JPH10226671A - アリールアミノメチレンショウノウ誘導体及びその使用 - Google Patents
アリールアミノメチレンショウノウ誘導体及びその使用Info
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- JPH10226671A JPH10226671A JP10005918A JP591898A JPH10226671A JP H10226671 A JPH10226671 A JP H10226671A JP 10005918 A JP10005918 A JP 10005918A JP 591898 A JP591898 A JP 591898A JP H10226671 A JPH10226671 A JP H10226671A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C225/14—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated
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- C07C2602/36—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 アリールアミノメチレンショウノウ誘導体及
びその使用 【解決手段】 一般式１のアリールアミノメチレンショ
ウノウ誘導体及び光線防遮剤としての、殊に化粧品及び
製剤学的調製剤中での使用。 ［Ｃ＝Ｃ二重結合はＺ又はＥ配置にあり、Ｒ１はＨ、Ｃ
Ｈ３、Ｒ２はＨ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−
シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６−アルケニル、Ｃ３〜Ｃ８
−シクロアルケニル、アリール又は置換アリール、Ｒ３
はＨ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアル
キル、アリール、置換アリール、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキ
シ、Ｃ１〜Ｃ８−アシル、Ａｒはアリール、置換アリー
ル、ヘテロアリール又は置換ヘテロアリールを表す］
びその使用 【解決手段】 一般式１のアリールアミノメチレンショ
ウノウ誘導体及び光線防遮剤としての、殊に化粧品及び
製剤学的調製剤中での使用。 ［Ｃ＝Ｃ二重結合はＺ又はＥ配置にあり、Ｒ１はＨ、Ｃ
Ｈ３、Ｒ２はＨ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−
シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６−アルケニル、Ｃ３〜Ｃ８
−シクロアルケニル、アリール又は置換アリール、Ｒ３
はＨ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアル
キル、アリール、置換アリール、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキ
シ、Ｃ１〜Ｃ８−アシル、Ａｒはアリール、置換アリー
ル、ヘテロアリール又は置換ヘテロアリールを表す］
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、式（１）：
【０００２】
【化２】
【０００３】のアリールアミノメチレンショウノウ誘導
体及び光線防遮剤としての、殊に化粧品及び製剤学的調
製剤（formulation）中でのその使用に関する。
体及び光線防遮剤としての、殊に化粧品及び製剤学的調
製剤（formulation）中でのその使用に関する。
【０００４】
【従来の技術】ショウノウ誘導体をベースとする遮光フ
ィルターは公知である。ドイツ特許第２３３６２１９号
明細書では、スルホン化ベンジリデン−及びシンナミリ
デンショウノウ誘導体が記載されており、これらは、フ
ェニル環の４位で非置換であるか又はメチル、メトキシ
若しくは塩素で置換されている。
ィルターは公知である。ドイツ特許第２３３６２１９号
明細書では、スルホン化ベンジリデン−及びシンナミリ
デンショウノウ誘導体が記載されており、これらは、フ
ェニル環の４位で非置換であるか又はメチル、メトキシ
若しくは塩素で置換されている。
【０００５】ドイツ特許第３４４５７１２号明細書で
は、薬剤として皮膚疾患の治療に適する一連の不飽和シ
ョウノウ誘導体、有利にベンジリデンショウノウ誘導体
が記載されている。
は、薬剤として皮膚疾患の治療に適する一連の不飽和シ
ョウノウ誘導体、有利にベンジリデンショウノウ誘導体
が記載されている。
【０００６】ドイツ特許第４４２６２１６号明細書で
は、太陽光フィルターとして、並びに炎症及び皮膚疾患
の予防のために使用可能であるベンジリデン−ノルショ
ウノウ誘導体が記載されている。
は、太陽光フィルターとして、並びに炎症及び皮膚疾患
の予防のために使用可能であるベンジリデン−ノルショ
ウノウ誘導体が記載されている。
【０００７】ドイツ特許第４４２４４８９号明細書に
は、置換４−メチリデンケイ皮酸誘導体の製法が記載さ
れている。
は、置換４−メチリデンケイ皮酸誘導体の製法が記載さ
れている。
【０００８】ビニローグアミド（vinylogous amide）を
ベースとする遮光フィルターは、同様に公知である。ド
イツ特許第３３１６２８７号明細書には、サンスクリー
ン剤剤中の光フィルターとして適している、開鎖構造を
有する一連のビニローグアミドが記載されている。
ベースとする遮光フィルターは、同様に公知である。ド
イツ特許第３３１６２８７号明細書には、サンスクリー
ン剤剤中の光フィルターとして適している、開鎖構造を
有する一連のビニローグアミドが記載されている。
【０００９】ＵＶ−Ａフィルターとして使用されるべき
光線防遮剤に対する要求条件は多い（Sunscreens, N.J.
Lowe 編, N.A. Shaath, Marcel Dekker Inc., New Yor
k 1990, 230〜231 頁）。最も重要なのは： １）光線防遮剤は、その吸収極大を３２０〜３６０ｎｍ
のＵＶ−Ａ領域の範囲に有する； ２）光線防遮剤は、この範囲に高い比吸収を有する； ３）使用後、皮膚保護剤又は衣服の着色が生じないよう
に、光線防遮剤は無色である、即ち４００ｎｍを越える
吸収は僅少であるべきである； ４）光線防遮剤は、光安定性かつ熱安定性である； ５）光線防遮剤は、皮膚適合性でありかつ皮膚に対して
刺激性又は毒性作用をもたらさない； ６）光線防遮剤は、皮膚上で良好に接着する； ７）光線防遮剤は、化粧品物質と相溶性であり、化粧品
溶剤及び化粧品中で易溶である； ８）光線防遮剤は、異性体として純粋（isomerically p
ure）である、ということである。
光線防遮剤に対する要求条件は多い（Sunscreens, N.J.
Lowe 編, N.A. Shaath, Marcel Dekker Inc., New Yor
k 1990, 230〜231 頁）。最も重要なのは： １）光線防遮剤は、その吸収極大を３２０〜３６０ｎｍ
のＵＶ−Ａ領域の範囲に有する； ２）光線防遮剤は、この範囲に高い比吸収を有する； ３）使用後、皮膚保護剤又は衣服の着色が生じないよう
に、光線防遮剤は無色である、即ち４００ｎｍを越える
吸収は僅少であるべきである； ４）光線防遮剤は、光安定性かつ熱安定性である； ５）光線防遮剤は、皮膚適合性でありかつ皮膚に対して
刺激性又は毒性作用をもたらさない； ６）光線防遮剤は、皮膚上で良好に接着する； ７）光線防遮剤は、化粧品物質と相溶性であり、化粧品
溶剤及び化粧品中で易溶である； ８）光線防遮剤は、異性体として純粋（isomerically p
ure）である、ということである。
【００１０】公知のシンナミリデンショウノウ誘導体
は、ＵＶ−Ａ領域で十分な保護作用を示さない広帯域Ｕ
Ｖフィルターである。更に、その溶解性は、特に油相中
で幾つかの用途のためには不十分である。
は、ＵＶ−Ａ領域で十分な保護作用を示さない広帯域Ｕ
Ｖフィルターである。更に、その溶解性は、特に油相中
で幾つかの用途のためには不十分である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従って、特に、良好な
光安定性、油相中での良好な溶解性及びＵＶ−Ａ領域で
の優良な吸収極大を有する、ＵＶ−Ａフィルターとして
好適な化合物を提供するという課題が存在した。
光安定性、油相中での良好な溶解性及びＵＶ−Ａ領域で
の優良な吸収極大を有する、ＵＶ−Ａフィルターとして
好適な化合物を提供するという課題が存在した。
【００１２】
式（１）：
【００１３】
【化３】
【００１４】［式中、Ｃ＝Ｃ二重結合はＺ又はＥ配置に
あり、Ｒ1は、Ｈ、ＣＨ3を表し、Ｒ2は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6
−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ6−ア
ルケニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルケニル、アリール又は
置換アリールを表し、Ｒ3は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキ
ル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、アリール、置換アリー
ル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ8−アシルを表し、
Ａｒは、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置
換ヘテロアリールを表す］のアリールアミノメチレンシ
ョウノウ化合物が現存の課題を良好に解決することを見
いだした。
あり、Ｒ1は、Ｈ、ＣＨ3を表し、Ｒ2は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6
−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ6−ア
ルケニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルケニル、アリール又は
置換アリールを表し、Ｒ3は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキ
ル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、アリール、置換アリー
ル、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ8−アシルを表し、
Ａｒは、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置
換ヘテロアリールを表す］のアリールアミノメチレンシ
ョウノウ化合物が現存の課題を良好に解決することを見
いだした。
【００１５】（１）の製造は、一般式（２）のヒドロキ
シメチレンショウノウ化合物（L. Claisen, Ann. 281,
1894, 306 頁により製造される）を一般式（３）のアミ
ンと、塩基又は酸の存在で、及び場合により１種又は数
種の溶剤の添加の下に、０℃〜２００℃の温度で反応さ
せることにより行われる。
シメチレンショウノウ化合物（L. Claisen, Ann. 281,
1894, 306 頁により製造される）を一般式（３）のアミ
ンと、塩基又は酸の存在で、及び場合により１種又は数
種の溶剤の添加の下に、０℃〜２００℃の温度で反応さ
せることにより行われる。
【００１６】
【化４】
【００１７】本発明による化合物の製造のためには、
（２）及び（３）を等モルで反応させる。
（２）及び（３）を等モルで反応させる。
【００１８】反応は、一般的にプロトン性溶剤、例えば
メタノール又はエタノール中で実施する。しかしなが
ら、反応を、エーテル、例えばジエチルエーテル若しく
はテトラヒドロフラン中で、Ｃ1〜Ｃ20を有するパラフ
ィン混合物中で又は他の脂肪族若しくは芳香族溶剤、例
えばヘキサン、トルエン若しくはキシレン中で実施する
こともできる。
メタノール又はエタノール中で実施する。しかしなが
ら、反応を、エーテル、例えばジエチルエーテル若しく
はテトラヒドロフラン中で、Ｃ1〜Ｃ20を有するパラフ
ィン混合物中で又は他の脂肪族若しくは芳香族溶剤、例
えばヘキサン、トルエン若しくはキシレン中で実施する
こともできる。
【００１９】しかしながら、反応を塊状で、即ち溶剤な
しで実施することも可能である。低級アルコール中で作
業するのが有利であり、良好な空時収率を得るために
は、反応温度で撹拌可能な混合物が生じる程に少ない溶
剤中で作業する。
しで実施することも可能である。低級アルコール中で作
業するのが有利であり、良好な空時収率を得るために
は、反応温度で撹拌可能な混合物が生じる程に少ない溶
剤中で作業する。
【００２０】（２）及び（３）を反応させる順序は任意
である。触媒を予め装入するか又は計量添加してもよ
い。反応は、１ポット反応（one-pot reaction）として
実施可能である。同様に、（２）を触媒と一緒に予め装
入し、（３）を計量添加することができ、また、その逆
でもよい。触媒を（３）と一緒に予め装入し、（２）を
計量添加することも可能である。
である。触媒を予め装入するか又は計量添加してもよ
い。反応は、１ポット反応（one-pot reaction）として
実施可能である。同様に、（２）を触媒と一緒に予め装
入し、（３）を計量添加することができ、また、その逆
でもよい。触媒を（３）と一緒に予め装入し、（２）を
計量添加することも可能である。
【００２１】反応は、０℃〜＋２００℃の広い温度範囲
で実施することができる。２０℃〜１００℃の温度範囲
が有利である。６０℃〜９０℃の温度範囲が特に有利で
ある。
で実施することができる。２０℃〜１００℃の温度範囲
が有利である。６０℃〜９０℃の温度範囲が特に有利で
ある。
【００２２】反応時間は、直接に反応温度に依存する。
一般的に、反応は特に有利な温度範囲で１〜５時間後に
終了する。より低い温度又は低い定常状態濃度では、反
応時間は著しく長くなり、４８時間まで要することがあ
る。
一般的に、反応は特に有利な温度範囲で１〜５時間後に
終了する。より低い温度又は低い定常状態濃度では、反
応時間は著しく長くなり、４８時間まで要することがあ
る。
【００２３】触媒として、任意の有機若しくは無機塩基
又はそれらの混合物を使用することができる。典型的な
塩基性触媒は、例えばピリジン、トリメチルアミン又は
無機炭酸塩である。塩基は、反応混合物中に均一に又は
不均一に存在してよい。
又はそれらの混合物を使用することができる。典型的な
塩基性触媒は、例えばピリジン、トリメチルアミン又は
無機炭酸塩である。塩基は、反応混合物中に均一に又は
不均一に存在してよい。
【００２４】反応に、有機若しくは無機酸又はそれらの
混合物を触媒として使用するのが有利である。無機酸と
しては、特に、塩酸、硫酸、硝酸及び／又はリン酸を使
用することができる。
混合物を触媒として使用するのが有利である。無機酸と
しては、特に、塩酸、硫酸、硝酸及び／又はリン酸を使
用することができる。
【００２５】有機酸としては、特にギ酸、酢酸、シュウ
酸、コハク酸、アスコルビン酸及び／又はスルホン酸、
例えばメタンスルホン酸若しくはトルエンスルホン酸を
使用することができる。
酸、コハク酸、アスコルビン酸及び／又はスルホン酸、
例えばメタンスルホン酸若しくはトルエンスルホン酸を
使用することができる。
【００２６】更に、酸性イオン交換体が、（２）と
（３）との反応用の触媒として同様に適する。
（３）との反応用の触媒として同様に適する。
【００２７】目的生成物（１）の単離は、慣用の技術、
例えば沈殿、濾過、遠心分離、相分離及び溶剤での抽出
により行われる。
例えば沈殿、濾過、遠心分離、相分離及び溶剤での抽出
により行われる。
【００２８】目的生成物（１）の精製は、有機溶剤及び
その混合物及び／又は水からの再結晶により行うことが
できる。アルコールを含有する混合物が有利である。
その混合物及び／又は水からの再結晶により行うことが
できる。アルコールを含有する混合物が有利である。
【００２９】精製は、帯域融解及びクロマトグラフィー
法により、及び蒸留により行うこともできる。
法により、及び蒸留により行うこともできる。
【００３０】本発明による化合物（１）は、ショウノウ
部分（Ｒ1＝ＣＨ3）又はノルショウノウ部分（Ｒ1＝
Ｈ）から成っていてよい。
部分（Ｒ1＝ＣＨ3）又はノルショウノウ部分（Ｒ1＝
Ｈ）から成っていてよい。
【００３１】基Ｒ2は、下記の意味を有する：Ｈ；Ｃ1〜
Ｃ6−アルキル、有利にはＣ3−及びＣ4−アルキル、例
えばｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｔ−ブチル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、有利に
はシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル；Ｃ2〜Ｃ6−アルケニル、有利にはビニル
及びプロペニル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルケニル、有利に
はシクロペンテニル及びシクロヘキセニル；アリール又
は置換アリール、有利にはフェニル、一若しくは二置換
フェニル、ナフチル又はヘテロアリール、例えばフリ
ル、チエニル若しくはピリジル。
Ｃ6−アルキル、有利にはＣ3−及びＣ4−アルキル、例
えばｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｔ−ブチル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、有利に
はシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル；Ｃ2〜Ｃ6−アルケニル、有利にはビニル
及びプロペニル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルケニル、有利に
はシクロペンテニル及びシクロヘキセニル；アリール又
は置換アリール、有利にはフェニル、一若しくは二置換
フェニル、ナフチル又はヘテロアリール、例えばフリ
ル、チエニル若しくはピリジル。
【００３２】基Ｒ3は、下記の意味を有する：Ｈ；Ｃ1〜
Ｃ6−アルキル、有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、ｔ−ブチル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアル
キル、有利にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル；アリール又は置換アリー
ル、有利にはフェニル、一若しくは二置換フェニル；Ｃ
1〜Ｃ6−アルコキシ、有利にはメトキシ、エトキシ、ｎ
−プロポキシ又はイソプロポキシ；Ｃ1〜Ｃ8−アシル、
有利にはホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイ
ル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、ベンゾイル。
Ｃ6−アルキル、有利にはＣ1〜Ｃ4−アルキル、例えば
メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブ
チル、イソブチル、ｔ−ブチル；Ｃ3〜Ｃ8−シクロアル
キル、有利にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル；アリール又は置換アリー
ル、有利にはフェニル、一若しくは二置換フェニル；Ｃ
1〜Ｃ6−アルコキシ、有利にはメトキシ、エトキシ、ｎ
−プロポキシ又はイソプロポキシ；Ｃ1〜Ｃ8−アシル、
有利にはホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイ
ル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、ベンゾイル。
【００３３】基Ａｒは、下記の意味を有する：アリー
ル、有利にはフェニル、ナフチル；ヘテロアリール、有
利にはフリル、チエニル、ピリリル又はピリジル；置換
アリール、有利には一若しくは二置換フェニル；置換へ
テロアリール、有利には一又は二置換フリル、チエニ
ル、ピリル若しくはピリジル（その際、置換基は同じか
又は異なっていてよく、下記の意味を有してよい：アル
キル、シクロアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキル
アミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、アシル、特に有利には
アシルオキシ又はアシルアミノ及びアルコキシカルボキ
シ又はアミノカルボキシ、ヒドロキシカルボキシ、オキ
シスルホニル、アミノスルホニル）。
ル、有利にはフェニル、ナフチル；ヘテロアリール、有
利にはフリル、チエニル、ピリリル又はピリジル；置換
アリール、有利には一若しくは二置換フェニル；置換へ
テロアリール、有利には一又は二置換フリル、チエニ
ル、ピリル若しくはピリジル（その際、置換基は同じか
又は異なっていてよく、下記の意味を有してよい：アル
キル、シクロアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキル
アミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、アシル、特に有利には
アシルオキシ又はアシルアミノ及びアルコキシカルボキ
シ又はアミノカルボキシ、ヒドロキシカルボキシ、オキ
シスルホニル、アミノスルホニル）。
【００３４】本発明によるアリールアミノメチレンショ
ウノウ誘導体（１）のＣ＝Ｃ二重結合は、合成後、Ｅ配
置でもＺ配置でも存在する。結晶化により、Ｃ＝Ｃ二重
結合での置換基がトランス位にある式（１）の化合物を
得るのが有利である。
ウノウ誘導体（１）のＣ＝Ｃ二重結合は、合成後、Ｅ配
置でもＺ配置でも存在する。結晶化により、Ｃ＝Ｃ二重
結合での置換基がトランス位にある式（１）の化合物を
得るのが有利である。
【００３５】本発明による化合物（１）は、高い光安定
性により優れており、光線防遮剤として、特にＵＶ−Ａ
フィルターとして、殊に化粧品用及び製剤学的使用に特
に適する。しかしながら、ＵＶフィルター作用は、プラ
スチック、染料調製剤又は塗料の安定化のために使用す
ることもできる。
性により優れており、光線防遮剤として、特にＵＶ−Ａ
フィルターとして、殊に化粧品用及び製剤学的使用に特
に適する。しかしながら、ＵＶフィルター作用は、プラ
スチック、染料調製剤又は塗料の安定化のために使用す
ることもできる。
【００３６】化粧品又は化粧用組成物は、化粧品で慣用
の賦形剤又は希釈剤及び場合により慣用の化粧品助剤の
他に、化合物（１）を一般的に、調製剤に対して０．１
〜１５重量％、有利には５〜１０重量％含有する。
の賦形剤又は希釈剤及び場合により慣用の化粧品助剤の
他に、化合物（１）を一般的に、調製剤に対して０．１
〜１５重量％、有利には５〜１０重量％含有する。
【００３７】完成した光線防遮剤含有製品が、溶液、油
状物、クリーム、軟膏、ローション、ゲル又は粉末であ
るかは、賦形剤、助剤又は希釈剤の種類に依存する。こ
のような組成物は、例えば雑誌 "Seifen, Oel, Fette,
Wachse" （1995）、１４７頁から認識することができ
る。
状物、クリーム、軟膏、ローション、ゲル又は粉末であ
るかは、賦形剤、助剤又は希釈剤の種類に依存する。こ
のような組成物は、例えば雑誌 "Seifen, Oel, Fette,
Wachse" （1995）、１４７頁から認識することができ
る。
【００３８】添加物に該当する通常使用される化粧品助
剤は例えば、乳化剤、例えば脂肪アルコールエトキシレ
ート、ソルビタン脂肪酸エステル又はラノリン誘導体、
増粘剤、例えばカルボキシメチルセルロース又は架橋ポ
リアクリル酸、防腐剤及び香料である。
剤は例えば、乳化剤、例えば脂肪アルコールエトキシレ
ート、ソルビタン脂肪酸エステル又はラノリン誘導体、
増粘剤、例えばカルボキシメチルセルロース又は架橋ポ
リアクリル酸、防腐剤及び香料である。
【００３９】サンスクリーン油状物のベースは例えば、
植物油、例えば落花生油、オリーブ油、ごま油、綿実
油、やし油、ブドウ種油（grapeseed oil）、ヒマシ
油、又は鉱油、例えばワセリン油、又は殊に液体パラフ
ィン、合成脂肪酸エステル及びグリセリドである。軟膏
のベースは、例えばワセリン、ラノリン、ユーセリン
（eucerin）又はポリエチレングリコールである。
植物油、例えば落花生油、オリーブ油、ごま油、綿実
油、やし油、ブドウ種油（grapeseed oil）、ヒマシ
油、又は鉱油、例えばワセリン油、又は殊に液体パラフ
ィン、合成脂肪酸エステル及びグリセリドである。軟膏
のベースは、例えばワセリン、ラノリン、ユーセリン
（eucerin）又はポリエチレングリコールである。
【００４０】クリームのベースは、例えば高脂肪クリー
ム、グリセリンクリーム、多糖類クリーム、チロースク
リームであり、脂肪及びワックスをベースとするクリー
ムのベースは、セチルアルコール、ラノリンクリーム、
カカオ脂、蜜ろう、ステアリン酸、ステアリルアルコー
ル、グリセリンモノステアレート、天然又は鉱物油及び
脂肪である。
ム、グリセリンクリーム、多糖類クリーム、チロースク
リームであり、脂肪及びワックスをベースとするクリー
ムのベースは、セチルアルコール、ラノリンクリーム、
カカオ脂、蜜ろう、ステアリン酸、ステアリルアルコー
ル、グリセリンモノステアレート、天然又は鉱物油及び
脂肪である。
【００４１】エマルジョンのベースは、例えば、ステア
リルグリコール、植物油及び／若しくは鉱油、例えば扁
桃油、パラフィン油及びワセリン、並びに水から成る混
合物、又はエチルアルコール、水、ラノリン及びトラガ
カントから成る混合物、又はエチルアルコール、ステア
リン、水、トラガカント及びグリセリンから成る混合
物、又はステアリン酸、パラフィン油、プロピルアルコ
ール若しくはイソプロピルアルコール及び水から成る混
合物である。
リルグリコール、植物油及び／若しくは鉱油、例えば扁
桃油、パラフィン油及びワセリン、並びに水から成る混
合物、又はエチルアルコール、水、ラノリン及びトラガ
カントから成る混合物、又はエチルアルコール、ステア
リン、水、トラガカント及びグリセリンから成る混合
物、又はステアリン酸、パラフィン油、プロピルアルコ
ール若しくはイソプロピルアルコール及び水から成る混
合物である。
【００４２】本発明による化合物を、唯一のＵＶ吸収剤
として相応する組成物中で使用することができるが；本
発明による化合物を、他のＵＶ吸収剤、例えばＵＶ−Ｂ
吸収剤と組み合わせて使用することもできる。
として相応する組成物中で使用することができるが；本
発明による化合物を、他のＵＶ吸収剤、例えばＵＶ−Ｂ
吸収剤と組み合わせて使用することもできる。
【００４３】このような化合物の例は、ｐ−アミノ安息
香酸エチルエステル、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチ
ルヘキシルエステル、２−エチルヘキシル−２−シアノ
−３，３−ジフェニルアクリレート、２−フェニルベン
ズイミダゾールスルホン酸及び塩、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、３−（４′−メ
チルベンジリデン）−ｄ,ｌ−ショウノウ、２，４，６
−トリアニリノ−（ｐ−カルボ−２′−エチルヘキシル
−１′−オキシ）−１，３，５−トリアジンである。
香酸エチルエステル、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチ
ルヘキシルエステル、２−エチルヘキシル−２−シアノ
−３，３−ジフェニルアクリレート、２−フェニルベン
ズイミダゾールスルホン酸及び塩、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、３−（４′−メ
チルベンジリデン）−ｄ,ｌ−ショウノウ、２，４，６
−トリアニリノ−（ｐ−カルボ−２′−エチルヘキシル
−１′−オキシ）−１，３，５−トリアジンである。
【００４４】本発明による化合物（１）の製造のために
は、下記の一般的作業規定を用いるのが特に有利であ
る：ヒドロキシメチレンショウノウ化合物（２）及びア
ミン（３）の等モル量（２２ミリモル）を、メタノール
２０ｍｌに溶かし、濃塩酸０．１ｍｌを加え、６５℃ま
で２時間加熱する。反応混合物を１０℃まで冷却させた
後、目的生成物（１）が晶出し、これを、濾過、洗浄及
び引き続く乾燥により、分析上純粋に単離させる。
は、下記の一般的作業規定を用いるのが特に有利であ
る：ヒドロキシメチレンショウノウ化合物（２）及びア
ミン（３）の等モル量（２２ミリモル）を、メタノール
２０ｍｌに溶かし、濃塩酸０．１ｍｌを加え、６５℃ま
で２時間加熱する。反応混合物を１０℃まで冷却させた
後、目的生成物（１）が晶出し、これを、濾過、洗浄及
び引き続く乾燥により、分析上純粋に単離させる。
【００４５】
例１ 一般的作業規定に従って、ヒドロキシメチレンショウノ
ウ４ｇ（２２ミリモル）を、ｐ−アミノ安息香酸−２′
−エチルヘキシルエステル５．４５ｇ（２２ミリモル）
と反応させた。式：
ウ４ｇ（２２ミリモル）を、ｐ−アミノ安息香酸−２′
−エチルヘキシルエステル５．４５ｇ（２２ミリモル）
と反応させた。式：
【００４６】
【化５】
【００４７】の化合物９ｇを得た。
【００４８】
【外１】
【００４９】
【外２】
【００５０】例２ 一般的作業規定に従って、ヒドロキシメチレンショウノ
ウ４ｇ（２２ミリモル）を、ｏ−アミノ安息香酸ブチル
エステル４．２９ｇ（２２ミリモル）を反応させた。
式：
ウ４ｇ（２２ミリモル）を、ｏ−アミノ安息香酸ブチル
エステル４．２９ｇ（２２ミリモル）を反応させた。
式：
【００５１】
【化６】
【００５２】の化合物４．９ｇを得た。
【００５３】
【外３】
【００５４】例３ 例１及び例２と同様に、第１表に記載の化合物３．１〜
３．１５を製造した。
３．１５を製造した。
【００５５】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 311/39 Ｃ０７Ｃ 311/39 Ｃ０７Ｄ 215/42 Ｃ０７Ｄ 215/42 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｚ (72)発明者 フォルカー シェールマン ドイツ連邦共和国 レーマーベルク フォ イアーバッハシュトラーセ ８アー (72)発明者 ホルスト ヴェステンフェルダー ドイツ連邦共和国 ノイシュタット ミュ ラー−トゥルガウ−ヴェーク ６
Claims (5)
- 【請求項１】 式（１）： 【化１】 ［式中、Ｃ＝Ｃ二重結合は、Ｚ又はＥ配置にあり、可変
項は、下記の意味を有する：Ｒ1は、Ｈ、ＣＨ3を表し、
Ｒ2は、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロア
ルキル、Ｃ2〜Ｃ6−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアル
ケニル、アリール又は置換アリールを表し、Ｒ3は、
Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ3〜Ｃ8−シクロアルキル、
アリール、置換アリール、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ、Ｃ1
〜Ｃ8−アシルを表し、Ａｒは、アリール、置換アリー
ル、ヘテロアリール又は置換ヘテロアリールを表す］の
アリールアミノメチレンショウノウ誘導体。 - 【請求項２】 Ｃ＝Ｃ二重結合がＥ配置にある、請求項
１に記載の化合物。 - 【請求項３】 Ｒ1はＣＨ3を表し、Ｒ2及びＲ3はＨを表
し、かつＡｒは２−（アルコキシカルボキシ）−フェニ
ルを表す、請求項１に記載の化合物。 - 【請求項４】 光線防遮剤としての、請求項１から３の
いずれかに記載の化合物の使用。 - 【請求項５】 化粧品又は製剤学的調製剤中での、請求
項４に記載の使用。
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| DE19701448A DE19701448A1 (de) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | Arylaminomethylencampherderivate |
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|---|---|
| JPH10226671A true JPH10226671A (ja) | 1998-08-25 |
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| LU85144A1 (fr) * | 1983-12-16 | 1985-09-12 | Oreal | Derives insatures du camphre,leurs procedes de preparation et leur application dans le domaine therapeutique et cosmetique |
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- 1997-01-17 DE DE19701448A patent/DE19701448A1/de not_active Withdrawn
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- 1998-01-13 EP EP98100435A patent/EP0854133B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-13 DE DE59804542T patent/DE59804542D1/de not_active Expired - Lifetime
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- 1998-01-16 AU AU52109/98A patent/AU748609B2/en not_active Ceased
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