JPH10190230A - Multilayer printed wiring board and its manufacture - Google Patents

Multilayer printed wiring board and its manufacture

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JPH10190230A
JPH10190230A JP8350410A JP35041096A JPH10190230A JP H10190230 A JPH10190230 A JP H10190230A JP 8350410 A JP8350410 A JP 8350410A JP 35041096 A JP35041096 A JP 35041096A JP H10190230 A JPH10190230 A JP H10190230A
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JP
Japan
Prior art keywords
printed wiring
wiring board
multilayer printed
resin
core substrate
Prior art date
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Application number
JP8350410A
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Japanese (ja)
Inventor
Naohiro Mori
尚博 森
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Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer printed wiring board, in which the filling properties of a resin into a through-hole are improved while the quantity of the multilayer printed wiring board warped can be reduced, on which various electronic parts can be loaded surely and which has high reliability on mounting. SOLUTION: The thickness of a core board 2 in the multilayer printed wiring board 1 is adjusted within a range of 0.6-1.00mm. Consequently, the multilayer printed wiring board can resist force intending to generate warpage sufficiently in the multilayer printed wiring board 1 and warpage is prevented, and the insides of through-holes 4 are filled with a resin 5 without trouble. Accordingly, the warpage of the multilayer printed wiring board 1 with shrinkage on the curing of inter-layer resin insulating layers 6 is prevented by making the thickness of the core board 2 larger than 0.6mm, and the filling properties of the resin 5 into the through-holes 4 can be ensured by setting the thickness of the core board 2 to 1.0mm or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コア基板の表面及
び裏面の双方に導体回路が形成されたスルーホールを有
する多層プリント配線板に関し、特に、スルーホールへ
の樹脂の充填性に優れるとともに、多層プリント配線板
の反り量を小さくすることが可能であり、もって各導体
回路相互の平行度を確保しつつ各種の電子部品を確実に
搭載することが可能な多層プリント配線板に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer printed wiring board having a through hole in which a conductive circuit is formed on both the front and back surfaces of a core substrate, and more particularly to a resin having excellent through hole filling properties. The present invention relates to a multilayer printed wiring board capable of reducing the amount of warpage of the multilayer printed wiring board, and thereby securely mounting various electronic components while ensuring the parallelism between the conductor circuits.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、一般に、所謂ビルドアップ多
層配線板では、スルーホールが形成されたコア基板の表
面側や裏面側に層間樹脂絶縁層と導体回路層を交互に積
層し、層間樹脂絶縁層にバイアホールが設けられるとと
もに、このバイアホールの壁面に導体膜を形成すること
により、上層の導体回路と下層の導体回路とを電気的に
接続している。ここに、コア基板のスルーホールには、
層間樹脂絶縁層の平滑性を確保するため、通常樹脂が充
填されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a so-called build-up multilayer wiring board, an interlayer resin insulating layer and a conductive circuit layer are alternately laminated on a front side or a back side of a core substrate having a through-hole formed therein. A via hole is provided in the layer, and a conductor film is formed on the wall surface of the via hole, thereby electrically connecting the upper conductor circuit and the lower conductor circuit. Here, in the through hole of the core board,
In order to ensure the smoothness of the interlayer resin insulation layer, resin is usually filled.

【0003】例えば、特開昭61−276875号、U
SP5055321号などでは、耐熱性樹脂微粉末が分
散された感光性樹脂マトリックスに分散された感光性無
電解接着剤を層間絶縁剤とし、露光、現像処理によりバ
イアホール形成用の孔を設け、耐熱性樹脂微粉末を酸化
剤で粗化処理して表面を粗化し、無電解めっきし、多層
プリント配線板を製造する方法が開示されている。ま
た、特開平2−188992号の実施例では、耐熱性樹
脂微粉末が分散された熱硬化性無電解接着剤を層間絶縁
剤とし、レーザ光によりバイアホール用の孔を形成した
後、耐熱性樹脂微粉末を酸化剤で粗化処理して表面を粗
化し無電解めっきし、多層プリント配線板を製造する方
法が開示されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-276875, U.S. Pat.
In SP5055531, etc., a photosensitive electroless adhesive dispersed in a photosensitive resin matrix in which a heat-resistant resin fine powder is dispersed is used as an interlayer insulating agent, and a hole for forming a via hole is provided by exposure and development treatments. There is disclosed a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by roughening the surface of a resin fine powder with an oxidizing agent to roughen the surface, and electrolessly plating the same. In the example of JP-A-2-18892, a thermosetting electroless adhesive in which a heat-resistant resin fine powder is dispersed is used as an interlayer insulating agent, and a laser beam is used to form a via hole. There is disclosed a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by roughening a resin fine powder with an oxidizing agent to roughen the surface and performing electroless plating.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記各公報
に開示された多層プリント配線板においては、ICチッ
プなどの各種の電子部品が搭載されることから、多層プ
リント配線板にはその表面における平坦度が要求され、
一般的に、多層プリント配線板における実用的な反りの
許容量は経験的に76μm程度であることが知られてい
る。
In the multilayer printed wiring boards disclosed in the above publications, since various electronic components such as IC chips are mounted, the multilayer printed wiring board has a flat surface. Degree is required,
Generally, it is empirically known that a practical allowable amount of warpage in a multilayer printed wiring board is about 76 μm.

【0005】しかしながら、前記のような多層プリント
配線板を実際に量産した場合には、その反り量を前記許
容値の範囲内に抑えることは困難であり、実際には、反
り量が76μmを超える製品が多数見られる。この結
果、収率を低下させてしまうという問題が発生した。
However, when the above-mentioned multilayer printed wiring board is actually mass-produced, it is difficult to suppress the amount of warpage within the range of the allowable value. In practice, the amount of warpage exceeds 76 μm. There are many products. As a result, there has been a problem that the yield is reduced.

【0006】本発明は、前記従来の問題点を解消するた
めになされたものであり、スルーホールへの樹脂の充填
性に優れるとともに、多層プリント配線板の反り量を小
さくすることができ、もって多層プリント配線板の表面
及び裏面に形成された各導体回路相互の平行度を確保し
つつ各種の電子部品を確実に搭載することが可能な実装
信頼性の高い多層プリント配線板を提供することを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and is excellent in the filling property of resin into through holes and can reduce the amount of warpage of a multilayer printed wiring board. It is an object of the present invention to provide a multilayer printed wiring board with high mounting reliability, which can securely mount various electronic components while ensuring the parallelism between the conductor circuits formed on the front and back surfaces of the multilayer printed wiring board. Aim.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、多層プリン
ト配線板の反り量を小さくすべく鋭意研究した結果、多
層プリント配線板における反りは、次のような機構に従
って発生することを見い出した。即ち、プレプレグを介
して積層される従前の多層プリント配線板とは異なり、
ビルドアップ多層プリント配線板においては、その表面
及び裏面にて、層間樹脂絶縁層と導体層とを交互に積層
しているため、層間樹脂絶縁層に発生する硬化収縮に起
因して多層プリント配線板が反ってしまうことを見い出
した。
The present inventors have conducted intensive studies to reduce the amount of warpage of a multilayer printed wiring board, and as a result, have found that warpage in a multilayer printed wiring board occurs according to the following mechanism. . That is, unlike the conventional multilayer printed wiring board laminated via the prepreg,
In the build-up multilayer printed wiring board, since the interlayer resin insulating layer and the conductor layer are alternately laminated on the front and back surfaces, the multilayer printed wiring board is caused by the curing shrinkage generated in the interlayer resin insulating layer. Was found to be warped.

【0008】このような多層プリント配線板の反りを防
止するためには、コア基板を厚くすればよいが、コア基
板を厚くすると、印刷法によりスルーホール内に樹脂を
充填することが困難になり、これにより層間樹脂絶縁層
に凹凸が発生してしまって各種電子部品の実装信頼性を
低下させてしまうこととなる。そこで、本発明者は前記
事実を総合的に勘案し、各種電子部品の実装信頼性を確
保しつつ反りを防止するためには、コア基板の厚さを所
定の範囲に調製する必要があることを新たに知見するに
至った。
To prevent such a multilayer printed wiring board from warping, the core substrate may be thickened. However, if the core substrate is thickened, it becomes difficult to fill the through holes with resin by a printing method. As a result, unevenness is generated in the interlayer resin insulating layer, and the mounting reliability of various electronic components is reduced. Therefore, the present inventor needs to adjust the thickness of the core substrate to a predetermined range in order to prevent the warpage while securing the mounting reliability of various electronic components in consideration of the above facts. Was newly found.

【0009】前記知見に基づき、請求項1に係る多層プ
リント配線板は、コア基板にスルーホールが形成され、
コア基板の両面に導体回路が形成された多層プリント配
線板であって、前記スルーホール内には樹脂が充填され
てなるとともに、コア基板の厚さは、0.6mmを超
え、1.0mm以下であることを特徴とする。また、請
求項2に係る多層プリント配線板は、請求項1の多層プ
リント配線板において、前記コア基板の両面には、層間
樹脂絶縁層を介して導体回路層が少なくとも1層積層さ
れてなる構成を有する。
Based on the above findings, the multilayer printed wiring board according to claim 1 has a through hole formed in a core substrate,
A multilayer printed wiring board in which conductive circuits are formed on both surfaces of a core substrate, wherein the through holes are filled with resin, and the thickness of the core substrate is greater than 0.6 mm and not more than 1.0 mm. It is characterized by being. The multilayer printed wiring board according to a second aspect is the multilayer printed wiring board according to the first aspect, wherein at least one conductive circuit layer is laminated on both surfaces of the core substrate via an interlayer resin insulating layer. Having.

【0010】更に、請求項3に係る多層プリント配線板
の製造方法は、コア基板にスルーホールを形成し、その
コア基板にスルーホールの位置に該当する部分に開口が
形成された印刷用マスクを載置し、樹脂を印刷してスル
ーホール内に樹脂を充填し、次いでこのコア基板の両面
に層間樹脂絶縁層および導体回路層を積層する多層プリ
ント配線板の製造方法において、前記コア基板の厚さ
を、0.6mmを超え、1.0mm以下としたことを特
徴とする。
Further, according to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising: forming a through hole in a core substrate; and forming a printing mask having an opening in a portion corresponding to the position of the through hole on the core substrate. Mounting, printing the resin, filling the resin into the through holes, and then laminating an interlayer resin insulating layer and a conductive circuit layer on both sides of the core substrate, in the method of manufacturing a multilayer printed wiring board, the thickness of the core substrate Is set to be greater than 0.6 mm and 1.0 mm or less.

【0011】前記請求項1〜請求項3の多層プリント配
線板及びその製造方法では、コア基板の厚さが0.6m
m〜1.00mmの範囲内に調製されるので、多層プリ
ント配線板に反りを発生しようとする力に対して十分対
抗することが可能となって反りを防止することが可能で
あり、また、スルーホール内への樹脂の充填を何ら支障
なく行うことが可能となる。具体的には、コア基板の厚
さを、0.6mmを超えたものとすることで、層間樹脂
絶縁層の硬化収縮に伴う多層プリント配線板の反りを防
止し、また、コア基板の厚さを1.0mm以下とするこ
とでスルーホールへの樹脂充填性を保証するのである。
これにより、多層プリント配線板における各導体回路相
互の平行度を確保しつつ各種の電子部品を確実に搭載可
能として実装信頼性を高く保持可能となる。このよう
に、前記コア基板の厚さの範囲は、多層プリント配線板
の反りを防止し、層間樹脂絶縁層の表面凹凸を防止し
て、ICチップなどの電子部品の実装信頼性を確保でき
る特異的な範囲である。ここに、コア基板の厚さは、
0.7〜0.9mmの範囲にあることが望ましい。
In the multilayer printed wiring board and the method for manufacturing the same according to the first to third aspects, the thickness of the core substrate is 0.6 m.
m is adjusted within the range of 1.00 mm, it is possible to sufficiently oppose a force that is likely to generate warpage in the multilayer printed wiring board, and it is possible to prevent warpage. The resin can be filled into the through hole without any problem. Specifically, by setting the thickness of the core substrate to be more than 0.6 mm, the warpage of the multilayer printed wiring board due to the curing shrinkage of the interlayer resin insulating layer is prevented, and the thickness of the core substrate is also reduced. Is set to 1.0 mm or less, the resin filling property to the through holes is guaranteed.
Accordingly, various electronic components can be reliably mounted while ensuring the parallelism between the conductor circuits in the multilayer printed wiring board, and the mounting reliability can be maintained high. As described above, the range of the thickness of the core substrate is unique in that the warpage of the multilayer printed wiring board can be prevented, the surface unevenness of the interlayer resin insulating layer can be prevented, and the mounting reliability of electronic components such as IC chips can be secured. Range. Here, the thickness of the core substrate is
It is desirable to be in the range of 0.7 to 0.9 mm.

【0012】また、コア基板の形成されるスルーホール
の径は、0.1〜0.5mmの範囲にあることが望まし
い。スルーホールの径が小さすぎると樹脂充填が困難で
あり、逆に径が大きすぎると樹脂が抜けてしまい、やは
り樹脂充填が困難になることに基づく。また、スルーホ
ール径が大きくなると配線密度の低下も招き、半導体パ
ッケージのコア基板としては不適切である。
Further, it is desirable that the diameter of the through hole in which the core substrate is formed is in the range of 0.1 to 0.5 mm. If the diameter of the through hole is too small, it is difficult to fill the resin. Conversely, if the diameter is too large, the resin will escape, and it will be difficult to fill the resin. Further, when the diameter of the through hole is increased, the wiring density is reduced, which is unsuitable as a core substrate of a semiconductor package.

【0013】更に、コア基板としては、ビスマレイミド
トリアジン(BT)樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂から選ばれる少なくとも1種以上の樹脂をガラスクロ
スに含浸し、これを複数枚積層したいわゆる繊維強化樹
脂基板が望ましい。ドリルやレーザ光で穴明けが可能で
あり、また、層間樹脂絶縁層を形成するにつきその密着
性に優れることに基づく。
Further, as a core substrate, a so-called fiber reinforced resin substrate obtained by impregnating a glass cloth with at least one resin selected from a bismaleimide triazine (BT) resin, an epoxy resin and a polyimide resin and laminating a plurality of the glass cloths. Is desirable. It is based on the fact that it can be drilled with a drill or a laser beam, and that the interlayer resin insulating layer is formed with excellent adhesion.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る多層プリント
配線板について、本発明を具体化した実施形態に基づき
図面を参照しつつ説明する。先ず、本実施形態の多層プ
リント配線板について図1に基づき説明する。図1は多
層プリント配線板の断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A multilayer printed wiring board according to the present invention will be described below based on an embodiment embodying the present invention with reference to the drawings. First, a multilayer printed wiring board according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a sectional view of a multilayer printed wiring board.

【0015】図1において、多層プリント配線板1は、
コア基板2の表面(図1中、上面)及び裏面(図中、下
面)のそれぞれに各2層の導体回路を形成してなる4層
の多層プリント配線板である。コア基板2は、その厚さ
が0.6mm〜1.00mmの範囲、例えば、0.8m
mの基板が使用されており、その両面には、両面銅張積
層板における各銅箔を所定パターン状にエッチングする
ことにより内層導体回路3が形成されている。ここに、
コア基板2の厚さが0.8mmであることから、後述す
る層間絶縁層6の形成時に、その硬化収縮が発生した場
合においても、コア基板2は、層間樹脂絶縁層6の硬化
収縮に対して十分対抗して反ることはない。
In FIG. 1, a multilayer printed wiring board 1 comprises:
This is a four-layer multilayer printed wiring board formed by forming two conductor circuits on each of the front surface (upper surface in FIG. 1) and the back surface (lower surface in FIG. 1) of the core substrate 2. The core substrate 2 has a thickness in the range of 0.6 mm to 1.00 mm, for example, 0.8 m
m substrates are used, and the inner conductor circuit 3 is formed on both surfaces thereof by etching each copper foil of the double-sided copper-clad laminate in a predetermined pattern. here,
Since the thickness of the core substrate 2 is 0.8 mm, even when the hardening shrinkage occurs during the formation of the interlayer insulating layer 6 described below, the core substrate 2 is not affected by the hardening shrinkage of the interlayer resin insulating layer 6. There is no war against it.

【0016】尚、内層導体回路3中には、後述するバイ
アホール10に接続されるパッド3Aが含まれる。ま
た、コア基板2には、0.1mm〜0.5mmの範囲、
例えば、0.3mmの径を有するスルーホール4が形成
されており、スルーホール4の内部及びその周縁にはス
ルーホールメッキ4Aが形成されている。
The inner conductor circuit 3 includes a pad 3A connected to a via hole 10 described later. The core substrate 2 has a range of 0.1 mm to 0.5 mm,
For example, a through-hole 4 having a diameter of 0.3 mm is formed, and a through-hole plating 4A is formed inside the through-hole 4 and on the periphery thereof.

【0017】スルーホール4の内部及びスルーホールめ
っき4Aとパッド3Aとの間には樹脂層5が充填されて
いる。このとき、スルーホール4の径は0.3mmに形
成されているので、樹脂層5は全く支障なく充填され得
る。樹脂層5の面は、パッド3Aの面及びスルーホール
めっき4Aの面と同一面にされている。また、各パッド
3A、スルーホールめっき4A、及び、樹脂層5の上に
は、無電解めっき用接着剤を塗布することにより層間樹
脂絶縁層6が形成されている。層間樹脂絶縁層6の表面
は、粗化処理が施されているとともに、パッド3Aに対
応する位置にバイアホール用開口7が形成されている。
A resin layer 5 is filled inside the through hole 4 and between the through hole plating 4A and the pad 3A. At this time, since the diameter of the through hole 4 is formed to be 0.3 mm, the resin layer 5 can be filled without any trouble. The surface of the resin layer 5 is the same as the surface of the pad 3A and the surface of the through-hole plating 4A. An interlayer resin insulating layer 6 is formed on each of the pads 3A, the through-hole plating 4A, and the resin layer 5 by applying an adhesive for electroless plating. The surface of the interlayer resin insulating layer 6 is subjected to a roughening treatment, and a via hole opening 7 is formed at a position corresponding to the pad 3A.

【0018】また、層間樹脂絶縁層6上において、無電
解めっき永久レジスト層8が所定パターン状に形成され
ており、各永久レジスト層8の間には、無電解銅めっき
処理により外層導体回路9、及び、バイアホール用開口
7の部分に導体層を有するバイアホール10が形成され
ている。次に、前記のように構成された多層プリント配
線板1の具体的製造方法について図2〜図11を参照し
つつ実施例に基づき説明する。
On the interlayer resin insulation layer 6, an electroless plating permanent resist layer 8 is formed in a predetermined pattern, and an outer conductor circuit 9 is provided between the permanent resist layers 8 by electroless copper plating. In addition, a via hole 10 having a conductor layer is formed in the portion of the via hole opening 7. Next, a specific method for manufacturing the multilayer printed wiring board 1 configured as described above will be described based on an embodiment with reference to FIGS.

【0019】(実施例) (1)500×500mmで厚さ0.8mmのガラスエポ
キシ又はBT(ビスマレイミドトリアジン)から成る基
板の両面に18μmの銅箔がラミネートされて成る銅張
積層板(コア基板2:図2参照)を出発材料とし、その
銅箔を常法に従いパターン状にエッチングすることによ
り、コア基板2の両面に面状の導体層(内層導体回路
3)と、両面を接続する直径0.3mmのスルーホール
4及びバイアホール10と接続するパッド3Aを形成し
た(図3参照)。尚、スルーホール4の内部及びその周
縁には、通常の方法に従ってスルーホールめっき4Aを
形成した(図3参照)。
EXAMPLES (1) A copper-clad laminate (core) in which 18 μm copper foil is laminated on both sides of a substrate made of glass epoxy or BT (bismaleimide triazine) having a size of 500 × 500 mm and a thickness of 0.8 mm. Using the substrate 2 as a starting material, the copper foil is etched in a pattern according to a conventional method to connect a planar conductor layer (inner conductor circuit 3) to both sides of the core substrate 2. A pad 3A connected to the through hole 4 and the via hole 10 having a diameter of 0.3 mm was formed (see FIG. 3). In addition, a through-hole plating 4A was formed inside the through-hole 4 and on the periphery thereof according to a usual method (see FIG. 3).

【0020】(2)一方、ビスフェノールF系エポキシ
モノマー(油化シェルエポキシ製:分子量310:商品
名E−807)を100重量部、イミダゾール硬化剤
(四国化成製:商品名2E4MZ−CN)6重量部、さ
らに、この混合物に対し、SiO2 球状粒子の平均径
1.6μm(ここで、最大粒は内層導体回路3の厚さ
(15μm)以下とする)を170重量部を混合し、3
本ロールにて混練して23℃で粘度45Pa・sのフラ
ット化のための樹脂を調製した。尚、この樹脂は、無溶
剤である。溶剤を混入しないのは、溶剤入りの樹脂を使
用すると層間剤(層間樹脂絶縁層6を形成するための樹
脂材)を塗布して加熱・乾燥させるとフラット化のため
の樹脂層から溶剤が揮発して、フラット化のための樹脂
層と層間絶縁層6との間で剥離が発生することに基づ
く。
(2) On the other hand, 100 parts by weight of a bisphenol F epoxy monomer (manufactured by Yuka Shell Epoxy: molecular weight 310, trade name E-807) and 6 parts by weight of an imidazole curing agent (manufactured by Shikoku Chemicals: trade name 2E4MZ-CN) And 170 parts by weight of an average particle size of the SiO2 spherical particles of 1.6 μm (here, the maximum particle size is not more than the thickness of the inner conductor circuit 3 (15 μm)).
By kneading with this roll, a resin for flattening the viscosity at 23 ° C. and 45 Pa · s was prepared. This resin is solvent-free. The reason why the solvent is not mixed is that when a resin containing a solvent is used, an interlayer agent (a resin material for forming the interlayer resin insulating layer 6) is applied, and when the resin is heated and dried, the solvent evaporates from the resin layer for flattening. Then, separation is caused between the resin layer for flattening and the interlayer insulating layer 6.

【0021】(3)ここで、コア基板2におけるスルー
ホール4の位置に相当する場所に直径0.5mmの開口
が形成された厚さ0.3mmの印刷用メタルマスク11
をコア基板2上に載置し(図4参照)、スキージにてス
ルーホール4内に樹脂5を充填し(図5参照)、次にロ
ールコータ又は印刷法により充填樹脂5を塗布して内層
導体回路3、パッド3A、スルーホールめっき4A間に
樹脂5を充填した(図6参照)。
(3) Here, a 0.3 mm-thick printing metal mask 11 having an opening having a diameter of 0.5 mm formed at a position corresponding to the position of the through hole 4 in the core substrate 2.
Is placed on the core substrate 2 (see FIG. 4), the resin 5 is filled in the through holes 4 with a squeegee (see FIG. 5), and then the filled resin 5 is applied by a roll coater or a printing method to form an inner layer. The resin 5 was filled between the conductor circuit 3, the pad 3A, and the through-hole plating 4A (see FIG. 6).

【0022】その後、150℃で、30分加熱して硬化
させた。ここに、前記した充填樹脂5は150℃で3時
間加熱することにより略完全に架橋して高い硬度を有す
るに至るが、ここでは150℃で、30分加熱して、後
述するようにベルトサンダー研磨又はバフ研磨が可能と
なるような範囲でのみ硬化させることにより、研磨作業
を容易に行えるようにしておく。かかる加熱工程によ
り、充填樹脂5が銅パターン(内層導体回路3、パッド
3A、スルーホールめっき4A)の間に充填されて、充
填樹脂5と銅パターンの表面が略同一平面となる(図6
参照)。
Thereafter, it was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes. Here, the above-mentioned filling resin 5 is almost completely crosslinked by heating at 150 ° C. for 3 hours to reach high hardness. Here, it is heated at 150 ° C. for 30 minutes, and a belt sander as described later is used. Hardening is performed only in a range where polishing or buffing can be performed so that the polishing operation can be easily performed. By this heating step, the filling resin 5 is filled between the copper patterns (the inner conductor circuit 3, the pads 3A, and the through-hole plating 4A), and the surface of the filling resin 5 and the surface of the copper pattern become substantially the same plane (FIG. 6).
reference).

【0023】前記工程に続いて、コア基板2を、ベルト
サンダーにて#600のベルト研磨紙(三共理化学製)
を用いて両面を研磨した。このとき、内層導体回路3、
パッド3A、スルーホールめっき4A上に充填樹脂5が
残らないように研磨を行った。その後、ベルトサンダー
による傷を取り除くためバフ研磨を行った(図7参
照)。
Following the above steps, the core substrate 2 is polished with a belt sander using a # 600 belt abrasive paper (manufactured by Sankyo Rikagaku).
Were polished on both sides. At this time, the inner conductor circuit 3,
Polishing was performed so that the filling resin 5 did not remain on the pad 3A and the through-hole plating 4A. Thereafter, buffing was performed to remove the scratches caused by the belt sander (see FIG. 7).

【0024】(4)ここで、DMDG(ジメチルグリコ
ールジメチルエーテル)に溶解したクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂(日本化薬製:分子量2500)の2
5%アクリル化物を70重量部、ポリエーテルスルフォ
ン(PES)30重量部、イミダゾール硬化剤(四国化
成製:商品名2E4MZ−CN)4重量部、感光性モノ
マーであるカプロラクトン変成トリス(アクロキシエチ
ル)イソシアヌレート(東亜合成製:商品名アロニック
スM325)10重量部、光開始剤としてのベンゾフェ
ノン(関東化学製)5重量部、光増感剤としてのミヒラ
ーケトン(関東化学製)0.5重量部、さらにこの混合
物に対してエポキシ樹脂粒子の平均粒径3.0μmを3
5重量部、平均粒径0.5μmのものを5重量部を混合
した後、さらにNMPを添加しながら混合し、ホモディ
スパー攪拌機で粘度12Pa・sに調整し、続いて3本
ロールで混練して無電解めっき用接着剤を得た。
(4) Here, a cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: molecular weight 2500) dissolved in DMDG (dimethyl glycol dimethyl ether)
70 parts by weight of 5% acrylate, 30 parts by weight of polyethersulfone (PES), 4 parts by weight of an imidazole curing agent (trade name: 2E4MZ-CN, manufactured by Shikoku Chemicals), and caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) as a photosensitive monomer 10 parts by weight of isocyanurate (trade name: Aronix M325, manufactured by Toa Gosei), 5 parts by weight of benzophenone (manufactured by Kanto Chemical) as a photoinitiator, 0.5 part by weight of Michler's ketone (manufactured by Kanto Chemical) as a photosensitizer, and further The average particle size of the epoxy resin particles was 3.0 μm to 3
5 parts by weight, 5 parts by weight having an average particle size of 0.5 μm were mixed, and further mixed while adding NMP, adjusted to a viscosity of 12 Pa · s with a homodisper stirrer, and then kneaded with three rolls. Thus, an adhesive for electroless plating was obtained.

【0025】(5)コア基板2を水洗いし、乾燥した
後、その基板2を酸性脱脂してソフトエッチングして、
塩化パラジウムと有機酸からなる触媒溶液で処理して、
Pd触媒を付与し、活性化を行い、無電解めっき浴にて
めっきを施し、銅導電体とバイアホールパッドの表面に
Ni−P−Cu合金の厚さ2.5μmの凹凸層(粗化
面)を形成した。そして、水洗いし、その基板をホウふ
っ化スズーチオ尿素液からなる無電解スズめっき浴に5
0℃で1時間浸漬し、Ni−Cu−P合金粗化面の表面
に厚さ0.3μmのスズ置換めっき層を形成した。
(5) After the core substrate 2 is washed with water and dried, the substrate 2 is acid-degreased and soft-etched.
Treated with a catalyst solution consisting of palladium chloride and an organic acid,
A Pd catalyst is applied, activated, plated in an electroless plating bath, and a 2.5 μm thick Ni-P-Cu alloy uneven layer (roughened surface) is formed on the surface of the copper conductor and the via hole pad. ) Formed. Then, the substrate is washed with water, and the substrate is placed in an electroless tin plating bath composed of a tin borofluoride-thiourea solution.
It was immersed at 0 ° C. for 1 hour to form a 0.3 μm thick tin-substituted plating layer on the roughened surface of the Ni—Cu—P alloy.

【0026】(6)前記(5)にて得られたコア基板2
に接着剤を塗布して乾燥させ接着剤層を形成した(図8
参照)。次にフォトマスクフィルムを積層し、400m
J/cm2 の紫外線を照射して露光した。
(6) Core substrate 2 obtained in (5)
An adhesive was applied to the substrate and dried to form an adhesive layer (FIG. 8).
reference). Next, a photomask film is laminated and 400 m
Exposure was performed by irradiating ultraviolet rays of J / cm 2 .

【0027】(7)コア基板2をDMTG溶液でスプレ
ー現像することにより、接着剤層に100μmφのバイ
アホールとなる開口7を形成し、さらに、当該基板を超
高圧水銀灯にて3000mJ/cm2 で露光し、100℃
で1時間、その後150℃で5時間加熱処理することに
より、フォトマスクフィルムに相当する寸法精度に優れ
た開口を有する厚さ50μmの層間樹脂絶縁層6を形成
した(図9参照)。
(7) The core substrate 2 is spray-developed with a DMTG solution to form an opening 7 serving as a 100 μmφ via hole in the adhesive layer. Further, the substrate is exposed to an ultra-high pressure mercury lamp at 3000 mJ / cm 2 . Exposure, 100 ° C
For 1 hour and then at 150 ° C. for 5 hours to form an interlayer resin insulating layer 6 having a thickness of 50 μm and an opening having excellent dimensional accuracy corresponding to a photomask film (see FIG. 9).

【0028】(8)前記開口が形成されたコア基板2
を、クロム酸に2分間浸漬し、樹脂マトリックス中のエ
ポキシ樹脂粒子を溶解して、当該層間樹脂絶縁層6の表
面を粗面とし(図10参照)、その後、中和溶液(シプ
レイ社製)に浸漬した後に水洗いした。
(8) Core substrate 2 in which the opening is formed
Is immersed in chromic acid for 2 minutes to dissolve the epoxy resin particles in the resin matrix to roughen the surface of the interlayer resin insulating layer 6 (see FIG. 10), and then neutralize solution (manufactured by Shipley) And then washed with water.

【0029】(9)この粗面化処理(粗化深さ6μm)
を行ったコア基板2にパラジウム触媒(アトテック製)
を付与することにより、層間樹脂絶縁層6及びバイアホ
ール用開口7に触媒核を付けた。
(9) This surface roughening treatment (roughening depth 6 μm)
Palladium catalyst (manufactured by Atotech)
To give a catalyst core to the interlayer resin insulating layer 6 and the via hole opening 7.

【0030】(10)一方、DMDGに溶解させた40
重量%のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化
薬製)のエポキシ基50%をアクリル化した感光性付与
のオリゴマー(分子量4000)、メチルエチルケトン
に溶解させた20重量%のビスフェノールA型エポキシ
樹脂(油化シェル製 エピコート1001)、イミダゾ
ール硬化剤(四国化成製:商品名2P4MZ)、感光性
モノマーであるアクリル系イソシアネート(東亜合成
製:商品名アロニックスM215)、光開始剤としての
ベンゾフェノン(関東化学製)、光増感剤としてのミヒ
ラーケトン(関東化学製)を以下の組成でNMPを用い
て混合して、ホモディスパー攪拌機で粘度3000cps
に調整し、続いて3本ロールで混練して液状レジストを
得た。このとき、樹脂組成物の組成比は、感光性エポキ
シ樹脂/エピコート1001/ベンゾフェノン/ミヒラ
ーケトン/イミダゾール硬化剤=100/10/5/
0.5/5であった。
(10) On the other hand, 40 dissolved in DMDG
Weight-% cresol novolak type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), a photosensitizing oligomer obtained by acrylated 50% of epoxy groups (molecular weight: 4000), 20% by weight bisphenol A type epoxy resin dissolved in methyl ethyl ketone (oilification) Shell Epicoat 1001), imidazole hardener (Shikoku Chemicals: 2P4MZ), photosensitive isocyanate acrylic isocyanate (Toagosei: Aronix M215), benzophenone as photoinitiator (Kanto Chemical), Michler's ketone (manufactured by Kanto Kagaku) as a photosensitizer was mixed with the following composition using NMP, and the viscosity was 3000 cps with a homodisper stirrer.
And kneaded with three rolls to obtain a liquid resist. At this time, the composition ratio of the resin composition was as follows: photosensitive epoxy resin / epicoat 1001 / benzophenone / Michler's ketone / imidazole curing agent = 100/10/5 /
0.5 / 5.

【0031】(11)上記の触媒核付与の処理を終えた
コア基板2の両面に、上記液状レジストをロールコータ
ーを用いて塗布し、60℃で30分の乾燥を行い厚さ3
0μmレジスト層を形成した。
(11) The liquid resist is applied to both surfaces of the core substrate 2 having been subjected to the catalyst nucleus treatment using a roll coater, and dried at 60 ° C. for 30 minutes to obtain a thickness of 3
A 0 μm resist layer was formed.

【0032】(12)ついでフォトマスクフィルムを載
置して400mJ/cm2 の紫外線を照射し、露光し
た。
(12) Then, a photomask film was placed on the photomask film and irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2 for exposure.

【0033】(13)フォトマスクフィルムを取り除
き、レジスト層をDMTGで溶解現像し、コア基板2上
に内層導体回路3、パッド3A、スルーホールめっき4
Aに対応する部分を除去したメッキ用レジスト層を形成
し、更に、超高圧水銀灯にて6000mJ/cm2 で露
光し、100℃で1時間、その後、150℃で3時間の
加熱処理を行って、層間樹脂絶縁層6の上に永久レジス
ト層8を形成した(図11参照)。
(13) The photomask film is removed, the resist layer is dissolved and developed with DMTG, and the inner conductor circuit 3, the pads 3A, the through-hole plating 4 are formed on the core substrate 2.
A resist layer for plating was formed by removing the portion corresponding to A, and further exposed to 6000 mJ / cm 2 with an ultra-high pressure mercury lamp, and heated at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 3 hours. Then, a permanent resist layer 8 was formed on the interlayer resin insulating layer 6 (see FIG. 11).

【0034】(14)上記永久レジスト層8が形成され
たコア基板2に、予めめっき前処理(具体的には硫酸処
理等及び触媒核の活性化)を施し、その後、無電解銅め
っき浴による無電解めっきによって、レジスト非形成部
に厚さ15μm程度の無電解銅めっきを析出させて、コ
ア基板2の表面および裏面に外層導体回路9及びバイア
ホール10を形成することにより、アディティブ法によ
る導体層を形成した。これにより、図1に示す多層プリ
ント配線板1を得た。尚、この実施例ではフルアディテ
ィブ法により作成したが、これに代えて所謂セミアディ
ティブ法を採用してもよい。
(14) The core substrate 2 on which the permanent resist layer 8 has been formed is subjected to a pre-plating treatment (specifically, a sulfuric acid treatment or the like and activation of a catalyst nucleus), and thereafter, an electroless copper plating bath is used. An electroless copper plating having a thickness of about 15 μm is deposited on a non-resist forming portion by electroless plating, and outer conductor circuits 9 and via holes 10 are formed on the front and back surfaces of the core substrate 2. A layer was formed. Thus, the multilayer printed wiring board 1 shown in FIG. 1 was obtained. In this embodiment, the image is created by the full additive method, but a so-called semi-additive method may be used instead.

【0035】ここで、前記のように製造された多数の多
層プリント配線板1について反り量を測定した。反り量
の測定は、所定の基準面と多層プリント配線板1の面と
の差を、任意の25ポイントについて測定し、その測定
された値の内最大値と最小値との差を反り量として定義
した。かかる反り量の測定の結果、平均反り量は47μ
mであり、反り量が76μm以上になることはなく、一
般の反り量の許容値(75μm)以下であり多層プリン
ト配線板1の反り量は十分許容値の範囲内にあることが
確認された。
Here, the warpage was measured for a number of multilayer printed wiring boards 1 manufactured as described above. The measurement of the amount of warpage is performed by measuring the difference between a predetermined reference plane and the surface of the multilayer printed wiring board 1 for any 25 points, and taking the difference between the maximum value and the minimum value of the measured values as the amount of warpage. Defined. As a result of measuring the amount of warpage, the average amount of warpage was 47 μm.
m, the warpage amount does not exceed 76 μm, but is not more than the allowable value of the general warpage amount (75 μm), and it has been confirmed that the warpage amount of the multilayer printed wiring board 1 is sufficiently within the allowable value range. .

【0036】因みに、前記実施例との比較のために、厚
さが0.6mmのコア基板2を使用して多層プリント配
線板1を製造した場合には、その多層プリント配線板1
における全体の55%がそり量76μmを超えてしま
い、このときの平均そり量は88.45μmであった。
また、厚さが1.1mmのコア基板2を使用して多層プ
リント配線板1を製造した場合には、スルーホール4内
部への樹脂5の充填量が増加することから、メタマスク
11の径を0.65mmにしなければならず、これより
メタルマスク11の開口同士が接してしまうため、印刷
法では樹脂5の充填ができなかった。印刷法は、樹脂5
をスキージにてスルーホール4内に埋め込むため、ロー
ルコータ法よりも樹脂を充填しやすいのであるが、コア
基板2の厚さを厚くすると印刷法を採用できないことが
確認された。
For comparison, when the multilayer printed wiring board 1 was manufactured using the core substrate 2 having a thickness of 0.6 mm for comparison with the above-described embodiment, the multilayer printed wiring board 1 was manufactured.
In the above, 55% of the total exceeds the warpage of 76 μm, and the average warpage at this time was 88.45 μm.
When the multilayer printed wiring board 1 is manufactured using the core substrate 2 having a thickness of 1.1 mm, the diameter of the metamask 11 is reduced because the filling amount of the resin 5 into the through holes 4 increases. The opening must be 0.65 mm, and the openings of the metal mask 11 come into contact with each other. Therefore, the resin 5 cannot be filled by the printing method. Printing method is resin 5
Is embedded in the through-hole 4 with a squeegee, so that it is easier to fill the resin than the roll coater method. However, it was confirmed that when the thickness of the core substrate 2 was increased, the printing method could not be adopted.

【0037】以上説明した通り、前記実施例に従って製
造された多層プリント配線板1においては、コア基板2
の厚さが0.6mm〜1.00mmの範囲内に調製され
ているので、多層プリント配線板1に反りを発生しよう
とする力に対して十分対抗することが可能となって反り
を防止することができ、また、スルーホール4内への樹
脂5の充填を何ら支障なく行うことができる。即ち、コ
ア基板2の厚さを、0.6mmを超えたものとすること
で、層間樹脂絶縁層6の硬化収縮に伴う多層プリント配
線板1の反りを防止し、また、コア基板2の厚さを1.
0mm以下とすることでスルーホール4への樹脂5の充
填性を保証することができる。これにより、多層プリン
ト配線板1の両面における各外層導体回路9、バイアホ
ール10相互の平行度を確保しつつ各種の電子部品を確
実に搭載可能として実装信頼性を高く保持することがで
きる。このように、前記コア基板2の厚さの範囲(0.
6mm〜1.0mm)は、多層プリント配線板1の反り
を防止し、層間樹脂絶縁層6の表面凹凸を防止して、I
Cチップなどの電子部品の実装信頼性を確保できる特異
的な範囲であることが分かる。
As described above, in the multilayer printed wiring board 1 manufactured according to the above embodiment, the core substrate 2
Is adjusted to fall within the range of 0.6 mm to 1.00 mm, so that it is possible to sufficiently oppose a force that tends to generate warpage in the multilayer printed wiring board 1 and prevent warpage. The filling of the resin 5 into the through hole 4 can be performed without any trouble. That is, by setting the thickness of the core substrate 2 to exceed 0.6 mm, the warpage of the multilayer printed wiring board 1 due to the curing shrinkage of the interlayer resin insulating layer 6 is prevented, and the thickness of the core substrate 2 is reduced. 1.
By setting the thickness to 0 mm or less, the filling property of the resin 5 into the through holes 4 can be guaranteed. Accordingly, various electronic components can be reliably mounted while maintaining the parallelism between the outer layer conductor circuits 9 and the via holes 10 on both surfaces of the multilayer printed wiring board 1, thereby maintaining high mounting reliability. Thus, the thickness range of the core substrate 2 (0.
6 mm to 1.0 mm), the warpage of the multilayer printed wiring board 1 is prevented, and the surface irregularities of the interlayer resin insulating layer 6 are prevented.
It can be seen that this is a specific range in which the mounting reliability of electronic components such as C chips can be ensured.

【0038】尚、本発明は前記実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改
良、変形が可能であることは勿論である。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明した通り、請求項1〜請求項3
の多層プリント配線板及びその製造方法では、コア基板
の厚さが0.6mm〜1.00mmの範囲内に調製され
るので、多層プリント配線板に反りを発生しようとする
力に対して十分対抗することが可能となって反りを防止
することができ、また、スルーホール内への樹脂の充填
を何ら支障なく行うことができる。即ち、コア基板の厚
さを、0.6mmを超えたものとすることで、層間樹脂
絶縁層の硬化収縮に伴う多層プリント配線板の反りを防
止し、また、コア基板の厚さを1.0mm以下とするこ
とでスルーホールへの樹脂充填性を保証することができ
る。これにより、多層プリント配線板における各導体回
路相互の平行度を確保しつつ各種の電子部品を確実に搭
載可能として実装信頼性を高く保持可能となる。このよ
うに、前記コア基板の厚さの範囲は、多層プリント配線
板の反りを防止し、層間樹脂絶縁層の表面凹凸を防止し
て、ICチップなどの電子部品の実装信頼性を確保でき
る特異的な範囲であることが分かる。
As described above, claims 1 to 3 are described.
In the multilayer printed wiring board and the method of manufacturing the same, the thickness of the core substrate is adjusted to be in the range of 0.6 mm to 1.00 mm, so that the multilayer printed wiring board is sufficiently resistant to a force for generating a warp in the multilayer printed wiring board. Therefore, warpage can be prevented, and resin can be filled into the through-hole without any trouble. That is, by setting the thickness of the core substrate to be more than 0.6 mm, warpage of the multilayer printed wiring board due to curing shrinkage of the interlayer resin insulating layer is prevented, and the thickness of the core substrate is set to 1. By setting the thickness to 0 mm or less, it is possible to guarantee the resin filling property of the through holes. Accordingly, various electronic components can be reliably mounted while ensuring the parallelism between the conductor circuits in the multilayer printed wiring board, and the mounting reliability can be maintained high. As described above, the range of the thickness of the core substrate is unique in that the warpage of the multilayer printed wiring board can be prevented, the surface unevenness of the interlayer resin insulating layer can be prevented, and the mounting reliability of electronic components such as IC chips can be secured. It can be seen that this is a typical range.

【0040】以上の通り本発明は、スルーホールへの樹
脂の充填性に優れるとともに、多層プリント配線板の反
り量を小さくすることができ、もって多層プリント配線
板の表面及び裏面に形成された各導体回路相互の平行度
を確保しつつ各種の電子部品を確実に搭載することが可
能な実装信頼性の高い多層プリント配線板を提供するこ
とができる。
As described above, the present invention is excellent in the filling property of the resin into the through holes and can reduce the amount of warpage of the multilayer printed wiring board. It is possible to provide a multilayer printed wiring board with high mounting reliability, in which various electronic components can be securely mounted while ensuring the parallelism between the conductor circuits.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】多層プリント配線板を模式的に示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing a multilayer printed wiring board.

【図2】コア基板を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view schematically showing a core substrate.

【図3】コア基板の両面に内層導体回路、パッド、スル
ーホールめっきを形成した状態を模式的に示す断面図で
ある。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a state in which inner-layer conductor circuits, pads, and through-hole plating are formed on both surfaces of a core substrate.

【図4】コア基板の両面にメタルマスクを配置した状態
を模式的に示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a state where metal masks are arranged on both surfaces of a core substrate.

【図5】コア基板のスルーホール内に樹脂を充填した状
態を模式的に示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a state in which resin is filled in through holes of a core substrate.

【図6】コア基板の両面全体に渡って樹脂層を形成した
状態を模式的に示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a state in which a resin layer is formed over both surfaces of the core substrate.

【図7】コア基板の両面の樹脂層を研磨した状態を模式
的に示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a state in which resin layers on both surfaces of a core substrate are polished.

【図8】コア基板の両面における樹脂層上に層間樹脂絶
縁層を形成した状態を模式的に示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a state in which an interlayer resin insulating layer is formed on the resin layers on both surfaces of the core substrate.

【図9】層間樹脂絶縁層にバイアホール用開口を形成し
た状態を模式的に示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a state in which an opening for a via hole is formed in an interlayer resin insulating layer.

【図10】層間樹脂絶縁層の表面を粗化した状態を模式
的に示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a state where the surface of an interlayer resin insulating layer is roughened.

【図11】粗化された層間樹脂絶縁層上に永久レジスト
層を形成した状態を模式的に示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a state in which a permanent resist layer is formed on a roughened interlayer resin insulating layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 多層プリント配線板 2 コア基板 3 内層導体回路 3A パッド 4 スルーホール 4A スルーホールめっき 5 樹脂(層) 6 層間樹脂絶縁層 7 バイアホール用開口 8 永久レジスト層 9 外層導体回路 10 バイアホール 11 メタルマスク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multilayer printed wiring board 2 Core board 3 Inner layer conductor circuit 3A pad 4 Through hole 4A Through hole plating 5 Resin (layer) 6 Interlayer resin insulation layer 7 Via hole opening 8 Permanent resist layer 9 Outer layer conductor circuit 10 Via hole 11 Metal mask

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コア基板にスルーホールが形成され、コ
ア基板の両面に導体回路が形成された多層プリント配線
板であって、 前記スルーホール内には樹脂が充填されてなるととも
に、コア基板の厚さは、0.6mmを超え、1.0mm
以下であることを特徴とする多層プリント配線板。
1. A multilayer printed wiring board having a through hole formed in a core substrate and conductive circuits formed on both surfaces of the core substrate, wherein the through hole is filled with a resin, and Thickness exceeds 0.6mm, 1.0mm
A multilayer printed wiring board characterized by the following.
【請求項2】 前記コア基板の両面には、層間樹脂絶縁
層を介して導体回路層が少なくとも1層積層されてなる
請求項1に記載の多層プリント配線板。
2. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein at least one conductive circuit layer is laminated on both surfaces of the core substrate via an interlayer resin insulating layer.
【請求項3】 コア基板にスルーホールを形成し、その
コア基板にスルーホールの位置に該当する部分に開口が
形成された印刷用マスクを載置し、樹脂を印刷してスル
ーホール内に樹脂を充填し、次いでこのコア基板の両面
に層間樹脂絶縁層および導体回路層を積層する多層プリ
ント配線板の製造方法において、 前記コア基板の厚さを、0.6mmを超え、1.0mm
以下としたことを特徴とする多層プリント配線板の製造
方法。
3. A through-hole is formed in a core substrate, a printing mask having an opening formed in a portion corresponding to the position of the through-hole is placed on the core substrate, and resin is printed to form a resin in the through-hole. And then laminating an interlayer resin insulation layer and a conductive circuit layer on both sides of the core substrate, wherein the thickness of the core substrate exceeds 0.6 mm and 1.0 mm
A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized by the following.
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