JPH10199917A - Bonding method - Google Patents

Bonding method

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JPH10199917A
JPH10199917A JP9017348A JP1734897A JPH10199917A JP H10199917 A JPH10199917 A JP H10199917A JP 9017348 A JP9017348 A JP 9017348A JP 1734897 A JP1734897 A JP 1734897A JP H10199917 A JPH10199917 A JP H10199917A
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pad
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Takuya Sato
卓也 佐藤
Tamanari Yasuda
玉成 安田
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Kaijo Corp
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Kaijo Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To bond virtually grouped semiconductor components by automatically updating the height of a bonding tool to move it to an optimum height position for bonding, even if the bonding faces of the components are different. SOLUTION: A tool 7 is moved to an origin height Z above a pad X1 and lowered to obtain the distance from a bonding face height of the pad X1 . The tool is moved to an origin height above a pad X2 and lowered to obtain the distance from a bonding face height of the pad X1 . The difference D between these obtd. distances is found and added to the bonding face height of the pad X2 in order to obtain the next bonding face height, thus automatically updating the tool height.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ボンディングステ
ージに載置された被ボンディング部品としての半導体部
品に対してボンディングを行うボンディング方法に関す
るものであり、特に被ボンディング部品としての半導体
部品を仮想的に複数の群毎に分割してボンディングする
場合に、ボンディングツールの高さを自動的に更新して
ボンディングを行うことができるボンディング装置方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bonding method for performing bonding to a semiconductor component as a component mounted on a bonding stage, and more particularly to a method for virtually mounting a semiconductor component as a component to be bonded. The present invention relates to a bonding apparatus method capable of automatically updating the height of a bonding tool and performing bonding when bonding is performed by dividing a plurality of groups.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体デバイスの組立工程に用いられる
ワイヤボンディング装置においては、金線又は銅、アル
ミニウムなどのワイヤを用いて第1ボンディング点とな
る半導体チップ上のパッド(電極)と、第2ボンディン
グ点となるリードとを接続するように成される。
2. Description of the Related Art In a wire bonding apparatus used in a semiconductor device assembling process, a pad (electrode) on a semiconductor chip serving as a first bonding point using a gold wire or a wire such as copper or aluminum is connected to a second bonding point. The connection is made with a lead which is a point.

【0003】従来、この種のワイヤボンディング装置に
おいては、前記したボンディングに先立って、ボンディ
ングツールとしてのキャピラリから繰り出されたワイヤ
の先端と放電電極としてのトーチロッドとの間に高電圧
を印加することにより放電を起こさせ、その放電に伴う
熱エネルギーによりワイヤの先端部を溶融してキャピラ
リの先端にボールを形成するようにしている。
Conventionally, in this type of wire bonding apparatus, prior to the above-described bonding, a high voltage is applied between a tip of a wire drawn out of a capillary as a bonding tool and a torch rod as a discharge electrode. Causes a discharge, and the thermal energy associated with the discharge melts the distal end of the wire to form a ball at the distal end of the capillary.

【0004】このようにしてボールを形成した後、キャ
ピラリにてワイヤを保持し、第1ボンディング点となる
半導体チップ上のパッドに前記ボールを押しつぶして熱
圧着ボンディングが行なわれる。この時、同時にワイヤ
先端部に超音波振動が印加されるよう構成されている。
After the ball is formed in this manner, the wire is held by a capillary, and the ball is crushed to a pad on a semiconductor chip serving as a first bonding point to perform thermocompression bonding. At this time, the ultrasonic vibration is simultaneously applied to the tip of the wire.

【0005】続いてキャピラリの先端よりワイヤを繰り
出しつつ、キャピラリを対象となる半導体チップ上のリ
ードに押し当て、ワイヤを第2ボンディング点となるリ
ードに接続する。このようにして第2ボンディング点に
ワイヤを接続した後、キャピラリを所定の高さまで上昇
させる過程でワイヤがクランプにより切断され、一連の
ボンディング工程が終了する。
Subsequently, the capillary is pressed against a lead on a target semiconductor chip while the wire is fed out from the tip of the capillary, and the wire is connected to a lead serving as a second bonding point. After connecting the wire to the second bonding point in this way, the wire is cut by the clamp in the process of raising the capillary to a predetermined height, and a series of bonding steps is completed.

【0006】しかして、従来のワイヤボンディング装置
にあっては、例えば特開平2−33943号に開示され
ているようにボンディング面の高度に応じて、キャピラ
リの降下速度の変更高度を変えてボンディングを行うも
のが知られている。
However, in a conventional wire bonding apparatus, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-39433, bonding is performed by changing the changing height of the capillary descent speed according to the bonding surface height. What you do is known.

【0007】この装置では、図11に示すように、ステ
ップaで基準となる位置に対するキャピラリの最初の高
度h0を示すデータを入力し、ステップb及びステップ
cで駆動モータに信号を送って駆動モータを高速回転さ
せ、キャピラリが最初の高度h0に達するまで高速でキ
ャピラリを降ろす。
In this apparatus, as shown in FIG. 11, data indicating the initial altitude h0 of the capillary with respect to a reference position is input in step a, and signals are sent to the drive motor in steps b and c, so that the drive motor is driven. Is rotated at high speed, and the capillary is lowered at high speed until the capillary reaches the initial altitude h0.

【0008】ステップdで駆動モータに信号を送って駆
動モータを低速回転させ、キャピラリを低速で降下させ
てキャピラリの先端がボンディング面に接触したかどう
かを判定する(ステップe)。
In step d, a signal is sent to the drive motor to rotate the drive motor at a low speed, and the capillary is lowered at a low speed to determine whether the tip of the capillary has contacted the bonding surface (step e).

【0009】キャピラリの先端がボンディング面に接触
すると、ステップfでキャピラリの先端がボンディング
面に接触した位置の高度h1を示すデータをメモリ(R
AM)に格納する。そして、ステップgでワイヤボンデ
ィング動作を行う。
When the tip of the capillary contacts the bonding surface, in step f, data indicating the altitude h1 at the position where the tip of the capillary contacts the bonding surface is stored in the memory (R).
AM). Then, a wire bonding operation is performed in step g.

【0010】上記行程により、第1ボンディング点への
ボンディング動作がなされ、同様に第2ボンディング点
においても同様の動作がなされる。
By the above process, the bonding operation to the first bonding point is performed, and the same operation is similarly performed at the second bonding point.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のワイ
ヤボンディング装置では、図11に記載されているよう
に基準となる位置から最初の高度h0まで高速で移動
し、次に低速移動してボンディング面までキャピラリを
降下させて接触した位置h0を示すデータをメモリ(R
AM)に格納するという動作を第1ボンディング点であ
るパッド又は第2ボンディング点であるリードの高さ位
置を1本毎に測定するため、高速化を図ることが難しい
という問題がある。
By the way, in the conventional wire bonding apparatus, as shown in FIG. 11, the bonding surface moves at a high speed from a reference position to an initial height h0, and then moves at a low speed. The data indicating the position h0 at which the capillary was lowered to contact with the memory was stored in the memory (R
AM), the height of the pad, which is the first bonding point, or the height position of the lead, which is the second bonding point, is measured one by one. Therefore, there is a problem that it is difficult to increase the speed.

【0012】また、半導体チップが図5に示すようにリ
ードフレーム等の基板に対して傾斜しているような場合
には、パッドの高さが急激に変化している場合があり、
上記のように高速から低速に切り替える高度h0を十分
な高さに設定しておかないとボンディングツールの下降
速度を十分な低速度に切り替えるよりも早くボンディン
グツールがパッドに衝突する危険がある。従って、この
ような衝突を避けるために十分な高さに設定しておく必
要があるが、この場合には高速化が図れないという問題
がある。
When the semiconductor chip is inclined with respect to a substrate such as a lead frame as shown in FIG. 5, the height of the pad may change abruptly.
If the altitude h0 for switching from the high speed to the low speed is not set to a sufficient height as described above, there is a risk that the bonding tool collides with the pad earlier than when the lowering speed of the bonding tool is changed to a sufficiently low speed. Therefore, it is necessary to set the height sufficiently to avoid such a collision, but in this case, there is a problem that the speed cannot be increased.

【0013】また、半導体チップを図10に示すように
複数の群毎に仮想的に分割してボンディングする場合に
は、矢印方向にボンディングしていくのであるが、図5
に示すようにで示す矢印方向からボンディングする場
合と、で示す矢印方向でボンディングする場合とでは
半導体チップのパッドの高さが異なるため衝突する可能
性が高く、したがってボンディングツールの高さを十分
な位置まで上昇しておく必要がある。
When a semiconductor chip is virtually divided into a plurality of groups and bonded as shown in FIG. 10, bonding is performed in the direction of the arrow.
Since the height of the pads of the semiconductor chip is different between the case where bonding is performed in the direction indicated by the arrow and the case where bonding is performed in the direction indicated by the arrow, the possibility of collision is high, and therefore the height of the bonding tool must be sufficient. It must be raised to a position.

【0014】このようなボンディングを行う場合には、
ボンディングツールがボンディング面に衝突することが
ないように十分な高さ位置まで上昇させ、かつ高速から
低速に早めに切り替えてボンディングを行うようになさ
れている。
When performing such bonding,
The bonding tool is raised to a sufficiently high position so that the bonding tool does not collide with the bonding surface, and is switched from a high speed to a low speed to perform bonding.

【0015】本発明は、このような従来の問題点に着目
して成されたものであり、被ボンディング部品である半
導体部品を仮想的に複数の群毎に分割してボンディング
する場合に該半導体部品のボンディング面の高さが異な
る場合であってもボンディングツールの高さを自動的に
更新して最適な高さ位置に該ツールを移動してボンディ
ングを行い、かつ高速処理を図ることができるボンディ
ング方法を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of such a conventional problem. When a semiconductor component as a component to be bonded is virtually divided into a plurality of groups and bonded, the semiconductor component is used. Even when the height of the bonding surface of the component is different, the height of the bonding tool is automatically updated, the tool is moved to the optimum height position, bonding is performed, and high-speed processing can be achieved. It is an object of the present invention to provide a bonding method.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の本発明
に係るボンディング方法は、リードフレームを位置決め
してボンディングツールを前記リードフレーム及び半導
体チップに対して変位させてボンディングを行うボンデ
ィング方法であって、前記ボンディングツールを予め設
定された第1ボンディング点であるパッド上方の基準と
なる原点高さまで移動させ該原点高さから該ボンディン
グツールを下降させて前記パッドのボンディング面高さ
までの距離を求めて記憶手段に記憶させる第1の工程
と、前記パッドに隣接するパッド上方の原点高さに前記
ボンディングツールを移動させ該原点高さから該ボンデ
ィングツールを下降させて該パッドのボンディング面高
さまでの距離を求めて記憶手段に記憶させる第2の工程
と、前記第1及び第2の工程により求めた原点高さから
ボンディング面までの距離との差を求める第3の工程
と、前記第3の工程により求められた差を前記第2の工
程により求めたパッドのボンディング面高さに加算して
次のボンディング面高さとする第4の工程とを備えたも
のである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a bonding method for performing bonding by positioning a lead frame and displacing a bonding tool with respect to the lead frame and the semiconductor chip. Then, the bonding tool is moved to a reference origin height above the pad, which is a first bonding point set in advance, and the bonding tool is lowered from the origin height so that the distance from the pad to the bonding surface height of the pad is reduced. A first step of obtaining and storing the obtained data in the storage means; and moving the bonding tool to an origin height above the pad adjacent to the pad and lowering the bonding tool from the origin height to the bonding surface height of the pad. A second step of obtaining a distance of the first and storing the distance in the storage means; A third step of obtaining a difference between the height of the origin and the distance to the bonding surface obtained in the step of; and a bonding surface height of the pad obtained in the second step of obtaining the difference obtained in the third step. And the fourth step of making the next bonding surface height by adding

【0017】請求項2に記載の本発明に係るボンディン
グ方法は、前記第4の工程により求められたパッド以後
のボンディング点であるn番目のボンディング点Xn
は、パッド間の距離の差をDとするとき、Xn=Xn-1
+Dn-2 の式により求めるようにしたものである。
According to a second aspect of the present invention, in the bonding method, the n-th bonding point Xn, which is a bonding point after the pad obtained in the fourth step, is used.
Xn = Xn -1 where D is the difference in distance between pads.
+ D n-2 .

【0018】請求項3に記載の本発明に係るボンディン
グ方法は、リードフレームを位置決めしてボンディング
ツールを前記リードフレーム及び半導体チップに対して
変位させてボンディングを行うボンディング方法であっ
て、前記ボンディングツールを予め設定された第1ボン
ディング点であるパッドX1上方の基準となる原点高さ
Zまで移動させ該原点高さZから該ボンディングツール
を下降させて前記パッドX1のボンディング面高さまで
の距離を求めて記憶手段に記憶させる第1の工程と、前
記パッドX1に隣接するパッドX2上方の原点高さZに
前記ボンディングツールを移動させ該原点高さZから該
ボンディングツールを下降させて該パッドX2のボンデ
ィング面高さまでの距離を求めて記憶手段に記憶させる
第2の工程と、前記第1及び第2の工程により求めた原
点高さZからボンディング面までの距離との差Dを求め
る第3の工程と、前記第3の工程により求められた差D
を前記第2の工程により求めたパッドX2のボンディン
グ面高さに加算して次のボンディング面高さとする第4
の工程と、この第4の工程により求められたパッド以後
のボンディング点であるn番目のボンディング点Xn
は、Xn=Xn-1+Dn-2 の式により求めるようにした
第5の工程とを備え、前記半導体チップの1辺の予め設
定されたX1番目のボンディング点からXn番目のボン
ディング点まで前記第1乃至第5の工程によりボンディ
ングを行い、他方の端部近傍の予め設定されたY1番目
からYn番目までのボンディング点までのボンディング
を行う場合に、前記ボンディングツールを前記Y1番目
のパッド上方の基準となるXn+Zの高さまで移動さ
せ、該高さから該ボンディングツールを下降させて原点
高さZから前記Y1番目のパッドのボンディング面高さ
までの距離を求めて記憶手段に記憶させる第6の工程
と、原点高さZからY2番目のパッドのボンディング面
高さまでの距離を求めて記憶手段に記憶させる第7の工
程と、前記第6の工程及び第7の工程により求められた
原点高さZからボンディング面までの距離との差D’を
求める第8の工程とを備え、前記第8の工程に続くボン
ディング点Yのn番目のボンディング点Ynは、Yn=
n-1+D’n-2 の式により求めるようにしたものであ
る。
A bonding method according to a third aspect of the present invention is a bonding method for positioning a lead frame and displacing a bonding tool with respect to the lead frame and the semiconductor chip to perform bonding. Is moved to a reference origin height Z above the pad X1, which is a preset first bonding point, and the bonding tool is lowered from the origin height Z to obtain a distance from the origin X to the bonding surface height of the pad X1. A first step of storing the bonding tool in the storage means and moving the bonding tool to an origin height Z above the pad X2 adjacent to the pad X1, lowering the bonding tool from the origin height Z, and A second step of obtaining a distance to a bonding surface height and storing the distance in a storage means; The first and third step and the difference D obtained by the third step of finding a difference D between the distance to the bonding surface from the origin height Z obtained by the second step
Is added to the bonding surface height of the pad X2 obtained in the second step to obtain the next bonding surface height.
And the n-th bonding point Xn, which is the bonding point after the pad determined in the fourth step.
Comprises a fifth step which is determined by an equation of Xn = X n-1 + D n-2 , wherein a predetermined X1st bonding point to an Xnth bonding point on one side of the semiconductor chip is set. When performing bonding in the first to fifth steps and performing bonding from a predetermined Y1 to Yn bonding points near the other end, the bonding tool is moved above the Y1 pad. And moving the bonding tool down from the height to obtain a distance from the origin height Z to the bonding surface height of the Y1th pad, and storing the distance in the storage means. A seventh step of obtaining a distance from the origin height Z to the bonding surface height of the Y2th pad and storing the distance in the storage means; An eighth step of obtaining a difference D 'between the origin height Z and the distance to the bonding surface obtained in the seventh step, and an n-th bonding point Yn of the bonding point Y following the eighth step. Is Yn =
This is obtained by the formula of Y n-1 + D ' n-2 .

【0019】請求項4に記載のボンディング方法は、前
記半導体チップを複数の群毎に分割してボンディングす
る場合に用いるようにしたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, the bonding method is used when the semiconductor chip is divided into a plurality of groups and bonded.

【0020】請求項5に記載のボンディング方法は、前
記半導体チップを8つの群毎に分割してボンディングす
るようにしたものである。
According to a fifth aspect of the present invention, the semiconductor chip is divided into eight groups and bonded.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施の形
態にしたがって説明する。まず図1は本発明に係るワイ
ヤボンディング装置の要部を示し、図2は図1における
A−A断面図を示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to an embodiment shown in the drawings. First, FIG. 1 shows a main part of a wire bonding apparatus according to the present invention, and FIG. 2 shows a cross-sectional view taken along line AA in FIG.

【0022】このワイヤボンディング装置は、図1に示
すように保持枠1a及び超音波ホーン1bから成るボン
ディングアーム1が揺動アーム2と共に支持シャフト3
の軸中心の周りに揺動可能となっている。このボンディ
ングアーム1は、支持シャフト3に堅固に嵌着され、揺
動アーム2は支持シャフト3に揺動自在に取り付けられ
ている。この支持シャフト3は、図1及び図3に示す少
なくとも二次元方向に移動可能なXYテーブル33上に
取付け固定されたヘッドベース39に設けられたベアリ
ング34を介して回転可能に設けられている。
In this wire bonding apparatus, a bonding arm 1 composed of a holding frame 1a and an ultrasonic horn 1b as shown in FIG.
About the center of the axis. The bonding arm 1 is firmly fitted to the support shaft 3, and the swing arm 2 is swingably attached to the support shaft 3. The support shaft 3 is rotatably provided via a bearing 34 provided on a head base 39 fixed and mounted on an XY table 33 movable in at least a two-dimensional direction shown in FIGS.

【0023】保持枠1a内にはホーン1bを加振するた
めの超音波振動子(図示せず)が組み込まれている。
An ultrasonic vibrator (not shown) for exciting the horn 1b is incorporated in the holding frame 1a.

【0024】揺動アーム2及び保持枠1aには夫々、ソ
レノイド4a及び電磁吸着片4bが互いに対向して固設
されており、ボンディングアーム1を揺動させる際に
は、ソレノイド4aに対して図示せぬ電源から通電して
これと電磁吸着片4bとの間に吸着力を生ぜしめること
により、該ボンディングアーム1と揺動アーム2とを相
互に固定状態にして結合させるが、所定距離以上吸着さ
れないように揺動アーム2にねじ等で固定された調整可
能なストッパ6が設けられている。
A solenoid 4a and an electromagnetic attraction piece 4b are fixed to the swing arm 2 and the holding frame 1a, respectively, so as to face each other. The bonding arm 1 and the swing arm 2 are fixed to each other by being energized from a power supply (not shown) to generate an attraction force between the power supply and the electromagnetic attraction piece 4b. An adjustable stopper 6 fixed to the swing arm 2 with a screw or the like is provided to prevent the swing arm 2 from being moved.

【0025】また、揺動アーム2及び保持枠1aには、
前記電磁吸着手段の前方位置に、マグネット5a及びコ
イル5bが夫々取り付けられている。これらマグネット
5a及びコイル5bは、ボンディング時にボンディング
アーム1の先端、すなわちボンディングツールとしての
キャピラリ7を保持する部位を、図2における下向きに
付勢するための吸着力を発生させる手段を構成してい
る。
The swing arm 2 and the holding frame 1a have
A magnet 5a and a coil 5b are respectively mounted at a position in front of the electromagnetic attraction means. The magnet 5a and the coil 5b constitute a means for generating an attraction force for urging the tip of the bonding arm 1 at the time of bonding, that is, a portion holding the capillary 7 as a bonding tool downward in FIG. .

【0026】また、揺動アーム2の先端にはクランプア
ーム8が設けられており、該クランプアーム8の先端に
はソレノイド及びばね等で構成された図示せぬ開閉機構
によりワイヤ9を把持して後述する方法にてカットする
ためのクランプ手段としてのクランプ8aが設けられて
いる。またキャピラリ7の下方には図示せぬ垂直軸にア
クチュエータ等の作用により回動可能に電気放電手段と
してのトーチロッド10が配置されており、ボンディン
グアーム1の移動に伴ってキャピラリ7の周りに回動可
能な構成となっている。
A clamp arm 8 is provided at the tip of the swing arm 2, and the wire 9 is gripped at the tip of the clamp arm 8 by an opening / closing mechanism (not shown) composed of a solenoid, a spring, and the like. A clamp 8a is provided as clamp means for cutting by a method described later. A torch rod 10 as an electric discharge means is disposed below the capillary 7 so as to be rotatable on a vertical axis (not shown) by the action of an actuator or the like, and rotates around the capillary 7 as the bonding arm 1 moves. It has a movable configuration.

【0027】このトーチロッド10は所定の高電圧を印
加してワイヤ9の先端にボールを形成する。またクラン
プ8aの上方には、図示せぬフレームに固定支持され、
ワイヤ9に所定のテンションをかけて常にワイヤ9をボ
ンディングアーム1のキャピラリ7の先端まで真直ぐな
状態になるように保持し図示せぬ開閉機構により開閉可
能なテンションクランプ11が配設され、このワイヤ9
はガイド12を介してスプール36により巻回されてい
る。
The torch rod 10 applies a predetermined high voltage to form a ball at the tip of the wire 9. Above the clamp 8a, it is fixedly supported by a frame (not shown),
A predetermined tension is applied to the wire 9, and a tension clamp 11 that always holds the wire 9 straight to the tip of the capillary 7 of the bonding arm 1 and that can be opened and closed by an opening and closing mechanism (not shown) is provided. 9
Is wound by a spool 36 via the guide 12.

【0028】図2にも示すように、揺動アーム2の後端
側には支軸15aが設けられており、アーム側カムフォ
ロア15と揺動ベース16aとが、この支軸15aの周
りに回転自在となっている。揺動ベース16aにはベア
リングガイド16bがその一端にて固定され、このベア
リングガイド16bの他端部には予圧アーム16dが支
持ピン15cを介して回転自在に取り付けられている。
また、予圧アーム16dの自由端部には支軸17aが設
けられており、該支軸17aにカムフォロア17が回転
自在に取り付けられている。
As shown in FIG. 2, a support shaft 15a is provided at the rear end of the swing arm 2, and the arm-side cam follower 15 and the swing base 16a rotate around the support shaft 15a. It is free. A bearing guide 16b is fixed to one end of the swing base 16a, and a preload arm 16d is rotatably attached to the other end of the bearing guide 16b via a support pin 15c.
A support shaft 17a is provided at a free end of the preload arm 16d, and a cam follower 17 is rotatably mounted on the support shaft 17a.

【0029】そして、この予圧アーム16dの先端と揺
動ベース16aの先端とには引張りばねである予圧ばね
16eが掛け渡されており、アーム側カムフォロア15
及びカムフォロア17は、略ハート型に形成されたカム
18の外周面であるカム面に圧接されている。なお、ア
ーム側カムフォロア15及びカムフォロア17のカム面
18に対する2つの接点は、カム18の回転中心を挟ん
で位置している。
A preload spring 16e, which is a tension spring, is bridged between the tip of the preload arm 16d and the tip of the swing base 16a.
The cam follower 17 is pressed against a cam surface which is an outer peripheral surface of a cam 18 formed in a substantially heart shape. The two contact points of the arm side cam follower 15 and the cam follower 17 with respect to the cam surface 18 are located with the rotation center of the cam 18 interposed therebetween.

【0030】この揺動ベース16aと、ベアリングガイ
ド16bと、予圧アーム16dとによりフレーム構造が
形成されており、これを揺動フレーム16と総称する。
A frame structure is formed by the swing base 16a, the bearing guide 16b and the preload arm 16d.

【0031】揺動フレーム16の構成部材としてのベア
リングガイド16bは、カム18が嵌着されたカム軸1
9に取り付けられたラジアルベアリング20の外輪に接
している。なお、カム18は駆動手段としてのモータ2
1よりカム軸19に付与されるトルクによって正逆回転
し、ボンディンクツールとしてのキャピラリ7をボンデ
ィング点に対して移動制御させるように構成されてい
る。
The bearing guide 16b as a component of the swing frame 16 is a camshaft 1 on which a cam 18 is fitted.
9 is in contact with the outer ring of the radial bearing 20 attached to the radial bearing 20. Note that the cam 18 is connected to the motor 2 as a driving unit.
The rotation of the capillary 7 as a bonding tool is controlled with respect to a bonding point by rotating forward and backward by a torque applied to the camshaft 19 from the camshaft 19.

【0032】また、キャピラリ7の高さ位置及び移動量
並びに速度の検出は、図3に示す支持シャフト3に連結
された位置検出手段により行われる。
The detection of the height position, the amount of movement and the speed of the capillary 7 is performed by position detecting means connected to the support shaft 3 shown in FIG.

【0033】図3に示す位置検出手段としての角度セン
サー38は、XYテーブル33上に取付け固定されたヘ
ッドベース39(図3では一部を図示しているのみであ
る。)に設けられたベアリング34を介して回転可能な
支持シャフト3の一端にねじ36を用いて取付け固定さ
れた断面略コ字状の円筒体である磁気角度センサー発磁
体35と、XYテーブル33上のヘッドベース39の枠
体側面に取付け固定され検出部の検出を行うセンサー棒
37aが前記磁気角度センサー発磁体35の円筒内に非
接触の状態で嵌挿された磁気角度センサー検出部37と
で構成される。
An angle sensor 38 as a position detecting means shown in FIG. 3 is a bearing provided on a head base 39 (only a part is shown in FIG. 3) fixed and mounted on an XY table 33. A magnetic angle sensor magnet 35, which is a cylindrical body having a substantially U-shaped cross-section, and is fixedly attached to one end of the support shaft 3 rotatable via a screw 34, and a frame of a head base 39 on an XY table 33. A sensor rod 37a attached to and fixed to the side of the body and detecting the detection unit is constituted by a magnetic angle sensor detection unit 37 inserted in a non-contact state into the cylinder of the magnetic angle sensor magnet 35.

【0034】この位置検出手段としての角度センサー3
8は、ボンディングアーム1が支持シャフト3を支点と
する揺動運動に伴って磁気角度センサー発磁体35が回
転され、磁気角度センサー検出部37に対する発磁体3
5の角度に比例するアナログ信号が出力される構成とな
っている。
The angle sensor 3 as the position detecting means
8, the magnetic angle sensor magnet 35 is rotated by the swinging movement of the bonding arm 1 with the support shaft 3 as a fulcrum.
An analog signal proportional to the angle of 5 is output.

【0035】この角度センサー38の出力電圧と角度と
の関係は、図4に示されている。この角度センサー38
により得られたアナログ信号は、図示せぬA/D変換器
によりディジタル信号に変換して最適な分解能が得られ
るように適宜設定される。
The relationship between the output voltage of the angle sensor 38 and the angle is shown in FIG. This angle sensor 38
The analog signal obtained by the above is converted into a digital signal by an A / D converter (not shown) and is appropriately set so as to obtain an optimum resolution.

【0036】図4に示すように磁気角度センサー検出部
37の出力電圧が1Vであれば、キャピラリ7が10度
の位置にあることがわかり、ボンディングアーム1のホ
ーン1bの軸方向中心を基準位置として0Vにオフセッ
ト調整することによってキャピラリ7の移動量及び速度
を求めることができる。しかも、磁気角度センサー検出
部37の基準位置で+1Vの出力が得られている場合に
は、−1Vに設定することにより容易にオフセット調整
が可能であるので、角度センサー38の取り付け具合に
影響されない。
As shown in FIG. 4, if the output voltage of the magnetic angle sensor detecting section 37 is 1 V, it can be understood that the capillary 7 is at the position of 10 degrees, and the center of the horn 1b of the bonding arm 1 in the axial direction is the reference position. By adjusting the offset to 0 V, the moving amount and speed of the capillary 7 can be obtained. In addition, when an output of +1 V is obtained at the reference position of the magnetic angle sensor detection unit 37, the offset can be easily adjusted by setting to -1 V, so that the degree of attachment of the angle sensor 38 is not affected. .

【0037】次に、本発明に係るボンディング装置を用
いてボンディングツールの高さを自動的に更新してボン
ディングを行う場合について説明する。
Next, a case will be described in which the bonding apparatus according to the present invention is used to automatically update the height of the bonding tool and perform bonding.

【0038】図5に示すように、ボンディングステージ
26上に載置されたリードフレーム27中央のアイラン
ド上にペースト41により接着された半導体チップ25
がボンディングステージ26の基準面26Rに対して傾
斜している場合には、該ボンディングステージ上方から
下降するボンディングツールの速度を高速から低速に切
り替えるよりも早く半導体チップ25に衝突する恐れが
ある。しかも、この衝突の恐れは、ボンディングを図5
に示すように側から側にボンディングする場合と、
側から側にボンディングする場合とでは状況が異な
る。
As shown in FIG. 5, the semiconductor chip 25 adhered to the island at the center of the lead frame 27 placed on the bonding stage 26 by the paste 41.
There when inclined with respect to the reference surface 26 R of the bonding stage 26 is the velocity of the bonding tool to be lowered from above the bonding stage may be impinging on the semiconductor chip 25 earlier than the switch from high speed to low speed. Moreover, the fear of this collision is that the bonding is performed as shown in FIG.
When bonding from side to side as shown in
The situation is different when bonding from side to side.

【0039】そこで、このような状況に対応するため、
各ボンディング点毎に高さ位置を検出してボンディング
するというのが従来の図11に示すボンディング方法で
あるが、これでは下降速度を減速する時点を常に十分な
高さを確保しておかなければならないため、ボンディン
グ全体の高速化を図ることが困難である。
In order to cope with such a situation,
The conventional bonding method shown in FIG. 11 detects the height position at each bonding point and performs bonding. However, in this method, it is necessary to always secure a sufficient height at the time when the descent speed is reduced. Therefore, it is difficult to speed up the entire bonding.

【0040】このような状況に鑑みて、本発明は、選択
されたボンディング位置に対してボンディングツールの
下降速度を減速する時点を任意の量だけ早くすることが
できる。
In view of such a situation, according to the present invention, the time when the descent speed of the bonding tool is reduced with respect to the selected bonding position can be made earlier by an arbitrary amount.

【0041】本発明に係るボンディングを行う工程につ
いて、図6及び図7を用いて説明する。図6は、図5の
側からボンディングを行う場合の説明図であり、図7
は、図5の側からボンディングを行う場合の説明図で
ある。
The step of performing the bonding according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is an explanatory diagram when bonding is performed from the side of FIG.
FIG. 6 is an explanatory diagram in the case of performing bonding from the side of FIG.

【0042】また、図8は図6を説明するフローチャー
トであり、図9は図7の説明を行うフローチャートであ
る。
FIG. 8 is a flowchart for explaining FIG. 6, and FIG. 9 is a flowchart for explaining FIG.

【0043】本発明は、従来例として例示した特開平2
−33943号と同様にボンディングツールが所定のプ
ロファイルにしたがって高速度から低速度に切り替えて
移動する構成となっている。
The present invention is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No.
As in the case of US Pat. No. 33943, the bonding tool moves from high speed to low speed in accordance with a predetermined profile.

【0044】図6及び図7に示すように、まずボンディ
ングツール7の高さ位置の測定基準となるZ軸原点の位
置を予め設定しておく。このZ軸原点は、操作者が図示
せぬボンディング装置に備えられているキーボードなど
の操作手段にて設定を行うことができる。このZ軸原点
の値は、ボンディングを行う半導体チップ上のパッドの
高さの変化を十分吸収できる値を設定するが、これは経
験則上の最適な値を通常設定すればよく、またこのZ軸
原点の値を前記キーボードなどの操作手段により補正し
て変更することも可能である。
As shown in FIGS. 6 and 7, first, the position of the origin of the Z-axis, which is a reference for measuring the height position of the bonding tool 7, is set in advance. The Z-axis origin can be set by an operator using operating means such as a keyboard provided in a bonding apparatus (not shown). The value of the Z-axis origin is set to a value that can sufficiently absorb a change in the height of the pad on the semiconductor chip to be bonded. It is also possible to correct and change the value of the axis origin by operating means such as the keyboard.

【0045】図6及び図8に示すように、ボンディング
ツール7は所定のプロファイルにしたがって低速度で第
1ボンディング点である半導体チップ上のパッドX1の
位置まで下降する。このとき、Z軸原点からボンディン
グ面B’gの位置までの距離hを測定して第1ボンディ
ング点X1の高さ位置の設定を行いボンディング装置内
の記憶手段としてのメモリに記憶させる(ステップS
1)。
As shown in FIGS. 6 and 8, the bonding tool 7 descends at a low speed to the position of the pad X1 on the semiconductor chip, which is the first bonding point, according to a predetermined profile. At this time, the height h of the first bonding point X1 is set by measuring the distance h from the origin of the Z axis to the position of the bonding surface B'g, and stored in the memory as storage means in the bonding apparatus (step S).
1).

【0046】ステップS2では、第2ボンディング点X
2までの距離h1を測定し、このX2とX1との差D1
を取得する。
In step S2, the second bonding point X
2 is measured, and the difference D1 between X2 and X1 is measured.
To get.

【0047】ステップS3では、ステップS2で求めた
差D1を第2ボンディング点であるX2に加算して第3
ボンディング点X3を求める。すなわちX3=X2+D
1とする。この求められた第3ボンディング点であるX
3と第2ボンディング点であるX2との差D2を取得す
る。
In step S3, the difference D1 obtained in step S2 is added to X2, which is the second bonding point, to obtain the third difference.
The bonding point X3 is obtained. That is, X3 = X2 + D
Let it be 1. The obtained third bonding point, X
The difference D2 between the third bonding point X2 and the second bonding point X2 is obtained.

【0048】これと同様の手順によりn番目のボンディ
ング点Xnまでを求める(ステップS4)。すなわちX
n=Xn-1+Dn-2の式(1)により求める。
The procedure up to the n-th bonding point Xn is obtained by the same procedure (step S4). That is, X
n = X n-1 + D n-2 It is obtained by the equation (1).

【0049】以上のように、このボンディング装置で
は、第1ボンディング点であるX1と第2ボンディング
点であるX2との差D1が求まれば、n番目のボンディ
ング点まで同様に求めることができるので、従来のよう
に各ボンディング点について高速から低速にボンディン
グツール7を切り替える高さ位置まで十分上昇させる必
要がなく、高速化を図ることができる。
As described above, in this bonding apparatus, if the difference D1 between X1 as the first bonding point and X2 as the second bonding point is obtained, it can be similarly obtained up to the nth bonding point. In addition, it is not necessary to sufficiently raise the bonding point from the high speed to the low speed at each bonding point as in the related art, at which the bonding tool 7 is switched, and the speed can be increased.

【0050】上記式(1)によりX1乃至Xnの値が設
定されるが、本発明に係るボンディング方法では、上記
式(1)により得られた値と実際のボンディング点とに
誤差がある場合には最適な値に補正しつつ更新する。す
なわち、この補正された値をメモリに書換記憶させる。
The values of X1 to Xn are set by the above equation (1). In the bonding method according to the present invention, when there is an error between the value obtained by the above equation (1) and the actual bonding point. Is updated while correcting to the optimal value. That is, the corrected value is rewritten and stored in the memory.

【0051】なお、各ボンディング点間の距離、すなわ
ちパッド間の距離は予めボンディング装置内に設定され
ている。
The distance between the bonding points, that is, the distance between the pads, is set in the bonding apparatus in advance.

【0052】次に、図5及び図7に示す側からボンデ
ィングする場合について説明する。
Next, the case of bonding from the side shown in FIGS. 5 and 7 will be described.

【0053】図9に示すように、ボンディングツール7
は所定のプロファイルにしたがって低速度で第1ボンデ
ィング点である半導体チップ上のパッドY1の上方位置
に移動する。このとき、ボンディングツール7は、ステ
ップS4で求められた高さXnにZ軸の高さを加算した
高さXn+Zの高さ位置まで移動する。そして、この高
さから第1ボンディング点Y1まで下降してZ軸原点と
ボンディング面B’gとの距離h’を取得する(ステッ
プS5)。
As shown in FIG. 9, the bonding tool 7
Moves to a position above the pad Y1 on the semiconductor chip, which is the first bonding point, at a low speed according to a predetermined profile. At this time, the bonding tool 7 moves to a height position of a height Xn + Z obtained by adding the height of the Z-axis to the height Xn obtained in step S4. Then, it descends from this height to the first bonding point Y1 to acquire the distance h 'between the Z-axis origin and the bonding surface B'g (step S5).

【0054】ステップS6では、第2ボンディング点Y
2までの距離h’1を測定し、このY2とY1との差で
あるD’1を取得する。
In step S6, the second bonding point Y
The distance h'1 to 2 is measured, and D'1, which is the difference between Y2 and Y1, is obtained.

【0055】ステップS7では、ステップS6で求めら
れた差D’1を第2ボンディング点であるY2に加算し
て第3ボンディング点Y3を求める。すなわちY3=Y
2+D’1とする。この求められた第3ボンディング点
であるY3と第2ボンディング点であるY2との差D’
2を取得する。
In step S7, the third bonding point Y3 is obtained by adding the difference D'1 obtained in step S6 to the second bonding point Y2. That is, Y3 = Y
2 + D'1. The difference D 'between the obtained third bonding point Y3 and the second bonding point Y2.
Acquire 2.

【0056】これと同様の手順によりn番目のボンディ
ング点Ynまでを求める(ステップS8)。すなわちY
n=Yn-1+D’n-2の式(2)により求める。
The procedure up to the n-th bonding point Yn is obtained by the same procedure (step S8). That is, Y
n = Y n−1 + D ′ n−2 is obtained by the equation (2).

【0057】このY1乃至Ynの値についても前述した
ように最適な値に補正しつつ更新する。この補正された
値をメモリに書換記憶させる。
The values of Y1 to Yn are also updated while being corrected to the optimum values as described above. The corrected value is rewritten and stored in the memory.

【0058】以上のようにして、図5乃至図7に示す
側及び側からのボンディングを行うことができる。こ
のような側及び側のボンディングを行うことにより
半導体チップの1辺のボンディングを行うことができ
る。従って、図10に示すようにこれを各辺すなわち、
乃至の各辺についても適宜行うことによりすべての
パッドについてボンディングを行うことができる。
As described above, the bonding from the sides shown in FIGS. 5 to 7 can be performed. By performing such side-to-side bonding, bonding of one side of the semiconductor chip can be performed. Therefore, as shown in FIG.
Bonding can be performed for all the pads by appropriately performing the above-described respective sides.

【0059】本発明では、図6及び図7に示すように半
導体チップの1辺について側及び側からボンディン
グするようにしているが、例えば、1辺について側の
み又は側のみによりすべてのパッドにボンディングを
行うようにしてもよい。この場合には、図8又は図9に
示す工程のみとなる。
In the present invention, as shown in FIGS. 6 and 7, one side of the semiconductor chip is bonded from the side and from the side. For example, only one side or only the side is bonded to all the pads on one side. May be performed. In this case, only the steps shown in FIG. 8 or FIG. 9 are performed.

【0060】また、図5乃至図9に示すボンディング
は、ボンディング装置の各種条件設定等を行うセルフテ
ィーチ時若しくは実際のボンディング工程のいずれにて
行ってもよく、またその他必要な工程において適宜用い
てもよいことは勿論である。
The bonding shown in FIGS. 5 to 9 may be performed at any time of a self-teaching for setting various conditions of a bonding apparatus or the like or an actual bonding step, and may be appropriately used in other necessary steps. Of course, it is good.

【0061】[0061]

【実施例】次に、本発明に係るボンディングツール高さ
の自動更新を行う場合について好適な実施例として図1
0を用いて説明する。
FIG. 1 shows a preferred embodiment for automatically updating the height of a bonding tool according to the present invention.
Explanation will be made using 0.

【0062】図10は、乃至にて図示しているよう
に半導体チップ25のパッド45及びリード42を仮想
的に複数の群毎に分割してボンディングするものであ
る。
FIG. 10 shows a case where the pads 45 and the leads 42 of the semiconductor chip 25 are virtually divided into a plurality of groups and bonded as shown in FIGS.

【0063】図10では、乃至の8分割にて行われ
る。この群の選定は、任意に行うことができ、またボン
ディング順序も適宜選定して組み合わせて行うことがで
きる。但し、半導体チップ25の1辺については、図6
及び/又は図7の方法による。
In FIG. 10, the processing is performed in the following eight divisions. This group can be selected arbitrarily, and the bonding order can be appropriately selected and combined. However, for one side of the semiconductor chip 25, FIG.
And / or by the method of FIG.

【0064】図10に示す8分割によるボンディング
は、ボンディングが完了しているワイヤ9にボンディン
グツール7が干渉するのを防ぐことを目的として群毎に
分けて分割しようとするものである。従って、8分割に
限定されるものではなく、最適な選定方法に従って分割
すればよい。
The bonding by eight divisions shown in FIG. 10 is intended to be divided into groups for the purpose of preventing the bonding tool 7 from interfering with the wire 9 for which bonding has been completed. Therefore, the division is not limited to eight, and the division may be performed according to an optimal selection method.

【0065】なお、本発明に係るボンディング方法は、
ワイヤボンディング装置に限るものではなく、他のボン
ディング装置においても適宜可変して使用することがで
きる。
The bonding method according to the present invention comprises:
The present invention is not limited to the wire bonding apparatus, and can be used as appropriate in other bonding apparatuses.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上の説明で明らかなとおり、本発明に
よれば、図11に記載されているように基準となる位置
から最初の高度h0まで高速で移動し、次に低速移動し
てボンディング面までキャピラリを降下させて接触した
位置h0を示すデータをメモリ(RAM)に格納すると
いう動作を第1ボンディング点であるパッド又は第2ボ
ンディング点であるリードの高さ位置を1本毎に測定す
るということがないので、高速処理を図ることができ
る。
As is apparent from the above description, according to the present invention, as shown in FIG. 11, bonding is performed at a high speed from the reference position to the first altitude h0, and then at a low speed. The operation of lowering the capillary to the surface and storing the data indicating the contact position h0 in the memory (RAM) is performed by measuring the height position of the pad as the first bonding point or the height position of the lead as the second bonding point for each line. High-speed processing can be achieved.

【0067】また、本発明によれば、半導体チップが図
5に示すようにリードフレーム等の基板に対して傾斜し
ているような場合であってもボンディングツールを自動
的に更新して最適な高さ位置に該ツールを移動させるの
で該ツールがパッドに衝突するということはなく、確実
なボンディングを行うことができる。
According to the present invention, even when the semiconductor chip is inclined with respect to a substrate such as a lead frame as shown in FIG. Since the tool is moved to the height position, the tool does not collide with the pad, and reliable bonding can be performed.

【0068】また、本発明によれば、半導体チップを図
10に示すように仮想的に複数の群毎に分割してボンデ
ィングする場合に半導体チップのパッドの高さが異なる
場合であってもボンディングツールを自動的に更新して
最適な高さ位置に該ツールを移動してボンディングを行
うことができるとともにボンディングツールを各ワイヤ
間に干渉させることなく確実にボンディングを行うこと
ができる。
Further, according to the present invention, when a semiconductor chip is virtually divided into a plurality of groups as shown in FIG. The tool can be automatically updated to move the tool to an optimum height position to perform the bonding, and the bonding can be reliably performed without causing the bonding tool to interfere between the wires.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明に係るワイヤボンディング装置
の実施例の要部を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a main part of an embodiment of a wire bonding apparatus according to the present invention.

【図2】図2は、図1におけるA−A断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG.

【図3】図3は、位置検出手段としての角度センサーの
構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of an angle sensor as a position detection unit.

【図4】図4は、図3に示す角度センサーの出力電圧と
角度との関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between an output voltage and an angle of the angle sensor illustrated in FIG. 3;

【図5】図5は、半導体チップがボンディングステージ
に対して傾斜している状態を示す部分拡大図である。
FIG. 5 is a partially enlarged view showing a state where a semiconductor chip is inclined with respect to a bonding stage.

【図6】図6は、本発明に係るボンディング方法を用い
て側からボンディングする場合の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram in the case where bonding is performed from the side using the bonding method according to the present invention.

【図7】図7は、本発明に係るボンディング方法を用い
て側からボンディングする場合の説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram of a case where bonding is performed from the side using the bonding method according to the present invention.

【図8】図8は、本発明に係るボンディング方法を用い
て側からボンディングする場合のフローチャートであ
る。
FIG. 8 is a flowchart in the case of performing bonding from the side using the bonding method according to the present invention.

【図9】図9は、本発明に係るボンディング方法を用い
て側からボンディングする場合のフローチャートであ
る。
FIG. 9 is a flowchart in the case of performing bonding from the side using the bonding method according to the present invention.

【図10】図10は、半導体チップを8つの群に分割し
てボンディングする場合の説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a case where a semiconductor chip is divided into eight groups and bonded;

【図11】図11は、従来のボンディング方法を説明す
るフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart illustrating a conventional bonding method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ボンディングアーム 2 揺動アーム 3 支持シャフト 7 キャピラリ(ボンディングツール) 8 クランプアーム 8a クランプ 9 ワイヤ 10 トーチロッド 16 揺動フレーム 18 カム 21 モータ(駆動手段) 25 半導体チップ(半導体部品)(被ボンディング
部品) 26 ボンディングステージ 27 リードフレーム 33 XYテーブル 38 角度センサー 39 ヘッドベース 41 ペースト 42 リード(被ボンディング部品) 45 パッド
Reference Signs List 1 bonding arm 2 swing arm 3 support shaft 7 capillary (bonding tool) 8 clamp arm 8a clamp 9 wire 10 torch rod 16 swing frame 18 cam 21 motor (driving means) 25 semiconductor chip (semiconductor component) (bonded component) 26 Bonding stage 27 Lead frame 33 XY table 38 Angle sensor 39 Head base 41 Paste 42 Lead (part to be bonded) 45 Pad

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リードフレームを位置決めしてボンディ
ングツールを前記リードフレーム及び半導体チップに対
して変位させてボンディングを行うボンディング方法で
あって、 前記ボンディングツールを予め設定された第1ボンディ
ング点であるパッド上方の基準となる原点高さまで移動
させ該原点高さから該ボンディングツールを下降させて
前記パッドのボンディング面高さまでの距離を求めて記
憶手段に記憶させる第1の工程と、 前記パッドに隣接するパッド上方の原点高さに前記ボン
ディングツールを移動させ該原点高さから該ボンディン
グツールを下降させて該パッドのボンディング面高さま
での距離を求めて記憶手段に記憶させる第2の工程と、 前記第1及び第2の工程により求めた原点高さからボン
ディング面までの距離との差を求める第3の工程と、 前記第3の工程により求められた差を前記第2の工程に
より求めたパッドのボンディング面高さに加算して次の
ボンディング面高さとする第4の工程とを備えたことを
特徴とするボンディング方法。
1. A bonding method for performing bonding by positioning a lead frame and displacing a bonding tool with respect to the lead frame and the semiconductor chip, wherein the bonding tool is a preset first bonding point. A first step of moving the bonding tool down from the origin height as an upper reference and obtaining a distance from the origin height to the bonding surface height of the pad and storing the distance in a storage means; A second step of moving the bonding tool to an origin height above the pad, lowering the bonding tool from the origin height, obtaining a distance from the origin to the bonding surface height of the pad, and storing the distance in storage means; Difference between the height of the origin and the distance to the bonding surface obtained in the first and second steps And a fourth step of adding the difference obtained in the third step to the bonding surface height of the pad obtained in the second step to obtain the next bonding surface height. A bonding method, comprising:
【請求項2】 前記第4の工程により求められたパッド
以後のボンディング点であるn番目のボンディング点X
nは、パッド間の距離の差をDとするとき、Xn=X
n-1+Dn-2 の式により求められることを特徴とする請
求項1に記載のボンディング方法。
2. An n-th bonding point X, which is a bonding point after the pad obtained in the fourth step.
n is Xn = X, where D is the difference in distance between pads.
2. The bonding method according to claim 1, wherein the bonding method is obtained by an equation of n-1 + Dn -2 .
【請求項3】 リードフレームを位置決めしてボンディ
ングツールを前記リードフレーム及び半導体チップに対
して変位させてボンディングを行うボンディング方法で
あって、 前記ボンディングツールを予め設定された第1ボンディ
ング点であるパッドX1上方の基準となる原点高さZま
で移動させ該原点高さZから該ボンディングツールを下
降させて前記パッドX1のボンディング面高さまでの距
離を求めて記憶手段に記憶させる第1の工程と、 前記パッドX1に隣接するパッドX2上方の原点高さZ
に前記ボンディングツールを移動させ該原点高さZから
該ボンディングツールを下降させて該パッドX2のボン
ディング面高さまでの距離を求めて記憶手段に記憶させ
る第2の工程と、 前記第1及び第2の工程により求めた原点高さZからボ
ンディング面までの距離との差Dを求める第3の工程
と、 前記第3の工程により求められた差Dを前記第2の工程
により求めたパッドX2のボンディング面高さに加算し
て次のボンディング面高さとする第4の工程と、 この第4の工程により求められたパッド以後のボンディ
ング点であるn番目のボンディング点Xnは、Xn=X
n-1+Dn-2 の式により求めるようにした第5の工程と
を備え、 前記半導体チップの1辺の予め設定されたX1番目のボ
ンディング点からXn番目のボンディング点まで前記第
1乃至第5の工程によりボンディングを行い、他方の端
部近傍の予め設定されたY1番目からYn番目までのボ
ンディング点までのボンディングを行う場合に、前記ボ
ンディングツールを前記Y1番目のパッド上方の基準と
なるXn+Zの高さまで移動させ、該高さから該ボンデ
ィングツールを下降させて原点高さZから前記Y1番目
のパッドのボンディング面高さまでの距離を求めて記憶
手段に記憶させる第6の工程と、 原点高さZからY2番目のパッドのボンディング面高さ
までの距離を求めて記憶手段に記憶させる第7の工程
と、 前記第6の工程及び第7の工程により求められた原点高
さZからボンディング面までの距離との差D’を求める
第8の工程とを備え、 前記第8の工程に続くボンディング点Yのn番目のボン
ディング点Ynは、Yn=Yn-1+D’n-2 の式により
求めるようにしたことを特徴とするボンディング方法。
3. A bonding method for performing bonding by positioning a lead frame and displacing a bonding tool with respect to the lead frame and the semiconductor chip, wherein the bonding tool is a preset first bonding point. A first step of moving the bonding tool down from the origin height Z to a reference origin height Z above X1 to obtain a distance from the origin height Z to the bonding surface height of the pad X1, and storing the distance in the storage means; Origin height Z above pad X2 adjacent to pad X1
Moving the bonding tool downward from the origin height Z to obtain a distance to the bonding surface height of the pad X2 and storing the distance in a storage means; and A third step of obtaining a difference D between the origin height Z and the distance to the bonding surface obtained in the step of; and a pad X2 of the difference D obtained in the third step obtained by the second step. A fourth step in which the next bonding surface height is added to the bonding surface height, and an n-th bonding point Xn that is a bonding point after the pad obtained in the fourth step is Xn = X
a fifth step determined by an equation of ( n-1 + Dn -2 ), wherein the first to the (nth) bonding points from a preset X1st bonding point to an Xnth bonding point on one side of the semiconductor chip are provided. In the case where bonding is performed in step 5 and bonding is performed from a predetermined Y1 to Yn-th bonding point near the other end, the bonding tool is moved to Xn + Z, which is a reference above the Y1 pad. A sixth step of lowering the bonding tool from the height, obtaining a distance from the origin height Z to the bonding surface height of the Y1st pad, and storing the distance in the storage means; A seventh step of obtaining a distance from Z to the height of the bonding surface of the Y2nd pad and storing the distance in the storage means; and a sixth step and a seventh step. And an eighth step of calculating a difference D ′ between the height of the origin Z and the distance to the bonding surface obtained by the above-mentioned step. The n-th bonding point Yn of the bonding point Y following the eighth step is represented by Yn = A bonding method characterized in that it is determined by the formula of Y n-1 + D ′ n-2 .
【請求項4】 前記ボンディングは、前記半導体チップ
を複数の群毎に分割してボンディングする場合に用いる
ようにしたことを特徴とする請求項1乃至請求項3の少
なくともいづれか1に記載のボンディング方法。
4. The bonding method according to claim 1, wherein the bonding is performed when the semiconductor chip is divided into a plurality of groups and bonded. .
【請求項5】 前記半導体チップを8つの群毎に分割し
てボンディングするようにしたことを特徴とする請求項
4に記載のボンディング方法。
5. The bonding method according to claim 4, wherein the bonding is performed by dividing the semiconductor chip into eight groups.
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