JPH10228969A - Ic socket - Google Patents

Ic socket

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JPH10228969A
JPH10228969A JP9305952A JP30595297A JPH10228969A JP H10228969 A JPH10228969 A JP H10228969A JP 9305952 A JP9305952 A JP 9305952A JP 30595297 A JP30595297 A JP 30595297A JP H10228969 A JPH10228969 A JP H10228969A
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Kazuhisa Ozawa
一久 小沢
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To avoid the generation of a contact failure by arranging a contact member in an IC package or an IC socket main body, and performing the compound plating of high hardness grains having a specified grain diameter or less and nickel to an electrode for connecting the contact member and an external circuit, and furthermore, performing the gold plating thereto. SOLUTION: An elastic contact pin 16 is arranged under a part to be loaded with an IC package or an IC chip 1a, and the contact pin 16 is provided with an electrode 4b. The electrode 4b is connected to a lead 2 or an electrode of the IC package 1 or the IC chip 1a. The electrode 4b is manufactured by performing the compound plating of the high hardness grains having grain diameter at 15μ or less and nickel, and performing the gold plating thereon. In this device, when the lead 2 or the electrode is pushed to the electrode 4b, the hard grains 14 of diamond bites the lead 2 or the electrode with gold of the gold plating so as to securely connect the lead 2 or the electrode to the circuit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多端子のICパッケー
ジ或はシリコンのICチップの実装或はバーン・イン試
験等に使用されるICソケットに関するもので、通常パ
ッケージ状態・チップ状態のどちらでもエージングする
為のソケットである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an IC socket used for mounting a multi-terminal IC package or a silicon IC chip or for a burn-in test, and can be used in either a normal package state or a chip state. A socket for aging.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、ICソケットにおいてはICリー
ドフレーム(材質42合金又は、銅合金の表面に半田メ
ッキされている)と、ソケット内に組み込まれたプレス
で打ち抜かれたコンタクトピン(材質BeCuの表面にNiメ
ッキ2〜3μm、その上に金メッキを0.2〜0.3μ
m)とが接触することにより電路を形成している。一
方、ICパッケージ或はシリコンチップのリードは高密
度化の傾向にある。ICパッケージ或はシリコンチップ
の実装或は試験等を行うためのICソケットのコンタク
トピンも、これに合わせて高密度化をしなければならな
い。例えば図4に示すようにシリコンのICチップ1a
の電極2aはアルミニウムをベースとしてなり、そのピ
ッチは0.2mm以下のピッチとなり、ICソケット側
の微細電極4のピッチもそれに合わせて縮少させなけれ
ばならない。ICパッケージ1或はICチップ1aの微
細ピッチ化傾向に伴うICソケットの微細化ピッチの為
各リード2,電極2aと微細電極4との間の良好な電気
的接続は困難となる。特にICチップ1aの各リード
2,電極2aと微細電極4がアルミニウムの場合、その
表面に酸化アルミニウムの被膜ができるので、接触不良
を起し易い。
2. Description of the Related Art At present, in an IC socket, an IC lead frame (a material of 42 alloy or copper alloy is solder-plated on the surface) and a contact pin punched by a press incorporated in the socket (a material of BeCu). Ni plating on the surface 2-3μm, gold plating on it 0.2-0.3μm
and m) make contact with each other to form an electric circuit. On the other hand, leads of IC packages or silicon chips tend to have higher densities. The contact pins of an IC socket for mounting or testing an IC package or a silicon chip must also be densified accordingly. For example, as shown in FIG. 4, a silicon IC chip 1a
The electrode 2a is based on aluminum, the pitch of which is 0.2 mm or less, and the pitch of the fine electrodes 4 on the IC socket side must be reduced accordingly. Due to the fine pitch of the IC socket accompanying the fine pitch of the IC package 1 or the IC chip 1a, good electrical connection between each lead 2, electrode 2a and fine electrode 4 becomes difficult. In particular, when the leads 2, electrodes 2a, and fine electrodes 4 of the IC chip 1a are made of aluminum, poor contact is liable to occur because the surface is coated with aluminum oxide.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このため、従来は表面
の酸化物被膜を破るためにダイヤモンド粉を用いるもの
が知られているが、そのダイヤモンド粉の粒径は22μ
m〜27μmと大きいため、接触抵抗値は大きく、また
抵抗値のバラツキが大きく、接触圧力も大きい欠点があ
る。
For this reason, conventionally, diamond powder is used to break the oxide film on the surface, but the particle diameter of the diamond powder is 22 μm.
Since it is as large as m to 27 μm, the contact resistance value is large, the resistance value varies greatly, and the contact pressure is large.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するもので、ICパッケージ或いはICチップを装填
するICソケットのICソケット本体10において、I
Cパッケージ或いはICチップを装填する部分の下方に
はICパッケージ或いはICチップのリード2或いは電
極2aと外部回路6とを接続する弾性を有するコンタク
ト部材16が配設され、このコンタクト部材16の前記
リード2或いは電極2aと接する電極4bは粒径15μ
m以下の高硬度粒子14と共にニッケルを複合鍍金し、
その上に金鍍金15を施してなるものである。また、I
Cパッケージ或はICチップを装填するICソケットの
ICソケット本体10において、ICパッケージ1或は
ICチップ1aを装填する部分の下方には弾性体7があ
り、その上には絶縁性フィルム5があり、この絶縁性フ
ィルムの表面には上記ICパッケージ1或はICチップ
1aのリード2或は電極2aに接する微細電極4,4a
を有する回路6があり、この微細電極4,4aは粒径1
5μm以下の高硬度粒子14と共にニッケルを複合鍍金
し、その上に金鍍金15を施してなるICソケットであ
る。また、ICパッケージ或はICチップを装填するI
CソケットのICソケット本体10において、ICパッ
ケージ1或はICチップ1aを装填する部分の下方には
弾性のあるコンタクトピン16があり、このコンタクト
ピン16には上記ICパッケージ1或はICチップ1a
のリード2或は電極2aと接する電極4bを有し、この
電極4bは粒径15μm以下の高硬度粒子14と共にニ
ッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金15を施してなる
ICソケットである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problem. In the present invention, an IC socket body 10 of an IC socket for mounting an IC package or an IC chip is provided with an IC socket.
An elastic contact member 16 for connecting the lead 2 or electrode 2a of the IC package or IC chip to the external circuit 6 is provided below the portion where the C package or the IC chip is loaded. 2 or the electrode 4b in contact with the electrode 2a has a particle size of 15 μm.
m and nickel with high hardness particles 14
Gold plating 15 is applied thereon. Also, I
In an IC socket body 10 of an IC socket for mounting a C package or an IC chip, an elastic body 7 is provided below a portion where the IC package 1 or the IC chip 1a is mounted, and an insulating film 5 is provided thereon. On the surface of the insulating film, the fine electrodes 4 and 4a which are in contact with the leads 2 or the electrodes 2a of the IC package 1 or the IC chip 1a.
The fine electrodes 4 and 4a have a particle size of 1
This is an IC socket formed by complex plating nickel with high hardness particles 14 of 5 μm or less and gold plating 15 thereon. Also, an IC package or an IC
In the IC socket main body 10 of the C socket, elastic contact pins 16 are provided below a portion where the IC package 1 or the IC chip 1a is loaded, and the contact pins 16 are attached to the IC package 1 or the IC chip 1a.
The electrode 4b is an IC socket formed by composite plating nickel with high hardness particles 14 having a particle size of 15 μm or less and nickel plating on the electrode 4b.

【0005】[0005]

【作 用】押圧部3がリード2或は電極2aを押圧する
と高硬度粒子14は金鍍金15の金と共にリード2或は
電極2a内に喰い込み、リード2或は電極2aを回路6
に確実に接続する。
[Operation] When the pressing portion 3 presses the lead 2 or the electrode 2a, the high hardness particles 14 bite into the lead 2 or the electrode 2a together with the gold of the gold plating 15, and connect the lead 2 or the electrode 2a to the circuit 6.
Connect securely.

【0006】[0006]

【実施例】図1は本発明の一実施例の押圧型のICソケ
ットの縦断面図を示すもので、ICパッケージ1を用い
ているが、シリコンのICチップ1aを用いる場合にも
通用しうることは勿論である。この実施例が示すICパ
ッケージ1はリードがガルウイン形状のICパッケージ
で、そのリード2は42鉄ニッケル合金又は銅合金にハ
ンダ鍍金をしたものである。ICソケット本体10は直
方体状でその上面中央にICパッケージ1を入れる開口
を有する。このカバー12にはICパッケージ1のリー
ド2を下方に押圧する押圧部3を有する。ICソケット
本体10内において上記開口の下方の位置には150℃
以上の耐熱性シリコンゴム材料によって構成されている
弾性体7があり、その上にはポリイミド樹脂或はポリエ
ーテルサルフォン等よりなる柔軟な絶縁性フィルム5が
あり、この絶縁性フィルム5の表面には上記リード2に
接する高密度に形成された微細電極4を有する銅箔など
で作られた柔軟性の回路6が設けられている。この回路
6はICソケット本体10の底部に植設した端子13,
13・・・に接続される。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a press-type IC socket according to an embodiment of the present invention. Although an IC package 1 is used, the present invention can be applied to a case where a silicon IC chip 1a is used. Of course. The IC package 1 shown in this embodiment is an IC package having gull-wing leads, and the leads 2 are formed by plating 42 iron nickel alloy or copper alloy with solder. The IC socket body 10 has a rectangular parallelepiped shape, and has an opening in the center of the upper surface thereof for receiving the IC package 1. The cover 12 has a pressing portion 3 for pressing the leads 2 of the IC package 1 downward. 150 ° C. below the opening in the IC socket body 10
There is an elastic body 7 made of the above heat-resistant silicon rubber material, on which a flexible insulating film 5 made of polyimide resin or polyethersulfone is provided. Is provided with a flexible circuit 6 made of copper foil or the like having fine electrodes 4 formed in high density and in contact with the leads 2. The circuit 6 includes terminals 13 implanted at the bottom of the IC socket body 10,
13...

【0007】図2はその微細電極4の拡大図を示すもの
で、その微細電極4はダイヤモンド粒14と共にニッケ
ルを複合鍍金し、その上に金鍍金15をしたものであ
る。ダイヤモンド粒14の粒径は15μm以下のもので
ある。金鍍金15の厚さはニッケルメッキが酸化しない
程度とする。次にこの装置の動作を説明する。ICソケ
ット本体10の上面中央の開口内にICパッケージ1を
装填し、カバー12を覆せて上方より下方に押圧すると
押圧部3は図2矢印のようにリード2を下方に押圧す
る。これによってダイヤモンド粒14は金鍍金15の金
と共にリード2内に喰い込み、リード2を微細電極4と
回路6、そして端子13に接続する。ダイヤモンド粒子
が食い込む深さは約5ミクロンから10ミクロン程度で
あると思われる。ICチップ1aを用いたときにはダイ
ヤモンド粒14はその電極2aの酸化アルミニウムの被
膜を割りながら内部のアルミニウムに突き刺さり、接続
が良好となる。
FIG. 2 is an enlarged view of the fine electrode 4. The fine electrode 4 is obtained by complex plating nickel with diamond particles 14 and gold plating 15 thereon. The diameter of the diamond grains 14 is 15 μm or less. The thickness of the gold plating 15 is such that the nickel plating is not oxidized. Next, the operation of this device will be described. When the IC package 1 is loaded into the opening at the center of the upper surface of the IC socket main body 10, and the cover 12 is covered and pressed downward from above, the pressing portion 3 presses the lead 2 downward as shown by the arrow in FIG. As a result, the diamond grains 14 bite into the lead 2 together with the gold of the gold plating 15, and connect the lead 2 to the fine electrode 4, the circuit 6, and the terminal 13. It is believed that the depth of penetration of the diamond particles is on the order of about 5 to 10 microns. When the IC chip 1a is used, the diamond particles 14 penetrate into the aluminum inside while breaking the aluminum oxide film of the electrode 2a, and the connection becomes good.

【0008】図3は本発明の他の実施例の回転押圧型の
ICソケットの縦断面図を示すもので、上記実施例と同
じ部分は同じ符号を用いて説明する。図において1はI
Cパッケージ本体、2はICパッケージのリード、3は
リード2を押圧するための押圧部、4aはリード2と接
続するための多数の接点が高密度に形成された微細電
極、5は微細電極4aを表面に設けた柔軟性を有するポ
リイミドなどで作られた絶縁性フィルム、6は絶縁性フ
ィルム5の表面に設けられた微細電極4aと電気的に接
続が可能な状態にある銅箔などで作られた柔軟性を有す
る回路、7は微細電極4aの下方部分全体にわたって配
設されており、絶縁性フィルム5に下から接するゴム等
の弾性体、8は回転軸9によってICソケット本体10
に対して上下に揺動可能に取り付けられたブロック、1
1は一端をICソケット本体10に、他の一端をブロッ
ク8に取り付けられたばね、12はICソケットに回動
可能に取り付けられた押圧部3を有するカバー、13は
回路6と接続状態にある、ICパッケージの実装試験等
を行うための回路基板と接続するために、回路基板の接
続部分のピッチに合わせてICソケット本体10に取り
付けられた端子である。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a rotary press type IC socket according to another embodiment of the present invention, and the same parts as those in the above embodiment will be described using the same reference numerals. In the figure, 1 is I
C package body, 2 is a lead of the IC package, 3 is a pressing portion for pressing the lead 2, 4a is a fine electrode on which a large number of contacts for connecting to the lead 2 are formed at high density, and 5 is a fine electrode 4a. An insulating film 6 made of a flexible polyimide or the like provided on the surface thereof, and a copper foil 6 electrically connected to the fine electrode 4 a provided on the surface of the insulating film 5. A flexible circuit 7 is provided over the entire lower portion of the fine electrode 4a, an elastic body such as rubber contacting the insulating film 5 from below, and 8 is an IC socket body 10
A block attached to be able to swing up and down with respect to 1
1 is a spring having one end attached to the IC socket main body 10 and the other end attached to the block 8; 12 is a cover having a pressing portion 3 attached rotatably to the IC socket; 13 is connected to the circuit 6; These terminals are attached to the IC socket main body 10 in accordance with the pitch of the connection portion of the circuit board in order to connect to a circuit board for performing an IC package mounting test or the like.

【0009】かくして、ICパッケージを装着するに際
しカバー12を開け、ICパッケージ1をICソケット
本体10に装填すると、リード2が微細電極4aの上に
載る。微細電極4aは、ICパッケージのリード2のピ
ッチと同じピッチで、絶縁性フィルム5の表面に設けら
れている。ブロック8は、ばね11の弾性力によって、
ICソケット本体10に対して上方向の力を受けてい
る。カバー12を閉じると、押圧部3がリード2をIC
ソケット本体10に対して下方向へ押圧する。すると、
まず弾性体7が弾性変形しはじめ、次にブロック8が回
転軸9を中心に左旋し、ばね11を変形させる。このと
き、微細電極4aも回転軸9を中心に回転し、リード2
を擦り、ワイピング作用が行われる。そして、リード2
と回路6が確実に接続され、更に端子13を通じて、図
示されていない回路基板と接続される。
Thus, when mounting the IC package, the cover 12 is opened and the IC package 1 is loaded into the IC socket body 10, and the leads 2 are placed on the fine electrodes 4a. The fine electrodes 4a are provided on the surface of the insulating film 5 at the same pitch as the pitch of the leads 2 of the IC package. The block 8 is formed by the elastic force of the spring 11.
An upward force is applied to the IC socket body 10. When the cover 12 is closed, the pressing portion 3 connects the lead 2 to the IC.
The socket body 10 is pressed downward. Then
First, the elastic body 7 starts to be elastically deformed, and then the block 8 turns left around the rotation shaft 9 to deform the spring 11. At this time, the fine electrode 4a also rotates about the rotation axis 9, and the lead 2
To perform a wiping action. And lead 2
And the circuit 6 are securely connected, and further connected to a circuit board (not shown) through the terminal 13.

【0010】而して、リード2と微細電極4aの擦れ合
う距離は、リード2を押圧部3によって押圧したときの
ブロック8の回転量によって決まることになる。従っ
て、回転量を多くすることによって、リード2と微細電
極4aのワイピング効果はより確実に得られる。但し、
ブロック8の回転可能範囲は、リード2を曲げる危険性
のない範囲としなければならない。尚、上記実施例にお
いては、微細電極にダイヤモンド粒と共にニッケルを複
合鍍金した例を示したが、ダイヤモンド粒に代えて炭化
硅素、シリカ、チタンウイスカ、セラミックスなど酸化
金属被膜を破壊しうるような高硬度粒子であればよい。
The distance between the lead 2 and the fine electrode 4a rubbing is determined by the amount of rotation of the block 8 when the lead 2 is pressed by the pressing portion 3. Therefore, by increasing the amount of rotation, the wiping effect between the lead 2 and the fine electrode 4a can be obtained more reliably. However,
The rotatable range of the block 8 must be a range where there is no danger of bending the lead 2. In the above-described embodiment, an example in which nickel is composite-plated together with diamond particles on the fine electrode has been described. Any hardness particles may be used.

【0011】〔実験例〕 (測定の目的) アルミをベースとした蒸着膜と今後ソ
ケットに使用されるであろうと思われる様々な接触物質
と蒸着膜との接触特性がどうなのか、また、様々な接触
物質の中でどれが一番良い接触特性を得られるかの試
(実)験を行った。 (試験方法) 当社で設計・製作した接触特性試験治具
を使用し、Siチップ上のAlをベースとした蒸着膜に対
し、接触圧と接触抵抗との関係がどうなのか試験(実験)
する。図5のように、様々な接触物質20とシリコン
チップ21上に蒸着したアルミニウムをベースとした蒸
着膜22と接触させ、接触物質裏面よりスプリング23
を介した通称ポゴピンと呼ばれているピン24で先端部
25を押す。そして、その押す力を徐々に強く押してい
く。その力はロードセル26(P/Eセンサ)で測定す
る。そして接触物質2のアルミニウムをベースとした蒸
着膜22の各々の一端から四端子測定法に則ってその間
の抵抗値の変化を測定する(市販の「LowOhm Meter 」
を使用し、その測定電流は50μAである)。尚、ポゴ
ピン24の先端部は丸・平2種類各々測定を行った。抵
抗値と圧力との関係は図6に示す。従来公知の2つの資
料と本発明の2つの資料の抵抗値を表1に示し、接触圧
力を表2に示し、総合評価を表3に示す。これによれ
ば、軽い接触圧で接触抵抗は小さくなり、総合的に良好
な結果が得られたことがわかる。これは軽い接触圧で、
酸化被膜への食い込み量が小さいため、逆に金鍍金とリ
ードとの接触面積が大きく保たれるためと考えられる。
[Experimental Examples] (Purpose of Measurement) What are the contact characteristics between the deposited film based on aluminum and various contact materials which are expected to be used for sockets in the future and the deposited film? A test (actual) test was performed to determine which of the contact materials can provide the best contact characteristics. (Test method) Using a contact characteristic test jig designed and manufactured by our company, test the relationship between contact pressure and contact resistance on an Al-based evaporated film on a Si chip (experiment)
I do. As shown in FIG. 5, various contact materials 20 are brought into contact with an aluminum-based deposition film 22 deposited on a silicon chip 21 and a spring 23 is applied from the back of the contact material.
The distal end 25 is pushed by a pin 24 commonly called a pogo pin via the. Then, the pushing force is gradually and strongly pushed. The force is measured by the load cell 26 (P / E sensor). Then, a change in resistance value is measured from one end of each of the aluminum-based vapor-deposited films 22 of the contact substance 2 according to a four-terminal measurement method (a commercially available “LowOhm Meter”).
And the measured current is 50 μA). The tip of the pogo pin 24 was measured for two types, round and flat. FIG. 6 shows the relationship between the resistance value and the pressure. The resistance values of two conventionally known materials and the two materials of the present invention are shown in Table 1, the contact pressure is shown in Table 2, and the overall evaluation is shown in Table 3. According to this, it can be seen that the contact resistance was reduced at a light contact pressure, and good results were obtained overall. This is a light contact pressure
It is considered that the contact area between the gold plating and the lead was kept large because the amount of penetration into the oxide film was small.

【0012】[0012]

【表1】 [Table 1]

【0013】[0013]

【表2】 [Table 2]

【0014】[0014]

【表3】 [Table 3]

【0015】(結果) 総合評価の結果、ニッケルメッ
キにダイヤモンドをまぶした「フリーカット」の接触特
性が良いことが判明した。その中でもその上に金メッキ
を施したものが良い。ダイヤモンド粒子の大きさはアル
ミ蒸着膜に対しては3〜15μm程度の厚さの範囲がよ
いことが判明した。
(Results) As a result of the comprehensive evaluation, it was found that the contact characteristics of "free cut" in which nickel was plated with diamond were good. Among them, those plated with gold are preferred. It has been found that the size of the diamond particles is preferably in the range of about 3 to 15 μm for the aluminum vapor-deposited film.

【0016】図7は本発明の更に他の実施例を示すもの
で、前述の実施例と同じ部分は同じ符号を用いて説明す
る。ICパッケージ1或はICチップ1aを装填する部
分の下方には弾性のあるコンタクトピン16があり、こ
のコンタクトピン16には上記ICパッケージ1或はI
Cチップ1aのリード2或は電極2aと接する電極4b
を有し、この電極4bは粒径15μm以下の高硬度粒子
14と共にニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金15
を施してなるものである。なお、図中17はソケット本
体10に設けたコンタクトピン16間を離間する仕切
壁、18はコンタクトピン16を上下に撓み易いように
する湾曲部である。この装置において、リード2或いは
電極2aを電極4bに向けて押圧すると、ダイヤモンド
粒14は金鍍金15の金と共にリード2或いは電極2a
内に喰い込み、リード2或いは電極2aを回路に確実に
接続する。
FIG. 7 shows still another embodiment of the present invention, and the same portions as those in the above-described embodiment will be described using the same reference numerals. Elastic contact pins 16 are provided below the portion where the IC package 1 or the IC chip 1a is loaded.
Electrode 4b in contact with lead 2 or electrode 2a of C chip 1a
This electrode 4b is composite-plated with nickel together with high-hardness particles 14 having a particle size of 15 μm or less, and a gold plating 15 is formed thereon.
Is applied. In the drawing, reference numeral 17 denotes a partition wall provided on the socket body 10 for separating the contact pins 16 from each other, and reference numeral 18 denotes a curved portion for easily bending the contact pins 16 up and down. In this apparatus, when the lead 2 or the electrode 2a is pressed toward the electrode 4b, the diamond grains 14 are formed together with the gold of the gold plating 15 by the lead 2 or the electrode 2a.
And lead 2 or electrode 2a is securely connected to the circuit.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上のように本発明ではこの微細電極
4,4a又は電極4bは高硬度粒子14と共にニッケル
鍍金し、その上に金鍍金15を施しているので、押圧部
3がリード2或は電極2aを押圧すると高硬度粒子14
は金鍍金15の金と共にリード2或は電極2a内に喰い
込み、リード2或は電極2aを回路6に確実に接続する
ものであるが、高硬度粒子14の粒径は15μm以下と
小さいので、接触抵抗値は小さく、その抵抗値のバラツ
キも小さく、接触圧も小さくてすむものである。
As described above, according to the present invention, the fine electrodes 4, 4a or 4b are nickel-plated together with the high-hardness particles 14 and gold-plated 15 thereon. Is pressed when the electrode 2a is pressed.
Is to bite into the lead 2 or the electrode 2a together with the gold of the gold plating 15 and securely connect the lead 2 or the electrode 2a to the circuit 6, but since the particle size of the high hardness particles 14 is as small as 15 μm or less, The contact resistance value is small, the variation in the resistance value is small, and the contact pressure is small.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の概要を示す壁を押圧型のI
Cソケットの縦断面図である。
FIG. 1 shows an outline of an embodiment of the present invention;
It is a longitudinal section of a C socket.

【図2】その要部の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a main part thereof.

【図3】本発明の他の実施例の回転押圧型のICソケッ
トの縦断面図である。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a rotary pressing type IC socket according to another embodiment of the present invention.

【図4】シリコンチップのリードを示す裏面図である。FIG. 4 is a rear view showing the leads of the silicon chip.

【図5】実験例の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of an experimental example.

【図6】抵抗値と圧力の関係を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing a relationship between a resistance value and a pressure.

【図7】本発明の更に他の実施例の要部の斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view of a main part of still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ICパッケージ 1a ICチップ 2 リード 2a 電極 4 微細電極 4a 微細電極 4b 電極 5 絶縁性フィルム 6 回路 7 弾性体 10 ICソケット本体 14 高硬度粒子 15 金鍍金 16 コンタクトピン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 IC package 1a IC chip 2 Lead 2a electrode 4 Fine electrode 4a Fine electrode 4b electrode 5 Insulating film 6 Circuit 7 Elastic body 10 IC socket main body 14 High hardness particle 15 Gold plating 16 Contact pin

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ICパッケージ或いはICチップを装填
するICソケットのICソケット本体(10)におい
て、ICパッケージ或いはICチップを装填する部分の
下方にはICパッケージ或いはICチップのリード
(2)或いは電極(2a)と外部回路(6)とを接続す
る弾性を有するコンタクト部材(16)が配設され、こ
のコンタクト部材(16)の前記リード(2)或いは電
極(2a)と接する電極(4b)は粒径15μm以下の
高硬度粒子(14)と共にニッケルを複合鍍金し、その
上に金鍍金(15)を施してなるICソケット。
In an IC socket body (10) of an IC socket for mounting an IC package or an IC chip, a lead (2) of an IC package or an IC chip or an electrode ( An elastic contact member (16) for connecting the external circuit (6a) to the external circuit (6a) is provided, and the electrode (4b) of the contact member (16) in contact with the lead (2) or the electrode (2a) is granular. An IC socket in which nickel is composite-plated together with high-hardness particles (14) having a diameter of 15 μm or less, and gold plating (15) is performed thereon.
【請求項2】 ICパッケージ或はICチップを装填す
るICソケットのICソケット本体(10)において、
ICパッケージ(1)或はICチップ(1a)を装填す
る部分の下方には弾性体(7)があり、その上には絶縁
性フィルム(5)があり、この絶縁性フィルムの表面に
は上記ICパッケージ(1)或はICチップ(1a)の
リード(2)或は電極(2a)と接する微細電極(4,
4a)を有する回路(6)があり、この微細電極(4,
4a)は粒径15μm以下の高硬度粒子(14)と共に
ニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金(15)を施し
てなるICソケット。
2. An IC socket main body (10) of an IC socket for mounting an IC package or an IC chip,
An elastic body (7) is provided below a portion where the IC package (1) or the IC chip (1a) is loaded, and an insulating film (5) is provided thereon. The fine electrodes (4, 4) in contact with the leads (2) or the electrodes (2a) of the IC package (1) or the IC chip (1a)
There is a circuit (6) having the fine electrode (4, 4a).
4a) is an IC socket formed by complex plating nickel with high-hardness particles (14) having a particle size of 15 μm or less, and then performing gold plating (15) thereon.
【請求項3】 ICパッケージ或はICチップを装填す
るICソケットのICソケット本体(10)において、
ICパッケージ(1)或はICチップ(1a)を装填す
る部分の下方には弾性のあるコンタクトピン(16)が
あり、このコンタクトピン(16)には上記ICパッケ
ージ(1)或はICチップ(1a)のリード(2)或は
電極(2a)と接する電極(4b)を有し、この電極
(4b)は粒径15μm以下の高硬度粒子(14)と共
にニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金(15)を施
してなるICソケット。
3. An IC socket body (10) of an IC socket for mounting an IC package or an IC chip,
An elastic contact pin (16) is provided below a portion where the IC package (1) or the IC chip (1a) is loaded, and the contact pin (16) is attached to the IC package (1) or the IC chip (1). 1a) has an electrode (4b) in contact with the lead (2) or the electrode (2a), and this electrode (4b) is composite-plated with nickel together with high-hardness particles (14) having a particle size of 15 μm or less, and is further plated thereon. IC socket with gold plating (15).
【請求項4】 前記高硬度粒子(14)は、ダイヤモン
ド、炭化硅素、シリカ、チタンウイスカ、セラミックス
のうちのいずれか、又はこれらのうちの複数種を含むも
のからなるものであることを特徴とする請求項1、2又
は3のいずれかに記載のICソケット。
4. The high-hardness particles (14) are made of any one of diamond, silicon carbide, silica, titanium whiskers, and ceramics, or those containing a plurality of these. The IC socket according to claim 1, 2 or 3, wherein
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6794890B1 (en) 1999-07-27 2004-09-21 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Test socket, method of manufacturing the test socket, test method using the test socket, and member to be tested
KR100773194B1 (en) * 2000-08-10 2007-11-02 타이코 일렉트로닉스 에이엠피 케이.케이. Socket for BGA package
KR100953444B1 (en) 2008-01-10 2010-04-20 주식회사 아이에스시테크놀러지 Spring adhesive test socket and fabrication method thereof
US10978820B2 (en) 2018-11-13 2021-04-13 Tyco Electronics Japan G.K. IC socket with contacts having a retained portion

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