JPH10195329A - 有機顔料組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B48/00—Quinacridones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
- C09B67/0034—Mixtures of two or more pigments or dyes of the same type
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Paints Or Removers (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機顔料組成物。
【解決手段】 本発明は、有機顔料に基づいて約0.1
〜約20重量%の式(I) 【化1】 [式中、Qは有機顔料残基を表し、XはOまたはSであ
り、Hetは環炭素原子において(チオ)アミドメチル
−CH2−NH−CX−連結基結合するヘテロ芳香族基
を表し、そしてnは1〜4である]を有する化合物で処
理した有機顔料を含んでなる顔料組成物に関する。
〜約20重量%の式(I) 【化1】 [式中、Qは有機顔料残基を表し、XはOまたはSであ
り、Hetは環炭素原子において(チオ)アミドメチル
−CH2−NH−CX−連結基結合するヘテロ芳香族基
を表し、そしてnは1〜4である]を有する化合物で処
理した有機顔料を含んでなる顔料組成物に関する。
Description
【0001】本発明は、有機顔料を、改良されたレオロ
ジ−性及び分散性を付与するヘテロアリ−ルアミドメチ
ル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘
導体で処理することによって得られる顔料組成物に関す
る。
ジ−性及び分散性を付与するヘテロアリ−ルアミドメチ
ル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘
導体で処理することによって得られる顔料組成物に関す
る。
【0002】多くの種類の有機顔料が知られており、そ
れぞれは1つのまたはそれ以上の公知の方法によって製
造することができる。しかしながら典型的には、最初に
生成した粗化合物は顔料として用いるのに不適当であ
り、適当な着色性、レオロジ−性及び分散性を達成する
ために、1つまたはそれ以上の更なる仕上げ工程を行っ
て粒径、粒子の形、または結晶構造を改変しなければな
らない。
れぞれは1つのまたはそれ以上の公知の方法によって製
造することができる。しかしながら典型的には、最初に
生成した粗化合物は顔料として用いるのに不適当であ
り、適当な着色性、レオロジ−性及び分散性を達成する
ために、1つまたはそれ以上の更なる仕上げ工程を行っ
て粒径、粒子の形、または結晶構造を改変しなければな
らない。
【0003】レオロジ−性を改変する方法は公知であ
る。例えば顔料を、種々の添加剤、例えば種々の顔料の
スルホン酸及びスルホンアミド誘導体で処理するとよ
い。例えば米国特許第3418322号、第34466
41号、第4088507号、第4310359号、及
び第5368641号、英国特許第1544839号及
び第2009205号を参照。
る。例えば顔料を、種々の添加剤、例えば種々の顔料の
スルホン酸及びスルホンアミド誘導体で処理するとよ
い。例えば米国特許第3418322号、第34466
41号、第4088507号、第4310359号、及
び第5368641号、英国特許第1544839号及
び第2009205号を参照。
【0004】他の顔料誘導体も、顔料添加剤として開示
されている。例えばピラゾリルメチルキナクリドン誘導
体は米国特許第5334727号に記述されている。し
かしながらこの特許は、本発明の決定的な特徴である、
ヘテロ環式環及びメチル基間へのアミドまたはチオアミ
ド官能基の導入を示唆していない。置換されたベンズア
ミドメチルキナクリドン及び構造的に関連するフタルイ
ミドメチル及びスルホベンズイミドメチルキナクリドン
は、米国特許第3635981号、第4197404
号、第4256507号、第4439240号、第44
55173号、第4478968号、第4541872
号、第4844742号、第4895949号、第51
94088号、第5264032号、第5286863
号、第5424429号、第5453151号、及び第
5457203号に開示されている。しかしながらこれ
らの特許は、本発明の他の決定的な特徴である、アミド
カルボニル基がベンゼン環にだけ結合している化合物を
開示し、ヘテロ環式化合物への結合を示唆していない。
されている。例えばピラゾリルメチルキナクリドン誘導
体は米国特許第5334727号に記述されている。し
かしながらこの特許は、本発明の決定的な特徴である、
ヘテロ環式環及びメチル基間へのアミドまたはチオアミ
ド官能基の導入を示唆していない。置換されたベンズア
ミドメチルキナクリドン及び構造的に関連するフタルイ
ミドメチル及びスルホベンズイミドメチルキナクリドン
は、米国特許第3635981号、第4197404
号、第4256507号、第4439240号、第44
55173号、第4478968号、第4541872
号、第4844742号、第4895949号、第51
94088号、第5264032号、第5286863
号、第5424429号、第5453151号、及び第
5457203号に開示されている。しかしながらこれ
らの特許は、本発明の他の決定的な特徴である、アミド
カルボニル基がベンゼン環にだけ結合している化合物を
開示し、ヘテロ環式化合物への結合を示唆していない。
【0005】今回驚くべきことに、優秀な着色性及びレ
オロジ−性を有する顔料組成物は、有機顔料を、各(チ
オ)アミドメチル連結基のカルボニル官能基がヘテロ芳
香族基の環炭素原子において結合する1つまたはそれ以
上のヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロア
リ−ルチオアミドメチル置換基を持つある種の顔料誘導
体で処理することにより得られることが発見された。
オロジ−性を有する顔料組成物は、有機顔料を、各(チ
オ)アミドメチル連結基のカルボニル官能基がヘテロ芳
香族基の環炭素原子において結合する1つまたはそれ以
上のヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロア
リ−ルチオアミドメチル置換基を持つある種の顔料誘導
体で処理することにより得られることが発見された。
【0006】本発明は、有機顔料に基づいて約0.1〜
約20重量%(好ましくは約1〜約10重量%)の式
(I)
約20重量%(好ましくは約1〜約10重量%)の式
(I)
【0007】
【化1】
【0008】[式中、Qは有機顔料残基を表し、XはO
またはSであり、Hetは環炭素原子において(チオ)
アミドメチル−CH2−NH−CX−連結基に結合する
ヘテロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4である]を有
する顔料誘導体で処理した有機顔料を含んでなる顔料組
成物に関する。
またはSであり、Hetは環炭素原子において(チオ)
アミドメチル−CH2−NH−CX−連結基に結合する
ヘテロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4である]を有
する顔料誘導体で処理した有機顔料を含んでなる顔料組
成物に関する。
【0009】更に本発明は、そのような顔料組成物の製
造法、並びに塗料、プラスチック、繊維、インキ、及び
トナ−の着色におけるそのような顔料の使用法に関す
る。
造法、並びに塗料、プラスチック、繊維、インキ、及び
トナ−の着色におけるそのような顔料の使用法に関す
る。
【0010】本発明の方法で処理できる適当な有機顔料
は、キナクリドン、フタロシアニン、及びペリレン顔
料、並びに他の公知の顔料を含む。そのような顔料の、
固溶体を含む混合物も適当である。
は、キナクリドン、フタロシアニン、及びペリレン顔
料、並びに他の公知の顔料を含む。そのような顔料の、
固溶体を含む混合物も適当である。
【0011】キナクリドン顔料は特に適当な有機顔料で
ある。(本明細書では未置換のキナクリドン、キナクリ
ドン誘導体、及びその固溶体を含む)キナクリドンは、
技術的に公知のいくつかの方法のいずれかで製造できる
が、好ましくは種々の2、5−ジアニリノテレフタル酸
前駆体の、ポリ燐酸の存在下における熱的閉環で製造さ
れる。例えばS.S.レバナ(Lebana)及びL.
L.レバナ、ケミカル・レビュ−(Chemical
Review),67、1〜18(1967)の「キナ
クリドン」並びに米国特許第3157659号、第32
56285号、第3257405号、及び第33175
39号を参照。適当なキナクリドン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のキナクリドン顔料に典
型的な置換基で)置換されていてもよい。
ある。(本明細書では未置換のキナクリドン、キナクリ
ドン誘導体、及びその固溶体を含む)キナクリドンは、
技術的に公知のいくつかの方法のいずれかで製造できる
が、好ましくは種々の2、5−ジアニリノテレフタル酸
前駆体の、ポリ燐酸の存在下における熱的閉環で製造さ
れる。例えばS.S.レバナ(Lebana)及びL.
L.レバナ、ケミカル・レビュ−(Chemical
Review),67、1〜18(1967)の「キナ
クリドン」並びに米国特許第3157659号、第32
56285号、第3257405号、及び第33175
39号を参照。適当なキナクリドン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のキナクリドン顔料に典
型的な置換基で)置換されていてもよい。
【0012】金属フタロシアニン顔料も適当な有機顔料
である。銅フタロシアニンが好適であるけれど、他の金
属含有フタロシアニン顔料、例えば亜鉛、コバルト、
鉄、ニッケル、及び他のそのような金属に基づくものも
使用できる。適当なフタロシアニン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のフタロシアニン顔料に
典型的な置換基で)置換されていてもよい。粗フタロシ
アニンは、技術的に公知のいくつかの方法のいずれかで
製造できるが、好ましくは無水フタル酸、フタロニトリ
ルまたはそれらの誘導体の、金属ドナ−、窒素ドナ−
(例えば尿素またはフタロニトリル自体)と、好ましく
は有機溶媒中随時触媒の存在下に反応させることによっ
て製造できる。例えばW.ハ−ブスト(Herbst)
及びK.ハンガ−(Hunger)、「工業有機顔料」
[VCH出版、ニュ−ヨ−ク、1993年]、418〜
427ペ−ジ、H.ゾリンガ−(Zollinge
r)、「色剤化学」(VCH出版、1973年)101
〜104ペ−ジ、及びN.M.ピゲロ−(Pigelo
w)及びM.A.パ−キンス(Perkins)、H.
A.ラブス(Lubs)編「合成染料及び顔料の化学」
[ロバ−ト(Robert)E.クリ−ガ−(Krie
ger)出版、1955年]、584〜587ペ−ジに
おける「フタロシアニン顔料」、更に米国特許第415
8572号、第4257951号、及び第517528
2号、並びに英国特許第1502884号を参照。
である。銅フタロシアニンが好適であるけれど、他の金
属含有フタロシアニン顔料、例えば亜鉛、コバルト、
鉄、ニッケル、及び他のそのような金属に基づくものも
使用できる。適当なフタロシアニン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のフタロシアニン顔料に
典型的な置換基で)置換されていてもよい。粗フタロシ
アニンは、技術的に公知のいくつかの方法のいずれかで
製造できるが、好ましくは無水フタル酸、フタロニトリ
ルまたはそれらの誘導体の、金属ドナ−、窒素ドナ−
(例えば尿素またはフタロニトリル自体)と、好ましく
は有機溶媒中随時触媒の存在下に反応させることによっ
て製造できる。例えばW.ハ−ブスト(Herbst)
及びK.ハンガ−(Hunger)、「工業有機顔料」
[VCH出版、ニュ−ヨ−ク、1993年]、418〜
427ペ−ジ、H.ゾリンガ−(Zollinge
r)、「色剤化学」(VCH出版、1973年)101
〜104ペ−ジ、及びN.M.ピゲロ−(Pigelo
w)及びM.A.パ−キンス(Perkins)、H.
A.ラブス(Lubs)編「合成染料及び顔料の化学」
[ロバ−ト(Robert)E.クリ−ガ−(Krie
ger)出版、1955年]、584〜587ペ−ジに
おける「フタロシアニン顔料」、更に米国特許第415
8572号、第4257951号、及び第517528
2号、並びに英国特許第1502884号を参照。
【0013】ペリレン、特にペリレン−3、4、9、1
0−テトラカルボン酸のジイミド及び二無水物も適当な
有機顔料である。適当なペリレン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のペリレン顔料に典型的
な置換基で)置換されていてもよい。ここに置換された
顔料は、イミド窒素原子がアルキルのような化学的に理
に適った基で置換されたものも含む。粗ペリレンは技術
的に公知の方法で製造できる。例えばW.ハ−ブスト及
びK.ハンガ−、「工業有機顔料」[VCH出版、ニュ
−ヨ−ク、1993年]、9及び465〜475ペ−
ジ、H.ゾリンガ−、「色剤化学」(VCH出版、19
73年)227〜228ペ−ジ、及びM.A.パ−キン
ス、H.A.ラブス編「合成染料及び顔料の化学」[ロ
バ−トE.クリ−ガ−出版、1955年]、481〜4
82ペ−ジにおける「ピリジン及びピリドン」を参照。
0−テトラカルボン酸のジイミド及び二無水物も適当な
有機顔料である。適当なペリレン顔料は未置換でも、
(例えば1つまたはそれ以上のアルキル、アルコキシ、
ハロゲン例えば塩素、または他のペリレン顔料に典型的
な置換基で)置換されていてもよい。ここに置換された
顔料は、イミド窒素原子がアルキルのような化学的に理
に適った基で置換されたものも含む。粗ペリレンは技術
的に公知の方法で製造できる。例えばW.ハ−ブスト及
びK.ハンガ−、「工業有機顔料」[VCH出版、ニュ
−ヨ−ク、1993年]、9及び465〜475ペ−
ジ、H.ゾリンガ−、「色剤化学」(VCH出版、19
73年)227〜228ペ−ジ、及びM.A.パ−キン
ス、H.A.ラブス編「合成染料及び顔料の化学」[ロ
バ−トE.クリ−ガ−出版、1955年]、481〜4
82ペ−ジにおける「ピリジン及びピリドン」を参照。
【0014】他の適当な有機顔料は、ジオキサジン(即
ちトリフェンジオキサジン)、1、4−ジケトピロロピ
ロ−ル、アンスラピリミジン、アンサンスロン、フラバ
ンスロン、インダンスロン、イソインドリン、イソイン
ドリノン、ペリノン、ピランスロン、チオインジゴ、
4、4′−ジアミノ−1、1′−ジアンスラキノニル、
及びアゾ化合物並びにそれらの置換された誘導体を含
む。
ちトリフェンジオキサジン)、1、4−ジケトピロロピ
ロ−ル、アンスラピリミジン、アンサンスロン、フラバ
ンスロン、インダンスロン、イソインドリン、イソイン
ドリノン、ペリノン、ピランスロン、チオインジゴ、
4、4′−ジアミノ−1、1′−ジアンスラキノニル、
及びアゾ化合物並びにそれらの置換された誘導体を含
む。
【0015】有機顔料は、本発明に従い、例えば粗有機
顔料を強鉱酸中でヘテロアリ−ルアミドメチル及び/ま
たはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体と混合
することにより、粗または最終有機顔料を該顔料誘導体
と湿式または乾式混合することにより、或いは顔料の合
成中に顔料誘導体を添加することにより処理される。有
機顔料を、ヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘ
テロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体の存在下にお
ける調整(conditioning)で処理すること
も可能である。そのような方法の組み合わせも適当であ
る。
顔料を強鉱酸中でヘテロアリ−ルアミドメチル及び/ま
たはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体と混合
することにより、粗または最終有機顔料を該顔料誘導体
と湿式または乾式混合することにより、或いは顔料の合
成中に顔料誘導体を添加することにより処理される。有
機顔料を、ヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘ
テロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体の存在下にお
ける調整(conditioning)で処理すること
も可能である。そのような方法の組み合わせも適当であ
る。
【0016】適当なヘテロアリ−ルアミドメチル及び/
またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体は、
式(I)
またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体は、
式(I)
【0017】
【化2】
【0018】[式中、Qは有機顔料部分を表し、Xは
(アミドメチル連結基に対して)Oまたは(チオアミド
メチル連結基に対して)Sを表し、Hetは環炭素原子
において(チオ)アミドメチル(即ち−CH2−NH−
CX−)連結基のカルボニルまたはチオカルボニル官能
基に結合するヘテロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4
(好ましくは1または2、更に好ましくは1)である]
を有する化合物である。
(アミドメチル連結基に対して)Oまたは(チオアミド
メチル連結基に対して)Sを表し、Hetは環炭素原子
において(チオ)アミドメチル(即ち−CH2−NH−
CX−)連結基のカルボニルまたはチオカルボニル官能
基に結合するヘテロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4
(好ましくは1または2、更に好ましくは1)である]
を有する化合物である。
【0019】顔料残基Qは、本質的にキナクリドン、フ
タロシアニン、ペリレン(好ましくはペリレン−3、
4、9、10−テトラカルボン酸のイミド、ジイミド、
無水物、及び/または二無水物)、ジオキサジン(即ち
トリフェンジオキサジン)、1、4−ジケトピロロピロ
−ル、アンスラピリミジン、アンサンスロン、フラバン
スロン、インダンスロン、イソインドリン、イソインド
リノン、ペリノン、ピランスロン、チオインジゴ、4、
4′−ジアミノ−1、1′−ジアンスラキノニル、及び
アゾ化合物並びにそれらの置換された誘導体を含むいず
れかの種類の有機顔料に由来していてよい。適当な誘導
体は、そのような顔料に典型的な置換基、例えばC1〜
C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、C5〜C7シクロア
ルキル、C5〜C7シクロアルコキシ、C6〜C10アリ−
ル、C6〜C10アリ−ロキシ、C7〜C16アラルキル、C
7〜C16アラルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトリ
ル、カルボキシルまたはそのアミド、スルホニル(例え
ばアルキル−及びアリ−ルスルホニルまたはスルホキシ
ル及びそのアミド)基或いはそれらの組み合わせ基を1
つまたはそれ以上有するものを含む。顔料残基Qの置換
された誘導体は、勿論環窒素原子が化学的に理の適った
基、例えばアルキル、シクロアルキル、アリ−ル、また
はアラルキルで置換されたものを含む。顔料残基Qが処
理する有機顔料と同一の顔料種であるヘテロアリ−ルア
ミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチ
ル顔料誘導体を使用することはしばしば望ましい。しか
しながら、顔料残基Qが処理する有機顔料と異なった顔
料種であるヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘ
テロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体を使用するこ
ともしばしば望ましい。好適な顔料誘導体は、キナクリ
ドン、フタロシアニン、及びペリレンに由来するもので
ある。
タロシアニン、ペリレン(好ましくはペリレン−3、
4、9、10−テトラカルボン酸のイミド、ジイミド、
無水物、及び/または二無水物)、ジオキサジン(即ち
トリフェンジオキサジン)、1、4−ジケトピロロピロ
−ル、アンスラピリミジン、アンサンスロン、フラバン
スロン、インダンスロン、イソインドリン、イソインド
リノン、ペリノン、ピランスロン、チオインジゴ、4、
4′−ジアミノ−1、1′−ジアンスラキノニル、及び
アゾ化合物並びにそれらの置換された誘導体を含むいず
れかの種類の有機顔料に由来していてよい。適当な誘導
体は、そのような顔料に典型的な置換基、例えばC1〜
C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、C5〜C7シクロア
ルキル、C5〜C7シクロアルコキシ、C6〜C10アリ−
ル、C6〜C10アリ−ロキシ、C7〜C16アラルキル、C
7〜C16アラルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトリ
ル、カルボキシルまたはそのアミド、スルホニル(例え
ばアルキル−及びアリ−ルスルホニルまたはスルホキシ
ル及びそのアミド)基或いはそれらの組み合わせ基を1
つまたはそれ以上有するものを含む。顔料残基Qの置換
された誘導体は、勿論環窒素原子が化学的に理の適った
基、例えばアルキル、シクロアルキル、アリ−ル、また
はアラルキルで置換されたものを含む。顔料残基Qが処
理する有機顔料と同一の顔料種であるヘテロアリ−ルア
ミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチ
ル顔料誘導体を使用することはしばしば望ましい。しか
しながら、顔料残基Qが処理する有機顔料と異なった顔
料種であるヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘ
テロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体を使用するこ
ともしばしば望ましい。好適な顔料誘導体は、キナクリ
ドン、フタロシアニン、及びペリレンに由来するもので
ある。
【0020】適当なヘテロ芳香族Het基は、1つまた
はそれ以上の環ヘテロ原子(N,O,及びSから選択さ
れる)を含み且つ環炭素原子において(チオ)アミドメ
チル(即ち−CH2−NH−CX−)連結基に結合する
芳香族種である。適当なヘテロ芳香族Het基の例は、
1つまたはそれ以上の環炭素原子がC1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、C5〜C7シクロアルキル、C5〜
C7シクロアルコキシ、C6〜C10アリ−ル、C6〜C10
アリ−ロキシ、C7〜C16アラルキル、C7〜C16アラル
コキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトリル、カルボキシ
ルまたはそのアミド、スルホニル(例えばアルキル−及
びアリ−ルスルホニルまたはスルホキシル及びそのアミ
ド)基或いはそれらの組み合わせ基で置換されているピ
ロ−ル、イミダゾ−ル、ピラゾ−ル、ピリジン、ピラジ
ン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フラン、チ
オフェン、イソキサゾ−ル、イソチアゾ−ル、及びフラ
ザン、またはそれらの誘導体から選択されるものを含
む。上のHet基のいくつか、例えばフランは低度の芳
香族性しか示さないけれど、そのような化合物は、各環
原子に高々1つの水素原子または置換基が結合している
ならば、本発明の目的に対してヘテロ芳香族として考え
るべきである。
はそれ以上の環ヘテロ原子(N,O,及びSから選択さ
れる)を含み且つ環炭素原子において(チオ)アミドメ
チル(即ち−CH2−NH−CX−)連結基に結合する
芳香族種である。適当なヘテロ芳香族Het基の例は、
1つまたはそれ以上の環炭素原子がC1〜C6アルキル、
C1〜C6アルコキシ、C5〜C7シクロアルキル、C5〜
C7シクロアルコキシ、C6〜C10アリ−ル、C6〜C10
アリ−ロキシ、C7〜C16アラルキル、C7〜C16アラル
コキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ニトリル、カルボキシ
ルまたはそのアミド、スルホニル(例えばアルキル−及
びアリ−ルスルホニルまたはスルホキシル及びそのアミ
ド)基或いはそれらの組み合わせ基で置換されているピ
ロ−ル、イミダゾ−ル、ピラゾ−ル、ピリジン、ピラジ
ン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フラン、チ
オフェン、イソキサゾ−ル、イソチアゾ−ル、及びフラ
ザン、またはそれらの誘導体から選択されるものを含
む。上のHet基のいくつか、例えばフランは低度の芳
香族性しか示さないけれど、そのような化合物は、各環
原子に高々1つの水素原子または置換基が結合している
ならば、本発明の目的に対してヘテロ芳香族として考え
るべきである。
【0021】ここで用いるような「C1〜C6アルキル」
とは、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖脂肪族炭化水素
基を意味する。C1〜C6アルキルの例は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、及びそれ
らの異性体形である。「C1〜C6アルコキシ」とは、
炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖アルキルオキシ基を意
味する。C1〜C6アルコキシの例は、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチロキシ、ヘキシロキ
シ、及びそれらの異性体形である。「C5〜C7シクロア
ルキル」とは、炭素数5〜7の脂環族炭化水素基を意味
する。C5〜C7シクロアルキルの例は、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、及びシクロヘプチルである。「C
5〜C7シクロアルコキシ」とは、炭素数5〜7のシクロ
アルコキシ基を意味する。C5〜C7シクロアルコキシの
例は、シクロペンチロキシ、シクロヘキシロキシ、及び
シクロヘプチロキシである。「C6〜C10アリ−ル」と
は、フェニル及び1−または2−ナフチル、並びに本明
細書で定義されるようにアルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン、シアノで置換されたフェニル及びナフチルを意味す
る。「C6〜C10アリ−ロキシ」とは、アリ−ル部分が
随時「アリ−ル」に関して上述したように置換されてい
てよいフェノキシ及び1−または2−ナフチロキシを意
味する。「C7〜C16アラルキル」とは、全炭素数が7
〜16のC6〜C10アリ−ルで置換されたC1〜C6アル
キルを意味する。「C7〜C16アラルコキシ」とは、全
炭素数が7〜16のC6〜C10アリ−ルで置換されたC1
〜C6アルコキシを意味する。C7〜C16アラルコキシの
例はベンジロキシである。ハロゲンの例は、弗素、塩
素、臭素、及びよう素である。特に好適なヘテロ芳香族
Het基は、ピリジン、フラン、及びチオフェンに由来
するものである。
とは、炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖脂肪族炭化水素
基を意味する。C1〜C6アルキルの例は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、及びそれ
らの異性体形である。「C1〜C6アルコキシ」とは、
炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖アルキルオキシ基を意
味する。C1〜C6アルコキシの例は、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチロキシ、ヘキシロキ
シ、及びそれらの異性体形である。「C5〜C7シクロア
ルキル」とは、炭素数5〜7の脂環族炭化水素基を意味
する。C5〜C7シクロアルキルの例は、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、及びシクロヘプチルである。「C
5〜C7シクロアルコキシ」とは、炭素数5〜7のシクロ
アルコキシ基を意味する。C5〜C7シクロアルコキシの
例は、シクロペンチロキシ、シクロヘキシロキシ、及び
シクロヘプチロキシである。「C6〜C10アリ−ル」と
は、フェニル及び1−または2−ナフチル、並びに本明
細書で定義されるようにアルキル、アルコキシ、ハロゲ
ン、シアノで置換されたフェニル及びナフチルを意味す
る。「C6〜C10アリ−ロキシ」とは、アリ−ル部分が
随時「アリ−ル」に関して上述したように置換されてい
てよいフェノキシ及び1−または2−ナフチロキシを意
味する。「C7〜C16アラルキル」とは、全炭素数が7
〜16のC6〜C10アリ−ルで置換されたC1〜C6アル
キルを意味する。「C7〜C16アラルコキシ」とは、全
炭素数が7〜16のC6〜C10アリ−ルで置換されたC1
〜C6アルコキシを意味する。C7〜C16アラルコキシの
例はベンジロキシである。ハロゲンの例は、弗素、塩
素、臭素、及びよう素である。特に好適なヘテロ芳香族
Het基は、ピリジン、フラン、及びチオフェンに由来
するものである。
【0022】適当ではあるが、一般にさほど好適でない
ヘテロ芳香族Het基は、それ自体上述したように環置
換されていてもよい、或いはO、S、及びNから選択さ
れる1つまたはそれ以上の環ヘテロ原子を含んでいてよ
い1対またはそれ以上の隣り合う環炭素原子が芳香族環
(例えばベンゼンまたはそのヘテロ芳香族同族体)と融
合しているポリ芳香族誘導体を含む。適当なそのような
ヘテロ芳香族Het基の例は、インド−ル、イソインド
−ル、及びインドラジン(即ちピロ−ルのベンゾ誘導
体)、カルバゾ−ル(即ちピロ−ルのジベンゾ誘導
体)、インダゾ−ル、ベンズイミダゾ−ル、キノリン、
イソキノリン、及びキノラジン(即ちピリジンのベンゾ
誘導体)、キナゾリン、キノキサリン、シンノリン、プ
リン、ベンゾフラン及びイソベンゾフラン(即ちフラン
のベンゾ誘導体)、フェノキサジン、ベンゾチアジン、
ナフトチオフェン、及びチアンスレン、並びにそれらの
環置換誘導体に基づくものを含む。
ヘテロ芳香族Het基は、それ自体上述したように環置
換されていてもよい、或いはO、S、及びNから選択さ
れる1つまたはそれ以上の環ヘテロ原子を含んでいてよ
い1対またはそれ以上の隣り合う環炭素原子が芳香族環
(例えばベンゼンまたはそのヘテロ芳香族同族体)と融
合しているポリ芳香族誘導体を含む。適当なそのような
ヘテロ芳香族Het基の例は、インド−ル、イソインド
−ル、及びインドラジン(即ちピロ−ルのベンゾ誘導
体)、カルバゾ−ル(即ちピロ−ルのジベンゾ誘導
体)、インダゾ−ル、ベンズイミダゾ−ル、キノリン、
イソキノリン、及びキノラジン(即ちピリジンのベンゾ
誘導体)、キナゾリン、キノキサリン、シンノリン、プ
リン、ベンゾフラン及びイソベンゾフラン(即ちフラン
のベンゾ誘導体)、フェノキサジン、ベンゾチアジン、
ナフトチオフェン、及びチアンスレン、並びにそれらの
環置換誘導体に基づくものを含む。
【0023】−CH2−NH−CX−連結基は、アミド
メチル(即ち−CH2−NH−CO−)基またはチオア
ミドメチル(即ち−CH2−NH−CS−)基のいずれ
であってもよい。
メチル(即ち−CH2−NH−CO−)基またはチオア
ミドメチル(即ち−CH2−NH−CS−)基のいずれ
であってもよい。
【0024】本発明で使用されるヘテロアリ−ルアミド
メチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔
料誘導体は、公知の方法で、例えば誘導体化すべき顔料
を、ヘテロアリ−ルカルボキサミドまたはヘテロアリ−
ルチオカルボキサミドまたはその誘導体及びホルムアル
デヒドまたはその官能基的同等体(例えば重合体形パラ
ホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド生成化合物例
えばトリオキサン)の混合物と或いはヘテロアリ−ルカ
ルボキサミドまたはヘテロアリ−ルチオカルボキサミド
の対応するN−メチロ−ル誘導体と、脱水剤の存在下に
約0〜約200℃の温度で縮合させることによって製造
できる。適当な脱水剤は、硫酸、発煙硫酸、ポリ燐酸、
有機酸またはその無水物、及びそれらの混合物を含む。
発煙硫酸は、ことに反応性の低い顔料の場合、特に適当
な縮合剤である。顔料分子に対する置換度は、種々の因
子例えばヘテロアリ−ル(チオ)カルボキサミドの性
質、反応温度、及び反応時間によって影響される。結果
としてのヘテロアリ−ルアミドメチルまたはヘテロアリ
−ルチオアミドメチル顔料誘導体は、反応混合物を、顔
料誘導体を完全にまたはほとんど完全に溶解しない液
体、好ましくは水またはメタノ−ルまたは他の低級脂肪
族アルコ−ル(例えばエタノ−ル、プロパノ−ル、また
はブタノ−ル)並びにそれらの混合物に添加することに
よって単離できる。液体中に種々の添加剤、例えば表面
活性剤を含ませることも有利である。ついで顔料誘導体
を(例えば濾過または他の公知の方法により)単離し、
残存する酸がなくなるまで洗浄する。
メチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔
料誘導体は、公知の方法で、例えば誘導体化すべき顔料
を、ヘテロアリ−ルカルボキサミドまたはヘテロアリ−
ルチオカルボキサミドまたはその誘導体及びホルムアル
デヒドまたはその官能基的同等体(例えば重合体形パラ
ホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド生成化合物例
えばトリオキサン)の混合物と或いはヘテロアリ−ルカ
ルボキサミドまたはヘテロアリ−ルチオカルボキサミド
の対応するN−メチロ−ル誘導体と、脱水剤の存在下に
約0〜約200℃の温度で縮合させることによって製造
できる。適当な脱水剤は、硫酸、発煙硫酸、ポリ燐酸、
有機酸またはその無水物、及びそれらの混合物を含む。
発煙硫酸は、ことに反応性の低い顔料の場合、特に適当
な縮合剤である。顔料分子に対する置換度は、種々の因
子例えばヘテロアリ−ル(チオ)カルボキサミドの性
質、反応温度、及び反応時間によって影響される。結果
としてのヘテロアリ−ルアミドメチルまたはヘテロアリ
−ルチオアミドメチル顔料誘導体は、反応混合物を、顔
料誘導体を完全にまたはほとんど完全に溶解しない液
体、好ましくは水またはメタノ−ルまたは他の低級脂肪
族アルコ−ル(例えばエタノ−ル、プロパノ−ル、また
はブタノ−ル)並びにそれらの混合物に添加することに
よって単離できる。液体中に種々の添加剤、例えば表面
活性剤を含ませることも有利である。ついで顔料誘導体
を(例えば濾過または他の公知の方法により)単離し、
残存する酸がなくなるまで洗浄する。
【0025】本発明の顔料を処理するのに使用するため
の特に好適な顔料誘導体は、式(II)
の特に好適な顔料誘導体は、式(II)
【0026】
【化3】
【0027】[式中、XはOまたはSであり、そしてn
は1または2である]を有するニコチンアミドメチル−
及びチオニコチンアミドメチルキナクリドン、式(II
I)
は1または2である]を有するニコチンアミドメチル−
及びチオニコチンアミドメチルキナクリドン、式(II
I)
【0028】
【化4】
【0029】を有する2−フラミドメチル置換キナクリ
ドン、及び式(IV)
ドン、及び式(IV)
【0030】
【化5】
【0031】を有する2−チオフェンカルボキサミドメ
チルキナクリドン、である。
チルキナクリドン、である。
【0032】式(II)、(III)、及び(IV)はヘテロ
アリ−ル(チオ)アミドメチル基に対して特別な位置を
示すことを意味しないで、むしろそのような基がキナク
リドン残基の化学的に理に適った箇所に位置することを
意味する。
アリ−ル(チオ)アミドメチル基に対して特別な位置を
示すことを意味しないで、むしろそのような基がキナク
リドン残基の化学的に理に適った箇所に位置することを
意味する。
【0033】本発明の顔料組成物を製造するためのいく
つかの方法は公知である。1つの好適な方法において
は、粗有機顔料及び適当なヘテロアリ−ルアミドメチル
及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導
体を強鉱酸に溶解(ペ−スト化)し、または懸濁(膨
潤)させ、ついで沈殿させる。有利な時間内での酸性溶
液または懸濁液の生成を保証するために、十分な量の鉱
酸、好ましくは濃酸を添加する。しかしながら溶液また
は懸濁液が酸性であるという必要条件を除いて、酸の濃
度及び量は一般的に厳密ではない。例えば、撹拌時間を
長くするならば、より希釈された酸を使用できるが、商
業的には濃酸が好適である。適当な鉱酸は、硫酸及びポ
リ燐酸を含み、硫酸が好適である。特に少なくとも64
%の硫酸を、粗有機顔料及び顔料誘導体の全量に対して
約4〜約15重量部の量で使用することが好適である。
粗顔料及び顔料誘導体の混合物の溶解速度は、混合物を
(例えば約50℃まで)暖めることによって増大できる
けれど、混合物を35℃でまたはそれ以下の温度で酸に
溶解し、(硫酸を用いる場合)スルホン化或いは顔料ま
たは顔料誘導体の分解を最小にすることが一般に好まし
い。酸処理の完結後、強酸溶液を、顔料及び顔料誘導体
が完全にまたはほとんど完全に溶解しない液体、好まし
くは水またはメタノ−ルまたは他の低級脂肪族アルコ−
ル(例えばエタノ−ル、プロパノ−ル、またはブタノ−
ル)並びにそれらの混合物へ添加することにより、顔料
組成物を沈殿させる。
つかの方法は公知である。1つの好適な方法において
は、粗有機顔料及び適当なヘテロアリ−ルアミドメチル
及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導
体を強鉱酸に溶解(ペ−スト化)し、または懸濁(膨
潤)させ、ついで沈殿させる。有利な時間内での酸性溶
液または懸濁液の生成を保証するために、十分な量の鉱
酸、好ましくは濃酸を添加する。しかしながら溶液また
は懸濁液が酸性であるという必要条件を除いて、酸の濃
度及び量は一般的に厳密ではない。例えば、撹拌時間を
長くするならば、より希釈された酸を使用できるが、商
業的には濃酸が好適である。適当な鉱酸は、硫酸及びポ
リ燐酸を含み、硫酸が好適である。特に少なくとも64
%の硫酸を、粗有機顔料及び顔料誘導体の全量に対して
約4〜約15重量部の量で使用することが好適である。
粗顔料及び顔料誘導体の混合物の溶解速度は、混合物を
(例えば約50℃まで)暖めることによって増大できる
けれど、混合物を35℃でまたはそれ以下の温度で酸に
溶解し、(硫酸を用いる場合)スルホン化或いは顔料ま
たは顔料誘導体の分解を最小にすることが一般に好まし
い。酸処理の完結後、強酸溶液を、顔料及び顔料誘導体
が完全にまたはほとんど完全に溶解しない液体、好まし
くは水またはメタノ−ルまたは他の低級脂肪族アルコ−
ル(例えばエタノ−ル、プロパノ−ル、またはブタノ−
ル)並びにそれらの混合物へ添加することにより、顔料
組成物を沈殿させる。
【0034】ヘテロアリ−ルアミドメチル及び/または
ヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体のまたは究
極的な顔料組成物の製造に硫酸または発煙硫酸を使用す
る場合、顔料残基はスルホン化することができる。その
ようなスルホン化誘導体は遊離酸、アンモニウム塩、ま
たは金属塩(例えばナトリウムまたはカリウム、アルカ
リ土類金属例えばカルシウムまたはバリウム、及び第II
I族の金属の塩例えばアルミニウム塩を含む)として単
離できる。
ヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体のまたは究
極的な顔料組成物の製造に硫酸または発煙硫酸を使用す
る場合、顔料残基はスルホン化することができる。その
ようなスルホン化誘導体は遊離酸、アンモニウム塩、ま
たは金属塩(例えばナトリウムまたはカリウム、アルカ
リ土類金属例えばカルシウムまたはバリウム、及び第II
I族の金属の塩例えばアルミニウム塩を含む)として単
離できる。
【0035】第2の好適な具体的方法においては、有機
顔料を、湿式または乾式混合法により、適当なヘテロア
リ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチオア
ミドメチル顔料組成物と混合してもよい。乾式混合法
は、(a)有機顔料を、有機顔料に基づいて約0.1〜
20重量%(好ましくは1〜10重量%)の式(I)の
顔料誘導体と乾式混合し、そして(b)顔料組成物を集
める、ことを含んでなる。湿式混合法は、(a)有機顔
料を、(1)有機顔料に基づいて約0.1〜20重量%
(好ましくは1〜10重量%)の式(I)の顔料誘導体
で、及び(2)有機顔料に基づいて約5〜20重量%
(好ましくは5〜15重量%)の、有機顔料が実質的に
不溶である液体で処理して、処理した顔料の液体中組成
物を生成せしめ、そして(b)顔料組成物を集める、こ
とを含んでなる。湿式混合に使用される液体は、有機顔
料が実質的に不溶である液体、好ましくは水、水と混和
できる溶媒例えばメタノ−ルまたは他の低級脂肪族アル
コ−ル、或いはそれらの混合物である。必ずしも必要で
はないが、ヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘ
テロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体が少なくとも
部分的に液体に不溶であることは好適である。適当な液
体は、水及び/または水と混和できる有機液体、例えば
低級脂肪族アルコ−ル例えばメタノ−ル、ケトン及びケ
トアルコ−ル例えばアセトン、メチルエチルケトン、及
びジアセトンアルコ−ル、アミド例えばジメチルホルム
アミド及びジメチルアセトアミド、エ−テル例えばテト
ラヒドロフラン及びジオキサン、アルキレングリコ−ル
及びトリオ−ル例えばエチレングリコ−ル及びグリセロ
−ル、並びに技術的に公知のそのような有機液体を含
む。他の有機液体も、使用できるが、一般にそれほど好
適ではない。湿式混合を行う温度は、一般に厳密ではな
いが、普通約5〜約60℃(好ましくは液体の沸点以
下)である。
顔料を、湿式または乾式混合法により、適当なヘテロア
リ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチオア
ミドメチル顔料組成物と混合してもよい。乾式混合法
は、(a)有機顔料を、有機顔料に基づいて約0.1〜
20重量%(好ましくは1〜10重量%)の式(I)の
顔料誘導体と乾式混合し、そして(b)顔料組成物を集
める、ことを含んでなる。湿式混合法は、(a)有機顔
料を、(1)有機顔料に基づいて約0.1〜20重量%
(好ましくは1〜10重量%)の式(I)の顔料誘導体
で、及び(2)有機顔料に基づいて約5〜20重量%
(好ましくは5〜15重量%)の、有機顔料が実質的に
不溶である液体で処理して、処理した顔料の液体中組成
物を生成せしめ、そして(b)顔料組成物を集める、こ
とを含んでなる。湿式混合に使用される液体は、有機顔
料が実質的に不溶である液体、好ましくは水、水と混和
できる溶媒例えばメタノ−ルまたは他の低級脂肪族アル
コ−ル、或いはそれらの混合物である。必ずしも必要で
はないが、ヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘ
テロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体が少なくとも
部分的に液体に不溶であることは好適である。適当な液
体は、水及び/または水と混和できる有機液体、例えば
低級脂肪族アルコ−ル例えばメタノ−ル、ケトン及びケ
トアルコ−ル例えばアセトン、メチルエチルケトン、及
びジアセトンアルコ−ル、アミド例えばジメチルホルム
アミド及びジメチルアセトアミド、エ−テル例えばテト
ラヒドロフラン及びジオキサン、アルキレングリコ−ル
及びトリオ−ル例えばエチレングリコ−ル及びグリセロ
−ル、並びに技術的に公知のそのような有機液体を含
む。他の有機液体も、使用できるが、一般にそれほど好
適ではない。湿式混合を行う温度は、一般に厳密ではな
いが、普通約5〜約60℃(好ましくは液体の沸点以
下)である。
【0036】キナクリドン顔料組成物を製造するのに特
に有用である第3の好適な方法においては、適当なヘテ
ロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチ
オアミドメチル顔料誘導体を処理する有機顔料の合成中
または更には合成前に添加して、有機顔料が生成するに
つれて、その反応及びその処理過程を少なくとも部分的
にその場で行なわせしめてもよい。例えばキナクリドン
顔料を製造する場合、好適な製造法は、(a)(i)
2、5−ジアニリノテレフタル酸、2、5−ジアニリノ
−6、13−ジヒドロテレフタル酸、2、5−ジアニリ
ノ−3、6−ジオキソ−1、4−シクロヘキサジエン−
1、4−ジカルボン酸、或いは少なくとも1つのアニリ
ン環に1つまたはそれ以上の置換基を有するそれらの誘
導体、該酸の塩またはエステルまたはそれらの誘導体、
或いはそれらの混合物、(ii)成分(a)(i)に基
づいて約0.1〜約15重量%(0.1〜10重量%)
の適当なヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテ
ロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体、(iii)成
分(a)(i)1部当たり約3〜約20重量部(好まし
くは3〜10重量部)の脱水剤(好ましくはポリ燐
酸)、を含んでなる反応混合物を約80〜約145℃
(好ましくは100〜130℃)に加熱し、但し成分
(a)(i)または成分(a)(ii)のいずれかが
2、5−ジアニリノ−6、13−ジヒドロテレフタル酸
またはその誘導体であるという条件下ならば反応工程
(a)が更に(最初に生成したジヒドロキナクリドン中
間体を対応するキナクリドンへ酸化する)酸化工程を含
んでなり、(b)工程(a)からの反応混合物を、成分
(a)(i)1部当たり約3〜約15重量部(好ましく
は5〜10重量部)の、キナクリドン顔料が実質的に不
溶である液体に添加して、該反応混合物を取り出し、そ
して(c)キナクリドン顔料を単離する、ことを含んで
なる。
に有用である第3の好適な方法においては、適当なヘテ
ロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチ
オアミドメチル顔料誘導体を処理する有機顔料の合成中
または更には合成前に添加して、有機顔料が生成するに
つれて、その反応及びその処理過程を少なくとも部分的
にその場で行なわせしめてもよい。例えばキナクリドン
顔料を製造する場合、好適な製造法は、(a)(i)
2、5−ジアニリノテレフタル酸、2、5−ジアニリノ
−6、13−ジヒドロテレフタル酸、2、5−ジアニリ
ノ−3、6−ジオキソ−1、4−シクロヘキサジエン−
1、4−ジカルボン酸、或いは少なくとも1つのアニリ
ン環に1つまたはそれ以上の置換基を有するそれらの誘
導体、該酸の塩またはエステルまたはそれらの誘導体、
或いはそれらの混合物、(ii)成分(a)(i)に基
づいて約0.1〜約15重量%(0.1〜10重量%)
の適当なヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテ
ロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体、(iii)成
分(a)(i)1部当たり約3〜約20重量部(好まし
くは3〜10重量部)の脱水剤(好ましくはポリ燐
酸)、を含んでなる反応混合物を約80〜約145℃
(好ましくは100〜130℃)に加熱し、但し成分
(a)(i)または成分(a)(ii)のいずれかが
2、5−ジアニリノ−6、13−ジヒドロテレフタル酸
またはその誘導体であるという条件下ならば反応工程
(a)が更に(最初に生成したジヒドロキナクリドン中
間体を対応するキナクリドンへ酸化する)酸化工程を含
んでなり、(b)工程(a)からの反応混合物を、成分
(a)(i)1部当たり約3〜約15重量部(好ましく
は5〜10重量部)の、キナクリドン顔料が実質的に不
溶である液体に添加して、該反応混合物を取り出し、そ
して(c)キナクリドン顔料を単離する、ことを含んで
なる。
【0037】上記方法の各々は、技術的に公知の1つま
たはそれ以上の更なる顔料誘導体、特にスルホン酸及び
スルホンアミド誘導体の存在下に行うことができる。
たはそれ以上の更なる顔料誘導体、特にスルホン酸及び
スルホンアミド誘導体の存在下に行うことができる。
【0038】上記方法のいずれを使用するかにかかわら
ず、得られる顔料組成物は技術的に公知の方法、好まし
くは濾過で集められ、ついで洗浄工程に供して残存する
酸を除去する。技術的に公知の他の捕集法、例えば遠心
分離または単なる傾斜も適当であるが、一般にそれほど
好適ではない。ついで顔料組成物を、使用するためにま
たは使用に先立つ更なる処理のために乾燥する。
ず、得られる顔料組成物は技術的に公知の方法、好まし
くは濾過で集められ、ついで洗浄工程に供して残存する
酸を除去する。技術的に公知の他の捕集法、例えば遠心
分離または単なる傾斜も適当であるが、一般にそれほど
好適ではない。ついで顔料組成物を、使用するためにま
たは使用に先立つ更なる処理のために乾燥する。
【0039】本発明による顔料組成物は、上述した製造
法の代わりに或いはその工程に加えて、有機顔料をヘテ
ロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチ
オアミドメチル顔料誘導体の存在下に調整することによ
って製造できる。勿論技術的に公知の1つまたはそれ以
上の更なる顔料誘導体、特にスルホン酸及びスルホンア
ミド誘導体を包含させることも可能である。調整(co
nditioning)は、技術的に公知の種々の方法
のいずれか、例えば溶媒処理または溶媒処理と組み合わ
せたミル処理を用いることで行いうる。顔料の最終粒径
は、後処理の方法を変えることによって制御できる。例
えば顔料は、粒径を減じることによってより透明に或い
は粒径を増大させることによってより不透明にすること
ができる。適当なミル処理法は、添加剤を用いるまたは
用いない乾式ミル処理法、例えばサンドミル、ボ−ルミ
ルなど、或いは添加剤を用いるまたは用いない水中また
は有機溶媒中での湿式ミル処理法、例えば塩混練り、ビ
−ズミルなどを含む。
法の代わりに或いはその工程に加えて、有機顔料をヘテ
ロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチ
オアミドメチル顔料誘導体の存在下に調整することによ
って製造できる。勿論技術的に公知の1つまたはそれ以
上の更なる顔料誘導体、特にスルホン酸及びスルホンア
ミド誘導体を包含させることも可能である。調整(co
nditioning)は、技術的に公知の種々の方法
のいずれか、例えば溶媒処理または溶媒処理と組み合わ
せたミル処理を用いることで行いうる。顔料の最終粒径
は、後処理の方法を変えることによって制御できる。例
えば顔料は、粒径を減じることによってより透明に或い
は粒径を増大させることによってより不透明にすること
ができる。適当なミル処理法は、添加剤を用いるまたは
用いない乾式ミル処理法、例えばサンドミル、ボ−ルミ
ルなど、或いは添加剤を用いるまたは用いない水中また
は有機溶媒中での湿式ミル処理法、例えば塩混練り、ビ
−ズミルなどを含む。
【0040】顔料の着色強度及び透明性は、しばしば添
加剤の存在下に、顔料組成物の適当な溶媒中分散液を加
熱することにより行われる溶媒処理によっても影響され
る。適当な溶媒は、有機溶媒、例えばアルコ−ル、エス
テル、ケトン、及び脂肪族及び芳香族炭化水素並びにそ
の誘導体、及び無機溶媒、例えば水を含む。適当な添加
剤は、綿状沈降物を減じる、分散液の安定性を増大させ
る、及び塗布粘度を減じる組成物、例えば重合体分散剤
(界面活性剤)を含む。例えば米国特許第445517
3号、第4758665号、第4844742号、第4
895948号、及び第4895949号を参照。
加剤の存在下に、顔料組成物の適当な溶媒中分散液を加
熱することにより行われる溶媒処理によっても影響され
る。適当な溶媒は、有機溶媒、例えばアルコ−ル、エス
テル、ケトン、及び脂肪族及び芳香族炭化水素並びにそ
の誘導体、及び無機溶媒、例えば水を含む。適当な添加
剤は、綿状沈降物を減じる、分散液の安定性を増大させ
る、及び塗布粘度を減じる組成物、例えば重合体分散剤
(界面活性剤)を含む。例えば米国特許第445517
3号、第4758665号、第4844742号、第4
895948号、及び第4895949号を参照。
【0041】随意の調整工程中または後、改良された性
質を付与する種々の他の随時の成分を使用することはし
ばしば望ましい。そのような随時の成分の例は、炭素数
が少なくとも12の脂肪酸、例えばステアリン酸または
ベヘン酸、或いは対応するアミド、エステル、または
塩、例えばステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸アルミニウム、またはべヘン酸マグネ
シウム、第4級アンモニウム化合物、例えばトリ[(C
1〜C4アルキル)ベンジル]アンモニウム塩、可塑剤、
例えばエポキシ化大豆油、ワックス、例えばポリエチレ
ンワックス、樹脂酸、例えばアビエチン酸、ロジン石
鹸、水素化または2量化ロジン、C12〜C18パラフィン
ジスルホン酸、アルキルフェノ−ル、アルコ−ル、例え
ばステアリルアルコ−ル、アミン、例えばラウリルアミ
ンまたはステアリルアミン、及び脂肪族1、2−ジオ−
ル、例えばドデカン1、2−ジオ−ル、を含む。そのよ
うな添加剤は、顔料の量に基づいて約0.05〜50重
量%(好ましくは1〜10重量%)の範囲の量で添加さ
れる。
質を付与する種々の他の随時の成分を使用することはし
ばしば望ましい。そのような随時の成分の例は、炭素数
が少なくとも12の脂肪酸、例えばステアリン酸または
ベヘン酸、或いは対応するアミド、エステル、または
塩、例えばステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸アルミニウム、またはべヘン酸マグネ
シウム、第4級アンモニウム化合物、例えばトリ[(C
1〜C4アルキル)ベンジル]アンモニウム塩、可塑剤、
例えばエポキシ化大豆油、ワックス、例えばポリエチレ
ンワックス、樹脂酸、例えばアビエチン酸、ロジン石
鹸、水素化または2量化ロジン、C12〜C18パラフィン
ジスルホン酸、アルキルフェノ−ル、アルコ−ル、例え
ばステアリルアルコ−ル、アミン、例えばラウリルアミ
ンまたはステアリルアミン、及び脂肪族1、2−ジオ−
ル、例えばドデカン1、2−ジオ−ル、を含む。そのよ
うな添加剤は、顔料の量に基づいて約0.05〜50重
量%(好ましくは1〜10重量%)の範囲の量で添加さ
れる。
【0042】本発明による顔料組成物は、その光安定性
及び移動性のために、多くの異なった顔料の用途に対し
て適当である。例えば本発明による顔料組成物は、非常
に光堅牢性の着色系に対する色剤として(または2つま
たはそれ以上の色剤の1つとして)使用できる。その例
は、他の材料との着色混合物、顔料処方物、塗料、印刷
インキ、色紙、または着色した高分子材料を含む。ここ
に「他の材料との混合物」とは、例えば無機白色顔料、
例えば二酸化チタンまたはセメント、或いは他の無機顔
料との混合物を含むものと理解すべきである。顔料処方
物の例は、有機液体またはペ−ストとのフラッシュした
ペ−スト及び水との分散液、分散剤、及び適当ならば保
存剤を含む。本発明の顔料組成物が使用できる塗料の例
は、例えば物理的にまたは酸化的に乾燥するラッカ−、
スト−ビングエナメル、反応性塗料、2成分塗料、溶媒
または水に基づく塗料、耐水性コ−テイングのための乳
化塗料、及びジステンパ−(distempers)を
含む。印刷インキは、紙、織物、及びブリキ印刷に使用
するのに公知のものを含む。適当な高分子材料は、天然
起源のもの、例えばゴム、化学的改変で得られるもの、
例えばアセチルセルロ−ス、らく酸セルロ−ス、または
ビスコ−ス、或いは合成起源のもの、例えば重合体、重
付加生成物、及び重縮合体を含む。合成起源の高分子材
料の例は、プラスチック材料、例えばポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、及びポリプロピオン酸ビニル、ポリオ
レフィン、例えばポリエチレン及びポリプロピレン、高
分子量ポリアミド、アクリレ−ト、メタクリレ−ト、ア
クリロニトリル、アクリルアミド、ブタジエン、または
スチレンの重合体及び共重合体、ポリウレタン、及びポ
リカ−ボネ−トを含む。本発明の顔料で着色された物質
は、いずれか所望の形態または形を取ることができる。
及び移動性のために、多くの異なった顔料の用途に対し
て適当である。例えば本発明による顔料組成物は、非常
に光堅牢性の着色系に対する色剤として(または2つま
たはそれ以上の色剤の1つとして)使用できる。その例
は、他の材料との着色混合物、顔料処方物、塗料、印刷
インキ、色紙、または着色した高分子材料を含む。ここ
に「他の材料との混合物」とは、例えば無機白色顔料、
例えば二酸化チタンまたはセメント、或いは他の無機顔
料との混合物を含むものと理解すべきである。顔料処方
物の例は、有機液体またはペ−ストとのフラッシュした
ペ−スト及び水との分散液、分散剤、及び適当ならば保
存剤を含む。本発明の顔料組成物が使用できる塗料の例
は、例えば物理的にまたは酸化的に乾燥するラッカ−、
スト−ビングエナメル、反応性塗料、2成分塗料、溶媒
または水に基づく塗料、耐水性コ−テイングのための乳
化塗料、及びジステンパ−(distempers)を
含む。印刷インキは、紙、織物、及びブリキ印刷に使用
するのに公知のものを含む。適当な高分子材料は、天然
起源のもの、例えばゴム、化学的改変で得られるもの、
例えばアセチルセルロ−ス、らく酸セルロ−ス、または
ビスコ−ス、或いは合成起源のもの、例えば重合体、重
付加生成物、及び重縮合体を含む。合成起源の高分子材
料の例は、プラスチック材料、例えばポリ塩化ビニル、
ポリ酢酸ビニル、及びポリプロピオン酸ビニル、ポリオ
レフィン、例えばポリエチレン及びポリプロピレン、高
分子量ポリアミド、アクリレ−ト、メタクリレ−ト、ア
クリロニトリル、アクリルアミド、ブタジエン、または
スチレンの重合体及び共重合体、ポリウレタン、及びポ
リカ−ボネ−トを含む。本発明の顔料で着色された物質
は、いずれか所望の形態または形を取ることができる。
【0043】本発明による顔料組成物は、高度の耐水
性、耐油性、耐酸性、耐石灰性、耐アルカリ性、耐溶媒
性、ラッカ−塗り過ぎに対する堅牢性、噴霧し過ぎに対
する堅牢性、昇華堅牢性、熱堅牢性、及び加硫堅牢性で
あり、しかも非常に良好な着色収率を与え、そして容易
に(例えばプラスチック材料中へ)分散しうる。
性、耐油性、耐酸性、耐石灰性、耐アルカリ性、耐溶媒
性、ラッカ−塗り過ぎに対する堅牢性、噴霧し過ぎに対
する堅牢性、昇華堅牢性、熱堅牢性、及び加硫堅牢性で
あり、しかも非常に良好な着色収率を与え、そして容易
に(例えばプラスチック材料中へ)分散しうる。
【0044】次の実施例は、本発明の組成物の製造法及
び使用法を更に詳細に例示する。上述した本発明は、精
神的にも、範囲的にもこれらの実施例により制限される
べきではない。同業者は、次の製造工程の条件及び過程
を公知のように変えて本発明の組成物を製造できること
を容易に理解するであろう。実施例中断らない限り、す
べての温度は摂氏であり、すべてのパ−セントは重量%
である。
び使用法を更に詳細に例示する。上述した本発明は、精
神的にも、範囲的にもこれらの実施例により制限される
べきではない。同業者は、次の製造工程の条件及び過程
を公知のように変えて本発明の組成物を製造できること
を容易に理解するであろう。実施例中断らない限り、す
べての温度は摂氏であり、すべてのパ−セントは重量%
である。
【0045】
ヘテロアリ−ルアミドメチルキナクリドン及びヘテロア
リ−ルチオアミドメチルキナクリドン誘導体の製造 ニコチンアミドメチルキナクリドン
リ−ルチオアミドメチルキナクリドン誘導体の製造 ニコチンアミドメチルキナクリドン
【0046】
【化6】
【0047】100%硫酸219gに、約25℃以下の
温度でN−ヒドロキシメチルニコチンアミド15.2g
(0.10モル)を撹拌しながらゆっくりと添加した。
この酸性混合物に、キナクリドン31.2g(0.10
モル)をゆっくりと添加した。この反応混合物を10℃
以下の温度で1時間撹拌し、ついで室温まで暖め、18
時間撹拌した。反応混合物を60〜65℃に保った後、
35℃まで冷却し、氷水2リットル中にゆっくりと注い
だ。得られたスラリ−を15℃に暖めながら30分間撹
拌した。ついで固体を濾過により単離し、水洗した。湿
ったプレスケ−キを水で再スラリ−化し、60℃まで加
熱し、ついで固体を濾過により単離し、水洗した。この
湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥し、ニコチンア
ミドメチルキナクリドン31.7gを得た。
温度でN−ヒドロキシメチルニコチンアミド15.2g
(0.10モル)を撹拌しながらゆっくりと添加した。
この酸性混合物に、キナクリドン31.2g(0.10
モル)をゆっくりと添加した。この反応混合物を10℃
以下の温度で1時間撹拌し、ついで室温まで暖め、18
時間撹拌した。反応混合物を60〜65℃に保った後、
35℃まで冷却し、氷水2リットル中にゆっくりと注い
だ。得られたスラリ−を15℃に暖めながら30分間撹
拌した。ついで固体を濾過により単離し、水洗した。湿
ったプレスケ−キを水で再スラリ−化し、60℃まで加
熱し、ついで固体を濾過により単離し、水洗した。この
湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥し、ニコチンア
ミドメチルキナクリドン31.7gを得た。
【0048】ジ(ニコチンアミドメチル)キナクリドン
【0049】
【化7】
【0050】100%硫酸260g及びN−ヒドロキシ
メチルニコチンアミド30.0g(0.20モル)を用
いる以外、上述した方法に従いニコチンアミドメチルキ
ナクリドンを製造した。かくしてジ(ニコチンアミド)
キナクリドン(24.7g)を得た。
メチルニコチンアミド30.0g(0.20モル)を用
いる以外、上述した方法に従いニコチンアミドメチルキ
ナクリドンを製造した。かくしてジ(ニコチンアミド)
キナクリドン(24.7g)を得た。
【0051】チオニコチンアミドメチルキナクリドン
【0052】
【化8】
【0053】100%硫酸210gに、約15℃の温度
で15分間に亘り、チオニコチンアミド14.1g
(0.10モル)を添加した。この酸性混合物を更に1
0分間撹拌し、ついで温度を15℃以下に保ちながらパ
ラホルムアルデヒド3g(0.10モル)添加した。反
応混合物を室温まで暖め、20〜25℃に2時間保ち、
そして10℃まで冷却した。この反応混合物に、温度を
15℃以下に保ちながらキナクリドン31.2g(0.
10モル)を添加した。この混合物を室温まで暖め、つ
いで60〜65℃に2時間保った。室温で18時間撹拌
した後、反応混合物を氷水2リットル中にゆっくりと注
いだ。得られたスラリ−を20℃まで暖め、ついで1時
間撹拌し、固体を濾過により単離し、水洗した。湿った
プレスケ−キを水で再スラリ−化し、60℃まで加熱
し、ついで固体を濾過により再び単離し、水洗した。こ
の湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥し、チオニコ
チンアミドメチルキナクリドン34.8gを得た。
で15分間に亘り、チオニコチンアミド14.1g
(0.10モル)を添加した。この酸性混合物を更に1
0分間撹拌し、ついで温度を15℃以下に保ちながらパ
ラホルムアルデヒド3g(0.10モル)添加した。反
応混合物を室温まで暖め、20〜25℃に2時間保ち、
そして10℃まで冷却した。この反応混合物に、温度を
15℃以下に保ちながらキナクリドン31.2g(0.
10モル)を添加した。この混合物を室温まで暖め、つ
いで60〜65℃に2時間保った。室温で18時間撹拌
した後、反応混合物を氷水2リットル中にゆっくりと注
いだ。得られたスラリ−を20℃まで暖め、ついで1時
間撹拌し、固体を濾過により単離し、水洗した。湿った
プレスケ−キを水で再スラリ−化し、60℃まで加熱
し、ついで固体を濾過により再び単離し、水洗した。こ
の湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥し、チオニコ
チンアミドメチルキナクリドン34.8gを得た。
【0054】2−フラミドメチルキナクリドン
【0055】
【化9】
【0056】96%硫酸200gに、約25℃以下の温
度でキナクリドン25g(0.08モル)を添加した。
この酸性混合物を30分間撹拌し、ついで2−フラミド
[J.アム・ケム・ソク(Am.Chem.Soc)7
5,2370〜2372(1953)に記述された方法
で製造]9g(0.08モル)を、温度を35℃以下に
保ちながら添加した。得られた混合物を更に30分間撹
拌し、パラホルムアルデヒド2.4g((0.08モ
ル)をゆっくりと添加した。この反応混合物を60〜6
5℃に5時間維持した。混合物を室温まで冷却し、室温
で18時間撹拌し、そして氷水2リットル中にゆっくり
と注いだ。得られたスラリ−を30分間撹拌し、ついで
固体を濾過により単離し、水洗した。湿ったプレスケ−
キを水で再スラリ−化し、60℃まで加熱した。ついで
固体を濾過により単離し、水洗した。湿ったプレスケ−
キを60℃の炉で乾燥し、2−フラミドメチルキナクリ
ドン31.2gを得た。
度でキナクリドン25g(0.08モル)を添加した。
この酸性混合物を30分間撹拌し、ついで2−フラミド
[J.アム・ケム・ソク(Am.Chem.Soc)7
5,2370〜2372(1953)に記述された方法
で製造]9g(0.08モル)を、温度を35℃以下に
保ちながら添加した。得られた混合物を更に30分間撹
拌し、パラホルムアルデヒド2.4g((0.08モ
ル)をゆっくりと添加した。この反応混合物を60〜6
5℃に5時間維持した。混合物を室温まで冷却し、室温
で18時間撹拌し、そして氷水2リットル中にゆっくり
と注いだ。得られたスラリ−を30分間撹拌し、ついで
固体を濾過により単離し、水洗した。湿ったプレスケ−
キを水で再スラリ−化し、60℃まで加熱した。ついで
固体を濾過により単離し、水洗した。湿ったプレスケ−
キを60℃の炉で乾燥し、2−フラミドメチルキナクリ
ドン31.2gを得た。
【0057】2−チオフェンカルボキサミドメチルキナ
クリドン
クリドン
【0058】
【化10】
【0059】100%硫酸210gに、約15℃以下の
温度で2−チオフェンカルボキサミド12g(0.09
モル)を添加した。この酸性混合物を15分間撹拌し、
ついでパラホルムアルデヒド2.7g(0.09モル)
をゆっくりと添加した。反応混合物を10℃以下の温度
で15分間、続いて室温で2時間撹拌し、そして10℃
まで冷却した。キナクリドン28.1g(0,09モ
ル)を添加した後、反応混合物を60℃に2時間保っ
た。ついで混合物を室温まで冷却し、室温で18時間撹
拌し、温度を15℃以下に保ちながら氷水2リットル中
にゆっくりと注いだ。得られたスラリ−を1時間撹拌
し、ついで固体を濾過により単離し、水洗した。湿った
プレスケ−キを水で再スラリ−化し、60℃まで加熱
し、ついで固体を濾過により再び単離し、水洗した。こ
の湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥し、2−チオ
フェンカルボキサミドメチルキナクリドン39.3gを
得た。
温度で2−チオフェンカルボキサミド12g(0.09
モル)を添加した。この酸性混合物を15分間撹拌し、
ついでパラホルムアルデヒド2.7g(0.09モル)
をゆっくりと添加した。反応混合物を10℃以下の温度
で15分間、続いて室温で2時間撹拌し、そして10℃
まで冷却した。キナクリドン28.1g(0,09モ
ル)を添加した後、反応混合物を60℃に2時間保っ
た。ついで混合物を室温まで冷却し、室温で18時間撹
拌し、温度を15℃以下に保ちながら氷水2リットル中
にゆっくりと注いだ。得られたスラリ−を1時間撹拌
し、ついで固体を濾過により単離し、水洗した。湿った
プレスケ−キを水で再スラリ−化し、60℃まで加熱
し、ついで固体を濾過により再び単離し、水洗した。こ
の湿ったプレスケ−キを60℃の炉で乾燥し、2−チオ
フェンカルボキサミドメチルキナクリドン39.3gを
得た。
【0060】実施例1〜12 実施例1〜12は顔料組成物の製造及び試験例を示す。
【0061】実施例で製造した顔料に対する色合い及び
色度の相違は、アプライド・カラ−・システム・スペク
トラル・センサ−(Applied Color Sy
stem Spectral Sensor)[フント
・アソシエイテッド研究所(Hunt Associa
ted Laboratories,Fairfax,
Virginia)]を用いて測定した。
色度の相違は、アプライド・カラ−・システム・スペク
トラル・センサ−(Applied Color Sy
stem Spectral Sensor)[フント
・アソシエイテッド研究所(Hunt Associa
ted Laboratories,Fairfax,
Virginia)]を用いて測定した。
【0062】水に基づく塗料の試験 水由来ベ−スコ−ト/溶媒由来クリアコ−ト系を用いて
水に基づく塗料の試験を行った。水性分散液は、アロロ
ン(AROLONR)559−G4−70アクリル樹脂
[ライヒホ−ルド・ケミカルズ(Reichhold
Chemicals,Inc.)]12.4%、ソルス
パ−ス(SOLSPERSER)27000ハイパ−デ
イスパ−サント(hyperdispersant)
[ゼネカ(Zeneca,Inc.)]3.2%、2−
アミノ−2−メチル−1−プロパノ−ル[アングス・ケ
ミカル(Angus Chemical)]1.6%、
及び顔料18%の混合物を用いて製造した。これは顔料
対結合剤比18:12及び全固体含量30%を与えた。
ついで更にアロロン559−G4−70アクリル樹脂
(全量25%)及びサイメル(CYMELR)325メ
ラミン/ホルムアルデヒド樹脂[サイテック・インダス
トリ−ズ(Cytec Industries)]25
%を添加して、顔料対結合剤比を10:40まで減じ、
全固体含量を50%にした。マスト−ン(massto
ne)及び透明性の測定は、それぞれ湿ったフィルムを
厚さ76及び38μmで適用し且つ室温に15分間及び
100℃に5分間放置して作成したフィルムを用いて行
った。ついでアロプラズ(APOPLAZR)1453
−X−50アルキッド樹脂80%及びサイメエル325
メラミン/ホルムアルデヒド樹脂20%の混合物を全固
体量57%で含むクリアコ−トを、湿ったフィルムの厚
さ76μmで適用し且つ室温に15分間及び121℃に
15分間放置して、ベ−スコ−ト上に適用した。
水に基づく塗料の試験を行った。水性分散液は、アロロ
ン(AROLONR)559−G4−70アクリル樹脂
[ライヒホ−ルド・ケミカルズ(Reichhold
Chemicals,Inc.)]12.4%、ソルス
パ−ス(SOLSPERSER)27000ハイパ−デ
イスパ−サント(hyperdispersant)
[ゼネカ(Zeneca,Inc.)]3.2%、2−
アミノ−2−メチル−1−プロパノ−ル[アングス・ケ
ミカル(Angus Chemical)]1.6%、
及び顔料18%の混合物を用いて製造した。これは顔料
対結合剤比18:12及び全固体含量30%を与えた。
ついで更にアロロン559−G4−70アクリル樹脂
(全量25%)及びサイメル(CYMELR)325メ
ラミン/ホルムアルデヒド樹脂[サイテック・インダス
トリ−ズ(Cytec Industries)]25
%を添加して、顔料対結合剤比を10:40まで減じ、
全固体含量を50%にした。マスト−ン(massto
ne)及び透明性の測定は、それぞれ湿ったフィルムを
厚さ76及び38μmで適用し且つ室温に15分間及び
100℃に5分間放置して作成したフィルムを用いて行
った。ついでアロプラズ(APOPLAZR)1453
−X−50アルキッド樹脂80%及びサイメエル325
メラミン/ホルムアルデヒド樹脂20%の混合物を全固
体量57%で含むクリアコ−トを、湿ったフィルムの厚
さ76μmで適用し且つ室温に15分間及び121℃に
15分間放置して、ベ−スコ−ト上に適用した。
【0063】薄い色合いの塗料は、顔料対結合剤比を1
0:40を有する上述の減じた水性分散液から、更にア
ロロン559−G4−70アクリル樹脂、サイメル32
5メラミン/ホルムアルデヒド樹脂、及びテイント−A
YD(TINT−AYDR)CW−5003ホワイト分
散液[ダニエル・プロダクツ(Daniel Prod
ucts Co.)]35%を添加することにより製造
した。これは、顔料対結合剤比1:1.1、全固体含量
55%,及びTiO2対顔料比90:10を与えた。色
の測定は、湿ったフィルムの厚さ38μmで適用し且つ
室温に15分間及び100℃に5分間放置して作成した
フィルムを用いて行った。ついでクリアコ−トを適用
し、上述したように焼き付けた。
0:40を有する上述の減じた水性分散液から、更にア
ロロン559−G4−70アクリル樹脂、サイメル32
5メラミン/ホルムアルデヒド樹脂、及びテイント−A
YD(TINT−AYDR)CW−5003ホワイト分
散液[ダニエル・プロダクツ(Daniel Prod
ucts Co.)]35%を添加することにより製造
した。これは、顔料対結合剤比1:1.1、全固体含量
55%,及びTiO2対顔料比90:10を与えた。色
の測定は、湿ったフィルムの厚さ38μmで適用し且つ
室温に15分間及び100℃に5分間放置して作成した
フィルムを用いて行った。ついでクリアコ−トを適用
し、上述したように焼き付けた。
【0064】メタリック塗料は、顔料対結合剤比18:
12を有する上述した分散液から、水に分散できるアル
ミニウム顔料[シルバ−ライン・マヌファクチュアリン
グ(Silberline Manufacturin
g Co.,Inc.)からのハイドロペ−スト(HY
DROPASTER)]、アロロン559−G4−70
アクリル樹脂、及びサイメル325メラミン/ホルムア
ルデヒド樹脂を、顔料対結合剤比1:2,アルミニウム
対顔料比20:80、及び全固体含量43%を与える量
で使用して製造した。色の測定は、湿ったフィルムの厚
さ38μmで適用し且つ上述のように処理したフィルム
を用いて行った。ついでクリアコ−トを適用し、上述し
たように焼き付けた。
12を有する上述した分散液から、水に分散できるアル
ミニウム顔料[シルバ−ライン・マヌファクチュアリン
グ(Silberline Manufacturin
g Co.,Inc.)からのハイドロペ−スト(HY
DROPASTER)]、アロロン559−G4−70
アクリル樹脂、及びサイメル325メラミン/ホルムア
ルデヒド樹脂を、顔料対結合剤比1:2,アルミニウム
対顔料比20:80、及び全固体含量43%を与える量
で使用して製造した。色の測定は、湿ったフィルムの厚
さ38μmで適用し且つ上述のように処理したフィルム
を用いて行った。ついでクリアコ−トを適用し、上述し
たように焼き付けた。
【0065】実施例1(対照例) 本発明によるヘテロアリ−ルアミドメチルまたはヘテロ
アリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体の不存在下に顔料
2、9−ジメチルキナクリドンを製造した。
アリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体の不存在下に顔料
2、9−ジメチルキナクリドンを製造した。
【0066】88℃に加熱したポリ燐酸(燐酸112
%)300gに、温度を添加速度の調節で120℃以下
に保ちながら35分間に亘り、2、5−ジ(4−メチル
アニリノ)テレフタル酸68.2gを添加した。反応混
合物を123℃に2時間加熱した。この溶融物を93℃
まで冷却し、ついで温度を外部冷却と添加速度の調節で
64℃以下に保ちながらメタノ−ル494g中へゆっく
りと注いだ。得られたスラリ−を還流下に1時間加熱
し、60℃以下まで冷却し、水で希釈し、濾過により集
め、酸がなくなるまで水洗した。ついでプレスケ−キを
水で再スラリ−化した。pHを7以上に調整した後、5
0%水酸化ナトリウム5.5gを添加し、得られたスラ
リ−を90℃に1時間加熱した。このスラリ−を冷却
し、濾過し、そしてアルカリがなくなるまで水洗し、再
び水にスラリ−化した。pHを9.5に調整した後、ス
ラリ−を密閉系(例えば加圧反応器)で143℃に2時
間加熱し、そして40℃まで冷却した。このスラリ−を
pH3.3の酸性にした後、アニオン性界面活性剤2.
2g、石油留分30g、及び水80gの乳化液を添加
し、そしてスラリ−を3時間撹拌した。湿ったケ−キを
60℃の炉で乾燥し、2、9−ジメチルキナクリドン約
60gをマジェンタ色の顔料として得た。
%)300gに、温度を添加速度の調節で120℃以下
に保ちながら35分間に亘り、2、5−ジ(4−メチル
アニリノ)テレフタル酸68.2gを添加した。反応混
合物を123℃に2時間加熱した。この溶融物を93℃
まで冷却し、ついで温度を外部冷却と添加速度の調節で
64℃以下に保ちながらメタノ−ル494g中へゆっく
りと注いだ。得られたスラリ−を還流下に1時間加熱
し、60℃以下まで冷却し、水で希釈し、濾過により集
め、酸がなくなるまで水洗した。ついでプレスケ−キを
水で再スラリ−化した。pHを7以上に調整した後、5
0%水酸化ナトリウム5.5gを添加し、得られたスラ
リ−を90℃に1時間加熱した。このスラリ−を冷却
し、濾過し、そしてアルカリがなくなるまで水洗し、再
び水にスラリ−化した。pHを9.5に調整した後、ス
ラリ−を密閉系(例えば加圧反応器)で143℃に2時
間加熱し、そして40℃まで冷却した。このスラリ−を
pH3.3の酸性にした後、アニオン性界面活性剤2.
2g、石油留分30g、及び水80gの乳化液を添加
し、そしてスラリ−を3時間撹拌した。湿ったケ−キを
60℃の炉で乾燥し、2、9−ジメチルキナクリドン約
60gをマジェンタ色の顔料として得た。
【0067】実施例2 対照実施例1の方法で製造した2、9−ジメチルキナク
リドンを、ニコチンアミドメチルキナクリドン10重量
%と乾式混合した。上述したように製造した水に基づく
塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照
顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度と青
色の色合いを示した。
リドンを、ニコチンアミドメチルキナクリドン10重量
%と乾式混合した。上述したように製造した水に基づく
塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照
顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度と青
色の色合いを示した。
【0068】実施例3(対照例) フタリドメチルキナクリドン10重量%を用いる以外、
実施例2を繰り返した。上述のように製造した水に基づ
く塗料は、本発明の実施例2の顔料を用いて製造した塗
料と比べて、僅かに明るいマスト−ン及び僅かに低下し
た金属様明色性を示した。
実施例2を繰り返した。上述のように製造した水に基づ
く塗料は、本発明の実施例2の顔料を用いて製造した塗
料と比べて、僅かに明るいマスト−ン及び僅かに低下し
た金属様明色性を示した。
【0069】実施例4 対照実施例1の方法による2、9−ジメチルキナクリド
ンを、ジ(ニコチンアミドメチル)キナクリドン10重
量%と乾式混合した。上述したように製造した水に基づ
く塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対
照顔料を用いて製造した塗料と比べて、増大した金属様
青と明色度を示した。
ンを、ジ(ニコチンアミドメチル)キナクリドン10重
量%と乾式混合した。上述したように製造した水に基づ
く塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対
照顔料を用いて製造した塗料と比べて、増大した金属様
青と明色度を示した。
【0070】実施例5 対照実施例1の方法による2、9−ジメチルキナクリド
ンを、チオニコチンアミドメチルキナクリドン10重量
%と乾式混合した。上述したように製造した水に基づく
塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照
顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度を示
した。
ンを、チオニコチンアミドメチルキナクリドン10重量
%と乾式混合した。上述したように製造した水に基づく
塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照
顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度を示
した。
【0071】実施例6 チオニコチンアミドメチルキナクリドン5重量%を用い
る以外、実施例5を繰り返した。上述したように製造し
た水に基づく塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナ
クリドン対照顔料を用いて製造した塗料と対比しうる粘
度及び着色性を示した。
る以外、実施例5を繰り返した。上述したように製造し
た水に基づく塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナ
クリドン対照顔料を用いて製造した塗料と対比しうる粘
度及び着色性を示した。
【0072】実施例7 対照実施例1の方法による2、9−ジメチルキナクリド
ンを、2−フラミドメチルキナクリドン10重量%と乾
式混合した。上述したように製造した水に基づく塗料
は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料
を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度を示し
た。
ンを、2−フラミドメチルキナクリドン10重量%と乾
式混合した。上述したように製造した水に基づく塗料
は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料
を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度を示し
た。
【0073】実施例8 2−フラミドメチルキナクリドン5重量%を用いる以外
実施例7を繰り返した。上述したように製造した水に基
づく塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン
対照顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度
を示した。
実施例7を繰り返した。上述したように製造した水に基
づく塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナクリドン
対照顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少した粘度
を示した。
【0074】実施例9 閉環反応に2−フラミドメチルキナクリドン(2、5−
ジ(4−メチルアニリノ)−テレエフタル酸に対して5
重量%)を共存させる以外、正確に対照実施例1に従っ
て、顔料2、9−ジメチルキナクリドンを製造した。上
述したように製造した水に基づく塗料は、実施例1の
2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料を用いて製造し
た塗料と比べて、より深い、より明るい、より透明なマ
スト−ン並びに増大した金属様青と明色性を示した。
ジ(4−メチルアニリノ)−テレエフタル酸に対して5
重量%)を共存させる以外、正確に対照実施例1に従っ
て、顔料2、9−ジメチルキナクリドンを製造した。上
述したように製造した水に基づく塗料は、実施例1の
2、9−ジメチルキナクリドン対照顔料を用いて製造し
た塗料と比べて、より深い、より明るい、より透明なマ
スト−ン並びに増大した金属様青と明色性を示した。
【0075】実施例10(対照例) フタリドメチルキナクリドン10重量%を用いる以外、
実施例9を繰り返した。上述したように製造した水に基
づく塗料は、本発明の実施例9顔料を用いて製造した塗
料と比べて、より明るいマスト−ン並びに劇的に低下し
た色合い及び金属様明色性を示した。
実施例9を繰り返した。上述したように製造した水に基
づく塗料は、本発明の実施例9顔料を用いて製造した塗
料と比べて、より明るいマスト−ン並びに劇的に低下し
た色合い及び金属様明色性を示した。
【0076】実施例11 対照実施例1の方法による2、9−ジメチルキナクリド
ンを、2−チオフェンカルボキサミドメチルキナクリド
ン10重量%と乾式混合した。上述したように製造した
水に基づく塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナク
リドン対照顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少し
た粘度を示した。
ンを、2−チオフェンカルボキサミドメチルキナクリド
ン10重量%と乾式混合した。上述したように製造した
水に基づく塗料は、実施例1の2、9−ジメチルキナク
リドン対照顔料を用いて製造した塗料と比べて、減少し
た粘度を示した。
【0077】実施例12 2−チオフェンカルボキサミドメチルキナクリドン5重
量%を用いる以外、実施例11を繰り返した。上述した
ように製造した水に基づく塗料は、本発明の実施例9顔
料を用いて製造した塗料と比べて、低下した粘度を示し
た。
量%を用いる以外、実施例11を繰り返した。上述した
ように製造した水に基づく塗料は、本発明の実施例9顔
料を用いて製造した塗料と比べて、低下した粘度を示し
た。
【0078】本発明の特徴及び態様は以下の通りであ
る。
る。
【0079】1.有機顔料に基づいて約0.1〜約20
重量%の式
重量%の式
【0080】
【化11】
【0081】[式中、Qは有機顔料部分を表し、XはO
またはSであり、Hetは環炭素原子において(チオ)
アミドメチル−CH2−NH−CX−連結基結合するヘ
テロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4である]を有す
る顔料誘導体で処理した有機顔料を含んでなる顔料組成
物。
またはSであり、Hetは環炭素原子において(チオ)
アミドメチル−CH2−NH−CX−連結基結合するヘ
テロ芳香族基を表し、そしてnは1〜4である]を有す
る顔料誘導体で処理した有機顔料を含んでなる顔料組成
物。
【0082】2.有機顔料を顔料誘導体1〜10重量%
で処理する、上記1の顔料組成物。
で処理する、上記1の顔料組成物。
【0083】3.Hetが、1つまたはそれ以上の環原
子がC1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、C5〜C7
シクロアルキル、C5〜C7シクロアルコキシ、C6〜C
10アリ−ル、C6〜C10アリ−ロキシ、C7〜C16アラル
キル、C7〜C16アラルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ン、ニトリル、カルボキシルまたはそのアミド、スルホ
ニル、或いはそれらの組み合わせ基で置換されているピ
ロ−ル、イミダゾ−ル、ピラゾ−ル、ピリジン、ピラジ
ン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フラン、チ
オフェン、イソキサゾ−ル、イソチアゾ−ル、またはフ
ラザン、或いはそれらの誘導体である、上記1の顔料組
成物。
子がC1〜C6アルキル、C1〜C6アルコキシ、C5〜C7
シクロアルキル、C5〜C7シクロアルコキシ、C6〜C
10アリ−ル、C6〜C10アリ−ロキシ、C7〜C16アラル
キル、C7〜C16アラルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ン、ニトリル、カルボキシルまたはそのアミド、スルホ
ニル、或いはそれらの組み合わせ基で置換されているピ
ロ−ル、イミダゾ−ル、ピラゾ−ル、ピリジン、ピラジ
ン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フラン、チ
オフェン、イソキサゾ−ル、イソチアゾ−ル、またはフ
ラザン、或いはそれらの誘導体である、上記1の顔料組
成物。
【0084】4.顔料誘導体が(a)式
【0085】
【化12】
【0086】[式中、XはOまたはSであり、そしてn
は1または2である]を有するニコチンアミドメチルキ
ナクリドン又はチオニコチンアミドメチルキナクリド
ン、(b)式
は1または2である]を有するニコチンアミドメチルキ
ナクリドン又はチオニコチンアミドメチルキナクリド
ン、(b)式
【0087】
【化13】
【0088】を有する2−フラミドメチル−置換キナク
リドン、または(c)式
リドン、または(c)式
【0089】
【化14】
【0090】を有する2−チオフェンカルボキサミドメ
チルキナクリドン、である、上記1の顔料組成物。
チルキナクリドン、である、上記1の顔料組成物。
【0091】5.有機顔料がキナクリドンである、上記
4の顔料組成物。
4の顔料組成物。
【0092】6.有機顔料を、(a)粗有機顔料を、強
鉱酸中においてヘテロアリ−ルアミドメチル及び/また
はヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体と混合す
る、(b)粗製のまたは精製有機顔料をヘテロアリ−ル
アミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメ
チル顔料誘導体と湿式または乾式混合する、(c)ヘテ
ロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチ
オアミドメチル顔料誘導体を、該有機顔料の合成中に添
加する、(d)該有機顔料を、ヘテロアリ−ルアミドメ
チル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料
誘導体の存在下に調整する、或いは(e)方法(a)、
(b)、(c)、及び(d)の1つまたはそれ以上を組
み合わせる、ことにより処理する、上記1の顔料組成
物。
鉱酸中においてヘテロアリ−ルアミドメチル及び/また
はヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料誘導体と混合す
る、(b)粗製のまたは精製有機顔料をヘテロアリ−ル
アミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメ
チル顔料誘導体と湿式または乾式混合する、(c)ヘテ
ロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチ
オアミドメチル顔料誘導体を、該有機顔料の合成中に添
加する、(d)該有機顔料を、ヘテロアリ−ルアミドメ
チル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔料
誘導体の存在下に調整する、或いは(e)方法(a)、
(b)、(c)、及び(d)の1つまたはそれ以上を組
み合わせる、ことにより処理する、上記1の顔料組成
物。
【0093】7.請求項1の顔料組成物を含む顔料で着
色した塗料。
色した塗料。
【0094】8.請求項1の顔料組成物を含む顔料で着
色したプラスチック。
色したプラスチック。
【0095】9.請求項1の顔料組成物を含む顔料で着
色したインキ。
色したインキ。
【0096】10.請求項1の顔料組成物を含む顔料で
着色したトナ−。
着色したトナ−。
Claims (5)
- 【請求項1】 (a)粗有機顔料を、強鉱酸中におい
て、ヘテロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロア
リ−ルチオアミドメチル顔料誘導体と混合する、(b)
粗製のまたは精製(finished)有機顔料を、ヘ
テロアリ−ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ル
チオアミドメチル顔料誘導体と湿式または乾式混合す
る、(c)有機顔料の製造中に、ヘテロアリ−ルアミド
メチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミドメチル顔
料誘導体を添加する、(d)有機顔料を、ヘテロアリ−
ルアミドメチル及び/またはヘテロアリ−ルチオアミド
メチル顔料誘導体の存在下に調整する、或いは(e)方
法(a)、(b)、(c)、及び(d)の1つまたはそ
れ以上を組み合わせる、ことによって処理した該有機顔
料を含んでなる顔料組成物。 - 【請求項2】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
した塗料。 - 【請求項3】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
したプラスチック。 - 【請求項4】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
したインキ。 - 【請求項5】 請求項1の顔料組成物を含む顔料で着色
したトナー。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/777102 | 1996-12-31 | ||
US08/777,102 US5698024A (en) | 1996-12-31 | 1996-12-31 | Organic pigment compositions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10195329A true JPH10195329A (ja) | 1998-07-28 |
Family
ID=25109295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9369330A Pending JPH10195329A (ja) | 1996-12-31 | 1997-12-30 | 有機顔料組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
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