JPH10213570A - イオン化検出装置 - Google Patents

イオン化検出装置

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JPH10213570A
JPH10213570A JP9032948A JP3294897A JPH10213570A JP H10213570 A JPH10213570 A JP H10213570A JP 9032948 A JP9032948 A JP 9032948A JP 3294897 A JP3294897 A JP 3294897A JP H10213570 A JPH10213570 A JP H10213570A
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JP
Japan
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gas
nozzle
sample
gas pressure
ionization
Prior art date
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Application number
JP9032948A
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English (en)
Inventor
Hideo Satsuta
秀雄 颯田
Hideyuki Kamigaki
英之 上垣
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 分子量の影響を受けず最適なイオン化を行な
う。 【解決手段】 所定の分析条件下での保持時間とカラム
14から溶出する成分との関係を予め調べておき、その
成分の分子量に応じた最適な並進運動エネルギーが得ら
れるような補助ガス流路21入口のガス圧を算出し、保
持時間とそのガス圧制御目標値との関係をメモリに記憶
しておく。分析時には、その関係に基づき試料注入から
の時間経過に従いフローコントローラ22を制御する。
これにより、溶出する成分の分子量が大きくなるとノズ
ル23内のガス圧が下がり、ノズル23から噴射される
分子が得る並進運動エネルギーは各成分に最適な値とな
る。その結果、エミッタ24に接触した分子は、効率良
くイオン化される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は表面電離型のイオン
化検出装置に関し、特にガスクロマトグラフ装置の検出
装置として好適なイオン化検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ガスクロマトグラフ分析では、試料成分
を検出するために各種の検出装置が用いられる。イオン
化検出装置はこのような検出装置の一種であり、試料ガ
ス中の成分分子をイオン化し、イオン電流を測定するこ
とにより各成分の量を検出するものである。
【0003】図3は、特公平5−12663号公報に記
載の、従来の表面電離型のイオン化検出装置の構成図で
ある。試料ガス流路30に導入された試料成分の分子を
含む試料ガスと補助ガス流路31に供給された水素、ヘ
リウム等の比重の軽いガスとは、合流してノズル32か
らイオン化室33内に噴出される。ノズル32の先端に
は直径が1〜150μm程度の微小径のガス噴出口32
aが取り付けられると共に、ノズル32に供給されたガ
スを加熱するために加熱制御部36に接続されるヒータ
32bがノズル32の先端周囲に設けられる。また、イ
オン化室33内のノズル32に対向する位置には、加熱
された固体表面を成すエミッタ34が配置されている。
試料分子が正イオンになるものである場合には、エミッ
タ34は仕事関数の高い固体表面を成すものとされ、例
えば白金、レニウム、タングステン等の金属又はその金
属酸化物をコイル状にしてこれに電流を流し加熱する。
【0004】イオン化室33内は真空雰囲気に保たれ、
ノズル32の先端及びエミッタ34は適度に加熱され
る。試料ガス及び補助ガスをそれぞれ試料ガス流路30
及び補助ガス流路31に供給すると、両者は混じり合っ
てノズル32に到達する。ガス噴出口32aは極く微小
径であり且つガスは連続的に供給されるため、ノズル3
2内のガス圧は次第に高まる。一方、イオン化室33内
は真空雰囲気であるため、ガス噴出口32aの内側と外
側とでは大きな圧力差が生じる。その結果、軽い補助ガ
スは勢い良くイオン化室33内に噴出し、重い試料成分
の分子も補助ガスの噴出流に乗って真空中に飛び出す。
そして、試料成分の分子は二体衝突を繰り返しながら超
音速領域の速度に到達する。この超音速自由噴流となっ
た試料成分の分子はエミッタ34に衝突し、表面電離作
用によりイオン化される。発生したイオンはコレクタ3
5で捕集され、イオン数に応じた電流を微小電流計37
で測定することにより試料成分の濃度を順次検出する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記イオン検出装置が
ガスクロマトグラフ装置の検出装置として使用されると
きには、ガスクロマトグラフ装置のカラム出口に試料ガ
ス流路30が連結される。したがって、カラムにおいて
保持時間の相違により時間的に分離された広範囲の分子
量を有する試料成分が次々にイオン化検出装置のノズル
32に送り込まれることになる。
【0006】一般に、ノズル先端のガス噴出口32aか
ら飛び出した分子が有する並進運動エネルギーはその分
子量に比例するということが知られている。つまり、ノ
ズル32の温度が一定、加速用の補助ガスの圧力又は流
量が一定、且つ補助ガスの組成が一定であるという条件
の下では、分子量が小さい成分の加速分子の並進運動エ
ネルギーは小さく、分子量が大きい成分の加速分子の並
進運動エネルギーは大きくなる。したがって、低分子量
の成分の加速分子の並進運動エネルギーがイオン化に適
するように上記の各条件を設定すると、高分子量の成分
の加速分子の並進運動エネルギーはイオン化に適した値
よりも大きくなり過ぎるため、エミッタ34に衝突した
とき分解してしまう可能性が高い。一方、高分子量の成
分の加速分子の並進運動エネルギーがイオン化に適する
ように上記の各条件を設定すると、低分子量の成分の加
速分子の並進運動エネルギーはイオン化に適した値に足
らず、エミッタ34に衝突してもイオン化されない可能
性が高い。このように、従来のイオン化検出装置では、
広範囲の分子量を有する試料成分を適正にイオン化する
ことは困難であった。
【0007】本発明は上記課題を解決するために成され
たものであり、その目的とするところは、広範囲の分子
量を有する試料成分のいずれに対しても良好なイオン化
を達成することのできるイオン化検出装置を提供するこ
とにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明は、固体表面に試料成分の分子を接触
させ、表面電離によって該分子をイオン化するイオン化
検出装置において、 a)前記固体表面に向けて試料成分の分子を噴出するため
のノズルと、 b)該ノズルに試料成分を含むガスを供給するガス流路
と、 c)該ガス流路に軽い分子から成る補助ガスを送り込むた
めの補助ガス流路と、 d)補助ガス流路のガス圧又はガス流量を調節する調節手
段と、 e)前記ノズルに供給される試料成分の分子量に応じて前
記調節手段を制御する制御手段と、 を備えることを特徴としている。
【0009】
【発明の実施の形態】この種のイオン化検出装置では、
ノズルから噴出される分子の有する並進運動エネルギー
は、その分子の分子量、ノズル上流側のガス圧、ノズル
温度(つまりガス温度)、ガス噴出口の径等に依存して
いる。ノズル上流側のガス圧は、試料成分を含むガスの
供給側のガス圧が一定であるときには、補助ガス流路か
ら供給される補助ガスの流量に依存している。そこで、
本発明に係るイオン化検出装置では、ノズルに供給され
る試料成分の分子量を推定し、その分子量に応じて調節
手段を制御して補助ガスのガス圧又はガス流量を調節す
ることにより、ノズル上流側のガス圧を所定の値にす
る。これにより、ノズルから噴出される分子の有する並
進運動エネルギーは各試料成分毎にイオン化に最適な値
となり、固体表面に接触して効率的にイオン化される。
【0010】具体的には、既知成分を含む試料の定量分
析を行なうためにガスクロマトグラフのカラムで分離し
た各試料成分をガス流路に供給する場合、例えば、予め
カラムから溶出する各試料成分と保持時間との関係を調
べておく。そして、その試料成分の分子量を基にイオン
化に最適な並進運動エネルギーを得るためのノズル上流
側のガス圧を算出し、更にそのガス圧から調整手段にお
ける制御目標値を計算して、保持時間と制御目標値との
対応関係を基準データとしてメモリに記憶しておく。実
際の分析時に、制御手段は、カラムへ試料を注入した後
の時間経過に従い基準データを基に調節手段を制御す
る。これにより、ノズルに供給された試料成分の分子量
が小さいときにはノズル上流側のガス圧は相対的に高
く、逆に分子量が大きくなるとノズル上流側のガス圧は
相対的に低くなる。この結果、ノズルから噴出した分子
はその分子量に適した並進運動エネルギーを与えられ
る。
【0011】
【発明の効果】本発明のイオン化検出装置によれば、分
析すべき試料中に含まれている試料成分が広範囲の分子
量分布を有するときであっても、ノズルから噴出される
試料成分の分子量に応じた補助ガスの流量又はガス圧が
設定されるため、分子量に依らず加速後の並進運動エネ
ルギーをイオン化に最適な値とすることができる。この
ため、固体表面において極めて効率のよいイオン化が行
なわれるから、イオン検出感度が改善され高精度の分析
を行なうことが可能となる。
【0012】
【実施例】以下、本発明に係るイオン化検出装置の一実
施例について図1を参照して説明する。図1は、本実施
例のイオン化検出装置を備えたガスクロマトグラフ装置
の要部の構成図である。
【0013】ガスクロマト分析部は、試料気化室11、
試料気化室11に液体試料を注入するインジェクタ1
2、試料気化室11に供給するキャリアガスの流量を調
節するフローコントローラ13、試料気化室11に連結
されたカラム14、カラム14を所定温度に維持するた
めのカラムオーブン15から構成されている。またイオ
ン化検出部は、補助ガスを供給する補助ガス流路21、
補助ガス流路21に設けられたフローコントローラ2
2、カラム14から溶出したガスと補助ガスとが合流し
た流路の先端に設けられたノズル23、ノズル23に対
向して設けられたエミッタ24、エミッタ24でイオン
化されたイオンを捕集するコレクタ25、ノズル23等
を内装するイオン化室26及びイオン電流を測定する微
小電流計27等から構成されている。従来のイオン化検
出装置と同様に、ノズル23の先端にはガス噴出口23
aが設けられ、ノズル23先端の周囲にはヒータ23b
が取り付けられている。また、制御部28はマイクロコ
ンピュータ等から構成されており、フローコントローラ
13、22のガス圧を制御すると共に、インジェクタ1
2の動作を制御する。
【0014】上記構成のイオン化検出装置において、ガ
ス噴出口23aから噴出する試料分子が与えられる並進
運動エネルギーE〔eV〕は次式で与えられることが知
られている。すなわち、並進運動エネルギーの最大値E
k〔eV〕を Ek=(5/2)・(Mh/M1)・k・TN とすると、 E=Ek・{1−exp(−δ・P0・d)} ここで、Mhは試料分子の質量〔g〕、M1は補助ガスの
分子の質量〔g〕、TNはノズルの温度〔K〕、P0はノ
ズル内のガス圧〔Torr〕、dはノズルのガス噴出口
径〔cm〕、δは定数、kは周知のボルツマン定数であ
る。上式によれば、並進運動エネルギーは試料分子の質
量にほぼ比例すると共に、ノズル内のガス圧によっても
影響を受けることがわかる。すなわち、ノズル内のガス
圧P0が下がると並進運動エネルギーも減少する。
【0015】図1の構成のガスクロマトグラフ装置で
は、ノズル23内のガス圧はカラム14を介して供給さ
れる試料ガスの流量及び補助ガス流路21を介して供給
される補助ガスの流量により決まる。そこで、この装置
では、相違する分子量を有する試料成分に対し、フロー
コントローラ22にてガス圧を調節することにより補助
ガスの流量を調節し、これによりノズル23内のガス圧
を上下させて並進運動エネルギーをイオン化に適した値
に近づける。
【0016】制御部28が上述のような制御を行なうた
めには、分析中にノズル23に供給される試料成分がわ
かっている必要がある。このため、例えば、実際の分析
に先立って、実際の分析と同じ条件の下で、測定対象の
試料をクロマトグラフ分析したときにカラム14から溶
出する試料成分とその保持時間との関係を予め調べる。
そして、その各試料成分の分子量に基づき、上式よりイ
オン化に最適な並進運動エネルギーを得るための補助ガ
ス流路入口のガス圧を各試料成分毎に求めておく。ま
た、カラム14入口のガス圧を一定に保った状態でノズ
ル23内のガス圧が変わると、カラム14へ供給される
キャリアガスの流量が増加し、カラム14を通過するキ
ャリアガスの流速も変わってしまう。つまり、分離の条
件が変化してしまうことになる。そこで、補助ガス流路
21入口のガス圧を変更したときにカラム14へ送り込
まれるキャリアガスの流量が一定に保たれるようなカラ
ム14入口のガス圧も計算により求めておく。そして、
このようにして算出した補助ガス流路21入口のガス圧
及びカラム14入口のガス圧をフローコントローラ2
2、13におけるガス圧の制御目標値とし、各試料成分
の保持時間つまり試料注入後の経過時間に対応付けた基
準データとして内部メモリに格納しておく。
【0017】実際の分析においては、制御部28は所定
流量のキャリアガスを供給するようにフローコントロー
ラ13を制御し、これにより試料気化室11を介してカ
ラム14にキャリアガスを流しておく。また、ノズル2
3内のガス圧が最も小さい分子量を有する試料成分のイ
オン化に対応した並進運動エネルギーを得るためのガス
圧となるようにフローコントローラ22を制御し、所定
量の補助ガスを補助ガス流路21に流しておく。
【0018】制御部28がインジェクタ12に指示を与
えることにより試料が試料気化室11に注入されると、
瞬時に気化した試料はキャリアガスの流れに乗ってカラ
ム14に送り込まれる。そして、カラム14を通過する
間に各試料成分に分離され、それぞれ相違する保持時間
をもってカラム14から溶出する。すなわち、試料注入
後、始めは分子量の小さな試料成分が、次第に分子量の
大きな試料成分が順次カラム14から溶出する。カラム
14から溶出した成分を含むガスと補助ガス流路21を
通して供給された補助ガスとは混合され、混合ガスがノ
ズル23へ送り込まれる。
【0019】制御部28は、試料注入の指示後に、内部
メモリに記憶している基準データを読み出し、時間の経
過に従ってその基準データに基づきフローコントローラ
13、22の制御目標値を修正する。図2は、ガス圧の
制御目標値の変化の一例を示す図であり、(a)はいわ
ゆるクロマトグラム、(b)は補助ガス流路21入口
(フローコントローラ22)でのガス圧の制御目標値の
変化、(c)はカラム14入口(フローコントローラ1
3)でのガス圧の制御目標値の変化を示している。時間
が経過しカラム14から溶出する試料成分の分子量が大
きくなるに伴い、図2(b)に示すように、フローコン
トローラ22でのガス圧の制御目標値は低下し、これに
より補助ガス流路21から供給される補助ガスの流量は
減少する。したがって、ノズル23内のガス圧は低下す
る。一方、図2(c)に示すように、フローコントロー
ラ13でのガス圧の制御目標値も低下するので、ノズル
23内のガス圧が下がってもカラム14に供給されるキ
ャリアガスの流量は一定に保たれる。
【0020】ノズル23から噴出する分子の有する並進
運動エネルギーを決定するパラメータのうち、分子量及
びノズル内のガス圧以外のパラメータ(例えばガス噴出
口径やノズル温度等)は不変であるか又は一定に維持さ
れる。このため、上述のような制御の結果、ノズル23
のガス噴出口23aから飛び出した分子が有する並進運
動エネルギーはその成分毎にイオン化に最適なものとな
る。このような並進運動エネルギーをもった分子は超音
速速度にまで加速されてエミッタ24に到達し、エミッ
タ24に接触してイオン化される。
【0021】上記実施例では、予め保持時間とカラム1
4から溶出する試料成分との関係を調べ、保持時間とそ
の試料成分に応じたガス圧の制御目標値との関係を基準
データとして内部メモリに記憶しておくようにしていた
が、例えば、ガスクロマトグラフ分析において所定の温
度プロファイルに従って昇温分析を行なう場合には、カ
ラムオーブン15内の温度とカラム14から溶出する成
分とは所定の関係になる。そこで、温度とガス圧の制御
目標値との関係を基準データとして内部メモリに記憶し
ておき、実際の分析時にはカラムオーブン15内の温度
を検出する温度センサからの値に基づいてガス圧の制御
目標値を得て、フローコントローラ13、22を制御す
るようにしてもよい。
【0022】また、上記実施例では、カラム14に流れ
るキャリアガスの流量が一定に保たれるようにフローコ
ントローラ13を制御するようにしていたが、逆にフロ
ーコントローラ13でのガス圧を一定に保つように制御
すれば、時間の経過に伴ってカラム14に流れるキャリ
アガス流量は徐々に増加する。すなわち、キャリアガス
の流速が徐々に速まるので、昇圧分析と同じ効果が得ら
れる。
【0023】なお、上記実施例は一例であって、本発明
の趣旨の範囲で適宜変更や修正を行なえることは明らか
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例によるイオン化検出装置を
備えるガスクロマトグラフ装置の構成図。
【図2】 本実施例における経過時間とガス圧の制御目
標値との関係の一例を示すグラフ。
【図3】 従来のイオン化検出装置の構成図。
【符号の説明】 13、22…フローコントローラ 14…カラム 21…補助ガス流路 23…ノズル 24…エミッタ 25…コレクタ 28…制御部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 固体表面に試料成分の分子を接触させ、
    表面電離によって該分子をイオン化するイオン化検出装
    置において、 a)前記固体表面に向けて試料成分の分子を噴出するため
    のノズルと、 b)該ノズルに試料成分を含むガスを供給するガス流路
    と、 c)該ガス流路に軽い分子から成る補助ガスを送り込むた
    めの補助ガス流路と、 d)補助ガス流路のガス圧又はガス流量を調節する調節手
    段と、 e)前記ノズルに供給される試料成分の分子量に応じて前
    記調節手段を制御する制御手段と、 を備えることを特徴とするイオン化検出装置。
JP9032948A 1997-01-30 1997-01-30 イオン化検出装置 Pending JPH10213570A (ja)

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JP9032948A JPH10213570A (ja) 1997-01-30 1997-01-30 イオン化検出装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016161444A (ja) * 2015-03-03 2016-09-05 新コスモス電機株式会社 ガス分析装置、及び、ガス分析装置の調整方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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