JPH10204079A - ジベンゾオキセピンおよびジベンゾチエピン誘導体の製造方法 - Google Patents
ジベンゾオキセピンおよびジベンゾチエピン誘導体の製造方法Info
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- JPH10204079A JPH10204079A JP9041321A JP4132197A JPH10204079A JP H10204079 A JPH10204079 A JP H10204079A JP 9041321 A JP9041321 A JP 9041321A JP 4132197 A JP4132197 A JP 4132197A JP H10204079 A JPH10204079 A JP H10204079A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ジベンゾ[b,f]オキセピン及びジベンゾ
[b,f]チエピン誘導体の簡便な合成法を提供する。 【構成】 一般式(1) 【化1】 (ここでXはハロゲン原子、YはOまたはS、R1〜R
8は水素、アルキル基、アリール基、ハロゲン、低級ア
ルコキシル基、アミノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒ
ドロキシル基、チオール基、低級アルキルチオ基から選
択される任意の置換基)で表されるハロゲン置換アセト
フェノン誘導体を塩基存在下、液体アンモニア中光照射
を行うことを特徴とする、一般式(2) 【化2】 (ここでYはOまたはS、R1−R8は水素、アルキル
基、アリール基、ハロゲン、低級アルコキシル基、アミ
ノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒドロキシル基、チオ
ール基、低級アルキルチオ基から選択される任意の置換
基)で表されるジベンゾ[b,f]オキセピンおよびジ
ベンゾ[b,f]チエピン誘導体の製造方法。
[b,f]チエピン誘導体の簡便な合成法を提供する。 【構成】 一般式(1) 【化1】 (ここでXはハロゲン原子、YはOまたはS、R1〜R
8は水素、アルキル基、アリール基、ハロゲン、低級ア
ルコキシル基、アミノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒ
ドロキシル基、チオール基、低級アルキルチオ基から選
択される任意の置換基)で表されるハロゲン置換アセト
フェノン誘導体を塩基存在下、液体アンモニア中光照射
を行うことを特徴とする、一般式(2) 【化2】 (ここでYはOまたはS、R1−R8は水素、アルキル
基、アリール基、ハロゲン、低級アルコキシル基、アミ
ノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒドロキシル基、チオ
ール基、低級アルキルチオ基から選択される任意の置換
基)で表されるジベンゾ[b,f]オキセピンおよびジ
ベンゾ[b,f]チエピン誘導体の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光照射による分
子内環化反応を特徴とする三環性化合物であるジベンゾ
[b,f]オキセピン誘導体あるいはジベンゾ[b,
f]チエピン誘導体の合成法に関する。ジベンゾ[b,
f]オキセピン骨格あるいはジベンゾ[b,f]チエピ
ン骨格を有する化合物の中には鎮静作用(特開昭47−
35439、特開昭47−11753)、鎮痛作用(J
ournal of Heterocyclic Ch
emistry23,265(1985))、抗炎症作
用(Chemistry and Pharmaceu
tical Bulletin36,3462(198
8))、抗痙攣作用(特開昭50−160288)、抗
エストロゲン作用(Journal of Medic
inal Chemistry26,1131(198
3))、抗酸化作用(国際特許出願番号96/1002
1)、脳機能改善作用(国際特許出願番号96/259
27)、気管支拡張作用(特開平8−7904)などの
広範な薬理活性を有することが知られており、これらの
化合物の効率的な大量供給法が望まれている。
子内環化反応を特徴とする三環性化合物であるジベンゾ
[b,f]オキセピン誘導体あるいはジベンゾ[b,
f]チエピン誘導体の合成法に関する。ジベンゾ[b,
f]オキセピン骨格あるいはジベンゾ[b,f]チエピ
ン骨格を有する化合物の中には鎮静作用(特開昭47−
35439、特開昭47−11753)、鎮痛作用(J
ournal of Heterocyclic Ch
emistry23,265(1985))、抗炎症作
用(Chemistry and Pharmaceu
tical Bulletin36,3462(198
8))、抗痙攣作用(特開昭50−160288)、抗
エストロゲン作用(Journal of Medic
inal Chemistry26,1131(198
3))、抗酸化作用(国際特許出願番号96/1002
1)、脳機能改善作用(国際特許出願番号96/259
27)、気管支拡張作用(特開平8−7904)などの
広範な薬理活性を有することが知られており、これらの
化合物の効率的な大量供給法が望まれている。
【0002】
【従来の技術】一般に、ジベンゾ[b,f]オキセピン
あるいはジベンゾ[b,f]チエピンの合成にはフェノ
キシフェニル酢酸誘導体あるいはフェニルチオフェニル
酢酸誘導体の分子内環化反応が用いられている。従来こ
の反応はポリリン酸中あるいはメタンスルホン酸中での
如き強酸性条件下で達成されていた。特に、ポリリン酸
を用いた場合温度を120℃程度で行う必要があり、熱
に対して不安定な基質に対しても用いることができなか
った。また、メタンスルホン酸を用いた場合、室温程度
で反応は進行するものの、反応完結に3日以上要してい
た。
あるいはジベンゾ[b,f]チエピンの合成にはフェノ
キシフェニル酢酸誘導体あるいはフェニルチオフェニル
酢酸誘導体の分子内環化反応が用いられている。従来こ
の反応はポリリン酸中あるいはメタンスルホン酸中での
如き強酸性条件下で達成されていた。特に、ポリリン酸
を用いた場合温度を120℃程度で行う必要があり、熱
に対して不安定な基質に対しても用いることができなか
った。また、メタンスルホン酸を用いた場合、室温程度
で反応は進行するものの、反応完結に3日以上要してい
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、酸に対
して不安定な官能基が存在する基質に対しては、上述し
た酸を用いた分子内環化反応が適用できないという問題
点があった。そこで、発明者らはこの問題を解決すべく
鋭意検討を行った結果、置換アセトフェノンを基質とし
て用い、これに対して液体アンモニア中t−ブトキシカ
リウム存在下光照射を行うという温和な条件で、短時間
かつ高収率で目的とするジベンゾ[b,f]オキセピン
骨格、ジベンゾ[b,f]チエピン骨格を有する化合物
が得られることを見いだし、本発明を完成した。以下に
本発明について詳細に説明する。
して不安定な官能基が存在する基質に対しては、上述し
た酸を用いた分子内環化反応が適用できないという問題
点があった。そこで、発明者らはこの問題を解決すべく
鋭意検討を行った結果、置換アセトフェノンを基質とし
て用い、これに対して液体アンモニア中t−ブトキシカ
リウム存在下光照射を行うという温和な条件で、短時間
かつ高収率で目的とするジベンゾ[b,f]オキセピン
骨格、ジベンゾ[b,f]チエピン骨格を有する化合物
が得られることを見いだし、本発明を完成した。以下に
本発明について詳細に説明する。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、一般式
(1)
(1)
【化4】 (ここでXはハロゲン原子、YはOまたはS、R1〜R
8は水素、アルキル基、アリール基、ハロゲン、低級ア
ルコキシル基、アミノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒ
ドロキシル基、チオール基、低級アルキルチオ基から選
択される任意の置換基)で表されるハロゲン置換アセト
フェノン誘導体を塩基存在下、液体アンモニア中光照射
を行うことを特徴とする、一般式(2)
8は水素、アルキル基、アリール基、ハロゲン、低級ア
ルコキシル基、アミノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒ
ドロキシル基、チオール基、低級アルキルチオ基から選
択される任意の置換基)で表されるハロゲン置換アセト
フェノン誘導体を塩基存在下、液体アンモニア中光照射
を行うことを特徴とする、一般式(2)
【化5】 (ここでYはOまたはS、R1〜R8は水素、アルキル
基、アリール基、ハロゲン、低級アルコキシル基、アミ
ノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒドロキシル基、チオ
ール基、低級アルキルチオ基から選択される任意の置換
基)で表されるジベンゾ[b,f]オキセピン誘導体あ
るいはジベンゾ[b,f]チエピン誘導体の製造方法に
関する。
基、アリール基、ハロゲン、低級アルコキシル基、アミ
ノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒドロキシル基、チオ
ール基、低級アルキルチオ基から選択される任意の置換
基)で表されるジベンゾ[b,f]オキセピン誘導体あ
るいはジベンゾ[b,f]チエピン誘導体の製造方法に
関する。
【0005】
【発明の実施の形態】原料化合物1は、市販品である
か、例えば実施例に記載の方法あるいはそれに準じて容
易に得ることができる。化合物2は化合物1、1当量以
上の塩基、少量の液体アンモニアからなる混合物に光を
照射することにより高収率で得られる。上記製造法にお
ける塩基は当該反応を進行させるものであれば特に限定
されるものではないが、好ましくはアルカリ金属のアル
コキシド、より好ましくはt−ブトキシカリウムを例示
することができる。上記製造法における光源は当該反応
を進行させるものであれば特に限定されるものではない
が、好ましくは高圧水銀ランプを例示することができ
る。上記製造法における化合物2は有機合成化学で常用
される精製法、例えば中和、ろ過、抽出、洗浄、乾燥、
濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付して単
離、精製することができる。このようにして得られる化
合物2から、例えば特許(国際特許出願番号96/10
021)記載の方法またはそれに準じて、抗酸化作用、
抗炎症作用、脳機能改善作用、気管支拡張作用を有する
ジベンゾ[b,f]オキセピン誘導体及びジベンゾ
[b,f]チエピン誘導体を合成することができる。以
下に本発明の実施例を示す。
か、例えば実施例に記載の方法あるいはそれに準じて容
易に得ることができる。化合物2は化合物1、1当量以
上の塩基、少量の液体アンモニアからなる混合物に光を
照射することにより高収率で得られる。上記製造法にお
ける塩基は当該反応を進行させるものであれば特に限定
されるものではないが、好ましくはアルカリ金属のアル
コキシド、より好ましくはt−ブトキシカリウムを例示
することができる。上記製造法における光源は当該反応
を進行させるものであれば特に限定されるものではない
が、好ましくは高圧水銀ランプを例示することができ
る。上記製造法における化合物2は有機合成化学で常用
される精製法、例えば中和、ろ過、抽出、洗浄、乾燥、
濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付して単
離、精製することができる。このようにして得られる化
合物2から、例えば特許(国際特許出願番号96/10
021)記載の方法またはそれに準じて、抗酸化作用、
抗炎症作用、脳機能改善作用、気管支拡張作用を有する
ジベンゾ[b,f]オキセピン誘導体及びジベンゾ
[b,f]チエピン誘導体を合成することができる。以
下に本発明の実施例を示す。
【0006】
【実施例】本発明を実施例によって説明する。実施例は
実施の一態様であり、本発明を限定するものではない。
実施の一態様であり、本発明を限定するものではない。
【0007】(実施例1) 7,8−ジヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ
[b,f]オキセピン−10−オンの合成
[b,f]オキセピン−10−オンの合成
【0008】工程1 6−ブロモ−3,4−ジメトキシ
ベンズアルデヒド(化合物3)の合成
ベンズアルデヒド(化合物3)の合成
【0009】
【化6】
【0010】3,4−ジメトキシベンズアルデヒド
(1.0g)の酢酸(4mL)溶液に臭素(0.96
g)の酢酸(1.0mL)溶液を滴下し、3時間撹拌し
た。反応混合物にチオ硫酸ナトリウムを加え、次に炭酸
水素ナトリウムを加えろ過した。ろ取した粗結晶をクロ
ロホルム−エーテルで再結晶し、標記化合物(化合物
3)を得た(0.83g,56%)。この化合物2の1
H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピーク
は以下のようになった。
(1.0g)の酢酸(4mL)溶液に臭素(0.96
g)の酢酸(1.0mL)溶液を滴下し、3時間撹拌し
た。反応混合物にチオ硫酸ナトリウムを加え、次に炭酸
水素ナトリウムを加えろ過した。ろ取した粗結晶をクロ
ロホルム−エーテルで再結晶し、標記化合物(化合物
3)を得た(0.83g,56%)。この化合物2の1
H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピーク
は以下のようになった。
【0011】δ3.92(s,3H),3.96(s,
3H),7.05(s,1H),7.42(s,1
H),10.19(s,1H).
3H),7.05(s,1H),7.42(s,1
H),10.19(s,1H).
【0012】工程2 6−ブロモ−3,4−ジメトキシ
アセトフェノン(化合物4)の合成
アセトフェノン(化合物4)の合成
【0013】
【化7】
【0014】6−ブロモ−3,4−ジメトキシベンズア
ルデヒド(化合物3)(18g)のテトラヒドロフラン
(50mL)溶液に0℃でヨウ化メチルマグネシウムの
ジエチルエーテル溶液(1M,80mL)をジエチルエ
ーテル(80mL)で希釈した溶液を滴下し、5分間撹
拌した。反応液をエーテルで希釈し、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
留去後得られた残渣の5gをジクロロメタン(75m
L)に溶解し、モレキュラーシーブス4A(10g)、
ピリジニウムジクロマート(10.8g)を加え4時間
撹拌した。反応混合物をエーテルで希釈し、セライトを
用いてろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗結晶を
酢酸エチル−ヘキサンで再結晶し、標記化合物(化合物
4)を橙赤色結晶として得た(4.4g,88%)。こ
の化合物の1H−NMR(400MHz,CDCl3)
によるピークは以下のようになった。
ルデヒド(化合物3)(18g)のテトラヒドロフラン
(50mL)溶液に0℃でヨウ化メチルマグネシウムの
ジエチルエーテル溶液(1M,80mL)をジエチルエ
ーテル(80mL)で希釈した溶液を滴下し、5分間撹
拌した。反応液をエーテルで希釈し、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
留去後得られた残渣の5gをジクロロメタン(75m
L)に溶解し、モレキュラーシーブス4A(10g)、
ピリジニウムジクロマート(10.8g)を加え4時間
撹拌した。反応混合物をエーテルで希釈し、セライトを
用いてろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗結晶を
酢酸エチル−ヘキサンで再結晶し、標記化合物(化合物
4)を橙赤色結晶として得た(4.4g,88%)。こ
の化合物の1H−NMR(400MHz,CDCl3)
によるピークは以下のようになった。
【0015】δ2.67(s,3H),3.90(s,
3H),7.05(s,1H),7.14(s,1
H).
3H),7.05(s,1H),7.14(s,1
H).
【0016】工程3 2−(2−ブロモフェノキシ)−
4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物5)の合成
4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物5)の合成
【0017】
【化8】
【0018】2−ブロモフェノール(380mg)の
N,N−ジメチルホルムアミド(2.5mL)溶液に炭
酸カリウム(15mg)、銅(19.5mg)、ヨウ化
銅(15mg)、及び6−ブロモ−3,4−ジメトキシ
アセトフェノン(化合物4)(130mg)を加え10
0℃で4時間撹拌した。反応混合物をエーテルで希釈
し、5%水酸化ナトリウム水溶液を加え5分撹拌した。
これをエーテル−ヘキサンの混合液で希釈し、5%水酸
化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。
有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー(ヘキサン−エーテル3:1)で精製し、標記化合
物(化合物5)を黄色油状物質として得た(345m
g,80%)。この化合物5の1H−NMR(400M
Hz,CDCl3)によるピークは以下のようになっ
た。
N,N−ジメチルホルムアミド(2.5mL)溶液に炭
酸カリウム(15mg)、銅(19.5mg)、ヨウ化
銅(15mg)、及び6−ブロモ−3,4−ジメトキシ
アセトフェノン(化合物4)(130mg)を加え10
0℃で4時間撹拌した。反応混合物をエーテルで希釈
し、5%水酸化ナトリウム水溶液を加え5分撹拌した。
これをエーテル−ヘキサンの混合液で希釈し、5%水酸
化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。
有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー(ヘキサン−エーテル3:1)で精製し、標記化合
物(化合物5)を黄色油状物質として得た(345m
g,80%)。この化合物5の1H−NMR(400M
Hz,CDCl3)によるピークは以下のようになっ
た。
【0019】δ2.61(s,3H),3.79(s,
3H),3.94(s,3H),6.37(s,1
H),6.78(dd,1H,J=2.5,8.2H
z),7.01(dt,1H,J=1.5,8.0H
z),7.25(dt,1H,J=1.8,7.2H
z),7.50(s,1H),7.66(dd,1H,
J=1.8,8.0Hz).
3H),3.94(s,3H),6.37(s,1
H),6.78(dd,1H,J=2.5,8.2H
z),7.01(dt,1H,J=1.5,8.0H
z),7.25(dt,1H,J=1.8,7.2H
z),7.50(s,1H),7.66(dd,1H,
J=1.8,8.0Hz).
【0020】工程4 7,8−ジメトキシ−10,11
−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン
(化合物6)の合成
−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン
(化合物6)の合成
【0021】
【化9】
【0022】アルゴン気流下、2−(2−ブロモフェノ
キシ)−4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物
5)5mgに液体アンモニア(0.8ml)、t−ブト
キシカリウム(20mg)を加え30分間光照射した。
反応混合物にエーテル、塩化アンモニウムを加えエーテ
ル層を分取した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸
ナトリウムでろ過した。溶媒を留去して、標記化合物
(化合物6)を白色結晶として得た(4mg,80
%)。この化合物6の1H−NMR(400MHz,C
DCl3)によるピークは以下のようになった。
キシ)−4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物
5)5mgに液体アンモニア(0.8ml)、t−ブト
キシカリウム(20mg)を加え30分間光照射した。
反応混合物にエーテル、塩化アンモニウムを加えエーテ
ル層を分取した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸
ナトリウムでろ過した。溶媒を留去して、標記化合物
(化合物6)を白色結晶として得た(4mg,80
%)。この化合物6の1H−NMR(400MHz,C
DCl3)によるピークは以下のようになった。
【0023】δ3.89(s,3H),3.99(s,
3H),4.06(s,2H),6.85(s,1
H),7.16−7.31(m,4H),7.48
(s,1H).
3H),4.06(s,2H),6.85(s,1
H),7.16−7.31(m,4H),7.48
(s,1H).
【0024】工程5 7,8−ジヒドロキシ−10,1
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ン(化合物7)の合成
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ン(化合物7)の合成
【0025】
【化10】
【0026】7,8−ジメトキシ−10,11−ジヒド
ロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物
6)5mgとピリジン塩酸塩(20mg)の混合物を1
90℃で2時間加熱した。反応混合物に水を加え、酢酸
エチルで抽出した。これを水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、溶媒を留去して標記化合物(化合物
7)を茶色板状晶として得た(3mg,60%)。この
化合物7の1H−NMR(400MHz,DMSO−d
6)によるピークは以下のようになった。
ロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物
6)5mgとピリジン塩酸塩(20mg)の混合物を1
90℃で2時間加熱した。反応混合物に水を加え、酢酸
エチルで抽出した。これを水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、溶媒を留去して標記化合物(化合物
7)を茶色板状晶として得た(3mg,60%)。この
化合物7の1H−NMR(400MHz,DMSO−d
6)によるピークは以下のようになった。
【0027】δ4.23(s,2H),6.97(s,
1H),7.2−7.5(m,3H),7.51(s,
1H),7.6−7.7(m,1H),9.9(br,
2H).
1H),7.2−7.5(m,3H),7.51(s,
1H),7.6−7.7(m,1H),9.9(br,
2H).
【0028】(実施例2) 7,8−ジヒドロキシ−2−メチル−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オンの合成
ドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オンの合成
【0029】工程1 7,8−ジヒドロキシ−2−メチ
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピ
ン−10−オン(化合物8)の合成
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピ
ン−10−オン(化合物8)の合成
【0030】
【化11】
【0031】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−クレゾールを
用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と同様にし
て、7,8−ジメトキシ−2−メチル−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化
合物8)を得た。この化合物8の1H−NMR(400
MHz,CDCl3−CD3OD)によるピークは以下
のようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−クレゾールを
用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と同様にし
て、7,8−ジメトキシ−2−メチル−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化
合物8)を得た。この化合物8の1H−NMR(400
MHz,CDCl3−CD3OD)によるピークは以下
のようになった。
【0032】δ2.32(s,3H),3.81(s,
3H),3.98(s,3H),4.01(s,2
H),6.83(s,1H),7.02(d,1H),
7.09−7.14(m,2H),7.47(1H,
s).
3H),3.98(s,3H),4.01(s,2
H),6.83(s,1H),7.02(d,1H),
7.09−7.14(m,2H),7.47(1H,
s).
【0033】工程2 7,8−ジヒドロキシ−2−メチ
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピ
ン−10−オン(化合物9)の合成
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピ
ン−10−オン(化合物9)の合成
【0034】
【化12】
【0035】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−メチル−10,11−ジヒドロジベ
ンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物8)を
用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にして、
7,8−ジヒドロキシ−2−メチル−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合
物9)を得た。この化合物9の1H−NMR(400M
Hz,DMSO−d6)によるピークは以下のようにな
った。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−メチル−10,11−ジヒドロジベ
ンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物8)を
用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にして、
7,8−ジヒドロキシ−2−メチル−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合
物9)を得た。この化合物9の1H−NMR(400M
Hz,DMSO−d6)によるピークは以下のようにな
った。
【0036】δ2.25(s,3H),4.24(s,
2H),6.90(d,1H,J=8Hz),6.96
(s,1H),7.15(brs,1H),7.41
(d1H,J=8Hz),7.51(s,1H).
2H),6.90(d,1H,J=8Hz),6.96
(s,1H),7.15(brs,1H),7.41
(d1H,J=8Hz),7.51(s,1H).
【0037】(実施例3) 2−シクロヘキシル−7,8−ジヒドロキシ−10,1
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ンの合成
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ンの合成
【0038】工程1 2−シクロヘキシル−7,8−ジ
メトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物10)
メトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物10)
【0039】
【化13】
【0040】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−シクロヘキシ
ルフェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜
4と同様にして、2−シクロヘキシル−7,8−ジメト
キシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセ
ピン−10−オン(化合物10)を得た。この化合物1
0の1H−NMR(400MHz,CDCl3)による
ピークは以下のようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−シクロヘキシ
ルフェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜
4と同様にして、2−シクロヘキシル−7,8−ジメト
キシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセ
ピン−10−オン(化合物10)を得た。この化合物1
0の1H−NMR(400MHz,CDCl3)による
ピークは以下のようになった。
【0041】δ1.24(m,1H),1.37(m,
4H),1.73(m,1H),1.82(m,4
H),2.47(m,1H),3.88(s,3H),
3.98(s,3H),4.02(s,2H),6.8
4(1H,s),7.06(dd,1H,J=8,2H
z),7.14(m,2H),7.47(s,1H).
4H),1.73(m,1H),1.82(m,4
H),2.47(m,1H),3.88(s,3H),
3.98(s,3H),4.02(s,2H),6.8
4(1H,s),7.06(dd,1H,J=8,2H
z),7.14(m,2H),7.47(s,1H).
【0042】工程2 2−シクロヘキシル−7,8−ジ
ヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物11)
ヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物11)
【0043】
【化14】
【0044】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−シ
クロヘキシル−7,8−ジメトキシ−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合
物10)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様
にして、2−シクロヘキシル−7,8−ジヒドロキシ−
10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−
10−オン(化合物11)を得た。この化合物11の1
H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピーク
は以下のようになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−シ
クロヘキシル−7,8−ジメトキシ−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合
物10)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様
にして、2−シクロヘキシル−7,8−ジヒドロキシ−
10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−
10−オン(化合物11)を得た。この化合物11の1
H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピーク
は以下のようになった。
【0045】δ1.24−1.40(m,5H),1.
71−1.81(m,5H),2.6(m,1H),
4.02(s,2H),6.90(s,1H),7.0
6−7.08(m,2H),7.15(d,1H,J=
8Hz),7.71(s,1H).
71−1.81(m,5H),2.6(m,1H),
4.02(s,2H),6.90(s,1H),7.0
6−7.08(m,2H),7.15(d,1H,J=
8Hz),7.71(s,1H).
【0046】(実施例4) 2−(1−ブチル)−7,8−ジヒドロキシ−10,1
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ンの合成
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ンの合成
【0047】工程1 2−(1−ブチル)−7,8−ジ
メトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物12)の合成
メトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物12)の合成
【0048】
【化15】
【0049】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−(1−ブチ
ル)フェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1
〜4と同様にして、2−(1−ブチル)−7,8−ジメ
トキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキ
セピン−10−オン(化合物12)を得た。この化合物
12の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によ
るピークは以下のようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−(1−ブチ
ル)フェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1
〜4と同様にして、2−(1−ブチル)−7,8−ジメ
トキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキ
セピン−10−オン(化合物12)を得た。この化合物
12の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によ
るピークは以下のようになった。
【0050】δ0.88(t,3H,J=7Hz),
1.30(m,2H),1.56(m,2H),2.5
6(dd,2H,J=8,8Hz),3.88(s,3
H),3.98(s,3H),4.03(s,2H),
6.84(s,1H),7.03(dd,1H,J=
8,2Hz),7.04(brs,1H),7.15
(d,1H,J=8Hz),7.47(s,1H).
1.30(m,2H),1.56(m,2H),2.5
6(dd,2H,J=8,8Hz),3.88(s,3
H),3.98(s,3H),4.03(s,2H),
6.84(s,1H),7.03(dd,1H,J=
8,2Hz),7.04(brs,1H),7.15
(d,1H,J=8Hz),7.47(s,1H).
【0051】工程2 2−(1−ブチル)−7,8−ジ
ヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物13)の合成
ヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物13)の合成
【0052】
【化16】
【0053】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−
(1−ブチル)−7,8−ジメトキシ−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化
合物12)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同
様にして、2−(1−ブチル)−7,8−ジヒドロキシ
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン
−10−オン(化合物13)を得た。この化合物13の
1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピー
クは以下のようになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−
(1−ブチル)−7,8−ジメトキシ−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化
合物12)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同
様にして、2−(1−ブチル)−7,8−ジヒドロキシ
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン
−10−オン(化合物13)を得た。この化合物13の
1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピー
クは以下のようになった。
【0054】δ0.77(t,3H,J=7Hz),
1.25(m,2H),1.40(m,2H),2.3
6(m,2H),3.82(s,2H),6.70
(s,1H),6.86(d,1H,J=8Hz),
6.92(s,1H),6.97(d,1H,J=8H
z),7.32(s,1H),7.72(br,2
H).
1.25(m,2H),1.40(m,2H),2.3
6(m,2H),3.82(s,2H),6.70
(s,1H),6.86(d,1H,J=8Hz),
6.92(s,1H),6.97(d,1H,J=8H
z),7.32(s,1H),7.72(br,2
H).
【0055】(実施例5) 2−(t−ブチル)−7,8−ジヒドロキシ−10,1
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ンの合成
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オ
ンの合成
【0056】工程1 2−(t−ブチル)−7,8−ジ
メトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物14)の合成
メトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物14)の合成
【0057】
【化17】
【0058】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−(t−ブチ
ル)フェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1
〜4と同様にして、2−(t−ブチル)−7,8−ジメ
トキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキ
セピン−10−オン(化合物14)を得た。この化合物
14の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によ
るピークは以下のようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−(t−ブチ
ル)フェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1
〜4と同様にして、2−(t−ブチル)−7,8−ジメ
トキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキ
セピン−10−オン(化合物14)を得た。この化合物
14の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によ
るピークは以下のようになった。
【0059】δ1.29(s,9H),3.88(s,
3H),3.98(s,3H),4.05(s,2
H),6.84(1H,s),7.17(d,1H,J
=8Hz),7.16−7.29(m,2H),7.4
7(1H,s).
3H),3.98(s,3H),4.05(s,2
H),6.84(1H,s),7.17(d,1H,J
=8Hz),7.16−7.29(m,2H),7.4
7(1H,s).
【0060】工程2 2−(t−ブチル)−7,8−ジ
ヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物15)の合成
ヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物15)の合成
【0061】
【化18】
【0062】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−
(t−ブチル)−7,8−ジメトキシ−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化
合物14)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同
様にして、2−(t−ブチル)−7,8−ジヒドロキシ
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン
−10−オン(化合物15)を得た。この化合物15の
1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピー
クは以下のようになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−
(t−ブチル)−7,8−ジメトキシ−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化
合物14)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同
様にして、2−(t−ブチル)−7,8−ジヒドロキシ
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン
−10−オン(化合物15)を得た。この化合物15の
1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピー
クは以下のようになった。
【0063】δ1.16(s,9H),3.89(s,
2H),6.76(1H,s),7.02(d,1H,
J=8Hz),7.10−7.17(m,2H),7.
39(1H,s).
2H),6.76(1H,s),7.02(d,1H,
J=8Hz),7.10−7.17(m,2H),7.
39(1H,s).
【0064】(実施例6) 7,8−ジヒドロキシ−1,3−ジメチル−10,11
−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン
の合成
−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン
の合成
【0065】工程1 7,8−ジメトキシ−1,3−ジ
メチル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキ
セピン−10−オン(化合物16)の合成
メチル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキ
セピン−10−オン(化合物16)の合成
【0066】
【化19】
【0067】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−3,5−ジメチル
フェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4
と同様にして、7,8−ジメトキシ−1,3−ジメチル
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン
−10−オン(化合物16)を得た。この化合物16の
1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピー
クは以下のようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−3,5−ジメチル
フェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4
と同様にして、7,8−ジメトキシ−1,3−ジメチル
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン
−10−オン(化合物16)を得た。この化合物16の
1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピー
クは以下のようになった。
【0068】δ2.27(s,3H),2.39(s,
3H),3.88(s,2H),3.98(s,3
H),4.04(s,2H),6.83(s,1H),
6.87(brs,1H),6.94(brs,1
H),7.45(s,1H).
3H),3.88(s,2H),3.98(s,3
H),4.04(s,2H),6.83(s,1H),
6.87(brs,1H),6.94(brs,1
H),7.45(s,1H).
【0069】工程2 7,8−ジヒドロキシ−1,3−
ジメチル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物17)の合成
ジメチル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オ
キセピン−10−オン(化合物17)の合成
【0070】
【化20】
【0071】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−1,3−ジメチル−10,11−ジヒド
ロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物
16)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様に
して、7,8−ジヒドロキシ−1,3−ジメチル−1
0,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−1
0−オン(化合物17)を得た。この化合物17の1H
−NMR(400MHz,CDCl3)によるピークは
以下のようになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−1,3−ジメチル−10,11−ジヒド
ロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物
16)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様に
して、7,8−ジヒドロキシ−1,3−ジメチル−1
0,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−1
0−オン(化合物17)を得た。この化合物17の1H
−NMR(400MHz,CDCl3)によるピークは
以下のようになった。
【0072】δ2.19(s,3H),2.30(s,
3H),3.96(s,2H),6.78(1H,
s),6.80(s,1H),6.85(s,1H),
7.41(s,1H),7.46(br,2H).
3H),3.96(s,2H),6.78(1H,
s),6.80(s,1H),6.85(s,1H),
7.41(s,1H),7.46(br,2H).
【0073】(実施例7) 7,8−ジヒドロキシ−2−フェニル−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オンの合
成
ヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オンの合
成
【0074】工程1 7,8−ジメトキシ−2−フェニ
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピ
ン−10−オン(化合物18)の合成
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピ
ン−10−オン(化合物18)の合成
【0075】
【化21】
【0076】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−フェニルフェ
ノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と同
様にして、7,8−ジメトキシ−2−フェニル−10,
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−
オン(化合物18)を得た。この化合物18の1H−N
MR(400MHz,CDCl3)によるピークは以下
のようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−フェニルフェ
ノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と同
様にして、7,8−ジメトキシ−2−フェニル−10,
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−
オン(化合物18)を得た。この化合物18の1H−N
MR(400MHz,CDCl3)によるピークは以下
のようになった。
【0077】δ3.90(s,3H),4.00(s,
3H),4.12(s,2H),6.88(s,1
H),7.34(m,2H),7.45(m,3H),
7.53(m,4H).
3H),4.12(s,2H),6.88(s,1
H),7.34(m,2H),7.45(m,3H),
7.53(m,4H).
【0078】工程2 7,8−ジヒドロキシ−2−フェ
ニル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセ
ピン−10−オン(化合物19)の合成
ニル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセ
ピン−10−オン(化合物19)の合成
【0079】
【化22】
【0080】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−フェニル−10,11−ジヒドロジ
ベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物1
8)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にし
て、7,8−ジヒドロキシ−2−フェニル−10,11
−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン
(化合物19)を得た。この化合物19の1H−NMR
(400MHz,CDCl3)によるピークは以下のよ
うになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−フェニル−10,11−ジヒドロジ
ベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン(化合物1
8)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にし
て、7,8−ジヒドロキシ−2−フェニル−10,11
−ジヒドロジベンゾ[b,f]オキセピン−10−オン
(化合物19)を得た。この化合物19の1H−NMR
(400MHz,CDCl3)によるピークは以下のよ
うになった。
【0081】δ4.00(s,2H),6.84(s,
1H),7.2−7.5(m,9H).
1H),7.2−7.5(m,9H).
【0082】(実施例8) 7,8−ジヒドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ
[b,f]チエピン−10−オンの合成
[b,f]チエピン−10−オンの合成
【0083】工程1 2−(2−ブロモフェニルチオ)
−4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物20)の
合成
−4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物20)の
合成
【0084】
【化23】
【0085】2−ブロモチオフェノール(380mg)
のN,N−ジメチルホルムアミド(2.5mL)溶液に
炭酸カリウム(276mg)、酢酸銅(540mg)、
及び6−ブロモ−3,4−ジメトキシアセトフェノン
(130mg)を加え100℃で4時間撹拌した。反応
混合物をエーテルで希釈し、5%水酸化ナトリウム水溶
液を加え5分撹拌した。これをエーテル−ヘキサンの混
合液で希釈し、5%水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和
食塩水で順次洗浄した。有機層を分取し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去した。得られた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−エーテル2:
1)で精製し、標記化合物(化合物20)を黄色油状物
質として得た(250mg,56%)。この化合物20
の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピ
ークは以下のようになった。
のN,N−ジメチルホルムアミド(2.5mL)溶液に
炭酸カリウム(276mg)、酢酸銅(540mg)、
及び6−ブロモ−3,4−ジメトキシアセトフェノン
(130mg)を加え100℃で4時間撹拌した。反応
混合物をエーテルで希釈し、5%水酸化ナトリウム水溶
液を加え5分撹拌した。これをエーテル−ヘキサンの混
合液で希釈し、5%水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和
食塩水で順次洗浄した。有機層を分取し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去した。得られた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン−エーテル2:
1)で精製し、標記化合物(化合物20)を黄色油状物
質として得た(250mg,56%)。この化合物20
の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピ
ークは以下のようになった。
【0086】δ2.63(s,3H),3.90(s,
3H),3.94(s,3H),6.48(s,1
H),7.18(dt,1H,J=1.5,7.0H
z),7.31(dt,1H,J=1.8,7.2H
z),7.66(dd,1H,J=1.8,8.1H
z).
3H),3.94(s,3H),6.48(s,1
H),7.18(dt,1H,J=1.5,7.0H
z),7.31(dt,1H,J=1.8,7.2H
z),7.66(dd,1H,J=1.8,8.1H
z).
【0087】工程2 7,8−ジメトキシ−10,11
−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン
(化合物21)の合成
−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン
(化合物21)の合成
【0088】
【化24】
【0089】アルゴン気流下、2−(2−ブロモフェニ
ルチオ)−4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物
20)15mgに液体アンモニア(1mL)、t−ブト
キシカリウム(20mg)を加え30分間光照射した。
反応混合物にエーテル、塩化アンモニウムを加えエーテ
ル層を分取した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸
ナトリウムでろ過した。溶媒を留去して、標記化合物
(化合物21)を白色結晶として得た(4.6mg,4
2%)。この化合物21の1H−NMR(400MH
z,CDCl3)によるピークは以下のようになった。
ルチオ)−4,5−ジメトキシアセトフェノン(化合物
20)15mgに液体アンモニア(1mL)、t−ブト
キシカリウム(20mg)を加え30分間光照射した。
反応混合物にエーテル、塩化アンモニウムを加えエーテ
ル層を分取した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸
ナトリウムでろ過した。溶媒を留去して、標記化合物
(化合物21)を白色結晶として得た(4.6mg,4
2%)。この化合物21の1H−NMR(400MH
z,CDCl3)によるピークは以下のようになった。
【0090】δ3.89(s,3H),3.96(s,
3H),4.37(s,2H),7.04(s,1
H),7.20(dt,1H,J=7,3Hz),7.
35(dt,1H,J=7,7Hz),7.44(d
d,1H,J=7,3Hz),7.64(dd,1H,
J=7,3Hz),7.73(s,1H).
3H),4.37(s,2H),7.04(s,1
H),7.20(dt,1H,J=7,3Hz),7.
35(dt,1H,J=7,7Hz),7.44(d
d,1H,J=7,3Hz),7.64(dd,1H,
J=7,3Hz),7.73(s,1H).
【0091】工程3 7,8−ジヒドロキシ−10,1
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン
(化合物22)の合成
1−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン
(化合物22)の合成
【0092】
【化25】
【0093】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,
f]チエピン−10−オン(化合物21)を用いる以外
は、前記実施例1の工程5と同様にして、7,8−ジヒ
ドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チ
エピン−10−オン(化合物22)を得た。この化合物
22の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によ
るピークは以下のようになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,
f]チエピン−10−オン(化合物21)を用いる以外
は、前記実施例1の工程5と同様にして、7,8−ジヒ
ドロキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チ
エピン−10−オン(化合物22)を得た。この化合物
22の1H−NMR(400MHz,CDCl3)によ
るピークは以下のようになった。
【0094】δ4.23(s,2H),6.97(s,
1H),7.2−7.5(m,3H),7.51(s,
1H),7.6−7.7(m,1H),9.9(br,
2H).
1H),7.2−7.5(m,3H),7.51(s,
1H),7.6−7.7(m,1H),9.9(br,
2H).
【0095】(実施例9) 7,8−ジヒドロキシ−2−メチル−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オンの合成
ドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オンの合成
【0096】工程1 7,8−ジメトキシ−2−メチル
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−
10−オン(化合物23)の合成
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−
10−オン(化合物23)の合成
【0097】
【化26】
【0098】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−メチルチオフ
ェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と
同様にして、7,8−ジメトキシ−2−メチル−10,
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オ
ン(化合物23)を得た。この化合物23の1H−NM
R(400MHz,CDCl3)によるピークは以下の
ようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−メチルチオフ
ェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と
同様にして、7,8−ジメトキシ−2−メチル−10,
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オ
ン(化合物23)を得た。この化合物23の1H−NM
R(400MHz,CDCl3)によるピークは以下の
ようになった。
【0099】δ2.34(s,3H),3.89(s,
3H),3.96(s,3H),4.32(brs,2
H),6.99(d,1H,J=8Hz),7.02
(s,1H),7.50(d,1H,J=8Hz),
7.72(s,1H).
3H),3.96(s,3H),4.32(brs,2
H),6.99(d,1H,J=8Hz),7.02
(s,1H),7.50(d,1H,J=8Hz),
7.72(s,1H).
【0100】工程2 7,8−ジヒドロキシ−2−メチ
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン
−10−オン(化合物24)の合成
ル−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン
−10−オン(化合物24)の合成
【0101】
【化27】
【0102】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−メチル−10,11−ジヒドロジベ
ンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物23)を
用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にして、
7,8−ジヒドロキシ−2−メチル−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物
24)を得た。この化合物24の1H−NMR(400
MHz,CDCl3−CD3OD)によるピークは以下
のようになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−メチル−10,11−ジヒドロジベ
ンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物23)を
用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にして、
7,8−ジヒドロキシ−2−メチル−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物
24)を得た。この化合物24の1H−NMR(400
MHz,CDCl3−CD3OD)によるピークは以下
のようになった。
【0103】δ2.25(s,3H),4.12(br
s,2H),6.91(d,1H,J=8Hz),6.
96(s,1H),7.15(brs,1H),7.4
1(d,1H,J=8Hz),7.51(s,1H).
s,2H),6.91(d,1H,J=8Hz),6.
96(s,1H),7.15(brs,1H),7.4
1(d,1H,J=8Hz),7.51(s,1H).
【0104】(実施例10) 2−エチル−7,8−ジヒドロキシ−10,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オンの合成
ドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オンの合成
【0105】工程1 2−エチル−7,8−ジメトキシ
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−
10−オン(化合物25)の合成
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−
10−オン(化合物25)の合成
【0106】
【化28】
【0107】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−エチルチオフ
ェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と
同様にして、2−エチル−7,8−ジメトキシ−10,
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オ
ン(化合物25)を得た。この化合物25の1H−NM
R(400MHz,CDCl3)によるピークは以下の
ようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−エチルチオフ
ェノールを用いる以外は、前記実施例1の工程1〜4と
同様にして、2−エチル−7,8−ジメトキシ−10,
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オ
ン(化合物25)を得た。この化合物25の1H−NM
R(400MHz,CDCl3)によるピークは以下の
ようになった。
【0108】δ1.21(t,3H,J=7Hz),
2.63(q,2H,J=7Hz),3.89(s,3
H),3.96(s,3H),4.34(brs,2
H),7.03(s,2H),7.27(d,1H,J
=8Hz),7.53(d,1H,J=8Hz),7.
72(s,1H).
2.63(q,2H,J=7Hz),3.89(s,3
H),3.96(s,3H),4.34(brs,2
H),7.03(s,2H),7.27(d,1H,J
=8Hz),7.53(d,1H,J=8Hz),7.
72(s,1H).
【0109】工程2 2−エチル−7,8−ジヒドロキ
シ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン
−10−オン(化合物26)の合成
シ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン
−10−オン(化合物26)の合成
【0110】
【化29】
【0111】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−エ
チル−7,8−ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベ
ンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物25)を
用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にして、2
−エチル−7,8−ジヒドロキシ−10,11−ジヒド
ロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物2
6)を得た。この化合物26の1H−NMR(400M
Hz,CDCl3)によるピークは以下のようになっ
た。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、2−エ
チル−7,8−ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベ
ンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物25)を
用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様にして、2
−エチル−7,8−ジヒドロキシ−10,11−ジヒド
ロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合物2
6)を得た。この化合物26の1H−NMR(400M
Hz,CDCl3)によるピークは以下のようになっ
た。
【0112】δ1.20(t,3H,J=7Hz),
2.61(q,2H,J=7Hz),4.31(br
s,2H),7.00(d,1H,J=8Hz),7.
08(s,1H),7.24(s,1H),7.51
(d,1H,J=8Hz),7.64(s,1H).
2.61(q,2H,J=7Hz),4.31(br
s,2H),7.00(d,1H,J=8Hz),7.
08(s,1H),7.24(s,1H),7.51
(d,1H,J=8Hz),7.64(s,1H).
【0113】(実施例11) 7,8−ジヒドロキシ−2−(2−プロピル)−10,
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オ
ンの合成
11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オ
ンの合成
【0114】工程1 7,8−ジメトキシ−2−(2−
プロピル)−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
チエピン−10−オン(化合物27)の合成
プロピル)−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
チエピン−10−オン(化合物27)の合成
【0115】
【化30】
【0116】前記実施例1の工程3において、2−ブロ
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−(2−プロピ
ル)チオフェノールを用いる以外は、前記実施例1の工
程1〜4と同様にして、7,8−ジメトキシ−2−(2
−プロピル)−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,
f]チエピン−10−オン(化合物27)を得た。この
化合物27の1H−NMR(400MHz,CDC
l3)によるピークは以下のようになった。
モフェノールに代えて、2−ブロモ−4−(2−プロピ
ル)チオフェノールを用いる以外は、前記実施例1の工
程1〜4と同様にして、7,8−ジメトキシ−2−(2
−プロピル)−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,
f]チエピン−10−オン(化合物27)を得た。この
化合物27の1H−NMR(400MHz,CDC
l3)によるピークは以下のようになった。
【0117】δ1.22(d,6H,J=7Hz),
2.89(sept,1H,J=7Hz),3.89
(s,3H),3.96(s,3H),4.35(br
s,2H),7.03(s,1H),7.05(dd,
1H,J=8,2Hz),7.30(d,1H,J=2
Hz),7.54(d,1H,J=8Hz),7.73
(s,1H).
2.89(sept,1H,J=7Hz),3.89
(s,3H),3.96(s,3H),4.35(br
s,2H),7.03(s,1H),7.05(dd,
1H,J=8,2Hz),7.30(d,1H,J=2
Hz),7.54(d,1H,J=8Hz),7.73
(s,1H).
【0118】工程2 7,8−ジヒドロキシ−2−(2
−プロピル)−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,
f]チエピン−10−オン(化合物28)の合成
−プロピル)−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,
f]チエピン−10−オン(化合物28)の合成
【0119】
【化31】
【0120】前記実施例1の工程5において、7,8−
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−(2−プロピル)−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合
物27)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様
にして、7,8−ジヒドロキシ−2−(2−プロピル)
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−
10−オン(化合物28)を得た。この化合物28の1
H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピーク
は以下のようになった。
ジメトキシ−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]
オキセピン−10−オン(化合物5)に代えて、7,8
−ジメトキシ−2−(2−プロピル)−10,11−ジ
ヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−10−オン(化合
物27)を用いる以外は、前記実施例1の工程5と同様
にして、7,8−ジヒドロキシ−2−(2−プロピル)
−10,11−ジヒドロジベンゾ[b,f]チエピン−
10−オン(化合物28)を得た。この化合物28の1
H−NMR(400MHz,CDCl3)によるピーク
は以下のようになった。
【0121】δ1.19(d,6H,J=7Hz),
2.89(sept,1H,J=7Hz),4.30
(brs,2H),7.02(dd,1H,J=8,2
Hz),7.05(s,1H),7.24(d,1H,
J=2Hz),7.51(d,1H,J=8Hz),
7.61(s,1H).
2.89(sept,1H,J=7Hz),4.30
(brs,2H),7.02(dd,1H,J=8,2
Hz),7.05(s,1H),7.24(d,1H,
J=2Hz),7.51(d,1H,J=8Hz),
7.61(s,1H).
【0122】
【発明の効果】本発明によれば、鎮静作用、鎮痛作用、
抗炎症作用、抗痙攣作用、抗エストロゲン作用、抗酸化
作用、脳機能改善作用、気管支拡張作用などの広範な薬
理活性を有する化合物として有用なジベンゾ[b,f]
オキセピン及びジベンゾ[b,f]チエピン化合物を提
供できる。
抗炎症作用、抗痙攣作用、抗エストロゲン作用、抗酸化
作用、脳機能改善作用、気管支拡張作用などの広範な薬
理活性を有する化合物として有用なジベンゾ[b,f]
オキセピン及びジベンゾ[b,f]チエピン化合物を提
供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (ここでXはハロゲン原子、YはOまたはS、R1〜R
8は水素、アルキル基、アリール基、ハロゲン、低級ア
ルコキシル基、アミノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒ
ドロキシル基、チオール基、低級アルキルチオ基から選
択される任意の置換基)で表されるハロゲン置換アセト
フェノン誘導体を塩基存在下、液体アンモニア中光照射
を行うことを特徴とする、一般式(2) 【化2】 (ここでYはOまたはS、R1〜R8は水素、アルキル
基、アリール基、ハロゲン、低級アルコキシル基、アミ
ノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒドロキシル基、チオ
ール基、低級アルキルチオ基から選択される任意の置換
基)で表されるジベンゾ[b,f]オキセピンおよびジ
ベンゾ[b,f]チエピン誘導体の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の塩基がカリウムt−ブト
キシドであることを特徴とする、一般式(2) 【化3】 (ここでYはOまたはS、R1〜R8は水素、アルキル
基、アリール基、ハロゲン、低級アルコキシル基、アミ
ノ基、N−低級アシルアミノ基、ヒドロキシル基、チオ
ール基、低級アルキルチオ基から選択される任意の置換
基)の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9041321A JPH10204079A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | ジベンゾオキセピンおよびジベンゾチエピン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9041321A JPH10204079A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | ジベンゾオキセピンおよびジベンゾチエピン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10204079A true JPH10204079A (ja) | 1998-08-04 |
Family
ID=12605265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9041321A Pending JPH10204079A (ja) | 1997-01-20 | 1997-01-20 | ジベンゾオキセピンおよびジベンゾチエピン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10204079A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000075127A1 (fr) * | 1999-06-03 | 2000-12-14 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Composes heterocycliques condenses a trois cycles, procede de preparation correspondant et utilisation de tels composes |
-
1997
- 1997-01-20 JP JP9041321A patent/JPH10204079A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000075127A1 (fr) * | 1999-06-03 | 2000-12-14 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Composes heterocycliques condenses a trois cycles, procede de preparation correspondant et utilisation de tels composes |
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