JP2676446B2 - Wire bonding method - Google Patents

Wire bonding method

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JP2676446B2
JP2676446B2 JP3285507A JP28550791A JP2676446B2 JP 2676446 B2 JP2676446 B2 JP 2676446B2 JP 3285507 A JP3285507 A JP 3285507A JP 28550791 A JP28550791 A JP 28550791A JP 2676446 B2 JP2676446 B2 JP 2676446B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体部品(ICチッ
プ)とリードとの間などにワイヤを掛け渡してボンディ
ング接続を行うワイヤボンディング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wire bonding method in which a wire is laid between a semiconductor component (IC chip) and a lead for bonding connection.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種のワイヤボンディング装置
を用いてICチップのパッドとリードとの間でボンディ
ング接続を行うには、ボンディングアームの先端に設け
られたボンディングツールとしてのキャピラリにてワイ
ヤを保持し、対象物となるパッド又はリードの表面に接
触させて該キャピラリを用いて先端にボールが形成され
たワイヤの一部を押しつぶして熱圧着して溶着される。
この時、同時にワイヤ先端部に超音波振動が印加される
場合もある。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to make a bonding connection between a pad of an IC chip and a lead using a wire bonding apparatus of this kind, a wire is provided by a capillary as a bonding tool provided at the tip of a bonding arm. It is held and brought into contact with the surface of a pad or a lead as an object, and a part of a wire having a ball formed at the tip is crushed by using the capillary to be welded by thermocompression bonding.
At this time, ultrasonic vibration may be simultaneously applied to the tip of the wire.

【0003】このワイヤボンディング装置は、図2に示
すように保持枠1a及びホーン1bから成るボンディン
グアーム1が揺動アーム2と共に支持シャフト3の軸中
心の周りに揺動可能となっている。このボンディングア
ーム1は、支持シャフト3に堅固に嵌着され、揺動アー
ム2は支持シャフト3に揺動自在に嵌合されている。な
お、保持枠1a内には、ホーン1bを加振するための超
音波振動子(図示せず)が組み込まれている。揺動アー
ム2及び保持枠1aには夫々、ソレノイド4a及び電磁
吸着片4bが互いに対応して固設されており、ボンディ
ングアーム1を揺動させる際には、ソレノイド4aに対
して図示せぬ電源から通電してこれと電磁吸着片4bと
の間に吸着力を生ぜしめることにより該ボンディングア
ーム1と揺動アーム2とを相互に固定状態にして結合さ
せる。揺動アーム2及び保持枠1aには、上記電磁吸着
手段の前方位置に、マグネット5a及びコイル5bが夫
々取り付けられている。これらマグネット5a及びコイ
ル5bは、ボンディング時にボンディングアーム1の先
端1c、すなわちボンディングツールとしてのキャピラ
リ36(図5に図示)を保持する部位を図2における下
向きに付勢するための吸着力を発生させる手段を構成し
ている。
In this wire bonding apparatus, as shown in FIG. 2, a bonding arm 1 composed of a holding frame 1a and a horn 1b can swing about a shaft center of a support shaft 3 together with a swing arm 2. The bonding arm 1 is firmly fitted to the support shaft 3, and the swing arm 2 is swingably fitted to the support shaft 3. Note that an ultrasonic vibrator (not shown) for exciting the horn 1b is incorporated in the holding frame 1a. A solenoid 4a and an electromagnetic attraction piece 4b are fixed to the swing arm 2 and the holding frame 1a, respectively, in correspondence with each other. When swinging the bonding arm 1, a power source (not shown) for the solenoid 4a is provided. Then, the bonding arm 1 and the swing arm 2 are fixed to each other and coupled by generating an attractive force between this and the electromagnetic attraction piece 4b. A magnet 5a and a coil 5b are attached to the swing arm 2 and the holding frame 1a in front of the electromagnetic attraction means. The magnet 5a and the coil 5b generate an attraction force for urging the tip 1c of the bonding arm 1 at the time of bonding, that is, the portion holding the capillary 36 (shown in FIG. 5) as a bonding tool downward in FIG. Constitutes a means.

【0004】図3にも示すように、揺動アーム2の後端
側には支軸6aが設けられており、アーム側カムフォロ
ア6と揺動ベース9aとがこの支軸6aの周りに回転自
在となっている。揺動ベース9aにはベアリングガイド
9bがその一端にて固着され、このベアリングガイド9
bの他端部には予圧アーム9aが支持ピン9eを介して
回転自在に取り付けられている。予圧アーム9dの自由
端部には支軸7aが設けられており、該支軸7aにカム
フォロア7が回転自在に取り付けられている。そして、
この予圧アーム9aの先端と揺動ベース9aの先端とに
は引張ばねである予圧ばね9fが掛け渡されており、ア
ーム側カムフォロア6及びカムフォロア7は、略ハート
形に形成されたカム8の外周面であるカム面に圧接され
ている。なお、アーム側カムフォロア6及びカムフォロ
ア7のカム8に対する2つの接点は、カム8の回転中心
を挟んで位置している。
As shown in FIG. 3, a support shaft 6a is provided at the rear end side of the swing arm 2, and the arm side cam follower 6 and the swing base 9a are rotatable around the support shaft 6a. Has become. A bearing guide 9b is fixed at one end to the swing base 9a.
A preload arm 9a is rotatably attached to the other end of b via a support pin 9e. A support shaft 7a is provided at a free end of the preload arm 9d, and a cam follower 7 is rotatably attached to the support shaft 7a. And
A preload spring 9f, which is a tension spring, is bridged between the tip of the preload arm 9a and the tip of the swing base 9a, and the arm side cam followers 6 and the cam followers 7 have an outer periphery of a cam 8 formed in a substantially heart shape. It is pressed against the cam surface which is the surface. The two contact points of the arm side cam follower 6 and the cam follower 7 with respect to the cam 8 are located with the center of rotation of the cam 8 in between.

【0005】この揺動ベース9aと、ベアリングガイド
9bと、予圧アーム9dとによりフレーム構造が形成さ
れており、これを揺動フレーム9と総称する。揺動フレ
ーム9の構成部材としてのベアリングガイド9bは、カ
ム8が嵌着されたカム軸12に取り付けられたラジアル
ベアリング11の外輪に接している。なお、カム8は、
モータ13よりカム軸12に付与されるトルクによって
回転する。
A frame structure is formed by the swing base 9a, the bearing guide 9b, and the preload arm 9d, which is generically referred to as a swing frame 9. A bearing guide 9b as a component of the swing frame 9 is in contact with an outer ring of a radial bearing 11 attached to a cam shaft 12 fitted with a cam 8. The cam 8 is
The motor 13 rotates by the torque applied to the cam shaft 12.

【0006】ここで、前述した支持シャフト3を含みボ
ンディングアーム1を揺動自在に支持する支持機構につ
いて図4を用いて説明する。
Here, a support mechanism including the above-mentioned support shaft 3 for swingably supporting the bonding arm 1 will be described with reference to FIG.

【0007】図4に示すように、支持機構は、支持シャ
フト3と、図示せぬXYテーブル上のフレームに設けら
れた一対のブラケット20に組み込まれたラジアルベア
リング21及びスラストベアリング22によりその両端
を保持されて揺動可能な構成となっている。また、支持
シャフト3に対して、与圧板23により回転中心軸方向
の与圧力Fが加えられ、該支持シャフト3の回転による
キャピラリのがたつきが防止されている。なお、この与
圧力Fは、図示しないばね部材等により付与される。
As shown in FIG. 4, the support mechanism has a support shaft 3 and a radial bearing 21 and a thrust bearing 22 incorporated in a pair of brackets 20 provided on a frame on an XY table (not shown). It is held and swingable. Further, the pressurizing plate 23 applies a pressurizing force F in the direction of the rotation center axis to the support shaft 3 to prevent rattling of the capillaries due to the rotation of the support shaft 3. The pressurizing force F is applied by a spring member or the like (not shown).

【0008】また、ブラケット20の一方には、図4に
示すように位置検出手段としてのロータリーエンコーダ
ー24の軸24aと支持シャフト3とが図示せぬ連結手
段により連結されている。このロータリーエンコーダ2
4からは回転角に応じたパルス列が出力されて図示せぬ
マイクロコンピュータ等よりなる制御手段により計数し
てツールの移動量が算出される。
Further, as shown in FIG. 4, a shaft 24a of a rotary encoder 24 as a position detecting means and a support shaft 3 are connected to one of the brackets 20 by a connecting means (not shown). This rotary encoder 2
A pulse train corresponding to the rotation angle is output from 4 and counted by the control means such as a microcomputer (not shown) to calculate the movement amount of the tool.

【0009】次に、上記構成よりなるワイヤボンディン
グ装置の動作についてボンディング作業の手順に沿って
説明する。
Next, the operation of the wire bonding apparatus having the above structure will be described according to the procedure of the bonding work.

【0010】図2乃至図6に示すように、ボンディング
ステージ30上に載置されたリードフレーム31のアイ
ランド37上にペースト32によりダイボンドされたI
Cチップ34の第1ボンディング点となるパッド34a
1 上方に、ワイヤ33の先端にボールが形成されたキャ
ピラリ36、支持シャフト3を含む支持機構を図示せぬ
撮像装置等からの情報に基づいてXYテーブルの移動に
より位置決めする。この位置決めに伴いカム8及びモー
タ13等から成るアーム駆動手段によりボンディングア
ーム1を揺動させてキャピラリ36を降下させて前記パ
ッド34a1 にボールを押しつぶして熱圧着ボンディン
グを行う。このボンディング接続後に第2ボンディング
点となるリード31a1にワイヤ33を接続させて一連
のボンディング動作が行われる。上記ボンディング作業
を全てのICチップ34上のパッドとリードとにワイヤ
ボンディングを行い、次のICチップ34とリード31
aとに同様の作業を繰り返す。上記工程により成形され
たICチップ34等は、図5の二点鎖線にて示すように
樹脂35により封止されて半導体部品が成形される。
As shown in FIGS. 2 to 6, I which is die-bonded by the paste 32 onto the island 37 of the lead frame 31 placed on the bonding stage 30.
Pad 34a which is the first bonding point of C chip 34
1 above, the capillary 36 the ball is formed at the tip of the wire 33 is positioned by movement of the XY table on the basis of the information from the support shaft 3 such as an imaging device (not shown) the support mechanism including. Along with this positioning, the bonding arm 1 is swung by the arm driving means including the cam 8 and the motor 13 to lower the capillary 36 and crush the ball to the pad 34a 1 to perform thermocompression bonding. After this bonding connection, the wire 33 is connected to the lead 31a 1 which is the second bonding point, and a series of bonding operations are performed. The above bonding work is performed by wire bonding to the pads and leads on all the IC chips 34, and next IC chips 34 and leads 31
The same operation is repeated for a. The IC chip 34 and the like formed by the above steps are sealed with a resin 35 as shown by the chain double-dashed line in FIG. 5 to form a semiconductor component.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図5及び図
6に示すように、ダイボンディング工程においてICチ
ップ34がペースト32によりアイランド37上に溶着
される際に、図6に示す如くICチップ34が傾いて溶
着される場合がある。そして、このICチップ34が配
設されたリードフレーム31に従来の装置を用いてワイ
ヤボンディングされる場合には、キャピラリ36が降下
して第1ボンディング点となるパッド34a1 (34a
2 )に接触すると、これを図示せぬタッチセンサが該パ
ッドに接触したことを検出する。そして、このパッド3
4a1 (34a2 )にキャピラリが接触した時の高さ位
置は位置検出手段としてのロータリーエンコーダ(図4
に図示)により検出される。その後、第1ボンディング
点にワイヤ33の先端に形成されたボールが加熱圧着に
より押しつぶされた後、この第1ボンディング点として
のパッド34a1 を基準点としてキャピラリ36は条件
設定等が行われるセルフティーチ時などの工程で予め決
められた一定のループ高さHcを実現するため第2ボン
ディング点であるリード31a1 に所定のワイヤループ
コントロールにしたがってボンディング接続される。ま
た、ICチップ34が高い位置にあるパッド34a2
ボンディング接続される場合もこの第1ボンディング点
にボンディング接続された後、これを基準点としてキャ
ピラリ33が一定のループ高さHcを実現するループコ
ントロールにしたがって次の第2ボンディング点となる
リード31a2 にボンディング接続される。
By the way, as shown in FIGS. 5 and 6, when the IC chip 34 is welded onto the island 37 by the paste 32 in the die bonding process, as shown in FIG. May be inclined and welded. When wire bonding is performed on the lead frame 31 on which the IC chip 34 is arranged by using a conventional device, the capillary 36 descends and the pad 34a 1 (34a) serving as the first bonding point is formed.
When it touches 2 ), a touch sensor (not shown) detects that it touches the pad. And this pad 3
The height position when the capillary comes into contact with 4a 1 (34a 2 ) is determined by a rotary encoder (Fig.
(Shown in FIG. 2). Then, after the ball formed at the tip of the wire 33 at the first bonding point is crushed by thermocompression bonding, the capillaries 36 are subjected to self-teaching in which conditions are set using the pad 34a 1 as the first bonding point as a reference point. In order to achieve a predetermined loop height Hc in a process such as time, the lead 31a 1 which is the second bonding point is bonded and bonded according to a predetermined wire loop control. Also, when the IC chip 34 is bonded to the pad 34a 2 located at a high position, the capillary 33 is bonded to this first bonding point and then used as a reference point for the capillary 33 to realize a constant loop height Hc. According to the control, it is bonded and connected to the lead 31a 2 which will be the next second bonding point.

【0012】近年、このようなワイヤボンディングによ
り形成される半導体部品は、薄型化される傾向にある。
その結果、ワイヤループにより形成されるリード面から
のワイヤの絶対高さHが低く、かつ各ワイヤの高さが均
一となるようにすることが求められている。
In recent years, semiconductor parts formed by such wire bonding have a tendency to be made thinner.
As a result, it is required that the absolute height H of the wire from the lead surface formed by the wire loop be low and that the height of each wire be uniform.

【0013】しかしながら、従来の装置ではICチップ
34がアイランド37上にダイボンドされる際に傾斜し
て溶着された場合であっても、装置側では常にフラット
な状態であるものとして第1ボンディング点を基準点と
して一定の高さHcとなるようなワイヤループコントロ
ールがなされるため、図6に二点鎖線で示すように薄型
化が図られた樹脂35による封止成形のための絶対高さ
Hよりもワイヤ33が突出してしまい、ボンディング不
良となるという欠点がある。また、この種の装置では、
ワイヤボンディング等の各工程が全て自動化されている
場合が多いのでワイヤ33が絶対高さHの範囲内に収ま
っていない場合にはロボットのアーム等により該フレー
ムを掴むような場合や樹脂封止の工程等の際にワイヤ3
3に接触してしまう可能性があるという欠点がある。
However, in the conventional apparatus, even if the IC chip 34 is inclined and welded when it is die-bonded onto the island 37, it is assumed that the apparatus is always in a flat state and the first bonding point is set. Since the wire loop is controlled so as to have a constant height Hc as the reference point, the absolute height H for the sealing molding by the resin 35 which is thinned as shown by the chain double-dashed line in FIG. However, there is a drawback in that the wire 33 protrudes, resulting in defective bonding. Also, in this type of device,
Since each process such as wire bonding is often automated, when the wire 33 is not within the range of the absolute height H, the frame is grasped by a robot arm or the like or resin sealing is performed. Wire 3 during the process
There is a drawback in that it may come into contact with 3.

【0014】そこで、本発明は上記従来技術の欠点に鑑
みてなされたもので、ICチップの面がフラットな面で
ない場合であっても、ワイヤループ高さを低く、かつほ
ぼ均一な高さにして薄型化を図ると共にボンディング精
度を向上させることのできるワイヤボンディング方法を
提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. Even when the surface of the IC chip is not a flat surface, the wire loop height is low and the height is substantially uniform. It is an object of the present invention to provide a wire bonding method capable of achieving thinness and improving bonding accuracy.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明に係るワイヤボン
ディング方法は、ワイヤの挿通されたボンディングツー
ルを保持するボンディングアームを支持機構により揺動
自在に支持してその揺動により前記ボンディングツール
をボンディング対象物に対して接離させてワイヤボンデ
ィングを行うワイヤボンディング方法において、前記ボ
ンディングツールの位置を検出する位置検出手段により
少なくとも第1ボンディング点と第2ボンディング点の
位置をそれぞれ検出し、該位置から予め定められた目標
位置までの距離を制御手段により演算して求め、この演
算された結果に基づいて第1ボンディング点と第2ボン
ディング点との間でほぼ均一なループ高さを形成するよ
うにしたものである。また、本発明に係るワイヤボンデ
ィング方法は、ワイヤの挿通されたボンディングツール
を保持するボンディングアームを支持機構により揺動自
在に支持してその揺動により前記ボンディングツールを
ボンディング対象物に対して接離させてワイヤボンディ
ングを行うワイヤボンディング方法において、ワイヤル
ープの絶対高さHを設定して記憶手段に記憶させる工程
と、前記ボンディングツールの位置を検出する位置検出
手段により予め基準位置となる基準点を求めて記憶手段
に記憶させる工程と、前記基準点から半導体部品の予め
定められた目標位置までの距離を求めて前記絶対高さH
との距離Haを制御手段により算出して記憶手段に記憶
させる工程と、前記目標位置と第1ボンディング点であ
る前記半導体部品のパッドとの差を求める工程とを有
し、前記距離Haと前記半導体部品のパッドとの差に基
づいて第1ボンディング点と第2ボンディング点との間
で接続するワイヤのループ高さがほぼ均一なループ高さ
を形成するようにしたものである。
In a wire bonding method according to the present invention, a bonding arm holding a bonding tool having a wire inserted therein is swingably supported by a supporting mechanism, and the bonding tool is bonded by the swing. In a wire bonding method for contacting and separating an object with each other to perform wire bonding, at least positions of a first bonding point and a second bonding point are respectively detected by a position detecting means for detecting a position of the bonding tool, and from the position, A distance to a predetermined target position is calculated by the control means, and a substantially uniform loop height is formed between the first bonding point and the second bonding point based on the calculated result. It was done. Further, in the wire bonding method according to the present invention, a bonding mechanism holding a bonding tool having a wire inserted therein is swingably supported by a supporting mechanism, and the swinging moves the bonding tool to and from a bonding target. In the wire bonding method in which the wire bonding is performed, a step of setting the absolute height H of the wire loop and storing it in the storage means, and a reference point which is a reference position in advance by the position detection means for detecting the position of the bonding tool are set. The step of obtaining and storing in the storage means and the absolute height H by obtaining the distance from the reference point to a predetermined target position of the semiconductor component
The distance Ha between the target position and the pad of the semiconductor component, which is the first bonding point, is calculated by the control means and stored in the storage means. The loop height of the wire connecting between the first bonding point and the second bonding point forms a substantially uniform loop height based on the difference from the pad of the semiconductor component.

【0016】[0016]

【実施例】次に、本発明に係るワイヤボンディング装置
の実施例について図面を参照しつつ説明する。なお、こ
のワイヤボンディング装置は、以下に説明する部分以外
は図2乃至図6に示す従来の装置とほぼ同様に構成され
ているので、装置全体としての説明は省略する。
Next, an embodiment of a wire bonding apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. The wire bonding apparatus is configured in substantially the same manner as the conventional apparatus shown in FIGS. 2 to 6 except for the portions described below, and therefore the description of the entire apparatus is omitted.

【0017】図1はダイボンディング工程においてIC
チップ34がペースト32によりアイランド37上に溶
着される際に、ICチップ34が傾いて溶着された場合
であっても樹脂封止35の高さ内にワイヤループがなさ
れる状態が示されている。
FIG. 1 shows an IC in the die bonding process.
When the chip 34 is welded onto the island 37 by the paste 32, a wire loop is formed within the height of the resin encapsulation 35 even when the IC chip 34 is inclined and welded. .

【0018】まず、条件設定等を行うセルフティーチ時
において、図示せぬ制御回路内の記憶手段にワイヤルー
プがなされるリードからの絶対高さH,ICチップ34
の各パッドの座標位置等を設定して記憶させる。この絶
対高さHは、樹脂35の予め定められた高さ等のデータ
を基に図示せぬ外部の操作手段により任意に設定され
る。そして、XYテーブル(図示せず)の移動によりキ
ャピラリ36を移動させて図1に示すリードフレーム3
1のリード31a1 及び31a2 にツールタッチ(接
触)させてその高さを図4の位置検出手段としてのロー
タリーエンコーダ24の出力により位置を検出して記憶
手段に記憶させる。これを基準点とする。
First, at the time of self-teaching for setting conditions and the like, an absolute height H from a lead in which a wire loop is formed in a storage means in a control circuit (not shown), and an IC chip 34.
The coordinate position of each pad is set and stored. The absolute height H is arbitrarily set by an external operating means (not shown) based on data such as a predetermined height of the resin 35. Then, the capillary 36 is moved by the movement of the XY table (not shown), and the lead frame 3 shown in FIG.
The leads 31a 1 and 31a 2 of No. 1 are touched (touched) by a tool, and the height is detected by the output of the rotary encoder 24 as the position detection means in FIG. 4 and stored in the storage means. This is the reference point.

【0019】次に、XYテーブルを移動させて図1に示
すICチップ34の中心Cにキャピラリ36を移動さ
せ、該中心Cにツールタッチさせてその位置(高さ)を
記憶させる。この位置は、前記基準点からの高さであ
り、この高さは図4のロータリーエンコーダ24からの
出力により求められる。この求められた基準点Cと絶対
高さHの値からその差Haを算出して記憶手段に記憶さ
せる。
Next, the XY table is moved to move the capillary 36 to the center C of the IC chip 34 shown in FIG. 1 and a tool is touched on the center C to store the position (height) thereof. This position is the height from the reference point, and this height is obtained from the output from the rotary encoder 24 in FIG. The difference Ha is calculated from the obtained values of the reference point C and the absolute height H and stored in the storage means.

【0020】次に、この基準点Cからキャピラリ36を
上昇,移動させて第1ボンディング点となるパッド34
1 の位置まで移動、降下させて該パッドに接触させそ
の高さ位置を求める。この求められた値から前記基準点
Cとの差であるΔH1 を求める。これと同様に高さ位置
の異なる他のパッド34a2 と前記基準点Cとの差であ
るΔH2 も求めて記憶手段に記憶させる。このような方
法により全てのパッドと基準点Cとの差を求めて記憶手
段に記憶させる。
Next, the capillary 36 is moved up and moved from the reference point C to be the pad 34 which becomes the first bonding point.
The height position of the pad is determined by moving and lowering it to the position a 1 . From the obtained value, ΔH 1 which is the difference from the reference point C is obtained. Similarly, ΔH 2 which is the difference between the other pad 34a 2 having a different height position and the reference point C is also obtained and stored in the storage means. By such a method, the difference between all the pads and the reference point C is obtained and stored in the storage means.

【0021】上記条件設定がなされた後のワイヤボンデ
ィング工程について説明すると、まず第1に、図1に示
す第1ボンディング点となるパッド34a1 にワイヤボ
ンディングした後、図示せぬ制御手段は記憶手段からの
情報に基づいて演算してワイヤループ高さをHa+ΔH
1 となるようにループコントロールを行う。このワイヤ
ループ高さがHa+ΔH1 となる位置でワイヤが折り曲
げられるように制御するワイヤループコントロールの方
法については、例えば特開昭53−26668号や特公
平1−26531号などにすでに提案されている方法を
採用することができるのでここでは詳述しない。そし
て、このようなループコントロールにより前記パッド3
4a1 に対応する第2ボンディング点としてのリード3
1a1 ヘのボンディング接続がなされる。
The wire bonding process after the above conditions are set will be described. First, after wire bonding to the pad 34a 1 which is the first bonding point shown in FIG. 1, the control means (not shown) is a storage means. The wire loop height is calculated as Ha + ΔH based on the information from
Perform loop control so that it becomes 1 . A wire loop control method for controlling the wire to be bent at a position where the wire loop height is Ha + ΔH 1 has already been proposed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-26668 and Japanese Patent Publication No. 1-26531. The method can be adopted and will not be described in detail here. The pad 3 is controlled by such loop control.
Lead 3 as the second bonding point corresponding to 4a 1
Bonding connection to 1a 1 is made.

【0022】一方、中心点Cよりも高い位置にあるパッ
ド34a2 に対しては、ワイヤループ高さがHa−ΔH
2 となるようにループコントロールがなされる。このよ
うな方法により各パッドと各リードに接続されるワイヤ
のループ高さがほぼ均一に保たれることになる。
On the other hand, for the pad 34a 2 located higher than the center point C, the wire loop height is Ha-ΔH.
Loop control is performed so that it becomes 2 . By such a method, the loop height of the wire connected to each pad and each lead can be kept substantially uniform.

【0023】なお、本実施例ではリードフレーム31に
配設されたアイランド37が同じ高さのもので説明した
が、リードフレーム31とアイランド37とが異なる高
さのものであってもリード上面を基準点とし、かつIC
チップ34の中心高さを求めるようにしているので容易
にループ高さを求めることができる。また、本実施例で
はICチップ34の中心Cの高さを求めているが、例え
ば第1ボンディング点となるパッド34a1 の高さを求
め、これを基準として目標となるリードからの絶対高さ
Hとなるようにループコントロールするようにしてもよ
い。こうすることによって、ICチップ34の中心Cの
高さを求めなくてもループ高さを均一にすることが可能
となる。また、ボンディングアームを駆動する手段とし
てカム方式のものを用いているが、リニア駆動方式のも
のを用いることもできる。
Although the islands 37 arranged on the lead frame 31 have the same height in this embodiment, the upper surfaces of the leads may be provided even if the lead frame 31 and the island 37 have different heights. IC as a reference point
Since the center height of the tip 34 is obtained, the loop height can be easily obtained. Further, in this embodiment, the height of the center C of the IC chip 34 is obtained, but for example, the height of the pad 34a 1 which is the first bonding point is obtained, and the absolute height from the target lead which is the target is obtained based on this. You may make it loop-control so that it may become H. By doing so, it becomes possible to make the loop height uniform without obtaining the height of the center C of the IC chip 34. Further, although the cam type is used as the means for driving the bonding arm, a linear drive type can also be used.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば半
導体部品としてのICチップの面がフラットでない場合
であっても、ワイヤループ高さを低く、かつほぼ均一な
高さにして薄型化を図ることができると共にボンディン
グ精度を向上させることができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, even if the surface of an IC chip as a semiconductor component is not flat, the height of the wire loop is made low and the height is made substantially uniform to reduce the thickness. And the bonding accuracy can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明に係るワイヤボンディング装置
によりICチップが傾いて溶着された場合であってもワ
イヤループが均一な高さで行われる状態を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a state in which a wire loop is performed at a uniform height even when an IC chip is tilted and welded by a wire bonding apparatus according to the present invention.

【図2】図2は、ワイヤボンディング装置の要部の一部
断面を含む側面図である。
FIG. 2 is a side view including a partial cross section of a main part of the wire bonding apparatus.

【図3】図3は、図2に関するA−A断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of FIG. 2;

【図4】図4は、図2に関するB−B断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

【図5】図5は、図2乃至図4に示すワイヤボンディン
グ装置を用いてワイヤボンディングされた状態を示す説
明図である。
FIG. 5 is an explanatory view showing a state of wire bonding using the wire bonding apparatus shown in FIGS. 2 to 4.

【図6】図6は、従来の方法によりワイヤボンディング
された状態を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a state in which wire bonding is performed by a conventional method.

【符合の説明】[Description of sign]

1 ボンディングアーム 2 揺動アーム 3 支持シャフト 6 アーム側カムフォロア 7 カムフォロア 8 カム 9 揺動フレーム 13 モータ 33 ワイヤ 34 ICチップ 35 樹脂 37 アイランド 1 bonding arm 2 swing arm 3 support shaft 6 arm side cam follower 7 cam follower 8 cam 9 swing frame 13 motor 33 wire 34 IC chip 35 resin 37 island

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ワイヤの挿通されたボンディングツール
を保持するボンディングアームを支持機構により揺動自
在に支持してその揺動により前記ボンディングツールを
ボンディング対象物に対して接離させてワイヤボンディ
ングを行うワイヤボンディング方法において、 前記ボンディングツールの位置を検出する位置検出手段
により少なくとも第1ボンディング点と第2ボンディン
グ点の位置をそれぞれ検出し、該位置から予め定められ
た目標位置までの距離を制御手段により演算して求め、
この演算された結果に基づいて第1ボンディング点と第
2ボンディング点との間でほぼ均一なループ高さを形成
するようにしたことを特徴とするワイヤボンディング方
法。
1. A wire bonding is carried out by swingably supporting a bonding arm holding a bonding tool having a wire inserted therethrough by a supporting mechanism and bringing the bonding tool into and out of contact with an object to be bonded. In the wire bonding method, the position detecting means for detecting the position of the bonding tool detects at least the positions of the first bonding point and the second bonding point respectively, and the control means measures the distance from the position to a predetermined target position. Calculate and obtain,
A wire bonding method characterized in that a substantially uniform loop height is formed between the first bonding point and the second bonding point based on the calculated result.
【請求項2】 ワイヤの挿通されたボンディングツール
を保持するボンディングアームを支持機構により揺動自
在に支持してその揺動により前記ボンディングツールを
ボンディング対象物に対して接離させてワイヤボンディ
ングを行うワイヤボンディング方法において、 ワイヤループの絶対高さHを設定して記憶手段に記憶さ
せる工程と、 前記ボンディングツールの位置を検出する位置検出手段
により予め基準位置となる基準点を求めて記憶手段に記
憶させる工程と、 前記基準点から半導体部品の予め定められた目標位置ま
での距離を求めて前記絶対高さHとの距離Haを制御手
段により算出して記憶手段に記憶させる工程と、 前記目標位置と第1ボンディング点である前記半導体部
品のパッドとの差を求める工程とを有し、 前記距離Haと前記半導体部品のパッドとの差に基づい
て第1ボンディング点と第2ボンディング点との間で接
続するワイヤのループ高さがほぼ均一なループ高さを形
成するようにしたことを特徴とするワイヤボンディング
方法。
2. A bonding arm for holding a bonding tool having a wire inserted therein is swingably supported by a supporting mechanism, and the swing causes the bonding tool to come into contact with and separate from an object to be bonded to perform wire bonding. In the wire bonding method, a step of setting an absolute height H of the wire loop and storing it in a storage means, and a reference point serving as a reference position is previously obtained by the position detection means for detecting the position of the bonding tool and stored in the storage means. A step of obtaining a distance from the reference point to a predetermined target position of the semiconductor component, calculating a distance Ha from the absolute height H by the control means, and storing the distance Ha in the storage means; And a step of obtaining a difference between the first bonding point and the pad of the semiconductor component, the distance Ha The wire is characterized in that the loop height of the wire connecting between the first bonding point and the second bonding point forms a substantially uniform loop height based on the difference from the pad of the semiconductor component. Bonding method.
【請求項3】 前記半導体部品の目標位置は、半導体部
品の中心であることを特徴とする請求項1又は請求項2
に記載のワイヤボンディング方法。
3. The target position of the semiconductor component is the center of the semiconductor component.
The wire bonding method described in.
【請求項4】 前記半導体部品の目標位置は、半導体部
品のパッドであることを特徴とする請求項1又は請求項
2に記載のワイヤボンディング方法。
4. The wire bonding method according to claim 1, wherein the target position of the semiconductor component is a pad of the semiconductor component.
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