JPH0734590U - IC socket - Google Patents

IC socket

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JPH0734590U
JPH0734590U JP6459593U JP6459593U JPH0734590U JP H0734590 U JPH0734590 U JP H0734590U JP 6459593 U JP6459593 U JP 6459593U JP 6459593 U JP6459593 U JP 6459593U JP H0734590 U JPH0734590 U JP H0734590U
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JP
Japan
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electrode
package
socket
chip
contact
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Japanese (ja)
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一久 小沢
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ICパッケージ1或はICチップのリード2
或いは電極と、微細電極4又は電極との接続を確実にす
るICソケットを提供する。 【構成】 微細電極4又は電極は粒径15μm以下の高
硬度粒子と共にニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金
を施してなる。
(57) [Abstract] [Purpose] IC package 1 or IC chip lead 2
Alternatively, there is provided an IC socket that ensures the connection between the electrode and the fine electrode 4 or the electrode. [Structure] The fine electrodes 4 or electrodes are formed by composite plating of nickel with high hardness particles having a particle size of 15 μm or less, and then gold plating is performed thereon.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、多端子のICパッケージ或はシリコンのICチップの実装或はバー ン・イン試験等に使用されるICソケットに関するもので、通常パッケージ状態 ・チップ状態のどちらでもエージングする為のソケットである。 The present invention relates to an IC socket used for mounting a multi-terminal IC package or a silicon IC chip, a burn-in test, etc., and is a socket for aging in both normal package state and chip state. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

現在、ICソケットにおいてはICリードフレーム(材質42合金又は、銅合 金の表面に半田メッキされている)と、ソケット内に組み込まれたプレスで打ち 抜かれたコンタクトピン(材質BeCuの表面にNiメッキ2〜3μm、その上に金メ ッキを0.2〜0.3μm)とが接触することにより電路を形成している。 一方、ICパッケージ或はシリコンチップのリードは高密度化の傾向にある。 ICパッケージ或はシリコンチップの実装或は試験等を行うためのICソケット のコンタクトピンも、これに合わせて高密度化をしなければならない。例えば図 4に示すようにシリコンのICチップ1aの電極2aはアルミニウムをベースと してなり、そのピッチは0.2mm以下のピッチとなり、ICソケット側の微細 電極4のピッチもそれに合わせて縮少させなければならない。 ICパッケージ1或はICチップ1aの微細ピッチ化傾向に伴うICソケット の微細化ピッチの為各リード2,電極2aと微細電極4との間の良好な電気的接 続は困難となる。特にICチップ1aの各リード2,電極2aと微細電極4がア ルミニウムの場合、その表面に酸化アルミニウムの被膜ができるので、接触不良 を起し易い。 Currently, in the IC socket, the IC lead frame (material 42 alloy or copper alloy surface is solder-plated) and the contact pin punched by the press built into the socket (material BeCu surface is Ni-plated). 2 to 3 μm, and a gold plating on it to 0.2 to 0.3 μm) forms an electric path. On the other hand, the leads of IC packages or silicon chips tend to be higher in density. The contact pins of IC sockets for mounting or testing IC packages or silicon chips must also be densified accordingly. For example, as shown in FIG. 4, the electrodes 2a of the silicon IC chip 1a are based on aluminum, and the pitch is 0.2 mm or less, and the pitch of the fine electrodes 4 on the IC socket side is also reduced accordingly. I have to let you. Due to the fine pitch of the IC socket accompanying the tendency of the fine pitch of the IC package 1 or the IC chip 1a, good electrical connection between each lead 2, the electrode 2a and the fine electrode 4 becomes difficult. In particular, when the leads 2, electrodes 2a and fine electrodes 4 of the IC chip 1a are made of aluminum, a film of aluminum oxide is formed on the surface thereof, so that contact failure is likely to occur.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

このため、従来は表面の酸化物被膜を破るためにダイヤモンド粉を用いるもの が知られているが、そのダイヤモンド粉の粒径は22μm〜27μmと大きいた め、接触抵抗値は大きく、また抵抗値のバラツキが大きく、接触圧力も大きい欠 点がある。 For this reason, it is conventionally known that diamond powder is used to break the oxide film on the surface, but since the particle size of the diamond powder is as large as 22 μm to 27 μm, the contact resistance value is large and the resistance value is large. Has a large variation and the contact pressure is also large.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本考案はかかる課題を解決するもので、ICパッケージ或いはICチップを装 填するICソケットのICソケット本体10において、ICパッケージ或いはI Cチップを装填する部分の下方にはICパッケージ或いはICチップのリード2 或いは電極2aと外部回路6とを接続する弾性を有するコンタクト部材16が配 設され、このコンタクト部材16の前記リード2或いは電極2aと接する電極4 bは粒径15μm以下の高硬度粒子14と共にニッケルを複合鍍金し、その上に 金鍍金15を施してなるものである。 また、ICパッケージ或はICチップを装填するICソケットのICソケット 本体10において、ICパッケージ1或はICチップ1aを装填する部分の下方 には弾性体7があり、その上には絶縁性フィルム5があり、この絶縁性フィルム の表面には上記ICパッケージ1或はICチップ1aのリード2或は電極2aに 接する微細電極4,4aを有する回路6があり、この微細電極4,4aは粒径1 5μm以下の高硬度粒子14と共にニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金15 を施してなるICソケットである。 また、ICパッケージ或はICチップを装填するICソケットのICソケット 本体10において、ICパッケージ1或はICチップ1aを装填する部分の下方 には弾性のあるコンタクトピン16があり、このコンタクトピン16には上記I Cパッケージ1或はICチップ1aのリード2或は電極2aと接する電極4bを 有し、この電極4bは粒径15μm以下の高硬度粒子14と共にニッケルを複合 鍍金し、その上に金鍍金15を施してなるICソケットである。 The present invention solves such a problem. In the IC socket body 10 of an IC socket for mounting an IC package or IC chip, the IC package or IC chip lead is provided below the portion where the IC package or IC chip is loaded. 2 or an elastic contact member 16 for connecting the electrode 2a and the external circuit 6 is provided, and the lead 2 of the contact member 16 or the electrode 4b in contact with the electrode 2a together with the high hardness particles 14 having a particle size of 15 μm or less It is formed by composite plating of nickel and then gold plating 15 is applied thereon. Further, in the IC socket body 10 of the IC socket in which the IC package or the IC chip is loaded, the elastic body 7 is provided below the portion in which the IC package 1 or the IC chip 1a is loaded, and the insulating film 5 is formed thereon. There is a circuit 6 having fine electrodes 4 and 4a in contact with the lead 2 or the electrode 2a of the IC package 1 or the IC chip 1a on the surface of the insulating film. This is an IC socket in which nickel is compound-plated together with high hardness particles 14 of 15 μm or less, and gold plating 15 is applied thereon. Further, in the IC socket body 10 of the IC socket in which the IC package or the IC chip is loaded, there is an elastic contact pin 16 below the portion in which the IC package 1 or the IC chip 1a is loaded. Has an electrode 4b in contact with the lead 2 of the IC package 1 or the IC chip 1a or the electrode 2a. The electrode 4b is composite-plated with nickel together with high hardness particles 14 having a particle size of 15 μm or less, and gold is deposited thereon. It is an IC socket formed by plating 15.

【0005】[0005]

【作 用】[Work]

押圧部3がリード2或は電極2aを押圧すると高硬度粒子14は金鍍金15の 金と共にリード2或は電極2a内に喰い込み、リード2或は電極2aを回路6に 確実に接続する。 When the pressing portion 3 presses the lead 2 or the electrode 2a, the high hardness particles 14 bite into the lead 2 or the electrode 2a together with the gold of the gold plating 15, and securely connect the lead 2 or the electrode 2a to the circuit 6.

【0006】[0006]

【実施例】 図1は本考案の一実施例の押圧型のICソケットの縦断面図を示すもので、I Cパッケージ1を用いているが、シリコンのICチップ1aを用いる場合にも通 用しうることは勿論である。 この実施例が示すICパッケージ1はリードがガルウイン形状のICパッケー ジで、そのリード2は42鉄ニッケル合金又は銅合金にハンダ鍍金をしたもので ある。 ICソケット本体10は直方体状でその上面中央にICパッケージ1を入れる 開口を有する。このカバー12にはICパッケージ1のリード2を下方に押圧す る押圧部3を有する。 ICソケット本体10内において上記開口の下方の位置には150℃以上の耐 熱性シリコンゴム材料によって構成されている弾性体7があり、その上にはポリ イミド樹脂或はポリエーテルサルフォン等よりなる柔軟な絶縁性フィルム5があ り、この絶縁性フィルム5の表面には上記リード2に接する高密度に形成された 微細電極4を有する銅箔などで作られた柔軟性の回路6が設けられている。この 回路6はICソケット本体10の底部に植設した端子13,13・・・に接続さ れる。[Embodiment] FIG. 1 is a vertical sectional view of a pressure type IC socket according to an embodiment of the present invention. Although an IC package 1 is used, it is also applicable when a silicon IC chip 1a is used. Of course, you can. The IC package 1 shown in this embodiment is an IC package in which the leads are gull-win shaped, and the leads 2 are 42 iron-nickel alloy or copper alloy solder-plated. The IC socket body 10 has a rectangular parallelepiped shape, and has an opening at the center of the upper surface for receiving the IC package 1. The cover 12 has a pressing portion 3 that presses the leads 2 of the IC package 1 downward. At a position below the opening in the IC socket body 10, there is an elastic body 7 made of a heat resistant silicone rubber material having a temperature of 150 ° C. or higher, and made of a polyimide resin or polyether sulfone or the like. There is a flexible insulating film 5, and a flexible circuit 6 made of copper foil or the like having fine electrodes 4 formed in high density in contact with the leads 2 is provided on the surface of the insulating film 5. ing. The circuit 6 is connected to the terminals 13, 13 ... Implanted in the bottom of the IC socket body 10.

【0007】 図2はその微細電極4の拡大図を示すもので、その微細電極4はダイヤモンド 粒14と共にニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金15をしたものである。ダ イヤモンド粒14の粒径は15μm以下のものである。金鍍金15の厚さはニッ ケルメッキが酸化しない程度とする。 次にこの装置の動作を説明する。ICソケット本体10の上面中央の開口内に ICパッケージ1を装填し、カバー12を覆せて上方より下方に押圧すると押圧 部3は図2矢印のようにリード2を下方に押圧する。これによってダイヤモンド 粒14は金鍍金15の金と共にリード2内に喰い込み、リード2を微細電極4と 回路6、そして端子13に接続する。ダイヤモンド粒子が食い込む深さは約5ミ クロンから10ミクロン程度であると思われる。 ICチップ1aを用いたときにはダイヤモンド粒14はその電極2aの酸化ア ルミニウムの被膜を割りながら内部のアルミニウムに突き刺さり、接続が良好と なる。FIG. 2 shows an enlarged view of the fine electrode 4. The fine electrode 4 is obtained by compound plating nickel with diamond grains 14 and then gold plating 15 thereon. The diamond grains 14 have a grain size of 15 μm or less. The thickness of the gold plating 15 is set so that the nickel plating does not oxidize. Next, the operation of this device will be described. When the IC package 1 is loaded into the opening at the center of the upper surface of the IC socket body 10 and the cover 12 is covered and pressed downward from above, the pressing portion 3 presses the lead 2 downward as shown by the arrow in FIG. As a result, the diamond grains 14 bite into the lead 2 together with the gold of the gold plating 15 and connect the lead 2 to the fine electrode 4, the circuit 6 and the terminal 13. The depth at which the diamond particles dig is thought to be about 5 micron to 10 microns. When the IC chip 1a is used, the diamond grains 14 pierce the aluminum oxide inside the electrode 2a while breaking the aluminum oxide film, and the connection is good.

【0008】 図3は本考案の他の実施例の回転押圧型のICソケットの縦断面図を示すもの で、上記実施例と同じ部分は同じ符号を用いて説明する。 図において1はICパッケージ本体、2はICパッケージのリード、3はリー ド2を押圧するための押圧部、4aはリード2と接続するための多数の接点が高 密度に形成された微細電極、5は微細電極4aを表面に設けた柔軟性を有するポ リイミドなどで作られた絶縁性フィルム、6は絶縁性フィルム5の表面に設けら れた微細電極4aと電気的に接続が可能な状態にある銅箔などで作られた柔軟性 を有する回路、7は微細電極4aの下方部分全体にわたって配設されており、絶 縁性フィルム5に下から接するゴム等の弾性体、8は回転軸9によってICソケ ット本体10に対して上下に揺動可能に取り付けられたブロック、11は一端を ICソケット本体10に、他の一端をブロック8に取り付けられたばね、12は ICソケットに回動可能に取り付けられた押圧部3を有するカバー、13は回路 6と接続状態にある、ICパッケージの実装試験等を行うための回路基板と接続 するために、回路基板の接続部分のピッチに合わせてICソケット本体10に取 り付けられた端子である。FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a rotary pressing type IC socket according to another embodiment of the present invention. The same parts as those in the above embodiment will be described using the same reference numerals. In the figure, 1 is an IC package main body, 2 is an IC package lead, 3 is a pressing portion for pressing the lead 2, 4a is a fine electrode in which a large number of contacts for connecting with the lead 2 are formed with high density, 5 is an insulating film made of flexible polyimide or the like having a fine electrode 4a provided on its surface, and 6 is a state capable of being electrically connected to the fine electrode 4a provided on the surface of the insulating film 5. A flexible circuit made of copper foil, etc., 7 is disposed over the entire lower part of the fine electrode 4a, and is made of an elastic body such as rubber that contacts the insulating film 5 from below, and 8 is a rotating shaft. A block attached to the IC socket body 10 by 9 so as to be able to swing up and down, 11 is a spring attached to the IC socket body 10 at one end and another end is attached to the block 8, and 12 is an IC socket. A cover having a pressing portion 3 that is movably attached, 13 is adjusted to the pitch of the connection portion of the circuit board in order to connect with the circuit board that is in the connection state with the circuit 6 and for the mounting test of the IC package. Terminal attached to the IC socket body 10.

【0009】 かくして、ICパッケージを装着するに際しカバー12を開け、ICパッケー ジ1をICソケット本体10に装填すると、リード2が微細電極4aの上に載る 。微細電極4aは、ICパッケージのリード2のピッチと同じピッチで、絶縁性 フィルム5の表面に設けられている。ブロック8は、ばね11の弾性力によって 、ICソケット本体10に対して上方向の力を受けている。カバー12を閉じる と、押圧部3がリード2をICソケット本体10に対して下方向へ押圧する。す ると、まず弾性体7が弾性変形しはじめ、次にブロック8が回転軸9を中心に左 旋し、ばね11を変形させる。このとき、微細電極4aも回転軸9を中心に回転 し、リード2を擦り、ワイピング作用が行われる。そして、リード2と回路6が 確実に接続され、更に端子13を通じて、図示されていない回路基板と接続され る。Thus, when the IC package is mounted, the cover 12 is opened, and the IC package 1 is loaded into the IC socket body 10. Then, the leads 2 are placed on the fine electrodes 4a. The fine electrodes 4a are provided on the surface of the insulating film 5 at the same pitch as the pitch of the leads 2 of the IC package. The block 8 receives an upward force against the IC socket body 10 due to the elastic force of the spring 11. When the cover 12 is closed, the pressing portion 3 presses the lead 2 downward against the IC socket body 10. Then, the elastic body 7 begins to elastically deform, and then the block 8 rotates counterclockwise about the rotation shaft 9 to deform the spring 11. At this time, the fine electrode 4a also rotates around the rotating shaft 9 and rubs the lead 2 to perform a wiping action. Then, the lead 2 and the circuit 6 are securely connected, and further connected to a circuit board (not shown) through the terminal 13.

【0010】 而して、リード2と微細電極4aの擦れ合う距離は、リード2を押圧部3によ って押圧したときのブロック8の回転量によって決まることになる。従って、回 転量を多くすることによって、リード2と微細電極4aのワイピング効果はより 確実に得られる。但し、ブロック8の回転可能範囲は、リード2を曲げる危険性 のない範囲としなければならない。 尚、上記実施例においては、微細電極にダイヤモンド粒と共にニッケルを複合 鍍金した例を示したが、ダイヤモンド粒に代えて炭化硅素、シリカ、チタンウイ スカ、セラミックスなど酸化金属被膜を破壊しうるような高硬度粒子であればよ い。Therefore, the distance at which the lead 2 and the fine electrode 4 a rub each other is determined by the rotation amount of the block 8 when the lead 2 is pressed by the pressing portion 3. Therefore, by increasing the amount of rotation, the wiping effect of the lead 2 and the fine electrode 4a can be more reliably obtained. However, the rotatable range of the block 8 must be a range where there is no risk of bending the lead 2. In the above examples, an example in which nickel is compound-plated together with diamond grains on the fine electrode has been shown, but instead of diamond grains, a high-grade metal oxide film such as silicon carbide, silica, titanium whiskers, or ceramics that can destroy metal oxide coatings. Any hard particles are acceptable.

【0011】 〔実験例〕 (測定の目的) アルミをベースとした蒸着膜と今後ソケットに使用されるで あろうと思われる様々な接触物質と蒸着膜との接触特性がどうなのか、また、様 々な接触物質の中でどれが一番良い接触特性を得られるかの試(実)験を行った 。 (試験方法) 当社で設計・製作した接触特性試験治具を使用し、Siチップ上 のAlをベースとした蒸着膜に対し、接触圧と接触抵抗との関係がどうなのか試験 (実験) する。 図5のように、様々な接触物質20とシリコンチップ21上に蒸着したアルミ ニウムをベースとした蒸着膜22と接触させ、接触物質裏面よりスプリング23 を介した通称ポゴピンと呼ばれているピン24で先端部25を押す。そして、そ の押す力を徐々に強く押していく。その力はロードセル26(P/Eセンサ)で 測定する。そして接触物質2のアルミニウムをベースとした蒸着膜22の各々の 一端から四端子測定法に則ってその間の抵抗値の変化を測定する(市販の「Low Ohm Meter 」を使用し、その測定電流は50μAである)。 尚、ポゴピン24の先端部は丸・平2種類各々測定を行った。抵抗値と圧力と の関係は図6に示す。 従来公知の2つの資料と本考案の2つの資料の抵抗値を表1に示し、接触圧力 を表2に示し、総合評価を表3に示す。これによれば、軽い接触圧で接触抵抗は 小さくなり、総合的に良好な結果が得られたことがわかる。これは軽い接触圧で 、酸化被膜への食い込み量が小さいため、逆に金鍍金とリードとの接触面積が大 きく保たれるためと考えられる。[Experimental Example] (Purpose of measurement) What is the contact property between the vapor-deposited film made of aluminum and various contact substances that will be used in the socket in the future and the vapor-deposited film? A trial (actual) test was conducted to find out which of the various contact substances has the best contact characteristics. (Test method) Using a contact property test jig designed and manufactured by our company, test (experiment) what is the relationship between contact pressure and contact resistance for an Al-based evaporated film on a Si chip. As shown in FIG. 5, various contact substances 20 are brought into contact with the vapor deposition film 22 based on aluminum vapor-deposited on the silicon chip 21, and a pin 24, which is commonly called a pogo pin, is formed from the back face of the contact substance through a spring 23. Push the tip 25 with. Then, the pushing force is gradually and strongly pushed. The force is measured by the load cell 26 (P / E sensor). Then, the change in the resistance value between each end of the vapor deposition film 22 based on aluminum of the contact substance 2 is measured according to the four-terminal measurement method (a commercially available "Low Ohm Meter" is used, and the measured current is 50 μA). The pogo pin 24 was measured for both round and flat types at the tip. The relationship between resistance and pressure is shown in FIG. The resistance values of two conventionally known materials and two materials of the present invention are shown in Table 1, the contact pressure is shown in Table 2, and the comprehensive evaluation is shown in Table 3. According to this, it can be seen that the contact resistance was reduced with a light contact pressure, and that good results were obtained overall. It is considered that this is because the contact area between the gold plating and the leads is kept large because the contact pressure is light and the amount of bite into the oxide film is small.

【0012】[0012]

【表1】 [Table 1]

【0013】[0013]

【表2】 [Table 2]

【0014】[0014]

【表3】 [Table 3]

【0015】 (結果) 総合評価の結果、ニッケルメッキにダイヤモンドをまぶした「フリ ーカット」の接触特性が良いことが判明した。その中でもその上に金メッキを施 したものが良い。ダイヤモンド粒子の大きさはアルミ蒸着膜に対しては3〜15 μm程度の厚さの範囲がよいことが判明した。(Results) As a result of the comprehensive evaluation, it was found that the contact characteristics of “free cut” in which nickel plating was sprinkled with diamond was good. Among them, the one with gold plating on it is preferable. It has been found that the size of the diamond particles is preferably in the range of about 3 to 15 μm for the aluminum vapor deposition film.

【0016】 図7は本考案の更に他の実施例を示すもので、前述の実施例と同じ部分は同じ 符号を用いて説明する。 ICパッケージ1或はICチップ1aを装填する部分の下方には弾性のあるコ ンタクトピン16があり、このコンタクトピン16には上記ICパッケージ1或 はICチップ1aのリード2或は電極2aと接する電極4bを有し、この電極4 bは粒径15μm以下の高硬度粒子14と共にニッケルを複合鍍金し、その上に 金鍍金15を施してなるものである。なお、図中17はソケット本体10に設け たコンタクトピン16間を離間する仕切壁、18はコンタクトピン16を上下に 撓み易いようにする湾曲部である。 この装置において、リード2或いは電極2aを電極4bに向けて押圧すると、 ダイヤモンド粒14は金鍍金15の金と共にリード2或いは電極2a内に喰い込 み、リード2或いは電極2aを回路に確実に接続する。FIG. 7 shows still another embodiment of the present invention. The same parts as those of the above-mentioned embodiment will be described using the same reference numerals. An elastic contact pin 16 is provided below the portion where the IC package 1 or the IC chip 1a is loaded, and the contact pin 16 has an electrode in contact with the lead 2 or the electrode 2a of the IC package 1 or the IC chip 1a. This electrode 4b is formed by composite plating of nickel with high hardness particles 14 having a particle diameter of 15 μm or less, and then gold plating 15 is applied thereon. In the figure, reference numeral 17 denotes a partition wall provided between the contact pins 16 provided in the socket body 10, and reference numeral 18 denotes a curved portion for facilitating the contact pins 16 to be vertically bent. In this device, when the lead 2 or the electrode 2a is pressed toward the electrode 4b, the diamond grain 14 bites into the lead 2 or the electrode 2a together with the gold of the gold plating 15 and securely connects the lead 2 or the electrode 2a to the circuit. To do.

【0017】[0017]

【考案の効果】[Effect of device]

以上のように本考案ではこの微細電極4,4a又は電極4bは高硬度粒子14 と共にニッケル鍍金し、その上に金鍍金15を施しているので、押圧部3がリー ド2或は電極2aを押圧すると高硬度粒子14は金鍍金15の金と共にリード2 或は電極2a内に喰い込み、リード2或は電極2aを回路6に確実に接続するも のであるが、高硬度粒子14の粒径は15μm以下と小さいので、接触抵抗値は 小さく、その抵抗値のバラツキも小さく、接触圧も小さくてすむものである。 As described above, in the present invention, the fine electrodes 4, 4a or the electrodes 4b are nickel-plated together with the high hardness particles 14, and the gold plating 15 is applied on the fine electrodes 4, 4a, so that the pressing portion 3 forms the lead 2 or the electrode 2a. When pressed, the high hardness particles 14 bite into the lead 2 or the electrode 2a together with the gold of the gold plating 15 and securely connect the lead 2 or the electrode 2a to the circuit 6. Since it is as small as 15 μm or less, the contact resistance value is small, the variation in the resistance value is small, and the contact pressure is small.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案の一実施例の概要を示す壁を押圧型のI
Cソケットの縦断面図である。
FIG. 1 shows an outline of an embodiment of the present invention in which a wall pressing type I is used.
It is a longitudinal cross-sectional view of a C socket.

【図2】その要部の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a main part thereof.

【図3】本考案の他の実施例の回転押圧型のICソケッ
トの縦断面図である。
FIG. 3 is a vertical sectional view of a rotary pressing type IC socket according to another embodiment of the present invention.

【図4】シリコンチップのリードを示す裏面図である。FIG. 4 is a rear view showing the leads of the silicon chip.

【図5】実験例の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of an experimental example.

【図6】抵抗値と圧力の関係を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing a relationship between resistance value and pressure.

【図7】本考案の更に他の実施例の要部の斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view of a main part of still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ICパッケージ 1a ICチップ 2 リード 2a 電極 4 微細電極 4a 微細電極 4b 電極 5 絶縁性フィルム 6 回路 7 弾性体 10 ICソケット本体 14 高硬度粒子 15 金鍍金 16 コンタクトピン 1 IC Package 1a IC Chip 2 Lead 2a Electrode 4 Micro Electrode 4a Micro Electrode 4b Electrode 5 Insulating Film 6 Circuit 7 Elastic Body 10 IC Socket Body 14 High Hardness Particle 15 Gold Plating 16 Contact Pin

Claims (4)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 ICパッケージ或いはICチップを装填
するICソケットのICソケット本体(10)におい
て、ICパッケージ或いはICチップを装填する部分の
下方にはICパッケージ或いはICチップのリード
(2)或いは電極(2a)と外部回路(6)とを接続す
る弾性を有するコンタクト部材(16)が配設され、こ
のコンタクト部材(16)の前記リード(2)或いは電
極(2a)と接する電極(4b)は粒径15μm以下の
高硬度粒子(14)と共にニッケルを複合鍍金し、その
上に金鍍金(15)を施してなるICソケット。
1. In an IC socket main body (10) of an IC socket in which an IC package or IC chip is loaded, a lead (2) or an electrode (of the IC package or IC chip is provided below a portion where the IC package or IC chip is loaded. The contact member (16) having elasticity for connecting the external circuit (6) to the electrode (2a) is arranged, and the electrode (4b) in contact with the lead (2) or the electrode (2a) of the contact member (16) is a particle. An IC socket obtained by compound-plating nickel with high-hardness particles (14) having a diameter of 15 μm or less, and then plating with gold (15).
【請求項2】 ICパッケージ或はICチップを装填す
るICソケットのICソケット本体(10)において、
ICパッケージ(1)或はICチップ(1a)を装填す
る部分の下方には弾性体(7)があり、その上には絶縁
性フィルム(5)があり、この絶縁性フィルムの表面に
は上記ICパッケージ(1)或はICチップ(1a)の
リード(2)或は電極(2a)と接する微細電極(4,
4a)を有する回路(6)があり、この微細電極(4,
4a)は粒径15μm以下の高硬度粒子(14)と共に
ニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金(15)を施し
てなるICソケット。
2. An IC socket body (10) of an IC socket in which an IC package or an IC chip is loaded,
An elastic body (7) is provided below the IC package (1) or the portion where the IC chip (1a) is loaded, and an insulating film (5) is provided on the elastic body (7). Fine electrodes (4) in contact with leads (2) or electrodes (2a) of the IC package (1) or IC chip (1a)
There is a circuit (6) with 4a) and this fine electrode (4,
4a) is an IC socket formed by composite plating nickel together with high hardness particles (14) having a particle diameter of 15 μm or less, and gold plating (15) on the composite plating.
【請求項3】 ICパッケージ或はICチップを装填す
るICソケットのICソケット本体(10)において、
ICパッケージ(1)或はICチップ(1a)を装填す
る部分の下方には弾性のあるコンタクトピン(16)が
あり、このコンタクトピン(16)には上記ICパッケ
ージ(1)或はICチップ(1a)のリード(2)或は
電極(2a)と接する電極(4b)を有し、この電極
(4b)は粒径15μm以下の高硬度粒子(14)と共
にニッケルを複合鍍金し、その上に金鍍金(15)を施
してなるICソケット。
3. An IC socket main body (10) of an IC socket in which an IC package or an IC chip is loaded,
An elastic contact pin (16) is provided below the portion where the IC package (1) or the IC chip (1a) is loaded, and the contact pin (16) has the above-mentioned IC package (1) or IC chip ( 1a) has an electrode (4b) in contact with the lead (2) or the electrode (2a), and this electrode (4b) is composite-plated with nickel together with high hardness particles (14) having a particle size of 15 μm or less, and An IC socket that is plated with gold (15).
【請求項4】 前記高硬度粒子(14)は、ダイヤモン
ド、炭化硅素、シリカ、チタンウイスカ、セラミックス
のうちのいずれか、又はこれらのうちの複数種を含むも
のからなるものであることを特徴とする請求項1、2又
は3のいずれかに記載のICソケット。
4. The high-hardness particles (14) are made of any one of diamond, silicon carbide, silica, titanium whiskers, and ceramics, or one containing a plurality of these. The IC socket according to claim 1, 2, or 3.
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