JPH10226530A - ガラス微粒子の堆積装置 - Google Patents
ガラス微粒子の堆積装置Info
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- JPH10226530A JPH10226530A JP2926697A JP2926697A JPH10226530A JP H10226530 A JPH10226530 A JP H10226530A JP 2926697 A JP2926697 A JP 2926697A JP 2926697 A JP2926697 A JP 2926697A JP H10226530 A JPH10226530 A JP H10226530A
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- glass fine
- glass
- damper
- fine particle
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 排気ダンパーに付着するガラス微粒子に起因
する排気能力の低下を防止する。 【解決手段】 本発明のガラス微粒子の堆積装置は、コ
ア用のガラス微粒子を生成するためのバーナ３と、クラ
ッド用のガラス微粒子を生成するためのバーナ３と、生
成されたガラス微粒子がその下部に堆積され、堆積とと
もに上方に引上げられるターゲット２と、ターゲット２
のガラス微粒子の堆積部であるプリフォーム２ａを覆う
反応室１と、反応室１に開口した排気口５と、排気口に
連続する排気ダクト６と、排気ダクト６内に配置され、
排気口５からの吸引量を調整する排気ダンパー８とを備
えている。この排気ダンパー８に高周波発生器１４に接
続する加熱コイル１５を設けた。
する排気能力の低下を防止する。 【解決手段】 本発明のガラス微粒子の堆積装置は、コ
ア用のガラス微粒子を生成するためのバーナ３と、クラ
ッド用のガラス微粒子を生成するためのバーナ３と、生
成されたガラス微粒子がその下部に堆積され、堆積とと
もに上方に引上げられるターゲット２と、ターゲット２
のガラス微粒子の堆積部であるプリフォーム２ａを覆う
反応室１と、反応室１に開口した排気口５と、排気口に
連続する排気ダクト６と、排気ダクト６内に配置され、
排気口５からの吸引量を調整する排気ダンパー８とを備
えている。この排気ダンパー８に高周波発生器１４に接
続する加熱コイル１５を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ファイバ母材を製
造するＶＡＤ法によりガラス微粒子の堆積体を製造する
ガラス微粒子の堆積装置に関し、特にその排気ダンパー
に加熱手段を設けたガラス微粒子の堆積装置に関する。
造するＶＡＤ法によりガラス微粒子の堆積体を製造する
ガラス微粒子の堆積装置に関し、特にその排気ダンパー
に加熱手段を設けたガラス微粒子の堆積装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバ母材を製造するためのＶＡＤ
法の最初の工程であるガラス微粒子の堆積体は、バーナ
の酸水素火炎中にガラス原料ガス（ＳｉＣｌ4など）を
導入し、火炎加水分解反応によりガラス微粒子（ＳｉＯ
2）を生成し、ターゲットロッドに堆積させる。バーナ
にはプリフォーム中央のコア部を堆積させるコアバーナ
と、その外側のクラッド部を堆積させるクラッドバーナ
があり、コア部の表面状態は特に製品の特性、品質に大
きく影響する。
法の最初の工程であるガラス微粒子の堆積体は、バーナ
の酸水素火炎中にガラス原料ガス（ＳｉＣｌ4など）を
導入し、火炎加水分解反応によりガラス微粒子（ＳｉＯ
2）を生成し、ターゲットロッドに堆積させる。バーナ
にはプリフォーム中央のコア部を堆積させるコアバーナ
と、その外側のクラッド部を堆積させるクラッドバーナ
があり、コア部の表面状態は特に製品の特性、品質に大
きく影響する。
【０００３】また、通常堆積作業は外気から遮断された
反応室内で行われ、ここで堆積されなかったガラス微粒
子は排気ダクトを通じて排気処理装置側に吸引排出され
る。このとき、例えば、特開平３−１０９２２１号公報
に示すように、反応室内に圧力センサを設けるととも
に、排気ダクト途中にダンパーを設け、ダンパーの角度
調整によって常時反応室内の圧力を一定に保持しつつ排
気調整を行う方法が一般に行われている。
反応室内で行われ、ここで堆積されなかったガラス微粒
子は排気ダクトを通じて排気処理装置側に吸引排出され
る。このとき、例えば、特開平３−１０９２２１号公報
に示すように、反応室内に圧力センサを設けるととも
に、排気ダクト途中にダンパーを設け、ダンパーの角度
調整によって常時反応室内の圧力を一定に保持しつつ排
気調整を行う方法が一般に行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法では排出されるガラス微粒子が排気ダクトの内面や、
排気ダンパーの表面に付着する（サーモフォレシス効
果）ため、堆積作業中に排気能力が低減し、ガラス微粒
子が逆流して製品に再付着するなどの問題が生じてい
た。そこで、実開平４−１３５９０号公報には、排気ダ
クトの回りをヒータで加熱して排気ダクト内のガラス微
粒子の付着を防止している。しかし、これだけでは排気
ダンパー表面へのガラス微粒子の付着までは防止でき
ず、増加したガラス微粒子は排気ダンパーの開度などに
影響を与え、排気能力低減の原因となっていた。
法では排出されるガラス微粒子が排気ダクトの内面や、
排気ダンパーの表面に付着する（サーモフォレシス効
果）ため、堆積作業中に排気能力が低減し、ガラス微粒
子が逆流して製品に再付着するなどの問題が生じてい
た。そこで、実開平４−１３５９０号公報には、排気ダ
クトの回りをヒータで加熱して排気ダクト内のガラス微
粒子の付着を防止している。しかし、これだけでは排気
ダンパー表面へのガラス微粒子の付着までは防止でき
ず、増加したガラス微粒子は排気ダンパーの開度などに
影響を与え、排気能力低減の原因となっていた。
【０００５】本発明の目的は、上記課題を解決するもの
であって、排気ダンパーに付着するガラス微粒子に起因
する排気能力の低下を防止できるようにしたガラス微粒
子の堆積装置を提供するものである。
であって、排気ダンパーに付着するガラス微粒子に起因
する排気能力の低下を防止できるようにしたガラス微粒
子の堆積装置を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる上記課題
は、請求項１記載のガラス微粒子の堆積装置であって、
コア用のガラス微粒子を生成するためのバーナと、クラ
ッド用のガラス微粒子を生成するためのバーナと、生成
されたガラス微粒子がその下部に堆積され、堆積ととも
に上方に引上げられるターゲットと、該ターゲットのガ
ラス微粒子の堆積部を覆う反応室と、該反応室に開口し
た排気口と、排気口に連続する排気ダクトと、該排気ダ
クト内に配置され、前記排気口からの吸引量を調整する
排気ダンパーとを備えたガラス微粒子の堆積装置におい
て、前記排気ダンパーに加熱手段を設けたことを特徴と
するガラス微粒子の堆積装置によって解決することがで
きる。前記構成のガラス微粒子の堆積装置にあっては、
排気ダンパー自体が加熱されることにより、ガラス微粒
子の付着を防止して、これに伴う排気能力の低下を未然
に防止することができる。
は、請求項１記載のガラス微粒子の堆積装置であって、
コア用のガラス微粒子を生成するためのバーナと、クラ
ッド用のガラス微粒子を生成するためのバーナと、生成
されたガラス微粒子がその下部に堆積され、堆積ととも
に上方に引上げられるターゲットと、該ターゲットのガ
ラス微粒子の堆積部を覆う反応室と、該反応室に開口し
た排気口と、排気口に連続する排気ダクトと、該排気ダ
クト内に配置され、前記排気口からの吸引量を調整する
排気ダンパーとを備えたガラス微粒子の堆積装置におい
て、前記排気ダンパーに加熱手段を設けたことを特徴と
するガラス微粒子の堆積装置によって解決することがで
きる。前記構成のガラス微粒子の堆積装置にあっては、
排気ダンパー自体が加熱されることにより、ガラス微粒
子の付着を防止して、これに伴う排気能力の低下を未然
に防止することができる。
【０００７】また、上記課題は、請求項２記載のガラス
微粒子の堆積装置であって、前記排気ダンパーの加熱手
段が、排気ダクトの外周に配置され、高周波発生器に接
続した加熱用コイルからなり、かつ前記排気ダンパーを
高周波誘電特性のある材料で構成したことによって解決
することができる。前記構成のガラス微粒子の堆積装置
にあっては、排気ダンパーは高周波誘導加熱により、表
面が局部加熱され、ガラス微粒子を溶融除去することが
できる。なお、その外周側である排気ダクトを高周波誘
電特性のある素材で構成することにより排気ダクトも加
熱され、排気ダクト内への付着も防止できる。
微粒子の堆積装置であって、前記排気ダンパーの加熱手
段が、排気ダクトの外周に配置され、高周波発生器に接
続した加熱用コイルからなり、かつ前記排気ダンパーを
高周波誘電特性のある材料で構成したことによって解決
することができる。前記構成のガラス微粒子の堆積装置
にあっては、排気ダンパーは高周波誘導加熱により、表
面が局部加熱され、ガラス微粒子を溶融除去することが
できる。なお、その外周側である排気ダクトを高周波誘
電特性のある素材で構成することにより排気ダクトも加
熱され、排気ダクト内への付着も防止できる。
【０００８】また、上記課題は、請求項３記載のガラス
微粒子の堆積装置であって、前記排気ダンパーの加熱手
段が、絶縁体で構成される排気ダンパーの片面または両
面に埋設され、かつその両端接続部を一方または双方の
回転軸を通じて外部電源と接続するヒータであることに
よって解決することができる。前記構成のガラス微粒子
の堆積装置にあっては、装置全体の構成が簡単となり、
コスト低減を図ることができる。
微粒子の堆積装置であって、前記排気ダンパーの加熱手
段が、絶縁体で構成される排気ダンパーの片面または両
面に埋設され、かつその両端接続部を一方または双方の
回転軸を通じて外部電源と接続するヒータであることに
よって解決することができる。前記構成のガラス微粒子
の堆積装置にあっては、装置全体の構成が簡単となり、
コスト低減を図ることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明のガラス微粒子の堆
積装置の好ましい実施の形態例を図１乃至図５に基づい
て詳細に説明する。図１は本発明のガラス微粒子の堆積
装置全体を示す説明図、図２は図１におけるガラス微粒
子の堆積装置の第１実施の形態例を示す要部の拡大図、
図３は図１におけるガラス微粒子の堆積装置の第２実施
の形態例を示す要部の拡大図、図４は図３におけるＢ−
Ｂ線断面図、図５は図１におけるガラス微粒子の堆積装
置の第３実施の形態例を示す要部の拡大図である。
積装置の好ましい実施の形態例を図１乃至図５に基づい
て詳細に説明する。図１は本発明のガラス微粒子の堆積
装置全体を示す説明図、図２は図１におけるガラス微粒
子の堆積装置の第１実施の形態例を示す要部の拡大図、
図３は図１におけるガラス微粒子の堆積装置の第２実施
の形態例を示す要部の拡大図、図４は図３におけるＢ−
Ｂ線断面図、図５は図１におけるガラス微粒子の堆積装
置の第３実施の形態例を示す要部の拡大図である。
【００１０】図１に示すように本実施の形態のガラス微
粒子の堆積装置の反応室１には出発材である石英からな
るターゲット棒２が垂下されている。このターゲット棒
２の下端側にはコア用バーナ３が対向配置され、その上
部側にはクラッド用バーナ４が対向配置されており、タ
ーゲット棒２を回転しつつ引上げながら、それぞれ図示
しない気相装置から送られる原料ガスを各バーナ３、４
を通じて酸水素ガスにより局部加熱しながら吹付け、タ
ーゲット棒２の外周にガラス微粒子堆積体であるプリフ
ォーム２ａを連続して形成する。
粒子の堆積装置の反応室１には出発材である石英からな
るターゲット棒２が垂下されている。このターゲット棒
２の下端側にはコア用バーナ３が対向配置され、その上
部側にはクラッド用バーナ４が対向配置されており、タ
ーゲット棒２を回転しつつ引上げながら、それぞれ図示
しない気相装置から送られる原料ガスを各バーナ３、４
を通じて酸水素ガスにより局部加熱しながら吹付け、タ
ーゲット棒２の外周にガラス微粒子堆積体であるプリフ
ォーム２ａを連続して形成する。
【００１１】前記反応室１の側部には排気口５が開口さ
れ、この排気口５に連続して配置された排気ダクト６を
通じて図示しないスクラバ（排気処理装置）側に接続し
ている。このスクラバは、燃焼ガスとともにターゲット
棒２に堆積されなかったガラス微粒子を吸引し、排気処
理を行うものである。
れ、この排気口５に連続して配置された排気ダクト６を
通じて図示しないスクラバ（排気処理装置）側に接続し
ている。このスクラバは、燃焼ガスとともにターゲット
棒２に堆積されなかったガラス微粒子を吸引し、排気処
理を行うものである。
【００１２】また、反応室１には圧力センサ７が設けら
れているとともに、排気ダクト６の途中には排気ダンパ
ー８が配置されている。この圧力センサ７はコントロー
ラ９に接続されており、コントローラ９はこの検出出力
を受けて排気ダンパー８に連結した駆動装置１０を駆動
し、常時反応室１内の圧力を一定に保持するように排気
ダンパー８の開度を可変調整する。これにより、ターゲ
ット棒２に対するガラス微粒子の堆積率を一定に保持す
ることができる。
れているとともに、排気ダクト６の途中には排気ダンパ
ー８が配置されている。この圧力センサ７はコントロー
ラ９に接続されており、コントローラ９はこの検出出力
を受けて排気ダンパー８に連結した駆動装置１０を駆動
し、常時反応室１内の圧力を一定に保持するように排気
ダンパー８の開度を可変調整する。これにより、ターゲ
ット棒２に対するガラス微粒子の堆積率を一定に保持す
ることができる。
【００１３】図２に示すように排気ダンパー８は、排気
ダクト６の内周形状に適合した径のバタフライ弁などが
採用され、その両端軸部１１には排気ダクト６側に設け
た軸受１２に回動可能に軸受され、一端側軸部１１は駆
動装置１０の駆動軸にカプラ１３を介して連結されてい
る。
ダクト６の内周形状に適合した径のバタフライ弁などが
採用され、その両端軸部１１には排気ダクト６側に設け
た軸受１２に回動可能に軸受され、一端側軸部１１は駆
動装置１０の駆動軸にカプラ１３を介して連結されてい
る。
【００１４】また、駆動装置１０は、例えばＤＣサーボ
モータ１０ａおよびこれに連結したロータリ式ポテンシ
ョメータ１０ｂからなり、コントローラ９からの駆動信
号によりサーボモータ１０ａを回動させるとともに、回
動変位をポテンショメータ１０ｂで検出し、その検出値
をフィードバック出力としてコントローラ９側に与え
る。これにより、排気ダンパー８を圧力センサ７の検出
値に応じた開度に保持し、常時反応室１内を所定の圧力
に保持しつつ排気を行う。
モータ１０ａおよびこれに連結したロータリ式ポテンシ
ョメータ１０ｂからなり、コントローラ９からの駆動信
号によりサーボモータ１０ａを回動させるとともに、回
動変位をポテンショメータ１０ｂで検出し、その検出値
をフィードバック出力としてコントローラ９側に与え
る。これにより、排気ダンパー８を圧力センサ７の検出
値に応じた開度に保持し、常時反応室１内を所定の圧力
に保持しつつ排気を行う。
【００１５】更に、排気ダンパー８の配置個所における
排気ダクト６の外周には、高周波発生器１４の二次側コ
イルである加熱用コイル１５が巻回されている。したが
って、高周波発生器１４の駆動により、加熱用コイル１
５は排気ダンパー８に渦電流損、ヒステリシス損を発生
させ、その局部加熱によりガラス微粒子の表面への付着
を防ぎ、排気ガスとともにスクラバ側へと排出させる。
なお、以上の誘導加熱を可能とするために、排気ダンパ
ー８は、例えばグラファイト、金属、シリコンカーバイ
ドなどの高周波誘電特性のある材料から構成される。
排気ダクト６の外周には、高周波発生器１４の二次側コ
イルである加熱用コイル１５が巻回されている。したが
って、高周波発生器１４の駆動により、加熱用コイル１
５は排気ダンパー８に渦電流損、ヒステリシス損を発生
させ、その局部加熱によりガラス微粒子の表面への付着
を防ぎ、排気ガスとともにスクラバ側へと排出させる。
なお、以上の誘導加熱を可能とするために、排気ダンパ
ー８は、例えばグラファイト、金属、シリコンカーバイ
ドなどの高周波誘電特性のある材料から構成される。
【００１６】また、前記高周波発生器１４はコントロー
ラ９からの指令によって駆動される。このコントローラ
９は、例えば、排気ダンパー８の近傍に配置された図示
しない温度センサの検知出力を受けて高周波発生器１４
に駆動電力を与えるか、あるいはタイマーなどにより定
期的に駆動電力を与えることで、排気ダンパー８を定期
加熱させる。
ラ９からの指令によって駆動される。このコントローラ
９は、例えば、排気ダンパー８の近傍に配置された図示
しない温度センサの検知出力を受けて高周波発生器１４
に駆動電力を与えるか、あるいはタイマーなどにより定
期的に駆動電力を与えることで、排気ダンパー８を定期
加熱させる。
【００１７】なお、排気ダクト６側も排気ダンパー８と
同様に高周波誘電特性のある素材で構成すれば、この部
位におけるガラス微粒子の付着も防止できる。但し、高
周波誘導加熱は排気ダンパー８のみであり、排気ダクト
６および反応室１にはその外周部全体に、前述した実開
平４−１３５９３０号公報と同様に加熱用ヒータを配置
し、このヒータによる加熱により排気ダクト６および反
応室１の内壁に対するガラス微粒子の付着を防止するよ
うに構成することもできる。
同様に高周波誘電特性のある素材で構成すれば、この部
位におけるガラス微粒子の付着も防止できる。但し、高
周波誘導加熱は排気ダンパー８のみであり、排気ダクト
６および反応室１にはその外周部全体に、前述した実開
平４−１３５９３０号公報と同様に加熱用ヒータを配置
し、このヒータによる加熱により排気ダクト６および反
応室１の内壁に対するガラス微粒子の付着を防止するよ
うに構成することもできる。
【００１８】次に、本発明のガラス微粒子の堆積装置の
第２実施の形態例を図３および図４に基づいて詳細に説
明する。なお、第１実施の形態例と同一箇所には同一符
号を付し、異なる箇所のみ異なる符号を用いて説明す
る。図３および図４に示すように排気ダンパー２０は、
絶縁体から構成されており、その両端軸部２１、２２の
うち一方の軸部２１を駆動装置１０にカプラ１３を介し
て連結している。
第２実施の形態例を図３および図４に基づいて詳細に説
明する。なお、第１実施の形態例と同一箇所には同一符
号を付し、異なる箇所のみ異なる符号を用いて説明す
る。図３および図４に示すように排気ダンパー２０は、
絶縁体から構成されており、その両端軸部２１、２２の
うち一方の軸部２１を駆動装置１０にカプラ１３を介し
て連結している。
【００１９】前記排気ダンパー２０の表面（および裏
面）にはその面全体にニクロム線ヒータ２３が這い回さ
れ、図４に示すようにその両端接続部２３ａを他方側の
軸部２２に接続している。
面）にはその面全体にニクロム線ヒータ２３が這い回さ
れ、図４に示すようにその両端接続部２３ａを他方側の
軸部２２に接続している。
【００２０】前記軸部２２は、全体が絶縁体から構成さ
れ、かつその内部に接続部２３ａに接続される上下左右
一対の電極２２ａを配置したものであって、この電極２
２ａを介して外部側に取出し、加熱用電源２４に接続し
ている。また、ボルト２５は軸部２２を排気ダンパー２
０に挟み込んで固定するためのものである。なお、この
加熱用電源２４はコントローラ９による制御によりオン
オフされる。また、本実施の形態では、排気ダンパー２
０の表面にニクロム線を配置しただけであるから、装置
の構成が簡素化される。
れ、かつその内部に接続部２３ａに接続される上下左右
一対の電極２２ａを配置したものであって、この電極２
２ａを介して外部側に取出し、加熱用電源２４に接続し
ている。また、ボルト２５は軸部２２を排気ダンパー２
０に挟み込んで固定するためのものである。なお、この
加熱用電源２４はコントローラ９による制御によりオン
オフされる。また、本実施の形態では、排気ダンパー２
０の表面にニクロム線を配置しただけであるから、装置
の構成が簡素化される。
【００２１】次に、本発明のガラス微粒子の堆積装置の
第３実施の形態例を図５に基づいて詳細に説明する。本
実施の形態例は、ニクロム線ヒータ方式の別の形態を示
すもので、両軸部２１、２２にはニクロム線ヒータ２３
の両端接続部に接続される電極部（図示省略）が配置さ
れ、その両軸部２１、２２の電極部を外側に引出し加熱
用電源２４に接続しているので、配線引出しをさらに簡
素化することができる。
第３実施の形態例を図５に基づいて詳細に説明する。本
実施の形態例は、ニクロム線ヒータ方式の別の形態を示
すもので、両軸部２１、２２にはニクロム線ヒータ２３
の両端接続部に接続される電極部（図示省略）が配置さ
れ、その両軸部２１、２２の電極部を外側に引出し加熱
用電源２４に接続しているので、配線引出しをさらに簡
素化することができる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように本発明のガラス微粒
子の堆積装置においては、排気ダンパーに加熱手段を設
けることで、排気ダンパーに付着するガラス微粒子に起
因する排気能力の低下およびこれに伴う製品不良を未然
に防止することができる。
子の堆積装置においては、排気ダンパーに加熱手段を設
けることで、排気ダンパーに付着するガラス微粒子に起
因する排気能力の低下およびこれに伴う製品不良を未然
に防止することができる。
【００２３】また、前記加熱手段が、排気ダクトの外周
に配置され、高周波発生器に接続した加熱用コイルから
なり、かつ排気ダンパーを高周波誘電特性のある材料で
構成することで、排気ダンパーは高周波誘導加熱によ
り、表面が局部加熱され、ガラス微粒子を溶融除去する
ことができる。
に配置され、高周波発生器に接続した加熱用コイルから
なり、かつ排気ダンパーを高周波誘電特性のある材料で
構成することで、排気ダンパーは高周波誘導加熱によ
り、表面が局部加熱され、ガラス微粒子を溶融除去する
ことができる。
【００２４】また、前記加熱手段が、絶縁体で構成され
る排気ダンパーの片面または両面に埋設され、かつその
両端接続部を一方または双方の回転軸を通じて外部電源
と接続するヒータであることで、装置全体の構成が簡単
となり、コスト低減を図ることができる。
る排気ダンパーの片面または両面に埋設され、かつその
両端接続部を一方または双方の回転軸を通じて外部電源
と接続するヒータであることで、装置全体の構成が簡単
となり、コスト低減を図ることができる。
【図１】本発明のガラス微粒子の堆積装置の装置全体構
成を示す説明図である。
成を示す説明図である。
【図２】図１における本発明のガラス微粒子の堆積装置
の第１実施の形態の要部を示すＡ矢視部分の拡大図であ
る。
の第１実施の形態の要部を示すＡ矢視部分の拡大図であ
る。
【図３】図１における本発明のガラス微粒子の堆積装置
の第２実施の形態の要部を示すＡ矢視部分の拡大図であ
る。
の第２実施の形態の要部を示すＡ矢視部分の拡大図であ
る。
【図４】図３におけるＢ−Ｂ線断面図である。
【図５】図１における本発明のガラス微粒子の堆積装置
の第３実施の形態の要部を示すＡ矢視部分の拡大図であ
る。
の第３実施の形態の要部を示すＡ矢視部分の拡大図であ
る。
１ 反応室 ２ ターゲット棒 ２ａ プリフォーム ３ コア用バーナ ４ クラッド用バーナ ５ 排気口 ６ 排気ダクト ８、２０ 排気ダンパー １４ 高周波発生器（加熱手段） １５ 加熱用コイル（加熱手段） ２３ ニクロム線ヒータ（加熱手段）
Claims (3)
- 【請求項１】 コア用のガラス微粒子を生成するための
バーナと、クラッド用のガラス微粒子を生成するための
バーナと、生成されたガラス微粒子がその下部に堆積さ
れ、堆積とともに上方に引上げられるターゲットと、該
ターゲットのガラス微粒子の堆積部を覆う反応室と、該
反応室に開口した排気口と、該排気口に連続する排気ダ
クトと、該排気ダクト内に配置され、前記排気口からの
吸引量を調整する排気ダンパーとを備えたガラス微粒子
の堆積装置において、 前記排気ダンパーに加熱手段を設けたことを特徴とする
ガラス微粒子の堆積装置。 - 【請求項２】 前記排気ダンパーの加熱手段が、前記排
気ダクトの外周に配置され、高周波発生器に接続した加
熱用のコイルからなり、かつ前記排気ダンパーを高周波
誘電特性のある材料で構成したことを特徴とする請求項
１記載のガラス微粒子の堆積装置。 - 【請求項３】 前記排気ダンパーの加熱手段が、絶縁体
で構成される排気ダンパーの片面または両面に埋設さ
れ、かつその両端接続部を一方または双方の回転軸を通
じて加熱用電源と接続するヒータであることを特徴とす
る請求項１記載のガラス微粒子の堆積装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2926697A JPH10226530A (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | ガラス微粒子の堆積装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2926697A JPH10226530A (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | ガラス微粒子の堆積装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10226530A true JPH10226530A (ja) | 1998-08-25 |
Family
ID=12271485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2926697A Pending JPH10226530A (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | ガラス微粒子の堆積装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10226530A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006085676A2 (en) * | 2005-02-08 | 2006-08-17 | Asahi Glass Co., Ltd. | Process and apparatus for producing porous quartz glass base |
-
1997
- 1997-02-13 JP JP2926697A patent/JPH10226530A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006085676A2 (en) * | 2005-02-08 | 2006-08-17 | Asahi Glass Co., Ltd. | Process and apparatus for producing porous quartz glass base |
| WO2006085676A3 (en) * | 2005-02-08 | 2006-10-19 | Asahi Glass Co Ltd | Process and apparatus for producing porous quartz glass base |
| US7810356B2 (en) | 2005-02-08 | 2010-10-12 | Asahi Glass Company, Limited | Process and apparatus for producing porous quartz glass base |
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