JPH1022357A

JPH1022357A - ウエハ搬送装置

Info

Publication number: JPH1022357A
Application number: JP16982596A
Authority: JP
Inventors: Yoshiji Kan; 祥次管; Hideaki Yamamoto; 英明山本
Original assignee: Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi Plant Technologies Ltd
Priority date: 1996-06-28
Filing date: 1996-06-28
Publication date: 1998-01-23

Abstract

(57)【要約】【課題】ウエハとハンドとの摩擦力に依存して保持し
ているため、高速搬送を行うとハンド上でウエハが摺動
し破損したり発塵が起きる不具合が生じる。【解決手段】第３アーム４９の内側に設けた通路５７
の一端がウエハ載置面に到達し、通路５７の他端が通路
５６、通路５５、通路５４、パイプ５３を介して加圧源
及び真空源に可変圧調整バルブ５３ａを介して接続され
る。ウエハ載置面に達した通路５７の到達箇所を塞ぐ圧
力差により変位する部材と部材の上部に設けたウエハ保
持部からなるウエハ保持機構５８を設ける。通路５７内
部の圧力を検出する圧力計ＰＳ２とウエハ保持部の周辺
の圧力を検出する圧力計ＰＳ１を設け、通路５７内外の
圧力差を算出し該通路内圧力調整手段を駆動する制御手
段を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置の
ウエハ搬送装置に関するものであり、特にウエハの高速
搬送に適した搬送装置に関するものである。

【０００２】本明細書において、加圧／減圧手段とは、
加圧または減圧、もしくは加圧および減圧の一方を選択
的に行うことのできる手段をいう。

【０００３】

【従来の技術】半導体製造設備の一つとして、ウエハに
プラズマエッチング等の処理を行う基板処理装置があ
る。図５に従来の基板処理装置の概略レイアウト図を示
す。

【０００４】図５に示すように、基板処理装置１はウエ
ハ２を収納するカセット３を載せるカセット載置室４
と、真空ポンプ（図示せず）を有し真空雰囲気中でウエ
ハ２の処理を行う複数のチャンバ１９と、ウエハをチャ
ンバ１９内に搬送するための搬送室５と、該カセット載
置室４と該搬送室５の間に位置するロードロック室６及
びアンロードロック室７を含む。

【０００５】ロードロック室６にはゲートバルブ８及び
１０、アンロードロック室７にはゲートバルブ９及び１
１が設けてある。ゲートバルブ８及び９はロードロック
室６、アンロードロック室７とカセット載置室４との境
界に位置し、ゲートバルブ１０及び１１はロードロック
室６、アンロードロック室７と搬送室５との境界に位置
している。各チャンバ１９と搬送室５との間にはゲート
バルブ１８が設けられている。

【０００６】ロードロック室６及びアンロードロック室
７にはバルブ１２を介して真空ポンプ１３が接続されて
おり、制御装置（図示せず）により真空雰囲気及び大気
開放が切り替え可能になっている。ロードロック室６、
アンロードロック室７の内部にはそれぞれ昇降自在のウ
エハ載置テーブル１４、１５が設けてある。

【０００７】カセット載置室４と搬送室５の内部にはウ
エハ搬送装置１６及び１７が設けてある。カセット載置
室４に設けたウエハ搬送装置１６は、カセット３に収納
されているウエハ２を一枚ずつロードロック室６内に搬
送し、アンロードロック室７内からウエハ２を一枚ずつ
カセット３内に収納する。一方、搬送室５内に設けたウ
エハ搬送装置１７は、ロードロック室６内に設けたウエ
ハ載置テーブル１４からウエハ２を取り上げ、ゲートバ
ルブ１０、搬送室５、ゲートバルブ１８を介してチャン
バ１９内のウエハ載置テーブル２０にウエハ２の搬送を
行い、またチャンバ１９内での処理が終了したウエハ２
を取り上げ、ゲートバルブ１８、搬送室５、ゲートバル
ブ１１を介してアンロードロック室７のカセット載置テ
ーブル１５上にウエハ２を搬送する。

【０００８】以下では説明の便宜上、カセット載置室４
に設けたウエハ搬送装置１６を大気ロボット１６、搬送
室５内のウエハ搬送装置１７を真空ロボット１７と呼
ぶ。

【０００９】大気ロボット１６においては、ウエハ２を
載せるＵ字型のハンド１６ａが、連結されたアーム１６
ｂ、１６ｃ、１６ｄを介して支持回転軸に結合されてい
る。制御装置（図示せず）によりアーム１６ｂ、１６
ｃ、１６ｄを旋回伸縮駆動してウエハ２を搬送する。一
般にウエハ２の落下を防止するためにウエハ２を載せる
Ｕ字型のハンド１６ａに真空吸着手段を設けている。

【００１０】しかし、真空ロボット１７は真空雰囲気ま
たは低圧雰囲気に保持されている搬送室５内に位置して
いるため実用的な負圧を生じさせることができず、真空
吸着手段を用いることができない。Ｕ字型のハンド１７
ａ上にウエハ２を載せた状態で搬送を行っているため、
ハンド１７ａのウエハ載置部とウエハ２裏面との摩擦に
よりウエハが保持されているに過ぎない。従って摩擦係
数によってウエハ２が保持できる範囲の速度でしか真空
ロボット１７のハンド１７ａを移動することができな
い。

【００１１】そこで、真空中のウエハ搬送においては、
確実にウエハ２を保持するためにウエハ載置部にガイド
やピンを設けウエハ２の外周部を接触保持する手段が用
いられている。

【００１２】次に、プッシャにより駆動される押し上げ
ピンを備えたウエハ載置テーブルの構成を説明する。従
来から使用している大気ロボット１６を用いてウエハ載
置テーブル１４にウエハ２を移し替える場合を例に取っ
て説明する。なお、ウエハ載置テーブル１５及びウエハ
載置テーブル２０はウエハ載置テーブル１４と同一の構
成となっている。

【００１３】ウエハ載置テーブル１４には押し上げピン
（図示せず）を上部に有するプッシャ（図示せず）が昇
降可能に設けてある。制御装置（図示せず）は、ウエハ
２を真空吸着手段により吸着保持したＵ字型のハンド１
６ａが所定の位置に到達するようアーム１６ｂを移動す
る。なお、アーム１６ｂは図５に示すようにアーム１６
ｃ、アーム１６ｄに連結している。

【００１４】次に、所定の高さだけプッシャ（図示せ
ず）が上昇し、プッシャ（図示せず）に設けた押し上げ
ピン（図示せず）がハンド１６ａのＵ字内側からウエハ
２の裏面に当接する。押し上げピン（図示せず）がウエ
ハ２の裏面に当接すると、制御装置（図示せず）はハン
ド１６ａの真空吸着手段の真空を解除する。プッシャ
（図示せず）が更に上昇してウエハ２をハンド１６ａか
ら離し、押し上げピン（図示せず）上に載せる。この状
態でウエハ２は大気ロボットのハンドから離れ、押し上
げピンのみによって保持される。押し上げピン（図示せ
ず）上にウエハ２を残して、大気ロボット１６のハンド
１６ａはアーム１６ｂの旋回によりロードロック室６か
ら退避する。この後、ロードロック室６は真空雰囲気と
なり、ウエハは真空ロボットにより搬送される。

【００１５】大気ロボット１６がロードロック室６から
退避した後、ロードロック室６のゲートバルブ８を閉鎖
し、真空ポンプ１３を駆動してロードロック室６内を真
空雰囲気にする。次いでゲートバルブ１０を開放すると
搬送室５内の真空ロボット１７がロードロック室６内に
ハンド１７ａを移動する。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】ウエハ載置部にガイド
やピンを形成する場合、通常、搬送対象とするウエハ径
よりわずかに大きな領域を確保してガイドやピンを設け
この領域内にウエハを載置するため、ガイドとウエハ外
周部との間にはウエハ径方向に若干の隙間が形成され
る。

【００１７】従って、ガイドによってウエハの落下を防
ぐことはできるが、ロボットハンドの移動時に、ハンド
上面とウエハ裏面の摩擦力よりもウエハに作用する慣性
力が大きくなった場合には、ウエハ径方向の隙間領域が
あるため移動前のハンド上面の載置位置からウエハがず
れ、いわゆる摺動に伴う異物（ダスト）が発生（発塵）
することがある。また、ロボットハンドの移動速度によ
ってはウエハに作用する慣性力によって該ガイドにウエ
ハ外周部が衝突してチッピングが発生する問題が生じ
る。

【００１８】すなわち、落下防止対策としてガイドやピ
ンをウエハ載置部に設けても、依然ロボットハンド上面
とウエハ裏面との摩擦力に依存して搬送を行わざるを得
ず、搬送速度の制御が複雑になり、特にウエハ径の大型
化に伴い高速搬送を行うことが困難となってきている。

【００１９】本発明の目的は、上記課題を解決しウエハ
の高速搬送を行ってもウエハを破損することがないウエ
ハ搬送装置を提供することにある。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明のウエハ搬送装置
は、ウエハをウエハ載置面上に載置するウエハ載置部
と、該ウエハ載置部を支持するアーム部とを有するウエ
ハ搬送装置において、前記アーム部の内側に通路を設
け、該通路の一端を前記ウエハ載置部の内部を通過して
ウエハ載置面に到達させ、該通路の他端を前記アーム部
外部に設けた加圧／減圧手段に接続させ、前記ウエハ載
置面に達した前記通路の一端を塞ぎ、圧力差により変位
する部材と、該部材の変位によりウエハを固定すること
のできるウエハ保持部とを有するウエハ保持機構を設
け、上記アーム部の内側に設けた通路と上記加圧／減圧
手段との間に、該通路内部の圧力を検出する通路内圧力
検出手段と該通路内部の圧力を調整する通路内圧力調整
手段とを設け、該通路内外の圧力差を算出し該通路内圧
力調整手段を駆動する制御手段を備えたことを特徴とす
る。

【００２１】本発明によれば、摩擦力に依存することな
くウエハを確実に保持することができ、高速搬送を行っ
てもウエハの破損を防ぐウエハ搬送装置を得ることがで
きる。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１から図４を用いて本発明の一
実施例によるウエハ搬送装置を説明する。

【００２３】図１は本実施例における基板処理装置の一
例を示す図であり、図５と同一部分には同一符号を付け
説明は省略する。

【００２４】図１において、搬送室５内のウエハ搬送装
置２１を真空ロボット２１と呼び従来例とは区別する
が、基板処理装置内での真空ロボット２１の動作は上記
図５に示す従来例における真空ロボット１７と同じであ
るため、同一部分についての説明は省略し、真空ロボッ
ト２１におけるウエハ保持機構の詳細を図２乃至図４を
用いて説明する。

【００２５】図２は本発明の実施例によるウエハ搬送装
置の一例を示す真空ロボット２１の断面図である。図を
参照しながら真空ロボット２１の各部の概略構成を説明
し、図３及び図４を用いてウエハ２の保持機構細部を説
明する。

【００２６】図２（ａ）に示すように、搬送室５の内部
に真空ロボット２１のアーム部３１が位置し、搬送室５
の外部に設けたケース３２内部に駆動部３３が位置して
いる。搬送室５とケース３２との接触箇所をシ−ル部
品、例えばＯリング３４によって密閉することにより、
搬送室５内を真空雰囲気に保つことができる。

【００２７】駆動軸３５は、搬送室５とケース３２にわ
たって設けてある。駆動軸３５の下部はケース３２内に
位置している。搬送室５内において、アーム部３１の第
１アーム３６は軸受３７を介して駆動軸３５の上部外周
に相互に回転可能に結合されている。さらに、上方にお
いて、駆動軸３５の外周にはプーリ３５ａが固定されて
いる。ケース３２と駆動軸３５との接触部においては、
駆動軸３５の外周に設けた軸受３８を介して、ケース３
２が駆動軸３５を回転可能に保持している。

【００２８】駆動軸３５の下端外周とモータ３９に結合
したプーリ４０の外周とにわたってベルト４１が掛け回
されている。コントローラ４２がモータ３９を駆動する
と、プーリ４０に掛け回されたベルト４１が駆動軸３５
の下端外周を連れ回す。すなわち、モータ３９は、プー
リ３５ａ上のベルト５０を駆動する。

【００２９】駆動軸３５の内側には駆動軸４３が挿入さ
れ、その外周が駆動軸３５の内周に当接する。駆動軸３
５の下部に位置するモータ４４の回転軸に駆動軸４３の
下端が結合してある。モータ４４がコントローラ４２に
より駆動されると、駆動軸３５との間に設けた上下の軸
受４５により駆動軸４３のみが回転する。なお、駆動軸
４３の先端は駆動軸３５の上部を突き抜けて駆動軸３５
を覆う形で設けた第１アーム３６と結合している。従っ
て、コントローラ４２がモータ４４を駆動すると、（駆
動軸３５は回転せず）駆動軸４３が回転し、搬送室５内
において第１アーム３６が回転する。

【００３０】第１アーム３６には回転軸４６の下端が固
定してある。回転軸４６の下端周囲に軸受を介してプー
リ４６ａが回転可能に結合されている。プーリ４６ａの
上部は第２アーム４７に固定してあり、プーリ４６ａと
プーリ３５ａにはベルト５０が掛け回してある。すなわ
ち、第２アーム４７は、プーリ４６ａ、ベルト５０、プ
ーリ３５ａ、回転軸３５を介してモータ３９によって駆
動される。なお、回転軸４６の上端は回転軸４６を覆う
形で設けた第２アーム４７内に位置しており、第２アー
ム４７内の回転軸４６上部にはプーリ４６ｂが結合され
ている。

【００３１】第２アーム４７には回転軸４８の下端が固
定して設けてあり、回転軸４８の外周に設けた軸受によ
りプーリ４８ａが回転可能に結合されている。プーリ４
８ａの上部は第３アーム４９に固定してあり、プーリ４
８ａの外周とプーリ４６ｂにベルト５１が掛け回してあ
る。すなわち、第３アーム４９は、ベルト５１、プーリ
４６ｂを介して第１アームに結合している。

【００３２】コントローラ４２がモータ４４を駆動する
と第１ア−ム３６が回転する。第１アーム３６と駆動軸
３５との相対的関係で言うと、駆動軸３５を逆方向に回
転したのと等価である。以下、第１アームに対する動き
を考察する。

【００３３】駆動軸３５に固定されたプーリ３５ａも第
１アーム３６に対して相対的に駆動され、ベルト５０を
介してプーリ４６ａが回転する。プーリ４６ａは第２ア
ーム４７に固定されており、第２アーム４７は第１アー
ム３６の回転方向とは逆方向へ回転する。同様に、第３
アーム４９は第２アーム４７と逆方向へ回転する。

【００３４】また、プーリ３５ａとプーリ４６ａのプー
リ比を２：１、プーリ４６ｂとプーリ４８ａのプーリ比
を０．５：１と設定すると、第３アーム４９は、プーリ
３５ａと逆方向に同一角度回転され、駆動軸４３を軸に
して真空雰囲気中の搬送室５内で半径方向に直線的に動
作することができる。

【００３５】次に、ウエハ保持機構について説明する。
ケース３２内に搬送室５内に通じる通路５２を設け、圧
力計ＰＳ１が接続され、圧力計ＰＳ１は、搬送室５の真
空状態を検出して検出信号をコントローラ４２に供給す
る。

【００３６】さらに、搬送室５の外部には真空源及び加
圧源に可変圧力調整バルブ５３ａを介して接続されたパ
イプ５３が設けてある。なお、後述するように、パイプ
５３は、加圧、または減圧、ないしは加圧、減圧の一方
を選択的に行う加圧／減圧手段に接続されればよい。

【００３７】パイプ５３は駆動軸３５の内部に設けた通
路５４にケース３２を貫通して接続されている。回転部
を介して通路を接続するため、ケース３２または駆動軸
３５には円環状の溝を設ける。

【００３８】図２（ｂ）は、ケース３２の内壁に設けた
溝の例を示す。駆動軸３５を一回転させた時に通知５４
が接するケース３２の内壁ＩＦには溝ＧＲが設けてあ
る。この溝ＧＲはケース３２の内側一周に渡って設けて
あり、通路５４の開口部（通路５３側）はケース３２に
設けた溝ＧＲに接しており、溝を介してケース３２及び
パイプ５３に連通している。すなわち、厳密には通路５
４とパイプ５３とは直接結合はしておらず、溝を介して
結合している。従って、駆動軸３５が回転しても、常に
パイプ５３は通路５４に接続されている。以下説明を省
略するが、回転部における通路の接続は同様に行われ
る。なお、溝は外側部材に設けても、内側部材に設けて
もよい。

【００３９】通路５４は第１アーム３６及び回転軸４６
に設けた通路５５につながっている。通路５５は第２ア
ーム４７及び回転軸４８に設けた通路５６につながって
いる。通路５６は第３アーム４９に設けた通路５７につ
ながっている。パイプ５３に設けた圧力計ＰＳ２により
コントローラ４２は連通しているパイプ５３、通路５
４、通路５５、通路５６、通路５７内の圧力を計測する
ことができる。

【００４０】なお、通路５７の終端は第３アーム４９に
設けたウエハ保持機構５８の下部に位置しており搬送室
５内には開放していない。第３アーム４９にはウエハ保
持機構５８とカバー５９が設けてあり、詳細は図３を用
いて説明する。

【００４１】図３は第３アーム４９の上面図であり、説
明の便宜上、カバー５９を取り除きウエハ２を保持して
いない状態を示している。

【００４２】図３に示すように第３アーム４９の先端は
Ｕ字型をしており、Ｕ字型中央部には搬送するウエハよ
りも若干大きい円弧状のウエハ接触部４９ａが設けてあ
る。また、通路５７がコ字型に設けてあり、一端は通路
５６につながっているが終端部はウエハ保持機構５８に
設けた円板状のダイヤフラム６０により塞がれている。

【００４３】ウエハ保持機構５８は、図４に示すよう
に、円板状のダイヤフラム６０とダイヤフラム６０の上
部に設けた板バネ６１と板バネ６１の上部に設けたリン
ク６２とリンク６２の先端に設けたウエハ押付爪６３を
含む。図３においては板バネ６１はリンク６２の下部に
位置するため図示していない。カバー５９は図４に示す
ようにウエハ保持機構５８の上部に位置しダイヤフラム
６０、板バネ６１、リンク機構６２を覆っているが、ウ
エハ接触部４９ａやウエハ押付爪６３先端部は覆い隠さ
ない形状になっている。

【００４４】図４（ａ）は図３に示す第３アーム４９上
部にウエハ２を載置しただけのウエハ保持機構５８を拡
大した断面を示し、図４（ｂ）はウエハ２を載置保持し
たウエハ保持機構５８を拡大した断面を示している。

【００４５】ウエハ保持機構５８の動作を、図２及び図
３を参照しながら図４を用いて以下説明する。

【００４６】図２に示すように、コントローラ４２が搬
送室５内の圧力を、圧力計ＰＳ１により検出するととも
に、圧力計ＰＳ２により通路５３、通路５４、通路５
５、通路５６、通路５７内の圧力を検出する。圧力計Ｐ
Ｓ２により検出した通路５７の圧力と圧力計ＰＳ１によ
り検出した搬送室５内の圧力が等しい時、ウエハ保持機
構５８は図４（ａ）に示す形状を取っている。

【００４７】この状態で、圧力計ＰＳ２により検出した
通路５７の圧力が圧力計ＰＳ１により検出した搬送室５
内の圧力よりも高くなるようにコントローラ４２が可変
圧力調整バルブ５４を制御し、例えば、約０．５〜１ｋ
ｇ／ｃｍ²とすると、搬送室５内の圧力とダイヤフラム
６０により塞がれている通路５７内の圧力との間に圧力
差が生じる。

【００４８】図４（ｂ）に示すように、圧力差によりダ
イヤフラム６０が搬送室５側に変位する。ダイヤフラム
６０が変位すると、板バネ６１が曲げられ、一辺を固定
され、隣接する２辺間の角度が可変の平行四辺形タイプ
のリンク６２が動作し、リンク６２に取り付けたウエハ
押付爪６３がウエハ２の側面に当接する。なお、平行四
辺形タイプのリンクの代わりに変位によって駆動される
他の機構を用いてもよい。

【００４９】ウエハ２の保持を行う際は、ウエハ押付爪
６３が常にウエハ２の中心方向に力を与えるが、圧力差
を利用してウエハ押付爪６３の移動距離を制御すること
ができるため、ウエハ２の側面に過大な力がかからず、
ウエハ２を破損することはない。

【００５０】本実施例ではウエハ保持機構５８を第３ア
ーム４９上に５箇所設けたが、これは、例えばオリエン
テーションフラットやＶノッチなどの円弧以外の部分が
ウエハ２に存在することも考慮して、少なくとも４箇所
で常に中心方向にウエハ２を保持することができる構造
としたものである。

【００５１】なお、処理が終了したウエハ２を図１に示
すアンロードロック室７内に搬送する場合には、ウエハ
２を保持した状態で図１に示すアンロードロック室７の
ウエハ載置テーブル１５上部に第３アーム４９を配置す
る。

【００５２】押し上げピンがウエハ２裏面の第３アーム
４９のＵ字型内側に当接する前に、コントローラ４２が
圧力計ＰＳ１の検出した搬送室５内の圧力と圧力計ＰＳ
２の検出する圧力が同一圧力になるまで可変圧力制御バ
ルブ５３ａを制御する。同一圧力になると図４（ａ）に
示すように、ダイヤフラム６０が元に戻り、板バネ６１
及びリンク６２の動作に伴ってウエハ押付爪６３がウエ
ハ２の端面から離れウエハ２８の保持を解除する。

【００５３】なお、ベルト４１、５０、５１の代わりに
ワイヤーを用いてもかまわない。また、ダイヤフラム６
０の代わりに圧力差によって変位する部材であれば、例
えばシリコンゴム等のべローズを用いてもよい。

【００５４】更に、本実施例では、ウエハ保持機構を設
けたウエハ搬送装置を真空雰囲気または低圧雰囲気中で
用いる場合を例に取り説明したが、大気中にて用いる場
合には、ダイヤフラム６０に対して大気圧よりも例えば
０．５〜１ｋｇ／ｃｍ²高い圧力を掛けることによりウ
エハ２を保持することができる。また、ダイヤフラム６
０に対して大気圧よりも例えば０．５〜１ｋｇ／ｃｍ²
低い圧力とすることによってウエハ２を保持するよう板
バネ６１、リンク機構６２、ウエハ押付爪６３の構成を
変更してもよい。

【００５５】以上述べたように、圧力差により変位する
部材を有するウエハ保持機構によってウエハの保持及び
保持解除を行うことができるため、確実にウエハを保持
することができ、高速搬送を行ってもウエハの破損を防
止することができる。

【００５６】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。たとえば、
種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者
に自明であろう。

【００５７】

【発明の効果】本発明によれば、ウエハを摩擦力に依存
することなく確実に保持することができ、高速搬送を行
ってもウエハの破損を防ぐウエハ搬送装置を得ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における基板処理装置の概略
を示す図である。

【図２】図１に示す実施例における真空ロボットの断面
図である。

【図３】図２に示す真空ロボットのウエハ載置部の横断
面図である。

【図４】図３に示すウエハ載置部のウエハ保持機構の拡
大図である。

【図５】従来の基板処理装置の概略を示す図である。

【符号の説明】

１：基板処理装置２：ウエハ３：カ
セット４：カセット載置室５：搬送室６：ロ
ードロック室７：アンロードロック室８，９，１０，１１：ゲ
ートバルブ１２：バルブ１３：真空ポンプ１４，１
５：ウエハ載置テーブル１６：ウエハ搬送装置（大気ロボット）１６ａ：ハ
ンド１６ｂ，１６ｃ，１６ｄ：アーム１７：ウエハ搬送装置（真空ロボット）１７ａ：ハン
ド１８：ゲートバルブ１９：チャンバ２０：ウエハ
載置テーブル２１：ウエハ搬送装置（真空ロボット）３１：アーム部３２：ケース３３：駆動
部３４：Ｏリング３５：駆動軸３５ａ：プ
ーリ３６：第１アーム３７：軸受３８：Ｏリン
グ３９：モータ４０：プーリ４１：ベルト４２：コン
トローラ４３：駆動軸４４：モータ４５：軸受４６：回転軸４６ａ，４６ｂ：プーリ４７：第２アーム４８：回転軸４８ａ：プ
ーリ４９：第３アーム４９ａ：ウエハ接触部５０，
５１：ベルト５２，５４，５５，５６，５７：通路５３：パイ
プ５３ａ：可変圧力調整バルブ５８：ウエハ保持機構５９：カバー６０：ダイヤフ
ラム６１：板バネ６２：リンク６３：ウエハ押付爪

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウエハをウエハ載置面上に載置するウエハ
載置部と、該ウエハ載置部を支持するアーム部とを有す
るウエハ搬送装置において、前記アーム部の内側に通路を設け、該通路の一端を前記
ウエハ載置部の内部を通過してウエハ載置面に到達さ
せ、該通路の他端を前記アーム部外部に設けた加圧／減
圧手段に接続させ、前記ウエハ載置面に達した前記通路の一端を塞ぎ、圧力
差により変位する部材と、該部材の変位によりウエハを
固定することのできるウエハ保持部とを有するウエハ保
持機構を設け、上記アーム部の内側に設けた通路と上記加圧／減圧手段
との間に、該通路内部の圧力を検出する通路内圧力検出
手段と該通路内部の圧力を調整する通路内圧力調整手段
とを設け、該通路内外の圧力差を算出し該通路内圧力調整手段を駆
動する制御手段を備えたことを特徴とするウエハ搬送装
置。
【請求項２】請求項１に記載のウエハ搬送装置におい
て、ウエハ保持機構の前記部材は、ダイヤフラムまたはべロ
ーズを含み、ウエハ保持機構の前記ウエハ保持部は該ダ
イヤフラムまたはべローズに係合した板バネと該板バネ
により移動するリンク機構と該リンク機構に設けたウエ
ハ押付爪とを含み、ウエハ押付爪によりウエハの側面を
保持することを特徴とするウエハ搬送装置。
【請求項３】請求項２に記載のウエハ搬送装置におい
て、上記制御手段が上記通路内圧力調整手段を駆動すること
により、上記通路内外に圧力差が発生し、上記ウエハ保
持機構に設けた上記ウエハ押付爪が移動してウエハの保
持あるいは解除を行うことを特徴とするウエハ搬送装
置。