために、ウエハ固定治具
(被メッキ部品固定治具)を用いている。
[0003] One of the plating methods in such a case is a so-called dip method. In this dipping method, since the wafer is entirely immersed in the plating solution, the quality of the bump electrode is deteriorated due to the plating solution adhering to the back surface of the wafer, that is, the surface opposite to the surface on which the bump electrode is formed. In order to prevent this, a wafer fixing jig (plated component fixing jig) is used.

【0004】図4及び図5はこのような場合に用いられ
ている従来のウエハ固定治具を示したものである。この
ウエハ固定治具は、治具本体1と、パッキン2と、ガイ
ドリング3と、クッション材4と、Oリング5と、治具
カバー6とを備えている。このうち、治具本体1は、長
方形の板材からなり、上端部に取手7が設けられ、中央
部左面側にリング状のフランジ部8が設けられていると
ともに、フランジ部8内に開口部9が設けられ、開口部
9の周辺部に複数のネジ孔10が設けられた構造となっ
ている。パッキン2はゴム等によってリング状に形成さ
れている。ガイドリング3は樹脂等によってリング状に
形成されているとともに断面台形状に形成されている。
クッション材4はゴム等によって円板状に形成されてい
る。治具カバー6は、八角形の板材からなり、周縁部に
複数のネジ挿通孔11が設けられ、治具本体1と対向す
る面の所定の箇所にリング状の溝12が設けられた構造
となっている。Oリング5は治具カバー6の溝12内に
嵌め込まれている。
FIGS. 4 and 5 show a conventional wafer fixing jig used in such a case. This wafer fixing jig includes a jig main body 1, a packing 2, a guide ring 3, a cushion material 4, an O-ring 5, and a jig cover 6. The jig body 1 is made of a rectangular plate material, a handle 7 is provided at an upper end portion, a ring-shaped flange portion 8 is provided on a left side of a central portion, and an opening 9 is provided in the flange portion 8. Are provided, and a plurality of screw holes 10 are provided around the opening 9. The packing 2 is formed in a ring shape by rubber or the like. The guide ring 3 is formed of a resin or the like in a ring shape and has a trapezoidal cross section.
The cushion material 4 is formed in a disk shape by rubber or the like. The jig cover 6 is made of an octagonal plate, has a plurality of screw insertion holes 11 on the peripheral edge thereof, and has a structure in which a ring-shaped groove 12 is provided at a predetermined position on a surface facing the jig main body 1. Has become. The O-ring 5 is fitted in the groove 12 of the jig cover 6.

【0005】次に、このように構成されたウエハ固定治
具にウエハ13を固定する場合について説明する。この
場合には、まず、治具本体1のフランジ部8の右面にパ
ッキン2を配置し、パッキン2の右面にガイドリング3
を配置し、ガイドリング3の内側であってパッキン2の
右面にウエハ13を配置し、ウエハ13の右面にクッシ
ョン材4を配置し、クッション材4及び治具本体1の右
面に治具カバー6を配置する。次に、治具カバー6のネ
ジ挿通孔11に挿通したネジ14を治具本体1のネジ孔
10にねじ込む。すると、治具本体1と治具カバー6と
が一体化され、この一体化されたものによってウエハ1
3は表裏両面から挾持されて固定される。この状態で
は、ウエハ13の表面(図5では左面)周辺部はパッキ
ン2の右面に密接され、ウエハ13の表面中央部は治具
本体1の開口部9を介して露出される。ウエハ13の裏
面は、クッション材4を介して治具カバー6の左面に当
接される。この場合、パッキン2とOリング5のシール
作用により、ウエハ13の周囲における治具本体1と治
具カバー6との間が密閉される。このため、ウエハ13
の裏面は治具カバー6によって密閉された状態で覆われ
ることになる。また、この場合、クッション材4はネジ
14による締め付け力を緩和してウエハ13の破損を防
止している。
Next, a description will be given of a case where the wafer 13 is fixed to the thus configured wafer fixing jig. In this case, first, the packing 2 is arranged on the right surface of the flange portion 8 of the jig body 1, and the guide ring 3 is mounted on the right surface of the packing 2.
The wafer 13 is disposed on the right side of the packing 2 inside the guide ring 3, the cushion 4 is disposed on the right side of the wafer 13, and the jig cover 6 is disposed on the right side of the cushion 4 and the jig main body 1. Place. Next, the screw 14 inserted into the screw insertion hole 11 of the jig cover 6 is screwed into the screw hole 10 of the jig main body 1. Then, the jig body 1 and the jig cover 6 are integrated, and the wafer 1
Numeral 3 is fixed by being clamped from both sides. In this state, the periphery of the surface of the wafer 13 (the left surface in FIG. 5) is in close contact with the right surface of the packing 2, and the center of the surface of the wafer 13 is exposed through the opening 9 of the jig body 1. The back surface of the wafer 13 is in contact with the left surface of the jig cover 6 via the cushion member 4. In this case, the space between the jig body 1 and the jig cover 6 around the wafer 13 is sealed by the sealing action of the packing 2 and the O-ring 5. Therefore, the wafer 13
Is covered with the jig cover 6 in a sealed state. Further, in this case, the cushion member 4 reduces the tightening force of the screw 14 to prevent the wafer 13 from being damaged.

【0006】次に、このようにウエハ固定治具に固定さ
れたウエハ13にメッキを施す場合について説明する。
この場合には、まず、図4及び図5において一点鎖線で
示すメッキ液15中にウエハ13をウエハ固定治具とと
もに取手7の下側まで浸漬する。すると、ウエハ13の
表面にメッキが施され、この施されたメッキによってバ
ンプ電極が形成される。一方、ウエハ13の裏面はパッ
キン2とOリング5のシール作用により治具カバー6に
よって密閉された状態で覆われているので、このウエハ
13の裏面へのメッキ液15の付着が防止される。
Next, a case where plating is performed on the wafer 13 thus fixed to the wafer fixing jig will be described.
In this case, first, the wafer 13 is immersed together with the wafer fixing jig to the lower side of the handle 7 in the plating solution 15 indicated by a dashed line in FIGS. Then, plating is performed on the surface of the wafer 13, and bump electrodes are formed by the applied plating. On the other hand, since the back surface of the wafer 13 is covered by the jig cover 6 by the sealing action of the packing 2 and the O-ring 5, the plating solution 15 is prevented from adhering to the back surface of the wafer 13.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このようなウエハ固定治具では、治具本体1と治具カバ
ー6とでウエハ13を挾持して固定する場合、ネジ14
の締め付け具合を把握しにくく、このためネジ14を締
め付け過ぎる場合がある。このような場合、クッション
材4によってネジ14の締め付け力を緩和しきれず、ウ
エハ13に過大な力がかかり、ウエハ13が破損してし
まうことがある。これを回避するにはネジ14の締め付
け具合にかなりの注意を払う必要があり、しかも複数本
のネジ14を用いているので、ネジ14の締め付け作業
にかなりの手間がかかり作業性が極めて悪いという問題
があった。また、パッキン2あるいはOリング5が損傷
している場合、メッキ処理前にそれを見付けることは困
難であり、メッキ処理後にウエハ13の裏面にメッキ液
が付着していることを見付けて、始めてパッキン2ある
いはOリング5が損傷していることに気が付くという問
題があった。この発明の課題は、作業性を向上させるこ
とができるようにすることであり、またメッキ処理前に
パッキンやOリング等のシール部材の損傷を容易に見付
けることができるようにすることである。
However, in such a conventional wafer fixing jig, when the wafer 13 is clamped and fixed between the jig body 1 and the jig cover 6, the screw 14 is used.
It is difficult to grasp the degree of tightening, so that the screw 14 may be overtightened. In such a case, the tightening force of the screws 14 cannot be alleviated by the cushion material 4, and an excessive force is applied to the wafer 13, and the wafer 13 may be damaged. In order to avoid this, it is necessary to pay considerable attention to the degree of tightening of the screws 14, and since a plurality of screws 14 are used, the work of tightening the screws 14 takes a considerable amount of time and the workability is extremely poor. There was a problem. Further, if the packing 2 or the O-ring 5 is damaged, it is difficult to find it before the plating process, and after the plating process, it is found that the plating solution has adhered to the back surface of the wafer 13. 2 or O-ring 5 is damaged. An object of the present invention is to improve workability and to easily find damage to a seal member such as a packing or an O-ring before plating.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明に係
る被メッキ部品固定治具は、被メッキ部品を表裏両面か
ら挾持して、前記被メッキ部品の表面中央部を露出させ
るとともに、前記被メッキ部品の裏面を覆う被メッキ部
品固定治具において、前記被メッキ部品固定治具に形成
される空間を負圧にして、前記被メッキ部品を固定する
ものである。請求項2記載の発明に係るメッキ方法は、
被メッキ部品固定治具により、被メッキ部品を少なくと
も一部に空間を有するように表裏両面から挾持して、前
記被メッキ部品の表面中央部を露出させるとともに、前
記被メッキ部品の裏面を覆い、前記空間を減圧手段によ
り負圧にし、前記被メッキ部品固定治具を一体化し、前
記被メッキ部品固定治具のうち少なくとも前記被メッキ
部品を電解液中に浸し、前記被メッキ部品の露出部にメ
ッキをするようにしたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a jig for fixing a component to be plated, wherein the component to be plated is sandwiched from both front and back surfaces to expose a central portion of the surface of the component to be plated, and In the fixture for fixing a component to be plated, which covers the back surface of the component to be plated, a space formed in the fixture for fixing a component to be plated is set to a negative pressure to fix the component to be plated. The plating method according to the invention described in claim 2 is:
With the plated component fixing jig, the plated component is sandwiched from both front and back surfaces so as to have a space in at least a part, and the central portion of the surface of the plated component is exposed, and the back surface of the plated component is covered. The space is made negative pressure by the decompression means, the plated component fixing jig is integrated, at least the plated component of the plated component fixing jig is immersed in an electrolytic solution, and exposed to the exposed portion of the plated component. It is intended to be plated.

【0009】この発明によれば、被メッキ部品固定治具
に形成された空間を減圧手段により負圧とすることによ
り被メッキ部品固定治具を一体化しているので、被メッ
キ部品固定治具を確実に一体化するとともに被メッキ部
品が破損しない程度の負圧に設定することが容易であ
り、しかも一度設定するとそれ以後の負圧の程度に注意
を払う必要がなく、作業性を向上させることができる。
また、シール部材が損傷している場合、被メッキ部品固
定治具に形成された空間を所定の負圧とすることができ
ず、ひいては被メッキ部品固定治具を一体化することが
できず、この結果メッキ処理前にシール部材の損傷を容
易に見付けることができる。
According to the present invention, the plating component fixing jig is integrated by reducing the pressure in the space formed in the plating component fixing jig by the pressure reducing means. It is easy to set the negative pressure to the extent that the parts to be plated are not damaged, and it is easy to set the pressure so that it is not necessary to pay attention to the negative pressure after that, and to improve the workability. Can be.
In addition, when the seal member is damaged, the space formed in the plated component fixing jig cannot be set to a predetermined negative pressure, and thus the plated component fixing jig cannot be integrated, As a result, damage to the seal member can be easily found before plating.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(第1実施形態)図1はこの発明の第1実施形態におけ
るウエハ固定治具の要部を示したものである。この図に
おいて、図5と同一名称部分には同一の符号を付し、そ
の説明を適宜省略する。このウエハ固定治具では、治具
カバー6の治具本体1と対向する面であってウエハ13
の外周部に対応する部分に凹部21が設けられている。
治具カバー6の所定の箇所には開口部22が凹部21と
連通して設けられている。開口部22は、右面側の大径
部22aと左面側の小径のネジ溝部22bとその間の段
部22cとを有する構造となっている。開口部22のネ
ジ溝部22bにはネジ23がねじ込まれている。この場
合、ネジ23の頭部と開口部22の段部22cとの間に
はOリング24が設けられている。
(First Embodiment) FIG. 1 shows a main part of a wafer fixing jig according to a first embodiment of the present invention. In this figure, parts having the same names as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. In this wafer fixing jig, the surface of the jig cover 6 facing the jig body 1 and the wafer 13
A concave portion 21 is provided in a portion corresponding to the outer peripheral portion of.
An opening 22 is provided at a predetermined position of the jig cover 6 so as to communicate with the recess 21. The opening 22 has a large diameter portion 22a on the right side, a small diameter screw groove portion 22b on the left side, and a step 22c therebetween. A screw 23 is screwed into the screw groove 22b of the opening 22. In this case, an O-ring 24 is provided between the head of the screw 23 and the step 22c of the opening 22.

【0011】次に、このように構成されたウエハ固定治
具にウエハ13を固定する場合について説明する。この
場合には、まず、治具本体1のフランジ部8の右面にパ
ッキン2及びガイドリング3をこの順に配置するととも
に、ガイドリング3の外周面を治具本体1に嵌め込んで
おく。また、治具カバー6の溝12内にOリング5を嵌
め込んでおく。さらに、ネジ23を緩めておく。
Next, a case where the wafer 13 is fixed to the wafer fixing jig thus configured will be described. In this case, first, the packing 2 and the guide ring 3 are arranged in this order on the right surface of the flange portion 8 of the jig body 1, and the outer peripheral surface of the guide ring 3 is fitted into the jig body 1. Also, the O-ring 5 is fitted into the groove 12 of the jig cover 6. Further, the screw 23 is loosened.

【0012】そして、治具本体1に嵌め込まれたガイド
リング3の内側であってパッキン2の右面にウエハ13
を配置し、ウエハ13の右面にクッション材4を配置
し、クッション材4及び治具本体1の右面に治具カバー
6を配置する。実際には、治具本体1、ウエハ13、ク
ッション材4及び治具カバー6をこの順でテーブル(図
示しない)上において位置合わせしながら重ね合わせ
る。次に、このように重ね合わせたものを図示しない真
空槽内に入れ、真空槽内を真空状態にする。すると、ネ
ジ23が緩められていることにより、Oリング24によ
るシール作用が働かず、開口部22を介して治具本体1
と治具カバー6との間に形成された凹部21を含む空間
25が真空状態となる。次に、ネジ23を締め付けて開
口部22をOリング24によって密閉する。次に、真空
槽内を大気圧状態に戻す。すると、パッキン2及び2つ
のOリング5、24のシール作用により治具本体1と治
具カバー6との間に形成された空間25が真空(負圧)
状態となり、これによって治具本体1と治具カバー6と
が一体化される。そして、この一体化されたものによっ
てウエハ13は表裏両面から挾持されて固定される。
A wafer 13 is provided on the right side of the packing 2 inside the guide ring 3 fitted in the jig body 1.
Are arranged, the cushion material 4 is arranged on the right surface of the wafer 13, and the jig cover 6 is arranged on the cushion material 4 and the right surface of the jig body 1. Actually, the jig body 1, the wafer 13, the cushion material 4, and the jig cover 6 are superimposed in this order while being positioned on a table (not shown). Next, the superposed products are placed in a vacuum chamber (not shown), and the vacuum chamber is evacuated. Then, since the screw 23 is loosened, the sealing action of the O-ring 24 does not work, and the jig main body 1 is opened through the opening 22.
The space 25 including the concave portion 21 formed between the jig cover 6 and the jig cover 6 is in a vacuum state. Next, the screw 22 is tightened to seal the opening 22 with the O-ring 24. Next, the inside of the vacuum chamber is returned to the atmospheric pressure state. Then, the space 25 formed between the jig main body 1 and the jig cover 6 by the sealing action of the packing 2 and the two O-rings 5 and 24 is evacuated (negative pressure).
In this state, the jig body 1 and the jig cover 6 are integrated. Then, the wafer 13 is clamped and fixed from both front and back surfaces by this integrated one.

【0013】次に、このようにウエハ固定治具に固定さ
れたウエハ13にメッキを施す場合について説明する。
この場合には、従来の場合と同様に、図1において一点
鎖線で示すメッキ液15中にウエハ13をウエハ固定治
具とともに浸漬して、ウエハ13の表面にメッキを施
す。この施したメッキによってバンプ電極が形成され
る。一方、ウエハ13の裏面はパッキン2と2つのOリ
ング5、24のシール作用により治具カバー6によって
密閉された状態で覆われているので、このウエハ13の
裏面へのメッキ液15の付着が防止される。
Next, the case where plating is performed on the wafer 13 fixed to the wafer fixing jig as described above will be described.
In this case, similarly to the conventional case, the surface of the wafer 13 is plated by immersing the wafer 13 together with the wafer fixing jig in the plating solution 15 indicated by the one-dot chain line in FIG. A bump electrode is formed by the applied plating. On the other hand, since the back surface of the wafer 13 is covered in a sealed state by the jig cover 6 by the sealing action of the packing 2 and the two O-rings 5 and 24, the plating solution 15 adheres to the back surface of the wafer 13. Is prevented.

【0014】次に、メッキ処理後にウエハ13をウエハ
固定治具から取り出す場合について説明する。この場合
には、ネジ23を緩めると、Oリング24によるシール
作用が働かなくなる。この結果、開口部22を介して治
具本体1と治具カバー6との間に形成された空間25が
大気圧状態となり、治具本体1と治具カバー6との一体
化が解除され、ウエハ13を取り出すことができる。
Next, a case where the wafer 13 is removed from the wafer fixing jig after the plating process will be described. In this case, when the screw 23 is loosened, the sealing action of the O-ring 24 does not work. As a result, the space 25 formed between the jig body 1 and the jig cover 6 through the opening 22 is brought into the atmospheric pressure state, and the integration of the jig body 1 and the jig cover 6 is released, The wafer 13 can be taken out.

【0015】ところで、上述したように、治具本体1と
治具カバー6との間を真空状態とすることにより治具本
体1と治具カバー6とを一体化しているので、治具本体
1と治具カバー6とを確実に一体化するとともにウエハ
13が破損しない程度の真空度に設定することが容易で
あり、しかも一度設定するとそれ以後の真空度に注意を
払う必要がなく、作業性を向上させることができる。ま
た、パッキン2や2つのOリング5、24のいずれかが
損傷している場合、治具本体1と治具カバー6との間に
形成された空間25を所定の真空度とすることができ
ず、ひいては治具本体1と治具カバー6とを一体化する
ことができず、この結果メッキ処理前にパッキン2や2
つのOリング5、24のいずれかの損傷を容易に見付け
ることができる。
By the way, as described above, the jig body 1 and the jig cover 6 are integrated by making the space between the jig body 1 and the jig cover 6 a vacuum state. And the jig cover 6 are surely integrated, and it is easy to set the degree of vacuum so that the wafer 13 is not damaged. Further, once set, it is not necessary to pay attention to the degree of vacuum thereafter. Can be improved. When either the packing 2 or the two O-rings 5 and 24 are damaged, the space 25 formed between the jig body 1 and the jig cover 6 can be set to a predetermined degree of vacuum. Therefore, the jig body 1 and the jig cover 6 cannot be integrated, and as a result, the packing 2
Damage to either of the O-rings 5, 24 can be easily found.

【0016】なお、上記説明では、大気中で治具本体1
とネジ23を緩めた状態の治具カバー6とを重ね合わせ
てから真空槽内に入れ、真空槽内を真空状態にすること
により開口部22を介して治具本体1と治具カバー6と
の間に形成された空間25を真空状態とし、この後ネジ
23を締め付けて開口部22をOリング24によって密
閉するようにしたが、これに限定されるものではない。
例えば真空状態の真空槽内で治具本体1とネジ23を締
め付けた状態の治具カバー6とを重ね合わせ、治具本体
1と治具カバー6との間に形成された空間25を真空状
態とした状態において真空槽内を大気圧状態に戻すよう
にしてもよい。
In the above description, the jig main body 1 is set in the atmosphere.
And the jig cover 6 with the screws 23 loosened are put on each other, then put into a vacuum chamber, and the inside of the vacuum chamber is evacuated so that the jig body 1 and the jig cover 6 The space 25 formed therebetween is evacuated, and then the screw 23 is tightened to seal the opening 22 with the O-ring 24. However, the present invention is not limited to this.
For example, the jig body 1 and the jig cover 6 with the screw 23 tightened are overlapped in a vacuum chamber in a vacuum state, and the space 25 formed between the jig body 1 and the jig cover 6 is evacuated. In such a state, the inside of the vacuum chamber may be returned to the atmospheric pressure state.

【0017】(第2実施形態)次に、図2はこの発明の
第2実施形態におけるウエハ固定治具の要部を示したも
のである。この図において、図1と同一名称部分には同
一の符号を付し、その説明を適宜省略する。このウエハ
固定治具では、開口部22にチューブ31の一端部が接
続されている。チューブ31の他端部にはT字状のチュ
ーブ32の第1の分岐管が接続されている。T字状のチ
ューブ32の第2の分岐管には第1のバルブ33が介在
され、同第2の分岐管の先端部には真空ポンプ34が接
続されている。T字状のチューブ32の第3の分岐管に
は第2のバルブ35が介在され、同第3の分岐管の先端
部は大気中に開放されている。
(Second Embodiment) Next, FIG. 2 shows a main part of a wafer fixing jig according to a second embodiment of the present invention. In this figure, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. In this wafer fixing jig, one end of a tube 31 is connected to the opening 22. The other end of the tube 31 is connected to a first branch pipe of a T-shaped tube 32. A first valve 33 is interposed in the second branch pipe of the T-shaped tube 32, and a vacuum pump 34 is connected to a tip of the second branch pipe. A second valve 35 is interposed in the third branch pipe of the T-shaped tube 32, and the tip of the third branch pipe is open to the atmosphere.

【0018】次に、このように構成されたウエハ固定治
具にウエハ13を固定する場合について説明する。この
場合には、まず、上記第1実施形態の場合と同様に、治
具本体1、ウエハ13、クッション材4及び治具カバー
6をこの順でテーブル(図示せず)上において位置合わ
せしながら重ね合わせる。この場合、治具カバー6の開
口部22にはチューブ31の一端部が接続されている。
次に、第1のバルブ33を開けるとともに第2のバルブ
35を閉じた状態で真空ポンプ34を駆動させる。する
と、治具本体1と治具カバー6との間に形成された空間
25が真空(負圧)状態となり、これによって治具本体
1と治具カバー6とが一体化され、この一体化されたも
のによってウエハ13は表裏両面から挾持されて固定さ
れる。そして、メッキを施す場合には、図2において一
点鎖線で示すメッキ液中にウエハ固定治具とともにチュ
ーブ31の所定の一部を浸漬することになる。一方、メ
ッキ処理後にウエハ13をウエハ固定治具から取り出す
場合には、真空ポンプ34を停止させた状態で第2のバ
ルブ35を開ければよい。
Next, a case in which the wafer 13 is fixed to the wafer fixing jig configured as described above will be described. In this case, first, similarly to the case of the first embodiment, the jig body 1, the wafer 13, the cushion material 4, and the jig cover 6 are aligned on a table (not shown) in this order. Overlap. In this case, one end of the tube 31 is connected to the opening 22 of the jig cover 6.
Next, the vacuum pump 34 is driven with the first valve 33 opened and the second valve 35 closed. Then, the space 25 formed between the jig main body 1 and the jig cover 6 is brought into a vacuum (negative pressure) state, whereby the jig main body 1 and the jig cover 6 are integrated, and this integration is performed. The wafer 13 is sandwiched and fixed from both front and back surfaces. When plating is performed, a predetermined part of the tube 31 is immersed together with the wafer fixing jig in a plating solution indicated by a dashed line in FIG. On the other hand, when removing the wafer 13 from the wafer fixing jig after the plating process, the second valve 35 may be opened with the vacuum pump 34 stopped.

【0019】ところで、この第2実施形態では、上述し
たように、治具本体1、ウエハ13、クッション材4及
び治具カバー6をこの順でテーブル上において位置合わ
せしながら重ね合わせているが、このような作業を吸着
ヘッドや位置合わせ用のカメラ等を用いて自動的に行う
ことが容易に可能である。また、第1、第2のバルブ3
3、35の開閉制御及び真空ポンプ34の駆動制御も自
動的に行うことが容易に可能である。さらに、ウエハ1
3を挾持して固定したウエハ固定治具をチューブ31の
一部とともにメッキ液15中に浸漬させることも、吸着
ヘッド等を用いて自動的に行うことも容易に可能であ
る。したがって、この第2実施形態の場合には、全自動
化することも可能である。これに対して、上記第1実施
形態の場合には、テーブルとして大気中と真空槽内との
間を移動可能なものを用いれば、半自動化することも可
能である。
In the second embodiment, as described above, the jig body 1, the wafer 13, the cushion material 4, and the jig cover 6 are overlapped while being positioned on the table in this order. Such an operation can be easily performed automatically using a suction head, a positioning camera, or the like. Further, the first and second valves 3
Opening / closing control of 3, 35 and drive control of vacuum pump 34 can be easily performed automatically. Further, wafer 1
It is possible to easily immerse the wafer fixing jig holding and fixing 3 in the plating solution 15 together with a part of the tube 31 or to automatically perform it by using a suction head or the like. Therefore, in the case of the second embodiment, it is possible to perform full automation. On the other hand, in the case of the first embodiment, semi-automatic operation is possible by using a table movable between the atmosphere and the vacuum chamber as the table.

【0020】(変形例)なお、上記第1及び第2実施形
態では、治具本体1と治具カバー6との間をOリング5
によってシールしたが、これに限定されるものではな
い。例えば、図3に示すように、治具本体1と治具カバ
ー6との間にパッキン41を介在させるようにしてもよ
い。この場合、パッキン41は治具本体1及び治具カバ
ー6と密着性の良い材料からなっている。また、パッキ
ン41は治具カバー6に接着されている。
(Modification) In the first and second embodiments, the O-ring 5 is provided between the jig body 1 and the jig cover 6.
, But is not limited thereto. For example, as shown in FIG. 3, a packing 41 may be interposed between the jig main body 1 and the jig cover 6. In this case, the packing 41 is made of a material having good adhesion to the jig body 1 and the jig cover 6. The packing 41 is adhered to the jig cover 6.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、被メッキ部品固定治具に形成された空間を減圧手段
により負圧とすることにより被メッキ部品固定治具を一
体化しているので、被メッキ部品固定治具を確実に一体
化するとともに被メッキ部品が破損しない程度の負圧に
設定することが容易であり、しかも一度設定するとそれ
以後の負圧の程度に注意を払う必要がなく、作業性を向
上させることができる。また、シール部材が損傷してい
る場合、被メッキ部品固定治具に形成された空間を所定
の負圧とすることができず、ひいては被メッキ部品固定
治具を一体化することができず、この結果メッキ処理前
にシール部材の損傷を容易に見付けることができる。
As described above, according to the present invention, the fixture to be plated is integrated by reducing the space formed in the fixture to be plated to a negative pressure by the pressure reducing means. In addition, it is easy to integrate the fixture to fix the parts to be plated, and it is easy to set the negative pressure to the extent that the parts to be plated are not damaged. And workability can be improved. In addition, when the seal member is damaged, the space formed in the plated component fixing jig cannot be set to a predetermined negative pressure, and thus the plated component fixing jig cannot be integrated, As a result, damage to the seal member can be easily found before plating.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1実施形態におけるウエハ固定治
具の要部を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing a main part of a wafer fixing jig according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第2実施形態におけるウエハ固定治
具の要部を示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing a main part of a wafer fixing jig according to a second embodiment of the present invention.

【図3】第1及び第2実施形態の変形例を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a modification of the first and second embodiments.

【図4】従来のウエハ固定治具を示す分解斜視図。FIG. 4 is an exploded perspective view showing a conventional wafer fixing jig.

【図5】従来のウエハ固定治具の要部を示す断面図。FIG. 5 is a sectional view showing a main part of a conventional wafer fixing jig.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 治具本体 6 治具カバー 13 ウエハ 22 開口部 23 ネジ 24 Oリング 34 真空ポンプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Jig main body 6 Jig cover 13 Wafer 22 Opening 23 Screw 24 O-ring 34 Vacuum pump

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被メッキ部品を表裏両面から挾持して、
前記被メッキ部品の表面中央部を露出させるとともに、
前記被メッキ部品の裏面を覆う被メッキ部品固定治具に
おいて、前記被メッキ部品固定治具に形成される空間を
負圧にして、前記被メッキ部品を固定することを特徴と
する被メッキ部品固定治具。
1. A part to be plated is sandwiched from both sides.
While exposing the center of the surface of the component to be plated,
In the jig for fixing a to-be-plated component that covers the back surface of the to-be-plated component, a space formed in the jig for fixing a to-be-plated component is set to a negative pressure to fix the to-be-plated component. jig.
【請求項2】 被メッキ部品固定治具により、被メッキ
部品を少なくとも一部に空間を有するように表裏両面か
ら挾持して、前記被メッキ部品の表面中央部を露出させ
るとともに、前記被メッキ部品の裏面を覆い、前記空間
を減圧手段により負圧にし、前記被メッキ部品固定治具
を一体化し、前記被メッキ部品固定治具のうち少なくと
も前記被メッキ部品を電解液中に浸し、前記被メッキ部
品の露出部にメッキをすることを特徴とするメッキ方
法。
2. A component to be plated is clamped from both front and rear sides by a jig for fixing a component to be plated so as to have a space in at least a part thereof, and a central portion of the surface of the component to be plated is exposed. And the space is made negative pressure by a decompression means, and the plated component fixing jig is integrated, and at least the plated component of the plated component fixing jig is immersed in an electrolytic solution, and the plating is performed. A plating method comprising plating an exposed part of a component.
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