JPH10197817A - 画像記録装置 - Google Patents
画像記録装置Info
- Publication number
- JPH10197817A JPH10197817A JP35831596A JP35831596A JPH10197817A JP H10197817 A JPH10197817 A JP H10197817A JP 35831596 A JP35831596 A JP 35831596A JP 35831596 A JP35831596 A JP 35831596A JP H10197817 A JPH10197817 A JP H10197817A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- laser
- optical element
- unit
- incident
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のレーザ出力ユニットの中の１つを選択
して使用する画像記録装置に於いて、各レーザユニット
からのレーザビームの露光性能を均一化する。 【解決手段】 所定方向からシリンドリカルレンズ30へ
入射するレーザビームLB1/LB2 を感光体表面に結像させ
て走査する走査光学系と、第１のレーザビームLB1 を出
力する第１レーザユニット10と、第２のレーザビームLB
2 を出力する第２レーザユニット20と、シリンドリカル
レンズ30の前方位置に平面鏡51を進入／退避させること
により第１のレーザビームLB1 と第２のレーザビームLB
2 の一方／他方を前記所定方向からシリンドリカルレン
ズ30へ入射させる切換手段と、を有する画像記録装置。
して使用する画像記録装置に於いて、各レーザユニット
からのレーザビームの露光性能を均一化する。 【解決手段】 所定方向からシリンドリカルレンズ30へ
入射するレーザビームLB1/LB2 を感光体表面に結像させ
て走査する走査光学系と、第１のレーザビームLB1 を出
力する第１レーザユニット10と、第２のレーザビームLB
2 を出力する第２レーザユニット20と、シリンドリカル
レンズ30の前方位置に平面鏡51を進入／退避させること
により第１のレーザビームLB1 と第２のレーザビームLB
2 の一方／他方を前記所定方向からシリンドリカルレン
ズ30へ入射させる切換手段と、を有する画像記録装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームで記
録材（感光体等）を走査することにより画像記録を行う
画像記録装置に関する。特に、複数のレーザユニットか
ら出力される複数のレーザビームを切り換えて用いる画
像記録装置に関する。
録材（感光体等）を走査することにより画像記録を行う
画像記録装置に関する。特に、複数のレーザユニットか
ら出力される複数のレーザビームを切り換えて用いる画
像記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ走査方式の画像記録装置に於い
て、３００[dpi] 、６００[dpi] 等の複数の走査線密度
の画像を各々記録可能にするために、複数のレーザ光出
力手段を備えておき、指定された走査線密度に応じて、
何れかのレーザ光出力手段を選択して用いる方式が行わ
れている。
て、３００[dpi] 、６００[dpi] 等の複数の走査線密度
の画像を各々記録可能にするために、複数のレーザ光出
力手段を備えておき、指定された走査線密度に応じて、
何れかのレーザ光出力手段を選択して用いる方式が行わ
れている。
【０００３】特公平７−１０６６４３号公報には、各々
異なるスポット径のレーザビームを出力する第１と第２
のレーザユニットを備え、走査線密度の高い画像を形成
するときには第１のレーザユニットからスポット径の小
さなレーザ光を出力し、走査線密度の低い画像を形成す
るときには第２のレーザユニットからスポット径の大き
なレーザ光を出力する画像記録装置が開示されている。
第１と第２のレーザユニットは並べて設けられており、
各レーザユニットから出力されるレーザビームは、ポリ
ゴンミラーの略同じ位置に入射される。但し、入射角度
（方向）は、両レーザユニットが並べて設けられている
ため、若干異なっている。
異なるスポット径のレーザビームを出力する第１と第２
のレーザユニットを備え、走査線密度の高い画像を形成
するときには第１のレーザユニットからスポット径の小
さなレーザ光を出力し、走査線密度の低い画像を形成す
るときには第２のレーザユニットからスポット径の大き
なレーザ光を出力する画像記録装置が開示されている。
第１と第２のレーザユニットは並べて設けられており、
各レーザユニットから出力されるレーザビームは、ポリ
ゴンミラーの略同じ位置に入射される。但し、入射角度
（方向）は、両レーザユニットが並べて設けられている
ため、若干異なっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記特公平７−１０６
６４３号公報の装置では、第１と第２のレーザユニット
から出力されるレーザビームは、ポリゴンミラーに対し
て若干異なる方向から入射して偏向された後、共通の結
像光学系によって感光体表面に結像される。このため、
各レーザビームの露光性能は若干異なり、例えば、第１
のレーザユニットに適合するように結像光学系が調整さ
れている場合、第２のレーザユニットから出力されるレ
ーザビームの露光性能は若干劣り、その結果、画質も若
干劣ることとなる。また、前記特公平７−１０６６４３
号公報の装置では、使用されていないレーザユニットか
らの漏れ光により、画質に悪影響が及ぶ恐れもある。
６４３号公報の装置では、第１と第２のレーザユニット
から出力されるレーザビームは、ポリゴンミラーに対し
て若干異なる方向から入射して偏向された後、共通の結
像光学系によって感光体表面に結像される。このため、
各レーザビームの露光性能は若干異なり、例えば、第１
のレーザユニットに適合するように結像光学系が調整さ
れている場合、第２のレーザユニットから出力されるレ
ーザビームの露光性能は若干劣り、その結果、画質も若
干劣ることとなる。また、前記特公平７−１０６６４３
号公報の装置では、使用されていないレーザユニットか
らの漏れ光により、画質に悪影響が及ぶ恐れもある。
【０００５】本発明は、複数のレーザ出力ユニットを備
え、指定された走査線密度に応じて何れかのレーザ出力
ユニットを選択して用いる画像記録装置に於いて、各レ
ーザ出力ユニットから出力されるレーザビームの露光性
能を均一化することを目的とする。また、使用されてい
ないレーザユニットからの漏れ光による悪影響を除去す
ることを目的とする。
え、指定された走査線密度に応じて何れかのレーザ出力
ユニットを選択して用いる画像記録装置に於いて、各レ
ーザ出力ユニットから出力されるレーザビームの露光性
能を均一化することを目的とする。また、使用されてい
ないレーザユニットからの漏れ光による悪影響を除去す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、画像データで
変調されたレーザビームで記録材表面を走査して該表面
に画像を記録する画像記録装置に於いて、所定方向から
入射側光学素子へ入射するレーザビームを前記記録材表
面に結像させて該表面を走査する走査光学手段と、第１
のレーザビームを出力する第１レーザユニットと、第２
のレーザビームを出力する第２レーザユニットと、前記
入射側光学素子の前方位置に切換用光学素子を進入／退
避させることにより前記第１のレーザビームと前記第２
のレーザビームの一方／他方を前記所定方向から前記入
射側光学素子へ入射させる切換手段と、を有する画像記
録装置である。
変調されたレーザビームで記録材表面を走査して該表面
に画像を記録する画像記録装置に於いて、所定方向から
入射側光学素子へ入射するレーザビームを前記記録材表
面に結像させて該表面を走査する走査光学手段と、第１
のレーザビームを出力する第１レーザユニットと、第２
のレーザビームを出力する第２レーザユニットと、前記
入射側光学素子の前方位置に切換用光学素子を進入／退
避させることにより前記第１のレーザビームと前記第２
のレーザビームの一方／他方を前記所定方向から前記入
射側光学素子へ入射させる切換手段と、を有する画像記
録装置である。
【０００７】また、本発明は、上記構成に於いて、切換
手段が、前記切換用光学素子である平面鏡と、該平面鏡
を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレーザビー
ムを入射されるレーザユニットと前記入射側光学素子と
の間の光路に進入／退避させる進退機構を備え、該進退
機構が、前記走査光学手段の光偏向器によって走査方向
へ順に偏向されるレーザビームが成す平面と平行に設け
られた回動軸の周囲に前記平面鏡を回動させる機構であ
る、画像記録装置である。
手段が、前記切換用光学素子である平面鏡と、該平面鏡
を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレーザビー
ムを入射されるレーザユニットと前記入射側光学素子と
の間の光路に進入／退避させる進退機構を備え、該進退
機構が、前記走査光学手段の光偏向器によって走査方向
へ順に偏向されるレーザビームが成す平面と平行に設け
られた回動軸の周囲に前記平面鏡を回動させる機構であ
る、画像記録装置である。
【０００８】また、本発明は、前記構成に於いて、切換
手段が、前記切換用光学素子である平面鏡と、該平面鏡
を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレーザビー
ムを入射されるレーザユニットと前記入射側光学素子と
の間の光路に進入／退避させる進退機構を備え、該進退
機構が、前記走査光学手段の光偏向器によって走査方向
へ順に偏向されるレーザビームが成す平面に対して垂直
に設けられた回動軸の周囲に前記平面鏡を回動させる機
構である、画像記録装置である。
手段が、前記切換用光学素子である平面鏡と、該平面鏡
を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレーザビー
ムを入射されるレーザユニットと前記入射側光学素子と
の間の光路に進入／退避させる進退機構を備え、該進退
機構が、前記走査光学手段の光偏向器によって走査方向
へ順に偏向されるレーザビームが成す平面に対して垂直
に設けられた回動軸の周囲に前記平面鏡を回動させる機
構である、画像記録装置である。
【０００９】また、本発明は、前記構成に於いて、切換
手段が、前記切換用光学素子である平面鏡と、該平面鏡
を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレーザビー
ムを入射されるレーザユニットと前記入射側光学素子と
の間の光路に進入／退避させる進退機構を備え、該進退
機構が、前記走査光学手段の光偏向器によって走査方向
へ順に偏向されるレーザビームが成す平面と平行な方向
に移動を規制するガイドの案内で前記平面鏡を移動させ
る機構である、画像記録装置である。
手段が、前記切換用光学素子である平面鏡と、該平面鏡
を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレーザビー
ムを入射されるレーザユニットと前記入射側光学素子と
の間の光路に進入／退避させる進退機構を備え、該進退
機構が、前記走査光学手段の光偏向器によって走査方向
へ順に偏向されるレーザビームが成す平面と平行な方向
に移動を規制するガイドの案内で前記平面鏡を移動させ
る機構である、画像記録装置である。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を具
体的に説明する。
体的に説明する。
【００１１】（１）レーザ露光部の概要（図１）． レーザ露光部は、選択されたレーザユニット（第１レー
ザユニット10又は第２レーザユニット20）から出力され
るレーザビームLB1/LB2 を、シリンドリカルレンズ30で
副走査方向にのみ絞り、ポリゴンミラー40で反射して走
査方向へ偏向させ、結像レンズ41とシリンドリカルレン
ズ43を通した後に折り返しミラー47で反射することによ
り感光体ドラム90の表面に結像させて、該感光体ドラム
90の表面を走査する。これにより、感光体ドラム90の表
面には、レーザビームLB1/LB2 を変調した画像データに
対応する画像（電荷潜像）が記録される。シリンドリカ
ルレンズ30、ポリゴンミラー40、結像レンズ41、シリン
ドリカルレンズ43、及び折り返しミラー47により、請求
項の走査光学手段が構成される。なお、感光体ドラム90
の表面に記録された電荷潜像をトナーで現像して用紙上
に転写する電子写真方式は公知であり、本発明の要旨で
もないため、説明は省略する。
ザユニット10又は第２レーザユニット20）から出力され
るレーザビームLB1/LB2 を、シリンドリカルレンズ30で
副走査方向にのみ絞り、ポリゴンミラー40で反射して走
査方向へ偏向させ、結像レンズ41とシリンドリカルレン
ズ43を通した後に折り返しミラー47で反射することによ
り感光体ドラム90の表面に結像させて、該感光体ドラム
90の表面を走査する。これにより、感光体ドラム90の表
面には、レーザビームLB1/LB2 を変調した画像データに
対応する画像（電荷潜像）が記録される。シリンドリカ
ルレンズ30、ポリゴンミラー40、結像レンズ41、シリン
ドリカルレンズ43、及び折り返しミラー47により、請求
項の走査光学手段が構成される。なお、感光体ドラム90
の表面に記録された電荷潜像をトナーで現像して用紙上
に転写する電子写真方式は公知であり、本発明の要旨で
もないため、説明は省略する。
【００１２】上記に於いて、第１レーザユニット10と第
２レーザユニット20は、対応する所定の走査線密度（画
像密度）に適合するピッチでレーザビームを出力するユ
ニットであり、各々レーザダイオードとコリメータレン
ズを含む。また、ポリゴンミラー40はポリゴンモータ40
m により所定の速度（指定された走査線密度に対応する
所定の速度）で回転制御されている。また、ポリゴンミ
ラー40の各反射面の始端部で反射されるレーザビームの
行き先位置（走査開始位置）には、該レーザビームをフ
ォトセンサ45s に導くための反射鏡45が設けられてお
り、該フォトセンサ45s の検出タイミングに基づいて、
各走査線の画像データの出力開始タイミングが制御され
る。この制御は公知であり、本発明の要旨でもないた
め、説明は省略する。なお、シリンドリカルレンズ30と
結像レンズ41とは、本装置では、各々複数のレンズを用
いて構成されている。
２レーザユニット20は、対応する所定の走査線密度（画
像密度）に適合するピッチでレーザビームを出力するユ
ニットであり、各々レーザダイオードとコリメータレン
ズを含む。また、ポリゴンミラー40はポリゴンモータ40
m により所定の速度（指定された走査線密度に対応する
所定の速度）で回転制御されている。また、ポリゴンミ
ラー40の各反射面の始端部で反射されるレーザビームの
行き先位置（走査開始位置）には、該レーザビームをフ
ォトセンサ45s に導くための反射鏡45が設けられてお
り、該フォトセンサ45s の検出タイミングに基づいて、
各走査線の画像データの出力開始タイミングが制御され
る。この制御は公知であり、本発明の要旨でもないた
め、説明は省略する。なお、シリンドリカルレンズ30と
結像レンズ41とは、本装置では、各々複数のレンズを用
いて構成されている。
【００１３】（２）レーザビームLB1/LB2 の切換（図
２）． 操作パネル入力やアプリケーションからの指令等により
指定された走査線密度に応じて、第１レーザユニット10
と第２レーザユニット20の何れか一方が選択され、該選
択されたレーザユニット10/20 から出力されたレーザビ
ーム（レーザビームLB1/LB2)がシリンドリカルレンズ30
に図１の如く入射するように、切換用光学素子が進入／
退避される。切換用光学素子は、（ａ）では平面鏡51、
（ｂ）では三角プリズム53、（ｃ）では三角プリズム55
である。なお、（ｄ）と図１には不動の偏光ビームスプ
リッタ50が描かれているが、この偏光ビームスプリッタ
50は、第１レーザユニット10から出力されたレーザビー
ムLB1 を透過し、且つ、第２レーザユニット20から出力
されたレーザLB2 を反射することで両レーザビームLB1,
LB2 を合成する素子であり、本発明の切換用光学素子で
はない。
２）． 操作パネル入力やアプリケーションからの指令等により
指定された走査線密度に応じて、第１レーザユニット10
と第２レーザユニット20の何れか一方が選択され、該選
択されたレーザユニット10/20 から出力されたレーザビ
ーム（レーザビームLB1/LB2)がシリンドリカルレンズ30
に図１の如く入射するように、切換用光学素子が進入／
退避される。切換用光学素子は、（ａ）では平面鏡51、
（ｂ）では三角プリズム53、（ｃ）では三角プリズム55
である。なお、（ｄ）と図１には不動の偏光ビームスプ
リッタ50が描かれているが、この偏光ビームスプリッタ
50は、第１レーザユニット10から出力されたレーザビー
ムLB1 を透過し、且つ、第２レーザユニット20から出力
されたレーザLB2 を反射することで両レーザビームLB1,
LB2 を合成する素子であり、本発明の切換用光学素子で
はない。
【００１４】（ａ）では、平面鏡51が、第１レーザユニ
ット10とシリンドリカルレンズ30の間の光路に４５°の
角度で進入されている。この場合、第１レーザユニット
10から出力されるレーザビームLB1(図中、太一点鎖線で
示す）は平面鏡51の背面側で遮光されるためシリンドリ
カルレンズ30には到達せず、第２レーザユニット20から
出力されるレーザビームLB2(図中、太破線で示す）が平
面鏡51の鏡面で反射されてシリンドリカルレンズ30に入
射する。
ット10とシリンドリカルレンズ30の間の光路に４５°の
角度で進入されている。この場合、第１レーザユニット
10から出力されるレーザビームLB1(図中、太一点鎖線で
示す）は平面鏡51の背面側で遮光されるためシリンドリ
カルレンズ30には到達せず、第２レーザユニット20から
出力されるレーザビームLB2(図中、太破線で示す）が平
面鏡51の鏡面で反射されてシリンドリカルレンズ30に入
射する。
【００１５】平面鏡51が、第１レーザユニット10とシリ
ンドリカルレンズ30の間から退避された場合は、第１レ
ーザユニット10から出力されるレーザビームLB1(図中、
細一点鎖線で示す）がそのままシリンドリカルレンズ30
に入射するが、第２レーザユニット20から出力されるレ
ーザビームLB2(図中、細破線で示す）はそのまま進行す
るためシリンドリカルレンズ30には到達しない。
ンドリカルレンズ30の間から退避された場合は、第１レ
ーザユニット10から出力されるレーザビームLB1(図中、
細一点鎖線で示す）がそのままシリンドリカルレンズ30
に入射するが、第２レーザユニット20から出力されるレ
ーザビームLB2(図中、細破線で示す）はそのまま進行す
るためシリンドリカルレンズ30には到達しない。
【００１６】（ｂ）では、直角プリズム53の斜面の内面
が、第１レーザユニット10とシリンドリカルレンズ30の
間の光路に４５°の角度で進入されている。この場合、
第１レーザユニット10から出力されるレーザビームLB1
(図中、太一点鎖線で示す）は直角プリズム53に入射し
た後、その斜面内面で反射されるためシリンドリカルレ
ンズ30には到達せず、第２レーザユニット20から出力さ
れるレーザビームLB2(図中、太破線で示す）が、直角プ
リズム53の斜面外面で反射されてシリンドリカルレンズ
30に入射する。直角プリズム53が第１レーザユニット10
とシリンドリカルレンズ30の間から退避された場合は、
（ａ）と同様である。
が、第１レーザユニット10とシリンドリカルレンズ30の
間の光路に４５°の角度で進入されている。この場合、
第１レーザユニット10から出力されるレーザビームLB1
(図中、太一点鎖線で示す）は直角プリズム53に入射し
た後、その斜面内面で反射されるためシリンドリカルレ
ンズ30には到達せず、第２レーザユニット20から出力さ
れるレーザビームLB2(図中、太破線で示す）が、直角プ
リズム53の斜面外面で反射されてシリンドリカルレンズ
30に入射する。直角プリズム53が第１レーザユニット10
とシリンドリカルレンズ30の間から退避された場合は、
（ａ）と同様である。
【００１７】（ｃ）では、直角プリズム55の斜面の外面
が、第１レーザユニット10とシリンドリカルレンズ30の
間の光路に４５°の角度で進入されている。この場合、
第１レーザユニット10から出力されるレーザビームLB1
(図中、太一点鎖線で示す）は直角プリズム55の斜面外
面で反射されるためシリンドリカルレンズ30には到達せ
ず、第２レーザユニット20から出力されるレーザビーム
LB2(図中、太破線で示す）が、直角プリズム55の斜面内
面で反射されてシリンドリカルレンズ30に入射する。直
角プリズム55が第１レーザユニット10とシリンドリカル
レンズ30の間から退避された場合は、（ａ）と同様であ
る。
が、第１レーザユニット10とシリンドリカルレンズ30の
間の光路に４５°の角度で進入されている。この場合、
第１レーザユニット10から出力されるレーザビームLB1
(図中、太一点鎖線で示す）は直角プリズム55の斜面外
面で反射されるためシリンドリカルレンズ30には到達せ
ず、第２レーザユニット20から出力されるレーザビーム
LB2(図中、太破線で示す）が、直角プリズム55の斜面内
面で反射されてシリンドリカルレンズ30に入射する。直
角プリズム55が第１レーザユニット10とシリンドリカル
レンズ30の間から退避された場合は、（ａ）と同様であ
る。
【００１８】なお、上述の（ｂ）や（ｃ）に於いて、プ
リズムの頂角やプリズムへの入射角を適宜に設定するこ
とにより、第２レーザユニット20からのレーザビームLB
2 を反射したり、第１レーザユニット10からのレーザビ
ームLB1 を全反射もしくは屈折させて、各レーザビーム
をシリンドリカルレンズに到達しないようにすることも
可能である。
リズムの頂角やプリズムへの入射角を適宜に設定するこ
とにより、第２レーザユニット20からのレーザビームLB
2 を反射したり、第１レーザユニット10からのレーザビ
ームLB1 を全反射もしくは屈折させて、各レーザビーム
をシリンドリカルレンズに到達しないようにすることも
可能である。
【００１９】（３）平面鏡51の進退機構． 前記平面鏡51は、図３〜図５のような機構によって前述
の位置に進入され、又は、退避される。
の位置に進入され、又は、退避される。
【００２０】(3-1) 回動（図３）． レーザビームの偏向面（ポリゴンミラー40により反射さ
れることで走査方向へ順に偏向されるレーザビームが成
す平面）と平行に設けられた回動軸51a の周囲に、平面
鏡51を回動させる機構である。モータ61の回動がギア51
d,51c を介して回動軸51a に伝達され、これにより、平
面鏡51が回動軸51a の周囲に回動されて起こされ、図３
（ａ）（ｂ）に示すように、第２レーザユニット20から
出力されるレーザビームLB2 を反射する位置に進入され
る。この位置は、本装置では、シリンドリカルレンズ30
を挟みポリゴンミラー40と共役関係となる位置である。
れることで走査方向へ順に偏向されるレーザビームが成
す平面）と平行に設けられた回動軸51a の周囲に、平面
鏡51を回動させる機構である。モータ61の回動がギア51
d,51c を介して回動軸51a に伝達され、これにより、平
面鏡51が回動軸51a の周囲に回動されて起こされ、図３
（ａ）（ｂ）に示すように、第２レーザユニット20から
出力されるレーザビームLB2 を反射する位置に進入され
る。この位置は、本装置では、シリンドリカルレンズ30
を挟みポリゴンミラー40と共役関係となる位置である。
【００２１】このように回動軸51a が設けられているた
め、回動軸51a のスパンをとりやすく、平面鏡51を位置
出し面として用い易い。また、平面鏡51を起こしたとき
の角度のバラツキによる誤差が軽減される。さらに、シ
リンドリカルレンズ30の手前に平面鏡51を進入させるた
め、副走査方向の誤差を抑圧し易くなる。なお、平面鏡
51を退避させる場合には、図３（ｃ）に示すように、平
面鏡51を倒す。これにより、第１レーザユニット10から
出力されるレーザビームLB1 が、平面鏡51の背後の枠51
b 内の空隙を透過されて、シリンドリカルレンズ30に到
る。
め、回動軸51a のスパンをとりやすく、平面鏡51を位置
出し面として用い易い。また、平面鏡51を起こしたとき
の角度のバラツキによる誤差が軽減される。さらに、シ
リンドリカルレンズ30の手前に平面鏡51を進入させるた
め、副走査方向の誤差を抑圧し易くなる。なお、平面鏡
51を退避させる場合には、図３（ｃ）に示すように、平
面鏡51を倒す。これにより、第１レーザユニット10から
出力されるレーザビームLB1 が、平面鏡51の背後の枠51
b 内の空隙を透過されて、シリンドリカルレンズ30に到
る。
【００２２】(3-2) 回動（図４）． レーザビームの偏向面に対して垂直に設けられた回動軸
51f の周囲に、平面鏡51を回動させる機構である。回動
軸51f の周囲に平面鏡51が回動されて起こされて、第２
レーザユニット20から出力されるレーザビームLB2 を反
射する位置に進入される。この位置は、本装置では、シ
リンドリカルレンズ30を挟みポリゴンミラー40と共役関
係となる位置である。なお、501aは平面鏡51の回動を所
定角度で止めるストッパーであり、501 はその支持部材
である。
51f の周囲に、平面鏡51を回動させる機構である。回動
軸51f の周囲に平面鏡51が回動されて起こされて、第２
レーザユニット20から出力されるレーザビームLB2 を反
射する位置に進入される。この位置は、本装置では、シ
リンドリカルレンズ30を挟みポリゴンミラー40と共役関
係となる位置である。なお、501aは平面鏡51の回動を所
定角度で止めるストッパーであり、501 はその支持部材
である。
【００２３】このように回動軸51f が設けられているた
め、平面鏡51を位置出し面として用い易く、角度誤差を
抑圧することができる。また、平面鏡51を起こしたとき
の角度のバラツキによる誤差が軽減される。さらに、シ
リンドリカルレンズ30の手前に平面鏡51を進入させるた
め、副走査方向の誤差を抑圧し易くなる。なお、平面鏡
51を退避させる場合には、同図中に二点鎖線で示すよう
に平面鏡51を倒す。これにより、第１レーザユニット10
から出力されるレーザビームLB1 が、平面鏡51の全面を
通ってシリンドリカルレンズ30に到る。
め、平面鏡51を位置出し面として用い易く、角度誤差を
抑圧することができる。また、平面鏡51を起こしたとき
の角度のバラツキによる誤差が軽減される。さらに、シ
リンドリカルレンズ30の手前に平面鏡51を進入させるた
め、副走査方向の誤差を抑圧し易くなる。なお、平面鏡
51を退避させる場合には、同図中に二点鎖線で示すよう
に平面鏡51を倒す。これにより、第１レーザユニット10
から出力されるレーザビームLB1 が、平面鏡51の全面を
通ってシリンドリカルレンズ30に到る。
【００２４】(3-3) 直線移動（図５）． レーザビームの偏向面と平行に平面鏡51を直線移動させ
る機構である。平面鏡51の支持板51j をガイドローラ50
3 により規制しつつ図中破線両矢印の如く移動させるこ
とにより、平面鏡51が第２レーザユニット20から出力さ
れるレーザビームLB2 を反射する位置に進入される。こ
の位置は、本装置では、シリンドリカルレンズ30を挟み
ポリゴンミラー40と共役関係となる位置である。なお、
502 は支持板51j を所定位置で止めるストッパーであ
る。
る機構である。平面鏡51の支持板51j をガイドローラ50
3 により規制しつつ図中破線両矢印の如く移動させるこ
とにより、平面鏡51が第２レーザユニット20から出力さ
れるレーザビームLB2 を反射する位置に進入される。こ
の位置は、本装置では、シリンドリカルレンズ30を挟み
ポリゴンミラー40と共役関係となる位置である。なお、
502 は支持板51j を所定位置で止めるストッパーであ
る。
【００２５】このように平面鏡51を直線移動させるた
め、平面鏡51を図示の位置に進入させる際に角度誤差が
生じ難い。さらに、シリンドリカルレンズ30の手前に平
面鏡51を進入させるため、副走査方向の誤差を抑圧し易
くなる。なお、平面鏡51を退避させる場合には、図示で
下方へ支持板51j を移動させる。これにより、第１レー
ザユニット10から出力されるレーザビームLB1 が、平面
鏡51の図示で上方位置を透過されて、シリンドリカルレ
ンズ30に到る。
め、平面鏡51を図示の位置に進入させる際に角度誤差が
生じ難い。さらに、シリンドリカルレンズ30の手前に平
面鏡51を進入させるため、副走査方向の誤差を抑圧し易
くなる。なお、平面鏡51を退避させる場合には、図示で
下方へ支持板51j を移動させる。これにより、第１レー
ザユニット10から出力されるレーザビームLB1 が、平面
鏡51の図示で上方位置を透過されて、シリンドリカルレ
ンズ30に到る。
【００２６】上述の各例では、各レーザユニットから各
々単一のレーザビームが出力される場合を説明している
が、少なくとも一方のレーザユニットから複数のレーザ
ビームが出力される場合であっても、本発明を当然に適
用可能である。例えば、レーザユニットがレーザアレイ
として構成されているような場合である。
々単一のレーザビームが出力される場合を説明している
が、少なくとも一方のレーザユニットから複数のレーザ
ビームが出力される場合であっても、本発明を当然に適
用可能である。例えば、レーザユニットがレーザアレイ
として構成されているような場合である。
【００２７】
【発明の効果】以上、本発明では、所定方向から入射す
るレーザビームを記録材表面に結像させて走査する走査
光学手段の前方位置に切換用光学素子を進入／退避させ
ることにより、第１と第２のレーザユニットから出力さ
れるレーザビームの一方／他方を、前記所定方向から前
記走査光学手段に入射させている。このため、各レーザ
ユニットから出力されるレーザビームの露光性能を均一
化することができる。また、使用されていないレーザユ
ニットからの漏れ光による悪影響を除去することができ
る。
るレーザビームを記録材表面に結像させて走査する走査
光学手段の前方位置に切換用光学素子を進入／退避させ
ることにより、第１と第２のレーザユニットから出力さ
れるレーザビームの一方／他方を、前記所定方向から前
記走査光学手段に入射させている。このため、各レーザ
ユニットから出力されるレーザビームの露光性能を均一
化することができる。また、使用されていないレーザユ
ニットからの漏れ光による悪影響を除去することができ
る。
【図１】レーザプリンタのレーザ露光部を示す上面図
（ａ）と側面図（ｂ）。
（ａ）と側面図（ｂ）。
【図２】本発明の切換用光学素子の第１の具体例の説明
図（ａ）、第２の具体例の説明図（ｂ）、第３の具体例
の説明図（ｃ）、及び切換用光学素子に代えて合成素子
である偏光ビームスプリッタを用いた例の説明図
（ｄ）。
図（ａ）、第２の具体例の説明図（ｂ）、第３の具体例
の説明図（ｃ）、及び切換用光学素子に代えて合成素子
である偏光ビームスプリッタを用いた例の説明図
（ｄ）。
【図３】本発明の切換用光学素子の第１の具体例である
平面鏡を進退させる切換機構の第１の構成例の上面模式
図（ａ）と、各設定位置を示す説明図（ｂ）。
平面鏡を進退させる切換機構の第１の構成例の上面模式
図（ａ）と、各設定位置を示す説明図（ｂ）。
【図４】本発明の切換用光学素子の第１の具体例である
平面鏡を進退させる切換機構の第２の構成例の上面模式
図。
平面鏡を進退させる切換機構の第２の構成例の上面模式
図。
【図５】本発明の切換用光学素子の第１の具体例である
平面鏡を進退させる切換機構の第３の構成例の上面模式
図。
平面鏡を進退させる切換機構の第３の構成例の上面模式
図。
１０ 第１レーザユニット ２０ 第２レーザユニット ５１ 平面鏡 ５３ 三角プリズム ５５ 三角プリズム ５０ 偏光ビームスプリッタ ３０ シリンドリカルレンズ ４０ ポリゴンミラー（回転多面反射鏡） ４１ 結像レンズ ４３ シリンドリカルレンズ ５１ａ 回動軸 ５１ｆ 回動軸 ５０３ ガイドローラ ９０ 感光体ドラム
Claims (4)
- 【請求項１】 画像データで変調されたレーザビームで
記録材表面を走査して該表面に画像を記録する画像記録
装置に於いて、 所定方向から入射側光学素子へ入射するレーザビームを
前記記録材表面に結像させて該表面を走査する走査光学
手段と、 第１のレーザビームを出力する第１レーザユニットと、 第２のレーザビームを出力する第２レーザユニットと、 前記入射側光学素子の前方位置に切換用光学素子を進入
／退避させることにより、前記第１のレーザビームと前
記第２のレーザビームの一方／他方を、前記所定方向か
ら前記入射側光学素子へ入射させる切換手段と、 を有する画像記録装置。 - 【請求項２】 請求項１に於いて、 前記切換手段は、前記切換用光学素子である平面鏡と、
該平面鏡を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレ
ーザビームを入射されるレーザユニットと前記入射側光
学素子との間の光路に進入／退避させる進退機構を備
え、 上記進退機構は、前記走査光学手段の光偏向器によって
走査方向へ順に偏向されるレーザビームが成す平面と平
行に設けられた回動軸の周囲に前記平面鏡を回動させる
機構である、 画像記録装置。 - 【請求項３】 請求項１に於いて、 前記切換手段は、前記切換用光学素子である平面鏡と、
該平面鏡を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレ
ーザビームを入射されるレーザユニットと前記入射側光
学素子との間の光路に進入／退避させる進退機構を備
え、 上記進退機構は、前記走査光学手段の光偏向器によって
走査方向へ順に偏向されるレーザビームが成す平面に対
して垂直に設けられた回動軸の周囲に前記平面鏡を回動
させる機構である、 画像記録装置。 - 【請求項４】 請求項１に於いて、 前記切換手段は、前記切換用光学素子である平面鏡と、
該平面鏡を前記退避時に於いて前記入射側光学素子へレ
ーザビームを入射されるレーザユニットと前記入射側光
学素子との間の光路に進入／退避させる進退機構を備
え、 上記進退機構は、前記走査光学手段の光偏向器によって
走査方向へ順に偏向されるレーザビームが成す平面と平
行な方向に移動を規制するガイドの案内で前記平面鏡を
移動させる機構である、 画像記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35831596A JPH10197817A (ja) | 1996-12-28 | 1996-12-28 | 画像記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35831596A JPH10197817A (ja) | 1996-12-28 | 1996-12-28 | 画像記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10197817A true JPH10197817A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=18458666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35831596A Pending JPH10197817A (ja) | 1996-12-28 | 1996-12-28 | 画像記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10197817A (ja) |
-
1996
- 1996-12-28 JP JP35831596A patent/JPH10197817A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4445126A (en) | Image forming apparatus | |
| KR100477495B1 (ko) | 광-주사 광학 시스템 및 이를 포함한 이미지-형성 장치 | |
| CA1317996C (en) | Scanner for use in multiple spot laser electrophotographic printer | |
| US20050243394A1 (en) | Optical scanning device and method for detecting synchronization signal | |
| US6366385B2 (en) | Multi-beam scanning optical system and image forming apparatus using the same | |
| JPH05224142A (ja) | 光学出力装置におけるスポット位置制御のための電子光学制御装置とシステム | |
| EP0137559B1 (en) | Exposure device | |
| JPH05232392A (ja) | 電子光学制御装置を使用した光学出力装置におけるスポット位置制御方法 | |
| US4320955A (en) | Copy reproduction apparatus | |
| JP3666077B2 (ja) | 画像形成装置およびその製造方法 | |
| JPH10197817A (ja) | 画像記録装置 | |
| JP2667737B2 (ja) | 複合機能を有するレーザープリンター | |
| US20050285930A1 (en) | Inner drum exposure apparatus | |
| JPS63101808A (ja) | 光軸位置調整装置 | |
| JPS6068314A (ja) | ホロスキヤナのフアセツト列切換機構 | |
| JPH10149427A (ja) | 光学走査装置及び光学情報読取装置並びに光学情報記録装置 | |
| JP4060423B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| JP4558964B2 (ja) | 光走査方法および装置および画像形成装置 | |
| JPS62299980A (ja) | 光ビ−ム走査式記録装置 | |
| JP2002139688A (ja) | レーザビームスキャナ | |
| JPH05183698A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH11326800A (ja) | 光ビーム走査装置 | |
| JP2000310740A (ja) | 走査光学系 | |
| JPS6116981B2 (ja) | ||
| JPH0614158A (ja) | 複写装置 |