JPH10227712A

JPH10227712A - 管の漏洩箇所を探知する方法及び真空装置

Info

Publication number: JPH10227712A
Application number: JP4967997A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Abe; 哲也阿部; Seiji Hiroki; 成治廣木; Koji Yagishita; 浩二柳下; Eijiro Ochiai; 英二郎落合
Original assignee: Japan Atomic Energy Research Institute; Ulvac Inc
Current assignee: Japan Atomic Energy Agency; Ulvac Inc
Priority date: 1997-02-18
Filing date: 1997-02-18
Publication date: 1998-08-25

Abstract

(57)【要約】【課題】真空室内に配設された管の漏洩を、真空装置
の稼働中に、短時間で探知し、かつその漏洩の箇所を特
定できるような管の漏洩箇所を探知する方法及びこの方
法を簡単な構成で行える真空装置を提供すること。【解決手段】リークディテクタ３１が設けられた真空
室２１内に配設され、真空室２１の外部に供給部２４ａ
及び排出部２４ｂがある管２４の供給部２４ａに、流量
計２９と、ヘリウムガスを供給するガス供給管３８及び
水供給管２６に吸込側が接続されたポンプ４０とが設け
られている。漏洩箇所を探知する際には、ポンプ４０を
稼働させて、管２４を流れるべき水にヘリウムガスを混
入させ、この混合水を管２４に供給し、真空室２１のヘ
リウム濃度（又は分圧）をリークディテクタ３１で検出
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空室内に配設さ
れた管の漏洩箇所を探知する方法及び真空室内に管を配
設した真空装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば半導体装置の製造工程や核
融合炉で、真空装置内でプラズマを用いて処理する工程
中に発生する熱から、真空室の壁面を保護するため、真
空室の内部には水冷用の管が配設されている。図４に、
その１つである真空装置を全体として１２で示す。この
真空装置１２は真空室１を有しており、真空室１には、
真空バルブ２を介して真空ポンプ３が接続されている。
更に、真空室１の壁面には当接して、又は近接して管４
が配設されている。ただし、この管４の両端部、すなわ
ち供給部４ａと排出部４ｂは、真空室１の外部にある。
供給部４ａには、圧力計９が設けられており、更に、こ
の供給部４ａは２つに分かれて、このそれぞれには、バ
ルブ５を開くことによって水を導入する水供給管６と、
バルブ７を開くことによって洩れ検査用ガスであるヘリ
ウム（Ｈｅ）ガスを導入するガス供給管８とが接続され
ている。また、排出部４ｂには、封止バルブ１０が設け
られている。

【０００３】この真空装置１２において、真空室１に配
設された管４に漏水が発生すると、真空室１内の圧力が
上昇する。しかしながら、真空室１内の圧力が上昇した
だけでは、これが管４の漏水による圧力上昇であるか、
他の漏洩（例えば真空室の漏洩）による圧力上昇である
かを判断することはできない。そこで、従来、管４の漏
洩であるかどうかを検出するためには、次のようなこと
を行っていた。まず、真空室１の真空を解放し大気圧と
する。次に、バルブ５を閉じて水の導入を止めた後、バ
ルブ７を開けて、管４内にＨｅガスを導入する。この
際、管４内に残っている水はＨｅガスの圧力により排出
部４ｂへと排出される。管４内の水が充分に排出された
時点で、封止バルブ１０を閉じ、管４内のＨｅガスを例
えば２×１０⁵ Ｐａ以上に加圧する。そして、ＪＩＳ−
Ｚ２３３０の吸込法に適したリークディテクタ１１の吸
引口１１ａを、管４に沿わせる。管４の漏水箇所に吸引
口１１ａが至ると、管４の漏水箇所から漏れているＨｅ
ガスが吸引口１１ａから吸引され、リークディテクタ１
１がＨｅガスを検出して、漏水箇所が探知される。

【０００４】上述したような従来の技術では、真空室１
を真空にし管４に水を流した状態（真空装置の稼働中）
では、管４の漏洩試験ができない。すなわち、真空室１
に配設された管４の漏洩を探知するためには、一度真空
室１を大気圧に戻し、管４の内部の水をＨｅガスに置換
し、管４に沿ってリークディテクタ１１の吸引口１１ａ
を移動しなければならない。そのため、漏水箇所の探知
は、容易に行えず、特に、管４が例えば３０ｍと長い場
合には、漏水箇所を探知するのに、大変な時間がかかっ
てしまう。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の問題
に鑑みてなされ、真空室内に配設された管の漏洩箇所
を、真空装置の稼働中でも、すなわち短時間に探知でき
る、管の漏洩箇所を探知する方法及び短時間に内部に配
設された管の漏洩箇所の探知が可能な真空装置を提供す
ることを課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】以上の課題は、真空室
（例えば、実施例の２１；以下、同様）内に配設され、
両端部（２４ａ、２４ｂ）が前記真空室（２１）の外部
にあり、前記両端部（２４ａ、２４ｂ）の一方（２４
ａ）から他方（２４ｂ）へと内部を流体が流れる管（２
４）の漏洩箇所（ｈ、ｈ’、ｈ”）を探知する方法にお
いて、前記流体に洩れ検査用ガスを混入させたガス混合
流体を前記真空室（２１）内の前記管（２４）の内部に
前記一方（２４ａ）から供給し、前記真空室（２１）内
に漏洩した前記洩れ検査用ガスを検出することにより、
前記管（２４）の漏洩箇所の有無を探知することを特徴
とする管（２４）の漏洩箇所を探知する方法、によって
解決される。

【０００７】従って、管に漏洩箇所があれば、その漏洩
箇所から洩れ検査用ガスが混入された混合流体が漏洩す
るため、真空室内の洩れ検査用ガスの濃度が上昇する。
他方、管に漏洩箇所がなければ、真空室内の洩れ検査用
ガスの濃度は変わらず、すなわち洩れ検査用ガスが検出
されない。そこで、この真空室内の洩れ検査用ガスの濃
度を検出することによって、管に漏洩箇所を探知するこ
とができる。すなわち、真空室を大気圧に解放し管内の
流体を排出せずとも、洩れ検査用ガスが真空室内で検出
されるかを調べるだだけで、真空室内の管の漏洩箇所を
探知することができる。従って、その探知は、従来に比
べて非常に容易であり、この管の漏洩の有無を探知する
のに要する時間は、従来に比べてはるかに短くなる。

【０００８】又、以上の課題は、少なくとも真空室（例
えば、実施例の２１；以下、同様）と、該真空室（２
１）を真空引きする真空ポンプ（２３）と、前記真空室
（２１）に配設され、両端部（２４ａ、２４ｂ）が前記
真空室（２１）の外部にあり、前記両端部（２４ａ、２
４ｂ）の一方（２４ａ）から他方（２４ｂ）へと内部を
流体が流れる管（２４）とを有する真空装置（２０）に
おいて、前記真空室（２１）に洩れ検査用ガスを検出す
る質量分析器（３１）を設け、前記管（２４）の前記両
端部の前記一方（２４ａ）に前記洩れ検査用ガスを供給
するガス供給管（３８）が接続されていることを特徴と
する真空装置（２０）、によって解決される。

【０００９】このような構成の真空装置とすることによ
って、真空装置内に配設された管の漏洩箇所を、短時間
で探知できる真空装置とすることができる。すなわち、
上記の管の漏洩箇所を探知する方法が、簡単な構成で行
える。

【００１０】

【発明の実施の形態】室内部を真空引きする真空ポンプ
と、内部に配設され、両端部が真空室の外部にあり、両
端部の一方から他方へと内部を流体が流れる管とを有す
る真空室に、洩れ検査用ガスを検出する質量分析器を設
け、管の両端部の一方に洩れ検査用ガスを供給するガス
供給管を接続する。このような構成の真空装置の管に洩
れ検査用ガスを混入した混合流体を供給し、管に漏洩箇
所があると、漏洩箇所から洩れ検査用ガスを含んだ混合
流体が漏洩して、真空室内の洩れ検査用ガスの濃度（又
は分圧）が上昇するので、真空室の洩れ検査用ガスを検
出する質量分析器の洩れ検査用ガスの濃度（又は分圧）
の変化により、管の漏洩箇所の有無を知ることができ
る。

【００１１】なお、管を流れる流体が液体である場合に
は、洩れ検査用ガスが大きな気泡として混入された状態
で管内を流れると、測定のばらつきが生じてしまい、安
定的な測定ができない。そのため、管を流れる流体が液
体である場合には、洩れ検査用ガスが微細な気泡となる
ように混入させるのがよい。従って、洩れ検査用ガスが
（攪拌され）極小さな気泡となるような装置、例えば以
下の実施例で述べるような渦流ポンプを介して、流体が
流れる管内に、洩れ検査用ガスを供給するようにすると
よい。

【００１２】なお、本発明では、漏洩箇所の位置も探知
できる。すなわち、洩れ検査用ガスを含んだ混合流体を
管に供給したときｔから、真空室内で洩れ検査用ガスが
検出されたとき（すなわち質量分析器に変化があったと
き）ｔ’までの時間Ｔ（ｓ）を測定し、同時に、この時
間中に、管の両端部の一端に設けられた流量計で測定さ
れる流量Ｑ（ｍ³ ／ｓ）の累積量（すなわち総流量）を
測定し、これらの値と管の大きさから、位置が求まる。
すなわち、混合流体を管に供給した位置から漏洩箇所ま
での距離Ｌ（ｍ）は、以下の数式で示される。

【００１３】

【数１】

【００１４】なお、ここでｒは、真空室に配設された管
の内径、πは円周率である。そして、流量Ｑが常に一定
であるならば、Ｌ＝Ｑ・Ｔ／（ｒ² ・π）……（２）と
なる。なお、真空室の大きさ等によって生じる質量分析
器のＨｅガスの濃度検出に要する時定数がある場合に
は、Ｌ_He＝Ｌ−Ｑ・Ｔ_He／（ｒ² ・π）……（３）で補
正する。ここで、Ｌ_He（ｍ）は質量分析器の時定数を考
慮した漏水箇所までの距離、Ｔ_He（ｓ）は質量分析器の
時定数である。

【００１５】なおまた、管の施工時に、所定間隔ごと
に、例えば１ｍおきに、管にマーキングを施しておけ
ば、漏洩箇所を修復する際に漏洩箇所の見当が容易にで
きるので、漏洩箇所を容易に探知することができる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の実施例について図１乃至図３
を参照して説明するが、説明を容易にするため、漏洩箇
所から洩れ検査用ガスであるＨｅガスが漏洩した時刻
と、質量分析器に、その時の真空室内のＨｅガスの濃度
が検出される時刻は同じとして、すなわち時定数を０と
して説明する。

【００１７】図１には、例えばプラズマを用いた処理工
程を内部で行うための真空装置２０が示されている。真
空装置２０は、真空バルブ２２を介して真空ポンプ２３
が接続された真空室２１を有しており、その内部には、
図示せずともプラズマを用いた処理工程のための装置が
具備されている。更に、真空室２１には、バルブ３２を
介して質量分析器であるリークディテクタ３１が接続さ
れている。このリークディテクタ３１は、真空室２１に
おける洩れ検査用ガス、例えばＨｅガスの濃度（または
分圧）を測定して示す。

【００１８】更に、本実施例では、真空室２１の壁２１
ａに隣接して、管２４が配設されている。この管２４
は、処理工程中に発生する熱から真空室２１の壁２１ａ
を保護するための冷却管である。更に、この管２４に
は、導入口２４ｃから排出口２４ｄまで所定の間隔で、
例えば１ｍ程度の間隔で図示しないマーキングが施され
ている。また、管２４の両端部、すなわち供給部２４ａ
と排出部２４ｂは、真空室２１の外部にあり、管２４に
真空室２１の外部から供給される流体が、真空室２１の
内部を通った後、再び真空室２１の外部へと排出され
る。

【００１９】供給部２４ａは、流量計２９が設けられ、
供給部２４ａを通る水の流量をリアルタイムに測定して
いる。また、供給部２４ａの端部は、２つに分岐されて
支管２４ａａ、２４ａｂとなっているが、供給部２４ａ
には、常に、管２４の排出部２４ｂまで流れるように加
圧された水が供給される。支管２４ａａ、２４ｂａはそ
れぞれ、水導入バルブ２５、混合水導入バルブ３５に接
続されており、水導入バルブ２５は、加圧されている水
を供給する水供給管２６に接続されている。一方、混合
水導入バルブ３５は、接続管３６を介してポンプ４０に
接続されており、このポンプ４０には、ガス導入バルブ
３７を有したガス供給管３８及び水供給管２６が接続さ
れている。

【００２０】ポンプ４０は、本実施例では、図２に示す
ニクニ社の渦流ポンプを用いている。ポンプ４０は、水
通路４１ａを有した本体４１と、羽根車４２と、羽根車
４２を回転させるためのモータ４３より構成されてい
る。本体４１の水通路４１ａの吸込側は、水供給管２６
とガス供給管３８とに接続されており、吐出側は、接続
管３６に接続されている。羽根車４２は、本体４１の中
央に設けられているが、両面に、外周に複数の放射状の
溝４２ａを有した円板形状をしている。また、羽根車４
２の中央部４２ｂは突出し、ここにモータ４３のシャフ
ト４３ａが挿嵌されており、これらはキー４４及び図示
しない複数のボルトによって固定されている。ポンプ４
０は、吸込側より水とＨｅガスとを同時に吸い込み、矢
印ｒ方向に回転する羽根車４２により、水とＨｅガスと
の混合と攪拌と加圧とを行っている。すなわち、吸込側
では大きな気泡のＨｅガスｂが混入された混合水が、吐
出側に至るまでには、微細な気泡のＨｅガスｂ’が混合
された混合水となって、接続管３６に供給される。

【００２１】本発明の真空装置２０は、このように構成
されているが、次に、本発明の管２４の漏洩箇所を探知
する方法について説明する。

【００２２】図１の真空装置２０が使用されている時に
は、真空バルブ２２が開いており、真空ポンプ２３が稼
働して、真空室２１の内部が真空に保たれている。同時
に、壁２１ａを熱から保護するために水が管２４を流れ
るが、この水は、水導入バルブ２５を開くことによっ
て、支管２４ａａを介して水供給管２６から供給されて
いる。なお、このとき、混合水導入バルブ３５及びガス
導入バルブ３７は閉じられており、ポンプ４０は停止さ
れている。

【００２３】真空室２１内の管２４の漏水検査をする場
合には、まず、この管２４全体についての漏水箇所の有
無を検査する。初めに、ガス導入バルブ３７を開き、ポ
ンプ４０を稼働させる。すなわち、ガス供給管３８から
Ｈｅガスと、水供給管２６から水とを同時にポンプ４０
に吸い込ませ、接続管３６に、微細の気泡のＨｅガスが
混入されたＨｅ混合水を供給する。同時に、水導入バル
ブ２５を閉じ、支管２４ａａからの水の供給を停止し、
代わりに、支管２４ａｂからＨｅ混合水を管２４に供給
する。なお、このときまでにバルブ３２を開けておく。
なおまた、管２４に供給されるべきＨｅ混合水を、真空
室２１内に配設されている管２４の総内容積（すなわ
ち、導入口２４ｃから排出口２４ｄまでの長さをＬ、管
２４の内径をｒ、円周率πとすると、総内容積はｒ² π
Ｌで示される）／水の流量（流量計２９により測定され
る）より算出される時間以上、流す。すなわち、導入口
２４ｃから排出口２４ｄまでＨｅ混合水で満たす。

【００２４】すると、もし管２４に漏洩箇所が一か所で
もある場合には、その漏洩箇所からＨｅ混合水、すなわ
ち（水と）Ｈｅガスが洩れ、真空室２１のＨｅ濃度が上
昇し、真空室２１の濃度を測定しているリークディテク
タ３１に、その濃度変化が示される。なお、管２４に漏
洩箇所がない場合には、Ｈｅ混合水が真空室２１内に漏
洩することがないので、真空室２１のＨｅ濃度は上昇せ
ず、リークディテクタ３１はバックグランドレベルのま
まである。従って、リークディテクタ３１のＨｅガスの
濃度の表示を観察すれば、漏洩箇所の有無が探知され
る。

【００２５】すなわち、真空室２１に配設された管２４
の内部を流れる流体に、Ｈｅガスを混入させて、このＨ
ｅガスが真空室で検出されるかによって、漏洩箇所の有
無を探知することができる。従って、真空室２１を真空
のまま、そして管２４の流体をわざわざ排出させること
なく、漏洩の検査を行えるので、その探知に必要な時間
は、従来よりもはるかに短くすることができる。また、
この方法は、上述したような簡単な構造を有する真空装
置で容易に行なえる。

【００２６】このようにして、漏洩箇所があると探知さ
れた場合には、次に、その漏洩箇所の位置を特定する。
まず、混合水導入バルブ３５を閉じ、Ｈｅ混合水の導入
を止める。同時に、水導入バルブ２５を開けて、水供給
管２６から管２４に水を供給する。そして、真空室２１
の内部のヘリウム濃度が定常状態となるまで（リークデ
ィテクタ３１の指示器がバックグランドレベルになり、
真空室２１内の管２４内部から混合水がすべて排出され
るまで）、水を管２４に流し続ける。

【００２７】定常状態となったら、ガス導入バルブ３７
を開け、ポンプ４０を稼働する。同時に、水導入バルブ
２５を閉じて、水供給管２６からの水の供給を停止す
る。そして、混合水導入バルブ３５を漏洩個所の有無を
検出するときに供給する時間よりもごく短い所定時間Ｔ
だけ開けて、ポンプ４０にて混合されたＨｅ混合水を管
２４に供給する。すなわち、ごく短い所定時間ＴだけＨ
ｅ混合水を管２４に供給したので、このＨｅ混合水が、
あたかも固まりとなって管２４内を移動する。同時に、
管２４内を流れる水の流量を流量計２９で測定し続け
る。

【００２８】このとき管２４に複数の漏洩箇所、例えば
図１に示すように孔ｈ、これに近接した孔ｈ’及び孔
ｈ、ｈ’からかなり離れた位置にある孔ｈ”の３か所の
漏洩箇所がある場合には、リークディテクタ３１のＨｅ
ガスの濃度の表示は、図３に示すような変化をする。図
３において、Ｈｅ混合水が管２４に供給された時刻を０
とし、Ｈｅ混合水を所定時間Ｔ、すなわち、時刻ｔ₀ ま
で供給したものとする。このとき、各孔ｈ、ｈ’、ｈ”
からは水だけが真空室２１内に洩れているので、リーク
ディテクタ３１はバックグランドレベルＧにある。時刻
ｔ₁ になると、供給されたＨｅ混合水の先端が孔ｈに至
り、ここからＨｅガス（及び水）が洩れ、Ｈｅガスの濃
度が上昇し始め、この時刻ｔ₁ 以降、孔ｈからＨｅ混合
水が漏洩するので、Ｈｅガスの濃度は上昇する。なお、
このときの漏洩量及び真空室２１を真空引きする真空ポ
ンプ２３の排気量により、この上昇勾配は図示以外のも
のとなる。時刻ｔ₂ になると、孔ｈを通過し、孔ｈから
洩れ出なかったＨｅ混合水が、孔ｈ’に到達し、孔ｈ’
からＨｅガス（及び水）が洩れ、Ｈｅガスの濃度が上昇
する。すなわち、この時刻ｔ₂ においては、孔ｈ及び孔
ｈ’の２か所からＨｅガス（及び水）が洩れる。そのた
め、この時刻ｔ₂ 以降のＨｅガスの濃度の上昇勾配は、
時刻ｔ₁ から時刻ｔ₂ よりも大きくなる。

【００２９】時刻ｔ₃ になると、Ｈｅ混合水の終端部が
孔ｈを通過し、孔ｈからは水だけが洩れ、Ｈｅガスは洩
れない（すなわち、図３で示されているＴ_A は、孔ｈか
らＨｅガスが洩れる時間を示している）。従って、この
時刻ｔ₃ では、孔ｈ’からＨｅガス（及び水）が洩れる
ので、時刻ｔ₃ 以降、Ｈｅ濃度の上昇勾配は、時刻ｔ₂
から時刻ｔ₃ よりも小さくなる。そして、時刻ｔ₄ とな
ると、Ｈｅ混合水の終端部が孔ｈ’を通過し、孔ｈ’か
らは水だけが洩れ、Ｈｅガスは洩れない（すなわち、図
３で示されているＴ_B は、孔ｈ’からＨｅガスが洩れる
時間を示している）。すなわち、時刻ｔ₄ 以降、Ｈｅガ
スは真空室２１に洩れず、真空ポンプ２３より孔ｈ、
ｈ’から洩れたＨｅが排出され、真空室２１のＨｅ濃度
が減少する。そして、時刻ｔ₅ にＨｅ濃度はバックグラ
ンドレベルＧとなる。その後、時刻ｔ₆ に、Ｈｅ混合水
の先端が孔ｈ”に到達すると、孔ｈ”からＨｅ混合水が
再び洩れ、Ｈｅ濃度が上昇する。そして時刻ｔ₇ になる
と、Ｈｅ混合水の終端が孔ｈ”を通過し、Ｈｅ濃度は減
少する（すなわち、図３のＴ_c は、孔ｈ”からＨｅガス
が洩れる時間を示している）。その後、真空ポンプ２３
の稼働により、真空室２１内に孔ｈ”を介して放出され
たＨｅガスが排気され、真空室２１内のＨｅ濃度が低下
してバックグランドレベルＧになる。

【００３０】従って、孔ｈの位置（本実施例ではポンプ
４０からｈまでの距離）は、時刻０から時刻ｔ₁ までの
時間Ａ（又は時刻ｔ₀ から時刻ｔ₁ までの時間Ａ’）中
の流量の総計、すなわち総流量を、管２４の流通面積
（πｒ² ）で割って、算出すれば得られる。すなわち、
式（１）においてｔ’にｔ₁ を、ｔに０を代入した式に
よって得られる。同様に、孔ｈ’の位置は、時刻０から
時刻ｔ₂ までの時間Ｂ（又は時刻ｔ₀ から時刻ｔ₄ まで
の時間Ｂ’）中の流量の総計、すなわち、総流量を管２
４の流通面積（πｒ² ）で割って、算出すれば、すなわ
ち式（１）に、ｔ’にｔ₂ を、ｔに０を代入した式によ
って得られる。また、孔ｈ”の位置も同様に、時刻０か
ら時刻ｔ₆ までの時間Ｃ（又は時刻ｔ₀ から時刻ｔ₇ ま
での時間Ｃ’）中の流量の総計、すなわち、総流量を管
２４の流通面積（πｒ² ）で割って、算出すれば、すな
わち式（１）に、ｔ’にｔ₆ を、ｔに０を代入した式に
よって得られる。

【００３１】すなわち、真空室２１内に配設された管２
４に洩れ検査用ガスを混合した混合水を供給したときか
ら、真空室内で洩れ検査用ガスが検出された時間と、こ
の時間中の総流量とを測定するという簡単な構成で、そ
の漏洩箇所の位置を探知することができる。

【００３２】なお、このようにして漏水箇所ｈ、ｈ’、
ｈ”の位置がわかった場合、漏水箇所を修復するが、本
実施例で用いた管２４には、所定の間隔でマーキングが
施されているので、漏水箇所を容易に発見でき、修復作
業も短時間で行える。

【００３３】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術
的思想に基づいて、種々の変形が可能である。

【００３４】例えば、本実施例では、管２４の供給部２
４ａを、ポンプ４０を介してＨｅガスを微細な気泡とし
て水に混合させた混合流体を供給する支管２４ａｂと、
水を供給する支管２４ａａとの２つに分岐させ、水のみ
を供給する場合には、ポンプ４０を停止した。しかしな
がら、供給される水の水源が加圧されていない場合に
は、この水を排出部まで流れるように加圧するための装
置、例えばポンプ等を設ける必要があり、この場合に
は、上記実施例のように管２４の供給部２４ａを２つの
支管２４ａａ、２４ａｂに分岐させなくともよい。

【００３５】また、上記実施例の真空室２１では、真空
バルブ２２を介した真空ポンプ２３と洩れ検査用ガスの
ガス濃度を検出するリークディテクタ３１が併設される
ようにしたが、この排気系の構造は、真空室の大きさに
より異なるので、上記の構造に限定されないことは、勿
論である。更に、上記実施例において、漏洩箇所の有無
を探知する際に、真空室内に配設された管が混合水で満
ちる時間以上、混合水を流したが、この時間以上、混合
水を流さなければ探知できないということはない。しか
し、真空室内に配設された管に混合水を流す時間を長く
したほうが、漏洩箇所から長時間に渡って洩れ検査用ガ
スが洩れるので、確実に、漏洩箇所の有無を探知するこ
とができる。また、漏洩個所の位置を探知する際には、
上記実施例では、洩れ検査用ガスを含んだ混合水を短い
所定時間Ｔだけ供給した。この所定時間Ｔはどんな長さ
であってもよいが、短い所定時間Ｔとすれば、上記実施
例で述べたように、洩れ検査用ガスを含んだ混合水が供
給したときから洩れ検査用ガスが真空室で検出されると
きまでの時間と、このときの総流量とから漏洩個所の位
置が探知できると同時に、混合水の供給を停止したとき
から洩れ検査用ガスが真空室で検出されるときまでの時
間と、このときの総流量とから漏洩個所の位置も求めら
れるので、漏洩個所の位置がより確実に探知できる。

【００３６】また、上記実施例では、真空室に配設され
た漏洩箇所を探知される管を、内部を冷却用の水が流れ
る管として説明したが、他の流体が流れる管、例えばフ
ロン、メチルクロライド、アンモニア等の冷媒が流れる
ような冷却用の管や熱湯を流すような加熱管であっても
よい。なお、上記実施例では、洩れ検査用ガスとしてＨ
ｅガスを用いたが、例えばハロゲンガスなど、洩れ検査
ができるガスであれば、他のガスを用いてもよい。

【００３７】

【発明の効果】以上、述べたように、本発明は次のよう
な効果を奏する。本発明の方法によれば、装置稼働中で
あっても、真空室に配設された管の漏洩箇所を探知する
ことができ、またその探知時間も、従来に比べて非常に
短くできる。更に、その漏洩箇所の特定もある程度の精
度をもって行えるので、修復の際に、容易に、その漏洩
箇所を見つけることができ、修復作業も短時間で行え
る。なお、本発明の真空装置によれば、簡単な構成で、
本発明の方法を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の真空装置を示す部分断面正面図であ
る。

【図２】本発明の真空装置に用いたポンプの断面正面図
である。

【図３】本発明の管の漏洩箇所を探知する方法を説明す
るための検出されるガス濃度のタイムチャートである。

【図４】従来例の真空装置を示す部分断面正面図であ
る。

【符号の説明】

２０真空装置２１真空室２４管２４ａ供給部２４ｂ排出部２５水導入バルブ２６水供給管２９流量計３１リークディテクタ３５混合水導入バルブ３８ガス供給管４０ポンプＡ時間Ｂ時間Ｃ時間ＧバックグランドレベルＴ所定時間ｂ’ 微細な気泡のＨｅガスｈ孔ｈ’ 孔ｈ” 孔ｔ₁ 時刻ｔ₂ 時刻ｔ₅ 時刻

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者柳下浩二神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内 (72)発明者落合英二郎神奈川県茅ケ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空室内に配設され、両端部が前記真空
室の外部にあり、前記両端部の一方から他方へと内部を
流体が流れる管の漏洩箇所を探知する方法において、前
記流体に洩れ検査用ガスを混入させたガス混合流体を前
記真空室内の前記管の内部に前記一方から供給し、前記
真空室内に漏洩した前記洩れ検査用ガスを検出すること
により、前記管の漏洩箇所の有無を探知することを特徴
とする管の漏洩箇所を探知する方法。
【請求項２】前記管に、前記ガス混合流体を供給する
時間を所定時間とし、前記ガス混合流体が前記管に供給
されたときから、前記真空室内で前記洩れ検査用ガスが
検出されるときまでの時間と、該時間に管を流れる流量
とを測定し、前記時間と該流量とから前記管の漏洩箇所
の位置を探知する請求項１に記載の管の漏洩箇所を探知
する方法。
【請求項３】前記流体が液体であり、該液体中に微細
な気泡として前記洩れ検査用ガスが混入される請求項１
又は請求項２に記載の管の漏洩箇所を探知する方法。
【請求項４】少なくとも真空室と、該真空室を真空引
きする真空ポンプと、前記真空室に配設され、両端部が
前記真空室の外部にあり、前記両端部の一方から他方へ
と内部を流体が流れる管とを有する真空装置において、
前記真空室に洩れ検査用ガスを検出する質量分析器を設
け、前記管の前記両端部の前記一方に前記洩れ検査用ガ
スを供給するガス供給管が接続されていることを特徴と
する真空装置。
【請求項５】前記流体が液体であり、前記管の前記真
空室と前記ガス供給管との間に、前記洩れ検査用ガスを
前記流体の中に微細な気泡として混合させるポンプを設
け、該ポンプを介して、前記管の前記両端部の前記一方
に前記ガス供給管が接続されている請求項４に記載の真
空装置。
【請求項６】前記管の両端部の前記一方に流量計が設
けられ、前記管に、所定間隔ごとにマーキングが施され
ている請求項４又は請求項５に記載の真空装置。