JPH10219448A - 蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置 - Google Patents

蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置

Info

Publication number
JPH10219448A
JPH10219448A JP9028762A JP2876297A JPH10219448A JP H10219448 A JPH10219448 A JP H10219448A JP 9028762 A JP9028762 A JP 9028762A JP 2876297 A JP2876297 A JP 2876297A JP H10219448 A JPH10219448 A JP H10219448A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor
metal vapor
amount
metal
nitrogen gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9028762A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Tanaka
宏 田中
Yasushi Fukui
康 福居
Minoru Saito
実 斎藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Nisshin Co Ltd
Original Assignee
Nisshin Steel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nisshin Steel Co Ltd filed Critical Nisshin Steel Co Ltd
Priority to JP9028762A priority Critical patent/JPH10219448A/ja
Priority to TW086103499A priority patent/TW340876B/zh
Priority to US08/822,433 priority patent/US6060109A/en
Priority to CA002200667A priority patent/CA2200667A1/en
Priority to EP97105152A priority patent/EP0798553A1/en
Priority to CN97103725A priority patent/CN1167165A/zh
Priority to KR1019970010732A priority patent/KR100208811B1/ko
Publication of JPH10219448A publication Critical patent/JPH10219448A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 測定光に到達する金属蒸気量を減らし、案内
ダクトを通過する金属蒸気量を高精度で且つ応答性良く
測定する。 【解決手段】 金属蒸発源から被めっき鋼帯に金属蒸気
を導く案内フード内に一端が開口し、他端が蒸気量測定
室7内に開口した蒸気取出し管6を介して案内フードか
ら蒸気量測定室7に金属蒸気3を導く。金属蒸気3の一
部を窒素ガス15と共に排気管16を介して測定室7か
ら排出し、減量した金属蒸気3に測定光9を照射し、金
属蒸気3に吸収された光量から金属蒸気量を求める。 【効果】 金属蒸気3の大半が窒素ガス14と共に測定
室7から排気されるので、測定光9に至る金属蒸気量を
吸光度が飽和する蒸気量よりも少なくでき、高精度の測
定が可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、蒸着めっき法でめっき
鋼板を製造する際にめっき付着量を調整するため、蒸発
源から被めっき鋼帯に至る金属蒸気量を高精度で且つ応
答性良く測定する方法及び測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】Znめっき等の製造ラインにおいては、
蛍光X線,X線回折法等でめっき付着量を測定し、測定
結果に基づいてめっき付着量を制御している。蛍光X線
法では、特開昭60−13308号公報で紹介されてい
るように、めっき鋼板にX線を照射し、めっき金属から
検出される蛍光X線の強度を測定し、予め作成している
検量線に従って計算することによって付着量を求めてい
る。複層構造のめっき層をもつめっき鋼板に対しては、
X線回折法が有効である。X線回折法では、めっき組成
に特有のピーク強度を測定し、めっき組成と付着量との
関係式を解くことにより付着量が求められる。ところ
で、Zn,Mg等の蒸着めっきに際しては、壁面を数百
℃に保持することにより壁面に対する蒸着が防止される
ため、ダクトを経由してZn,Mg等の蒸気を被めっき
鋼帯に導き蒸着することができる。蒸着めっき法では、
特願平8−99314号で提案したように、蒸発源から
被めっき鋼帯に金属蒸気を導く蒸気案内ダクト中の金属
蒸気量を原子吸光法で測定することによりめっき付着量
を測定できる。
【0003】特願平8−99314号で提案した方法
は、図1に示すように蒸発源1の蒸発金属2を金属蒸気
3とし、案内ダクト4を介して金属蒸気3を被めっき鋼
帯5に導く。このとき、案内ダクト4を通過する金属蒸
気3の一部を、所定温度に加熱保持した蒸気取出し管6
から取り出し、蒸気量測定室7に導く。案内ダクト4か
ら蒸気量測定室7に導かれる金属蒸気3の量は、真空ポ
ンプ8で減圧されている蒸気量測定室7の雰囲気圧と案
内ダクト4の雰囲気圧との圧力差に応じて変わる。蒸気
量測定室7では、図2に示すように、金属蒸気3に吸収
される特定の波長をもつ測定光9を出射するホロカソー
ドランプを光源10として使用し、光源10の反対側に
検知器11として光電子増倍管を配置している。蒸気取
出し管6から導入した金属蒸気3に測定光9を照射する
と原子吸光が発生し、金属蒸気3に吸収されない測定光
9が検知器11に到達する。したがって、検知器11に
よる測定結果から金属蒸気3に吸収された光量、すなわ
ち吸光度が判る。吸光度の測定値は付着量制御装置12
に入力される。付着量制御装置12は、吸光度の測定値
から金属蒸気量を演算し、蒸気量調整用シャッター13
の開度を変更する制御信号としてシャッター13に出力
する。この方法では、金属蒸気3の測定位置がシャッタ
ー13の近傍であるため、即応性に優れた付着量制御が
可能である。複層めっきの付着量測定においても、それ
ぞれの金属を単独で測定することにより、X線回折法に
比較して高精度の測定が可能となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】原子吸光法で金属蒸気
量を測定する際、蒸気取出し管6から導かれる金属蒸気
3の流量が増加すると吸光度も増加する。金属蒸気3の
流量が一定値を超えると、吸光度が変化しない飽和状態
になる。飽和状態に至るときの金属蒸気量及び吸光度
は、金属蒸気3の種類,測定光9の波長や強度等によっ
て異なる。そこで、金属蒸気量を高精度で測定するため
には、測定光9上を通過する金属蒸気3の流量を吸光度
が飽和する蒸気量よりも十分少なくすることが要求され
る。金属蒸気量を少なくする手段としては、蒸気取出し
管6を小径化することが考えられる。しかし、小径化に
伴って蒸気取出し管6の抵抗が大きくなるため、案内ダ
クト4を通過する金属蒸気3の流量変化に比較して、蒸
気取出し管6から蒸気量測定室8に流入する金属蒸気3
の流量変化に遅れが生じる。
【0005】応答性の遅れは、蒸気取出し管6の先端の
みを小径化することにより抑制される。しかし、この方
法では、蒸気取出し管6の先端径を微小にする必要があ
るが、工業的に制作可能な径の下限は0.3mm程度で
ある。しかも、微小径の先端をもつ蒸気取出し管6で
は、加熱による僅かな変形によっても金属蒸気量が大き
く変動し、測定誤差の発生原因となる。このように、蒸
気取出し管6の管形状変更で金属蒸気量を抑制すること
には限界があり、蒸気量測定室7に流入する金属蒸気量
を少なくすることが困難である。本発明は、このような
問題を解消すべく案出されたものであり、測定光に至る
金属蒸気の一部を窒素ガスに随伴させて測定室から排出
することにより、案内ダクト内の金属蒸気量変化に遅れ
がない流量で金属蒸気を蒸気量測定室に流入させ、吸光
度が飽和する蒸気量よりも十分少ない蒸気量範囲で金属
蒸気量を高精度で且つ即応性良く測定することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の蒸着めっき用金
属蒸気量測定方法は、その目的を達成するため、金属蒸
発源から被めっき鋼帯に金属蒸気を導く案内フード内に
一端が開口し、他端が蒸気量測定室内に開口した蒸気取
出し管を介して案内フードから蒸気量測定室に金属蒸気
を導き、蒸気量測定室に送り込まれた金属蒸気流に直交
して窒素ガスを蒸気量測定室に導入し、導入した窒素ガ
スと共に金属蒸気の大半を排出し、残りの金属蒸気に測
定光を照射し、金属蒸気に吸収された光量から金属蒸気
量を求めることを特徴とする。この方法で使用する測定
装置は、金属蒸発源から被めっき鋼帯に金属蒸気を導く
案内フード内に一端が開口し、他端が蒸気量測定室内に
開口した蒸気取出し管と、蒸気量測定室に送り込まれる
金属蒸気に直交して窒素ガスを蒸気量測定室に送り込む
窒素ガス導入管と、導入された窒素ガスを金属蒸気の大
半と共に排出する真空ポンプに接続された排気管と、金
属蒸気に吸収される波長をもつ測定光を出射する光源
と、金属蒸気を照射した後の測定光を受光する検知器と
を備えており、窒素ガスと共に排出された後に残る金属
蒸気に吸収された光量から金属蒸気量を求めることを特
徴とする。窒素ガスと共に金属蒸気の大半を測定室から
排出するための真空ポンプに接続された排気管は、特に
本発明を制約するものではないが、窒素ガス導入管が開
口している蒸気量測定室の側壁に対向する側壁に開口さ
せることが好ましい。蒸気量測定室には、それぞれ複数
の窒素ガス導入管及び排気管を設けることができる。蒸
気量測定室の真空度は、案内ダクト内の金属蒸気圧より
も低く維持する。具体的には、0.001〜0.5トー
ルに維持することが好ましい。
【0007】
【実施の形態】本発明に従った蒸気量測定室は、図3に
示すように、蒸気取出し管6から蒸気量測定室7に流入
する金属蒸気3の流れに直交するように、蒸気量測定室
7の側壁に開口した窒素ガス導入管14から窒素ガス1
5を送り込んでいる。窒素ガス導入管14が開口する側
壁に対向する側壁には、真空ポンプ8に接続された排気
管16が開口している。このように窒素ガス導入管14
及び排気管16を備えた測定室7では、蒸気取出し管6
から送り込まれた金属蒸気3は、大半が窒素ガス15と
共に排気管16から測定室7外に排出される。そのた
め、測定光9に到達する金属蒸気3の量は、蒸気取出し
管6から送り込まれた量に比較して僅かなものとなり、
飽和状態になる金属蒸気量以下での測定が可能になる。
蒸気量測定室7には、図4に示すように複数の窒素ガス
導入管141 ,142及び排気管161 ,162 を設け
ることができる。この場合、蒸気取出し管6から測定室
7に送り込まれた金属蒸気3は、窒素ガス導入管14
1 ,142 から送り込まれる窒素ガス151 ,152
よる二段階の排出作用を受ける。そのため、測定光9に
至る金属蒸気3の量が大幅に少なくなり、測定精度が向
上する。
【0008】図3,4では、測定室7の側壁に排気管1
6,161 ,162 が開口する位置を、蒸気取出し管6
の延長線を中心として窒素ガス導入管14,141 ,1
2の開口位置と対称に設定している。しかし、この対
称位置に拘束されるものではなく、それぞれの窒素ガス
導入管14,141 ,142 から送り込まれた窒素ガス
15,151 ,152 が効率よく排気される限り、排気
管16,161 ,16 2 の開口位置を任意に設定するこ
とができる。また、蒸気量測定室7に臨む蒸気取出し管
6の先端に、図5に示すように小径のガス流通孔が形成
された流入管17を装着しても良い。蒸気量測定室7に
送り込まれる金属蒸気3の流量が流入管17によって絞
り込まれ、窒素ガス15,151 ,152 による金属蒸
気3の排出と相俟つて、測定光9に到達する金属蒸気量
を一層少なくする。
【0009】このようにして減量された金属蒸気3が測
定光9に到達するため、吸光度が飽和状態になることな
く、金属蒸気3の量に応じた吸光度変化が測定される。
そのため、吸光度の測定値をもって金属蒸気3の流量を
知ることができる。この金属蒸気3の流量が案内ダクト
4を通過する金属蒸気3の流量に密接な相関性をもって
いるので、結果的には案内ダクト4を通過する金属蒸気
3の流量が正確に測定される。しかも、蒸気量調整用シ
ャッター13の近くに金属蒸気3のサンプリング箇所が
設定されるため、測定結果に応じて信頼性の高い蒸気量
制御が可能になる。また、原子吸光法による測定である
ため、測定に要する時間も短く、高い応答性で案内ダク
ト4を通過する金属蒸気3の流量が目標値に調整され
る。
【0010】
【実施例】Zn,Mg,Znの順に蒸着めっきした蒸着
Zn−Mgめっき鋼板の製造に本発明を適用した実施例
を説明する。この場合に形成されるめっき層Lは、鋼板
の保有熱によってZn及びMgが相互拡散し、下地鋼の
上にMg:0.5重量%以下のZn層,Mg:2〜20
重量%のZn−Mg層及びMg:0.5重量%以下のZ
n層が順次形成された多層構造をもっている。この蒸着
Zn−Mgめっき鋼板は、めっき層中のMg量に応じて
特性が大きく変化する。そのため、Mg付着量の制御が
特に重要となる。そこで、図5に示すように、径0.5
mm,長さ10mmの流入管17を先端に取り付けた径
6mm,長さ3mの蒸気取出し管6により、案内ダクト
4(図1)と蒸気量測定室7の内部を連通させた。ま
た、蒸気取出し管6から蒸気量測定室7に送り込まれる
金属蒸気3の流入方向に直交して窒素ガス導入管14を
蒸気量測定室7の一方の側壁に開口させ、蒸気量測定室
7の他方の側壁に排気管16を開口させた。
【0011】この状態で蒸発源1から案内ダクト4を経
て被めっき鋼帯5に金属蒸気3を送り、案内ダクト4を
流れる金属蒸気3の一部を流量1×10-6〜1×10-3
g/m2 ・秒で蒸気取出し管6から蒸気量測定室7に送
り込んだ。また、窒素ガス導入管14から流量1×10
-2g/m2 ・秒の一定流量で窒素ガス15を蒸気量測定
室7に送り込み、金属蒸気3の大半と共に1×10-2
/m2 ・秒の一定流量で真空ポンプ8により排気した。
蒸気量測定室7内に送り込む窒素ガス流量及び真空ポン
プ8で排気する流量は、蒸気量測定室7内の真空度によ
り定まる。蒸気量測定室7内に送り込む窒素ガス15の
流量及び真空ポンプ8で排気される流量が多いほど、測
定光9を通過する金属蒸気3の量が少なくなる。
【0012】案内ダクト4中のMg蒸気量変化に対応す
る吸光度の変化を調査したところ、図6に示すように
0.13〜0.30の範囲で変化する吸光度が測定され
た。他方、窒素ガスを導入しない以外は同じ条件下で吸
光度の変化を調査したところ、吸光度の変化は、0.3
4〜0.35の狭い範囲に止まっていた。この対比から
明らかなように、窒素ガスの導入・排出により吸光度の
変化範囲が大きくなり、換言すれば案内ダクト4を通過
する金属蒸気3の流量をより精度良く測定できることが
判る。次いで、連続蒸着めっきラインでMg蒸着を単独
で実施し、目標付着量を変化させた場合の応答性を調査
した。図7の調査結果にみられるように、窒素ガス15
の導入・排出により金属蒸気3の大半を蒸気量測定室7
から排出した場合でも、高い応答性でめっき付着量を制
御できた。しかも、目標付着量に対する一致性は、窒素
ガスの導入・排出がない場合に比較して格段に高くなっ
ていることが確認された。
【0013】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、蒸気量測定室に送り込まれる金属蒸気の一部を窒素
ガスに載せて蒸気量測定室から排気し、測定光に到達す
る蒸気量を吸光度が飽和する量よりも十分少ない量に減
少させている。これにより、金属蒸気による吸光度、ひ
いては案内ダクトを通過する金属蒸気量を高精度で測定
できる。しかも、案内ダクトを通過する金属蒸気の流量
変化に即応して測定光に到達する蒸気量が変化するた
め、測定値は、高い応答性で案内ダクトを通過する金属
蒸気量を表す値となる。このようにして得られた測定値
に基づき被めっき鋼帯に至る金属蒸気量を制御すると
き、目標付着量に対して高い一致性でめっき付着量が制
御され、品質安定性に優れた蒸着めっき鋼板が製造され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明者等が先に提案しためっき付着量制御
装置
【図2】 同じく原子吸光分析法で金属蒸気の吸光度を
測定する装置
【図3】 本発明に従って窒素ガスで金属蒸気の大半を
排気する蒸気量測定室
【図4】 複数の窒素ガス導入管及び真空ポンプを備え
た蒸気量測定室
【図5】 実施例で採用した蒸気量測定室
【図6】 窒素ガスの導入・排出による金属蒸気の排出
が吸光度変化に及ぼす影響を示すグラフ
【図7】 窒素ガスの導入・排出機構を備えた蒸気量測
定室で得られた測定値に基づき制御した付着量の目標付
着量に対するハンチングを示すグラフ
【符号の説明】
1:蒸発源 2:蒸発金属 3:金属蒸気 4:
案内ダクト 5:被めっき鋼帯 6:蒸気取出し管
7:蒸気量測定室 8,81 ,82 :真空ポンプ
9:測定光 10:光源 11:検知器 1
2:付着量制御装置 13:蒸気量調整用シャッター
14,141 ,142 :窒素ガス導入管 15,
151 ,152 :窒素ガス 16,161 ,162
排気管 17:流入管
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年4月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】特願平8−99314号で提案した方法
は、図1に示すように蒸発源1の蒸発金属2を金属蒸気
3とし、案内ダクト4を介して金属蒸気3を被めっき鋼
帯5に導く。このとき、案内ダクト4を通過する金属蒸
気3の一部を、所定温度に加熱保持した蒸気取出し管6
から取り出し、蒸気量測定室7に導く。案内ダクト4か
ら蒸気量測定室7に導かれる金属蒸気3の量は、真空ポ
ンプ8で減圧されている蒸気量測定室7の雰囲気圧と案
内ダクト4の金属蒸気圧との圧力差に応じて変わる。蒸
気量測定室7では、図2に示すように、金属蒸気3に吸
収される特定の波長をもつ測定光9を出射するホロカソ
ードランプを光源10として使用し、光源10の反対側
に検知器11として光電子増倍管を配置している。蒸気
取出し管6から導入した金属蒸気3に測定光9を照射す
ると原子吸光が発生し、金属蒸気3に吸収されない測定
光9が検知器11に到達する。したがって、検知器11
による測定結果から金属蒸気3に吸収された光量、すな
わち吸光度が判る。吸光度の測定値は付着量制御装置1
2に入力される。付着量制御装置12は、吸光度の測定
値から金属蒸気量を演算し、蒸気量調整用シャッター1
3の開度を変更する制御信号としてシャッター13に出
力する。この方法では、金属蒸気3の測定位置がシャッ
ター13の近傍であるため、即応性に優れた付着量制御
が可能である。複層めっきの付着量測定においても、そ
れぞれの金属を単独で測定することにより、X線回折法
に比較して高精度の測定が可能となる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属蒸発源から被めっき鋼帯に金属蒸気
    を導く案内フード内に一端が開口し、他端が蒸気量測定
    室内に開口した蒸気取出し管を介して案内フードから蒸
    気量測定室に金属蒸気を導き、蒸気量測定室に送り込ま
    れた金属蒸気流に直交して窒素ガスを蒸気量測定室に導
    入し、導入した窒素ガスと共に金属蒸気の大半を排出
    し、残りの金属蒸気に測定光を照射し、金属蒸気に吸収
    された光量から金属蒸気量を求める蒸着めっき用金属蒸
    気量の測定方法。
  2. 【請求項2】 蒸気量測定室の一側から窒素ガスを導入
    し、相対向する他側から窒素ガス及び金属蒸気の大半を
    排出する請求項1記載の蒸着めっき用金属蒸気量の測定
    方法。
  3. 【請求項3】 金属蒸発源から被めっき鋼帯に金属蒸気
    を導く案内フード内に一端が開口し、他端が蒸気量測定
    室内に開口した蒸気取出し管と、蒸気量測定室に送り込
    まれる金属蒸気に直交して窒素ガスを蒸気量測定室に送
    り込む窒素ガス導入管と、導入された窒素ガスを金属蒸
    気の大半と共に排出する真空ポンプに接続された排気管
    と、金属蒸気に吸収される波長をもつ測定光を出射する
    光源と、金属蒸気を照射した後の測定光を受光する検知
    器とを備え、窒素ガスと共に排出された後に残る金属蒸
    気に吸収された光量から金属蒸気量を求める蒸着めっき
    用金属蒸気量の測定装置。
  4. 【請求項4】 窒素ガス導入管及び排気管が蒸気量測定
    室の相対向する側壁にそれぞれ開口している請求項3記
    載の蒸着めっき用金属蒸気量の測定装置。
  5. 【請求項5】 複数の窒素ガス導入管及び排気管を備え
    ている請求項3又は4記載の蒸着めっき用金属蒸気量の
    測定装置。
JP9028762A 1996-03-27 1997-02-13 蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置 Withdrawn JPH10219448A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9028762A JPH10219448A (ja) 1997-02-13 1997-02-13 蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置
TW086103499A TW340876B (en) 1996-03-27 1997-03-20 Method and apparatus for controlling the deposition amount of a plating metal as well as method and apparatus for measuring the amount of a metal vapor
US08/822,433 US6060109A (en) 1996-03-27 1997-03-21 Atomic absorption analysis for measuring and controlling the amount of a metal vapor in vapor deposition coating line and apparatus therefor
CA002200667A CA2200667A1 (en) 1996-03-27 1997-03-21 Atomic absorption analysis for measuring and controlling the amount of a metal vapor in vapor deposition coating line and apparatus therefor
EP97105152A EP0798553A1 (en) 1996-03-27 1997-03-26 Atomic absorption analysis for measuring and controlling the amount of a metal vapor in vapor deposition coating line and apparatus therefor
CN97103725A CN1167165A (zh) 1996-03-27 1997-03-27 测控蒸汽沉淀镀涂生产线和设备中金属蒸汽量的原子吸收分析
KR1019970010732A KR100208811B1 (ko) 1996-03-27 1997-03-27 증착피복라인에서의 원자흡광법에 의한 금속증기량 측정 및 제어방법 및 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9028762A JPH10219448A (ja) 1997-02-13 1997-02-13 蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10219448A true JPH10219448A (ja) 1998-08-18

Family

ID=12257429

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9028762A Withdrawn JPH10219448A (ja) 1996-03-27 1997-02-13 蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10219448A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI409346B (zh) 蒸鍍源、蒸鍍裝置、成膜方法
US5601652A (en) Apparatus for applying ceramic coatings
Matsui et al. Flame structure and diamond growth mechanism of acetylene torch
JP5936394B2 (ja) 蒸着装置
CN216808955U (zh) 一种有效提高薄膜密度的卷对卷电子束镀膜设备
JPH10219448A (ja) 蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置
US6077355A (en) Apparatus and method for depositing a film on a substrate by chemical vapor deposition
JPH10204623A (ja) 蒸着めっき用金属蒸気量の測定方法及び測定装置
JPH06128728A (ja) 超微粒子のガスデポジション方法及び装置
EP0798553A1 (en) Atomic absorption analysis for measuring and controlling the amount of a metal vapor in vapor deposition coating line and apparatus therefor
JP2009174027A (ja) 真空蒸着装置
JP6207319B2 (ja) 真空蒸着装置
Alvisi et al. Influence of the assisting-ion-beam parameters on the laser-damage threshold of SiO2 films
Peters Homogeneous nucleation of ethanol and n‐propanol in a shock tube
JP4862295B2 (ja) 有機el素子の製造方法及び製造装置
Stalker Shock tunnel measurement of ionization rates in hydrogen
Ricard et al. Analysis of a reactive sputter ion plating discharge for TiN deposition using optical emission spectroscopy
JPH10306366A (ja) 蒸着めっき用付着量測定方法
JPH08505433A (ja) 電子ビーム蒸発中のプロセス安定化方法及び装置
JPH01208465A (ja) 真空蒸着装置
JP6150070B2 (ja) 蒸着装置および蒸着方法
Higgins et al. Investigation of silicon transport in the neutral background of a plasma activated reactive evaporation system
JP4677754B2 (ja) 膜厚測定装置
JPS63302348A (ja) 微量酸素測定方法及びその測定装置
Depablos-Rivera et al. Plasma emission spectroscopy to study the resputtering produced by pulsed laser deposition of Au and in combination with magnetron sputtering of ZnO

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20040511