JPH10208690A - 質量分析装置 - Google Patents

質量分析装置

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JPH10208690A
JPH10208690A JP9008679A JP867997A JPH10208690A JP H10208690 A JPH10208690 A JP H10208690A JP 9008679 A JP9008679 A JP 9008679A JP 867997 A JP867997 A JP 867997A JP H10208690 A JPH10208690 A JP H10208690A
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JP
Japan
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ion
sealing plate
hole
mass spectrometer
cone
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Pending
Application number
JP9008679A
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English (en)
Inventor
Takeshi Ishigaki
健 石垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 余分なスペースを必要しない簡単な構造のも
ので、イオン収束部等の真空室への外気の流入を遮断す
るようにして、効率よいイオン収束系の構成を可能に
し、また電極等のメンテナンスを容易にする。 【解決手段】 インターフェース部2はイオン通路とな
る貫通孔17aを有する封止板17を備えている。封止
板17は貫通孔17aがイオン収束部3に連通する位置
と、封止板17によってイオン収束部3が封止される位
置との間で、イオン収束部3のイオン引き込み側端面に
沿って移動自在に取り付けている。これにより、イオン
収束部3の内部からゲート弁を取り除いた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料をイオン化し
て質量分析を行う質量分析装置に係り、詳しくは、イオ
ン源からのイオンを導入する部分の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】試料をイオン化して質量分析を行う質量
分析装置には、高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
(以下、ICP/MSという)やエレクトロスプレイ質
量分析装置がある。このうち、ICP/MSの概略構成
を図4により説明する。
【0003】図4に示すように、ICP/MSは、基本
的には、イオン源としてのプラズマトーチ1と、インタ
ーフェイス部2と、イオン収束部3と、イオン検出部4
とからなる。
【0004】前記のインターフェイス部2は、プラズマ
トーチ1からのイオンをサンプリングして導入する部分
で、イオン導入方向に沿って前後に配置されたサンプリ
ングコーン5とスキマコーン6とを備え、両コーン5,
6間に差動排気室7が形成されている。
【0005】イオン収束部3は、インターフェイス部2
を通じて導入したイオンを次段のイオン検出部4に向け
て収束する部分で、インターフェイス部2とは別個に排
気される排気室8を備え、その内部には、イオン導入方
向に沿ってイオン引き込み電極9とイオンレンズ電極1
0とが配置されている。
【0006】イオン検出部4は、イオン収束部3で収束
されたイオンを質量分離して検出する部分で、拡散ポン
プ等で真空排気される真空室11を備え、その内部に
は、四重極型のマスフィルタ12と、エレクトロンマル
チプライヤのようなイオン検出器13とが配置されてい
る。
【0007】上記の構成において、分析時には、イオン
検出部4の真空室11は通常、1/106torr程度の高
真空に保持される。これに対して、イオン源の側は大気
圧であり、イオン検出部4内を高真空に維持するため、
上記の差動排気系を構成している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な質量分析装置において、非分析時にポンプの排気運転
を止めると、イオン検出部4やイオン収束部3の内部に
イオン源側の外気が流入して高い圧力になり、早期に分
析を再開できなくなる。そのため、従来は図4にも図示
しているように、イオン収束部3内にスライド式のゲー
ト弁14を設けて、非分析時にイオン検出部4等の真空
室内への外気の流入を防止しうるようにしている。
【0009】この場合、イオン収束部3内では、イオン
引き込み電極9をスキマコーン6に近接して配置する必
要があるため、通常、前記のゲート弁14はイオン引き
込み電極9の後ろ側で、このイオン引き込み電極9とイ
オンレンズ電極10との間に配置されている。
【0010】しかしながら、上記のようにゲート弁14
を設けた構成では、ゲート弁14がイオン引き込み電極
9とイオンレンズ電極10とを分離し、また、イオン収
束部3の内部を分割することになるので、次のような課
題があった。
【0011】(イ)ゲート弁14が邪魔になって、イオ
ン引き込み電極9とイオンレンズ電極10とを近接して
配置することができず、効率のよいイオン収束系を構成
できない。
【0012】(ロ)イオン引き込み電極9やイオンレン
ズ電極10は、試料が付着することで汚染されるので、
度々取り外して洗浄する必要が生じるが、イオン引き込
み電極9とイオンレンズ電極10とは、それぞれ別個に
取り出さねばならないので、手間がかかる。
【0013】(ハ)ゲート弁14を開けて分析に移行す
る際、ゲート弁14とスキマーコーン6との間の空間に
ガスが残存していると、イオン検出部4の内部に多量の
ガスが流入することになり、分析値が安定するまで時間
がかかる。そのため、分析を開始する際に、ゲート弁1
4とスキマーコーン6との間の空間も排気する必要があ
るが、この空間の排気は、スキマーコーン6に設けられ
た小径のイオン導入口を通じて行わなくてはならず、そ
の排気に時間を要する。
【0014】本発明は、上記のような従来の問題に対処
したもので、複雑な機構を用いず、また余分なスペース
を必要とせずに、イオン収束部の前方で外気の流入を遮
断しうるようにして、イオン収束系の効率よい構成を可
能にし、また電極等のメンテナンスを容易にすることを
課題とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を達
成するために、イオン源で発生するイオンを導入するイ
ンターフェイス部と、このインターフェイス部を通じて
イオンを引き込みイオン検出部に向けて収束するイオン
収束部とを備えた質量分析装置において、前記インター
フェース部は、イオン通路となる貫通孔を有する封止板
を備えており、この封止板を、前記貫通孔がイオン収束
部に連通する位置と、封止板によってイオン収束部が封
止される位置との間で、イオン収束部のイオン引く込み
側端面に沿って移動自在に取り付ける構成とした。
【0016】
【発明の実施の形態】図面により本発明の一実施の形態
を説明すると、図1ないし図3は、本発明の一実施の形
態に係るICP/MSのイオン導入部分を示し、図1は
その縦断面図、図2はプラズマトーチ側からの正面図、
図3は、非分析時の状態を示す縦断面図である。
【0017】これらの図に示すICP/MSが、基本的
に、イオン源としてのプラズマトーチ1と、このプラズ
マトーチ1からのイオンをサンプリングして導入するイ
ンターフェイス部2と、インターフェイス部2を通じて
導入したイオンを収束するイオン収束部3のほかに、イ
オン収束部3で収束されたイオンを質量分離して検出す
るイオン検出部を有する点は、前記した従来のICP/
MSと同じである。
【0018】この実施の形態のICP/MSでは、イオ
ン導入部分であるインターフェイス部2およびイオン収
束部3の前半部分の構成に特徴があるので、図1ないし
図3においては前記イオン導入部分のみを図示すること
とし、イオン収束部3の後半部分およびイオン検出部に
ついては、従来と変わらないものとして、その図示およ
び説明を省略する。なお、図1ないし図3において、従
来の装置の各部に対応する部分は図4と同一の符号で示
す。
【0019】この実施の形態では、イオン収束部3のイ
オン引き込み側端面に、内向きフランジ状で中央に通孔
15aのある区画壁15が取り付けられている。この区
画壁15の前面部には、広幅の凹部16が通孔15aの
前面を走る形で径方向に形成され、この凹部16内に、
通孔15aを封止するための封止板17がスライド自在
に嵌入されている。凹部16の両側には、封止板17の
スライド方向を規制するガイド18が取り付けられ、凹
部16の底面にはOリング19が設けられている。
【0020】封止板17は、凹部16内でスライドする
ことにより区画壁15の通孔15aを封止するものであ
るが、また、インターフェイス部2の基部となる板体で
あって、そのほぼ中央には、区画壁15の通孔15aと
連通してイオン通路となる貫通孔17aが形成されてい
る。そして、この貫通孔17aの前後にサンプリングコ
ーン5とスキマコーン6とがそれぞれ取り付けられてい
る。サンプリングコーン5は、貫通孔17aのイオン導
入側端縁に設けられており、スキマーコーン6は貫通孔
17aのイオン導出側端縁に設けられている。そして、
サンプリングコーン5とスキマーコーン6とで挟まれた
貫通孔17aによって差動排気室7が構成されている。
このようにして両コーン5,6と差動排気室7とを有す
る封止板17がインターフェイス部2となっている。
【0021】なお、封止板17には、差動排気室7から
の排気管20が接続されている。また、区画壁15の内
部には冷却水の通路21が形成されている。
【0022】イオン収束部3の差動排気室8内では、イ
オン引き込み電極9とイオンレンズ電極10とは互いに
近接した位置に配置されて、互いに一体に組み立てられ
ている。
【0023】上記の構成において、分析時には、封止板
17を図1および図2に示す位置にまでスライドさせて
おけばよい。その位置では、封止板17の貫通孔17a
が区画壁15の通孔15aに連通し、サンプリングコー
ン5およびスキマコーン6がイオン導入の軸線上に位置
することになり、これらコーン5,6のイオン導入口を
通じて、プラズマトーチ1で発生するイオンがイオン収
束部3内に導入される。
【0024】非分析時、封止板17を区画壁15の前面
でスライドさせて、図3に示す位置まで移動させると、
封止板17の平板部分がOリング19に密着して通孔1
5aを封止することになり、これによって、プラズマト
ーチ1側からイオン収束部3内への外気の流入は確実に
遮断され、イオン収束部3やイオン検出部等の真空室
は、高真空に維持される。そのため、非分析時、イオン
収束部3内にはガス漏れがなく、このようなガスによる
各電極9,10の汚染のおそれはない。
【0025】このように、封止板17が通孔15aを遮
断する位置にまでスライドした状態では、サンプリング
コーン5とスキマコーン6とは、プラズマトーチ1と対
面する位置から外れ、前面にスペースがある位置に移る
ので、両コーン5,6の取り外しや洗浄等のメンテナン
スが容易になる。
【0026】イオン収束部3内でイオン引き込み電極9
やイオンレンズ電極10の取り替えが必要となった場
合、これらは一体であるから、一括して取り出せばよ
い。
【0027】
【発明の効果】本発明は、非分析時において、インター
フェース部を構成する封止板により、イオン収束部等の
真空室内への外気の流入を遮断しうるようにしたもの
で、イオン収束部内のゲート弁が省略されることにな
り、イオン収束部内では、イオン引き込み電極とイオン
レンズ電極とを近接配置して、効率のよいイオン収束系
を構成できるばかりでなく、これら電極は一括して脱着
することができる。
【0028】また、サンプリングコーンとスキマコーン
とを、プラズマトーチと対面する位置から外すことがで
きるので、これらコーンのメンテナンスを容易に行うこ
とができる。
【0029】さらに、インターフェイス部を構成する封
止板を、イオン収束部のイオン引き込み側端面に沿って
移動するだけであるから、構造が簡単で複雑な機構を必
要とせず、また余分なスペースも必要としない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係るICP/MSのイ
オン導入部分の縦断面図である。
【図2】上記イオン導入部分のプラズマトーチ側からの
正面図である。
【図3】上記イオン導入部分の非分析時の状態を示す縦
断面図である。
【図4】従来のICP/MSの概略構成図である。
【符号の説明】
1…プラズマトーチ(イオン源) 2…
インターフェイス部 3…イオン収束部 5…サンプリングコーン 6…
スキマコーン 7…差動排気室 15…区画壁 15a…
通孔 17…封止板 17a…貫通孔

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 イオン源で発生するイオンを導入するイ
    ンターフェイス部と、このインターフェイス部を通じて
    イオンを引き込み、イオン検出部に向けて収束するイオ
    ン収束部とを備えた質量分析装置であって、 前記インターフェース部は、イオン通路となる貫通孔を
    有する封止板を備えており、この封止板を、前記貫通孔
    がイオン収束部に連通する位置と、封止板によってイオ
    ン収束部が封止される位置との間で、イオン収束部のイ
    オン引き込み側端面に沿って移動自在に取り付けたこと
    を特徴とする質量分析装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の質量分析装置であって、
    前記貫通孔のイオン導入側端縁にサンプリングコーンを
    設ける一方、前記貫通孔のイオン導出側端縁にスキマー
    コーンを設けたことを特徴とする質量分析装置。
JP9008679A 1997-01-21 1997-01-21 質量分析装置 Pending JPH10208690A (ja)

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JP9008679A JPH10208690A (ja) 1997-01-21 1997-01-21 質量分析装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015194380A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 株式会社島津製作所 サンプリング部及びそれを備えたicp質量分析装置
JP2016115566A (ja) * 2014-12-16 2016-06-23 株式会社島津製作所 サンプリング部及びそれを備えたicp質量分析装置
US10446378B2 (en) 2013-09-20 2019-10-15 Micromass Uk Limited Ion inlet assembly

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10446378B2 (en) 2013-09-20 2019-10-15 Micromass Uk Limited Ion inlet assembly
JP2015194380A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 株式会社島津製作所 サンプリング部及びそれを備えたicp質量分析装置
JP2016115566A (ja) * 2014-12-16 2016-06-23 株式会社島津製作所 サンプリング部及びそれを備えたicp質量分析装置

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