JPH10182920A

JPH10182920A - 記録表示媒体及びその使用方法

Info

Publication number: JPH10182920A
Application number: JP8355468A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Baba; 淳馬場; Hidetoshi Ozawa; 英敏男澤; Yoshiaki Konase; 良紀木名瀬
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1996-12-24
Filing date: 1996-12-24
Publication date: 1998-07-07

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶／高分子複合膜の強度に優れ、更には複
合膜の基板に対する密着性、更には複合膜に対する保護
層の密着性に優れる記録表示媒体を提供すること。【解決手段】スメクチック液晶が高分子マトリックス
中に分散してなる液晶／高分子複合膜を導電性基板上に
形成してなる記録表示媒体において、上記高分子マトリ
ックスが下記式Ａで表される反復単位を有し、且つその
平均分子量が２０万〜８０万であるポリマーであること
を特徴とする記録表示媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電界や熱に対して応答
性を有し、各種情報の表示や記録を行うことができるス
メクチック液晶／高分子複合膜を用いた記録表示媒体及
びその使用方法に関し、かかる記録表示媒体は書き換え
可能カード、ディスプレイ、その他の記録表示媒体等と
して幅広く使用することができる。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶は表示材料として種々の機器
で応用され、時計、電卓、小型テレビ等に実用化されて
いる。これらの液晶としてはネマティック液晶を用い、
ＴＮ型或はＳＴＮ型と呼ばれる表示方式のものが採用さ
れている。この種の表示素子は、透明電極を有する液晶
セル中に液晶を封入し、両面に偏光板を設けたものから
構成されているが、偏光板を用いているため、視野角が
狭く、輝度が不足しているので、高消費電力のバックラ
イトを必要とし、又、セル厚を均一にする必要から大面
積化が困難であり、しかも構造が複雑で、製造コストが
高い等の問題がある。

【０００３】このような問題を解決する液晶表示媒体と
して、最近、液晶を高分子マトリクス中に分散させた液
晶／高分子複合膜を用いた液晶分散型素子が注目を浴び
ている。このうち、スメクチック液晶を利用するもの
は、液晶を配向させるための外部エネルギーが除去され
た後も、液晶の配向状態が維持されるためにメモリー性
を持ち、書換可能な記録表示媒体として有用である。こ
のスメクチック液晶を利用した書換可能な記録表示媒体
には、液晶／高分子複合膜を導電性基板上に形成し、必
要に応じて記録表示面に保護層が設けられたものである
が、従来のこのような記録表示媒体においては、液晶／
高分子複合膜の強度が不十分であり、耐久性に問題があ
り、更には複合膜の基板に対する密着性、更には複合膜
に対する保護層の密着性が不十分であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、液晶／高分子複合膜の強度に優れ、更には複合膜の
基板に対する密着性、更には複合膜に対する保護層の密
着性に優れる記録表示媒体を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
により達成される。即ち、本発明は、スメクチック液晶
が高分子マトリックス中に分散してなる液晶／高分子複
合膜を導電性基板上に形成してなる記録表示媒体におい
て、上記高分子マトリックスが下記式Ａで表される反復
単位を有し、且つその平均分子量が２０万〜８０万であ
るポリマーであることを特徴とする記録表示媒体であ
る。

【０００６】液晶／高分子複合型の記録表示媒体の高分
子マトリックスとして、特定の高分子マトリックスを用
いることによって、液晶／高分子複合膜の強度に優れ、
更には複合膜の基板に対する密着性、及び複合膜に対す
る保護層の密着性に優れる記録表示媒体を提供すること
ができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】次に好ましい実施の形態を挙げて
本発明を更に詳しく説明する。本発明の記録表示媒体に
使用される高分子マトリックスは、下記式Ａで表される
反復単位を有し、且つその平均分子量が２０万〜８０万
であるポリマーである。

【０００８】分子量が２０万未満であると、得られる液
晶／高分子複合膜の膜強度が低い等の理由で不十分であ
り、一方分子量が８０万を超えると高分子マトリック
スの溶媒に対する溶解度が低くなり、複合膜形成用塗布
液の調製が困難になる等の理由で不十分である。更に好
ましい分子量範囲は３０万〜５５万である。

【０００９】上記ポリマーは式Ａの反復単位のみからな
るホモポリマーでもよいが、モル比で１０モル％まで、
好ましくは１〜１０モル％の他の共重合性モノマーとか
らなるコポリマーであってもよい。共重合性モノマーと
しては、例えば、スチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、
アクリロニトリル等が挙げられるが、得られる共重合樹
脂のガラス転移点温度が高い等の理由で共重合させるモ
ノマーとしてはスチレンが好適である。

【００１０】又、上記ポリマーは、上記ホモポリマー又
はコポリマーの単独で使用することができるとともに、
１０重量％まで、好ましくは１〜１０重量％の他のポリ
マーとの混合物として使用することもできる。混合する
他のポリマーとしては、例えば、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリアクリ
ロニトリル等が挙げられるが、混合樹脂のガラス転移点
温度が高い等の理由で混合するポリマーとしてはポリス
チレンが好適である。以上の如き高分子マトリックスは
通常の重合方法によっても容易に得られ、又、市場から
も、例えば、商品名ＰＭＭＡＭ１００２Ｂの名称で綜
研化学（株）から入手して使用することができる。

【００１１】又、本発明の好ましい実施の形態において
は、上記高分子マトリックスに少なくとも１種の可塑剤
を１５重量％まで、好ましくは高分子マトリックスの
０．０１〜１５．０重量％の範囲で添加することができ
る。可塑剤としては、例えば、ジ−ｎ−オクチルフタレ
ート、ジ−（２−エチルヘキシル）フタレート、ジノニ
ルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジトリデシル
フタレート等のフタル酸エステル系可塑剤、その他、二
塩基酸エステル、グリコールエステル、脂肪酸エステ
ル、エポキシ系可塑剤、リン酸エステル等の公知の可塑
剤がいずれも使用可能である。これらの可塑剤を用いる
ことによって、高分子マトリックスの加工性が高まると
同時に、形成される複合膜の柔軟性、弾性、たわみ性等
が増加する等の効果が得られる。

【００１２】本発明で使用する液晶としては、従来公知
のいずれのスメクチック液晶でも使用することができる
が、表示画像のコントラストが高く、低温或は高温領域
においてもコントラストの低下や消失が少ない記録表示
媒体を得るには、下記一般式（Ｉ）〜（VII）の液晶を
使用することが好ましい。

【００１３】（式中、Ｒ^１は炭素数８〜１８のアルキル基又はアルコ
キシ基を示す）で表わされる化合物の少なくとも１種
と、下記一般式（II）〜（VII）

【００１４】（式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^８は、炭
素数２〜１８のアルキル基を、Ｒ^７、Ｒ^９及びＲ
^１０は、炭素数２〜１８のアルキル基又はアルコキシ基
を、又、Ｘはハロゲン元素を示す。）

【００１５】これらの液晶のうち、前記一般式（Ｉ）で
表される炭素数が８〜１８の４−アルキル−４’−シア
ノビフェニル或は４−アルコキシ−４’−シアノビフェ
ニルは、常温付近で安定なスメクチック液晶相を示し、
又、液晶／高分子複合膜型記録表示媒体とした場合のコ
ントラストも良好である。これらの化合物は、いずれか
１種を用いてもよいが、より広い温度範囲で、安定なス
メクチック液晶相を示すようにするためには、これらの
化合物から２種以上を適宜選択して組み合わせて用いる
とよい。

【００１６】又、炭素数７以下の４−アルキル−４’−
シアノビフェニル或は４−アルコキシ−４’−シアノビ
フェニル化合物は、夫々単独ではスメクチック液晶相は
示さないが、炭素数８〜１８の前記化合物をこれらの化
合物に添加することによって、スメクチック液晶相を呈
する温度範囲に調整することができ、又、より安定なス
メクチック液晶相とすることができる。これらの化合物
は既知であり（例えば、艸林著「液晶材料」ｐ２２９、
講談社１９９１年発行）、例えば、４−アルキル−４’
ブロモビニルフェニル或は４−アルコキシ−４’−ブロ
モビフェニルをシアン化銅と反応させることにより、対
応する４−アルキル−４’−シアノビフェニル或は４−
アルコキシ−４’−シアノビフェニルを得ることができ
る。これらのある種のものは市販されている。

【００１７】しかし、前記一般式（Ｉ）で表される化合
物として、スメクチック液晶相−ネマティック液晶相
間、或はスメクチック液晶相−アイソトロピック相間の
相転移温度が高いものを用いると融点も高くなり、記録
表示媒体を低温状態に置いた場合、液晶の配向が乱れて
記録表示部のコントラストの低下や消失等が生じる。従
って、本発明者らは、融点を低く保ちながら、このスメ
クチック液晶相−ネマティック液晶相間、或はスメクチ
ック液晶相−アイソトロピック相間の相転移温度を高温
化するための研究を鋭意進めた結果、前記一般式（Ｉ）
で表される化合物に前記一般式（II）〜（VII）で表さ
れる化合物のいずれか１種を添加すると良いことを見出
した。

【００１８】前記一般式（II）で表される４−アルキル
フェニル−４−アルコキシ安息香酸エステル化合物は既
知であり（例えば、艸林著「液晶材料」ｐ２２６及びｐ
２４０、講談社１９９１年発行）、例えば、４−アルキ
ルフェノ−ルと４−アルコキシ安息香酸とから、脱水剤
としてジシクロヘキシルカルボジイミド等を用いたエス
テル化反応により得ることができ、又、この化合物のあ
る種のものは市販されている。

【００１９】前記一般式（III）で表される４−アルコ
キシビフェニル−４’−カルボン酸アルキルエステル化
合物は既知であり［例えば、Mol. Cryst. Liq. Crys
t．，３７，ｐｐ１５７−１８８（１９７６）］、例え
ば、アルカノ−ルと４−アルコキシビフェニル−４’−
カルボン酸とから硫酸等の酸触媒を用いたエステル化反
応により簡便に得ることができる。

【００２０】前記一般式（ＩＶ）で表される４−アルキ
ル−４”−シアノ−ｐ−テルフェニル化合物は既知であ
り［例えば、Mol. Cryst. Liq. Cryst．，３８，ｐｐ３
４５−３５２（１９７７）］、例えば、４−アルキル−
ｐ−テルフェニル−４”−カルボン酸クロライドをアン
モニア水で処理して、４−アルキル−ｐ−テルフェニル
−４”−カルボン酸アミドとし、続いて五酸化リンと反
応させることにより得ることができ、又、この化合物の
ある種のものは市販されている。

【００２１】前記一般式（V）で表される４’−シアノ
ビフェニル−４−アルキル安息香酸エステル又は４’−
シアノビフェニル−４−アルコキシ安息香酸エステル化
合物は既知であり（例えば、Fluessige Kristalle in T
abllen II, VED DeutsscherVerlag fuer Grundstoffind
ustrie Leipzig，ｐ２８７−２８８，１９８４）、例え
ば、４−アルキル安息香酸或は４−アルコキシ安息香酸
と４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルとを脱水剤
としてジシクロヘキシルカルボジイミド等を用いてエス
テル化させる方法により得ることができる。

【００２２】前記一般式（VI）で表される４−アルコキ
シビフェニル−４’−カルボン酸−４−ハロフェニルエ
ステル化合物は既知であり［例えば、 Mol. Cryst. Li
q. Cryst．，３７ｐｐ１５７−１８８（１９７
６）］、例えば、４−アルコキシビフェニル−４’−カ
ルボン酸と４−ハロフェノ−ルとを脱水剤としてジシク
ロヘキシルカルボジイミド等を用いてエステル化させる
ことにより得ることができる。この化合物中のハロゲン
元素は、どの種類であっても特に支障はないが、フッ素
又は塩素が化学的安定性の面から好ましい。

【００２３】前記一般式(VII）で表されるｐ−フェニレ
ン−ジ−４−アルキル安息香酸エステル化合物、ｐ−フ
ェニレン−ジ−４−アルコキシ安息香酸エステル化合
物、又はｐ−フェニレン−４−アルキル安息香酸−４−
アルコキシ安息香酸エステル化合物は既知であり［例え
ば、J. Org. Chem．，３７（９），ｐ１４２５（１９７
２）］、ｐ−アルキルベンゾイルクロライド或はｐ−ア
ルコキシベンゾイルクロライドを塩基性条件下にヒドロ
キノンと反応させ、次いで、塩基性条件下に、ｐ−アル
キルベンゾイルクロライド或はｐ−アルコキシベンゾイ
ルクロライドと反応させることにより得ることができ
る。

【００２４】これらの一般式（II）〜（VII）で表され
る化合物は、スメクチック液晶相−ネマティック液晶
相、或はスメクチック液晶相−アイソトロピック相間の
相転移温度を高温化するものであり、この相転移温度が
高いほど高温での記録保存性がよく、６０℃以上、特に
６０〜１３０℃が好ましい。これを満たすように前記の
各々の化合物種のなかから、炭素数２〜１８のいずれか
１種、或は２種以上を適宜選択して組み合わせて用いる
とよい。

【００２５】前記一般式（II）〜（VII）で表される化
合物は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物１００重量
部に対して１０〜３００重量部含有させることが好まし
く、特には２０〜２４０重量部とすることが好ましい。
又、特には、前記一般式（Ｉ）で表される化合物と一般
式（ＩＩ）で表される化合物とを、重量部で８０：２０
〜３０：７０、特に好ましくは６０：４０〜４０：６０
の比で混合したもの１００重量に対して、一般式（IV）
〜（VII）で表される化合物から選択される１種又は２
種以上を１〜２００重量部、好ましくは５〜１００重量
部含有させると、コントラストが高く、しかも高温のみ
ならず、−４０℃というかなりな低温域においてもコン
トラストの低下や消失がない液晶組成物となるために特
に好ましい。

【００２６】尚、これらの液晶組成物には、スメクチッ
ク液晶相を破壊しない限度において、他の液晶化合物や
添加剤を添加することができる。特には、コントラスト
比の向上や着色等を目的として、二色性染料を、例え
ば、液晶組成物１００重量部あたり１〜１０重量部の割
合で混入させると好適である。前記の液晶組成物を用い
て高分子マトリクス中に液晶組成物を分散させた液晶／
高分子複合膜を導電性基板上に形成することによって、
本発明の書換可能な記録表示媒体が得られる。これらの
好ましい例を具体的に示すが、本発明はこれに限定され
るものではない。

【００２７】上記液晶組成物と前記高分子マトリックス
の使用量としては、高分子マトリックス／液晶の混合比
（重量比）が５／９５〜５０／５０であり、液晶の使用
量が少な過ぎると、電圧オン時の透明性が不足するだけ
でなく、膜を透明状態にするために多大の電圧を必要と
する等の点で不十分であり、一方、液晶の使用量が多過
ぎると、電圧オフ時の散乱（濁度）が不足するだけでな
く、膜の強度が低下したりするので好ましくない。

【００２８】液晶組成物を高分子マトリックス中に分散
する方法としては、相分離方法やエマルジョン法等の従
来公知の方法がいずれも使用可能であるが、本発明にお
いて有用な方法は相分離方法である。相分離方法では、
前記高分子マトリックス及び上記液晶組成物、その他の
添加剤を溶解することができる有機溶剤を使用して上記
成分を含む溶液を調製し、該溶液を適当な基板面に塗布
した後、溶剤を蒸発させることによって、目的とする液
晶／高分子複合膜を形成することができる。

【００２９】好適な溶剤としては、例えば、アセトン、
メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、テトラヒド
ロフラン、クロロホルム等が挙げられ、これらの溶剤か
らなる溶液の固形分濃度は約５〜３０重量％の範囲とす
ることが好ましい。以上の溶液を用いて、電極基板上に
液晶／高分子複合膜を形成する方法としては、例えば、
スクリーン印刷、メタルマスクを用いたステンシル印
刷、刷毛塗り、スプレーコーティング、ブレードコーテ
ィング、ドクターコーティング等が挙げられる。。

【００３０】使用される電極基板（導電性基板）は、従
来公知の記録表示媒体に一般的に使用されているもので
あって、本発明では、従来公知の導電性基板はいずれも
使用可能であり、具体的には、例えば、ＩＴＯ、ＳｎＯ
_２系、ＺｎＯ系のような透明導電性材料をガラスや高分
子フイルム等のような透明基板に付着させた一対の電極
基板である。この時、他の一方に不透明導電性基板を用
いる場合には、その電極が反射板としての機能も要求さ
れるため、例えば、アルミニウム反射電極を設けた基板
が好ましい。その基板自体はガラス、高分子フイルム或
いはその他のものであってもよい。

【００３１】上記のように電極基板上に液晶／高分子複
合膜を形成した後、室温又は液晶粒子に影響を与えない
程度の温度で乾燥させることによって、液晶／高分子複
合膜が形成される。上記においては、液晶／高分子複合
膜の厚みは、一般的に３〜２３μｍ程度とされ、３μｍ
未満であると表示のコントラストが低くなり、又、２３
μｍを越えると駆動電圧が高くなるので好ましくない。

【００３２】本発明の好ましい１実施態様として、液晶
組成物粒子が高分子マトリックス中に分散した液晶／高
分子複合膜を、少なくとも一方が透明である一対の導電
性基板間に形成してなる記録表示媒体が挙げられる。こ
の記録表示媒体の駆動は電圧の印加によって情報の消去
を行い、熱の印加によって情報の書き込みが行われる。

【００３３】他の好ましい実施態様として導電性基板上
に形成した前記液晶／高分子複合膜上に、必要に応じて
中間層を介して保護層を形成した情報表示媒体が挙げら
れる。この種の書換可能な記録表示媒体は、保護層側か
らの電圧印加により液晶が配向して光が透過して情報が
消去され、加熱によって液晶の配向が乱れて情報の書き
込みが行われる。

【００３４】中間層の形成については、上記高分子マト
リクスと同じような樹脂からなる中間層及び熱硬化性樹
脂、紫外線硬化性樹脂或は電子線硬化樹脂、例えば、ポ
リエン−チオール類、ウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレート、シリコ−ンアクリレート等の分子中に
（メタ）アクリロイル基を有する重合性アクリレートポ
リマー類、メチルメタクリレート等の単官能又は多官能
のモノマー類等からなる公知の硬化性樹脂等からなる保
護層を設けることによって書換可能な記録表示媒体を形
成することができる。

【００３５】この実施態様を情報の書き換え可能なカー
ドを例として説明する。カード用途の場合、用いる電極
基板は１枚とすることができる。電極の基板としては高
分子フイルムが特に好適である。フイルムとしては白色
のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルムが望
ましい。導電層はＩＴＯ等の透明導電性材料の他に、ア
ルミ等の金属を用いることができる。又、液晶／高分子
複合膜を保護するために、該複合膜上に保護膜を設ける
ことが好ましい。保護膜としては、特に限定されない
が、機械的強度や耐水性等を有する硬化樹脂が好まし
い。

【００３６】例えば、ＵＶ或は電子線硬化型のポリ（メ
タ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート
等が用いられる。液晶／高分子複合膜上に直接前記保護
層膜を形成することができない場合には、該複合膜と保
護膜の間に、中間層としてポリビニルアルコール等の水
溶性ポリマーの薄膜を形成させてもよい。又、別のシー
ト上に形成した前記の保護膜材料を転写やラミネートし
て硬化させて形成してもよい。カード用途の場合、液晶
と高分子の使用割合はディスプレイの場合とは適性範囲
が異なり、液晶／高分子の割合（重量比）は５５／４５
〜３５／６５の範囲が好ましい。又、表示のコントラス
トを上げるために２色性の色素を液晶に含有させること
が好ましい。

【００３７】次に、上記の構成のカードへの情報の記録
及び消去について説明する。情報の消去は、液晶／高分
子複合膜層を加熱した後、必要な電界を印加し、液晶分
子を電界方向に配向させることによって行う。電界を印
加する方法としては、コロナ帯電法が特に有効である。
情報の記録は、複合膜層へ必要な熱を加え、熱が加えら
れた部分の液晶分子の配向を乱すことによって行う。熱
を加える方法としては、サーマルヘッドを用いる方法が
好ましい。

【００３８】

【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に
具体的に説明する。尚、文中「部」とあるのは重量基準
である。液晶組成物の調製表１に示す液晶化合物を用いて表２に示す液晶組成物を
調製した。

【００３９】表１

【００４０】

【００４１】表２

【００４２】物性の測定上記組成物について、セル厚１２μｍで、ポリイミド配
向膜を有し、平行ラビング処理を施したセルに注入して
相転移を偏光顕微鏡で観察し、高温時（−２℃／ｍｉ
ｎ）の相転移温度を測定した。この結果、Ｉ（１１３）
Ｂ（１００）ＳＡ（１０）Ｃ）Ｉは等方性液体、Ｓ_Ａは
スメクチックＡ相、Ｓ_ＸはスメクチックＸ相、Ｎはネマ
ティック相、Ｃは結晶を示す）であった。

【００４３】実施例１上記で調製した表２の液晶組成物２部に二色性色素（日
本感光色素製）０．０４部を添加した。ポリメチルメタ
クリレート（ＰＭＭＡＭ１００２Ｂ、綜研化学製、平
均分子量３０〜５５万）２．７部と可塑剤０．３部と溶
剤（トルエン／メチルエチルケトン／酢酸エチル）２７
部とからなる溶液３０部に、上記液晶組成物を加え、常
温で１０時間撹拌溶解して溶液を得た。この溶液を用
い、ＩＴＯ蒸着白ＰＥＴ基板上にドクターブレードを用
いて塗布し乾燥させて膜厚８μｍの液晶／高分子複合膜
の成膜を行なった。更に、液晶／高分子複合膜の全面に
紫外線硬化性樹脂（ウレタンアクリレ−ト）をドクター
ブレードを用いて塗布後、高圧水銀灯（出力１２０Ｗ／
ｃｍ^２）で紫外線を照射して硬化させ膜厚２μｍの保護
層として本発明の記録表示媒体とした。

【００４４】比較例１実施例１におけるポリメチルメタクリレートに代えて、
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡＢＲ−１１３、
三菱レイヨン製、平均分子量３万）を使用し、他は実施
例１と同様にして比較例の記録表示媒体を得た。

【００４５】上記実施例１及び比較例１の記録表示媒体
について、それぞれセロハンテープによる剥離試験及び
鉛筆引っ掻き試験を行ったところ、実施例１の場合に
は、剥離試験によって複合膜が剥離することがなく、鉛
筆硬度はＨＢ〜Ｂであったが、比較例１の場合には、剥
離試験によって複合膜が容易に剥離し、又、鉛筆硬度は
３Ｂであった。尚、上記実施例及び比較例１の記録表示
媒体は、いずれもコロナ放電（コロナ電圧６．５ｋｖ）
により消去状態が得られ、サ−マルヘッド等による感熱
記録によって書込状態が得られた。

【００４６】

【発明の効果】以上の如く本発明によれば、液晶／高分
子複合型の記録表示媒体の高分子マトリックスとして、
特定の高分子マトリックスを用いることによって、液晶
／高分子複合膜の強度に優れ、更には複合膜の基板に対
する密着性、及び複合膜に対する保護層の密着性に優れ
る記録表示媒体を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０２Ｆ 1/13 ５００Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ 1/1333 1/1333

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】スメクチック液晶が高分子マトリックス
中に分散してなる液晶／高分子複合膜を導電性基板上に
形成してなる記録表示媒体において、上記高分子マトリ
ックスが下記式Ａで表される反復単位を有し、且つその
平均分子量が２０万〜８０万であるポリマーであること
を特徴とする記録表示媒体。
【請求項２】高分子マトリックスが、式Ａで表される
反復単位を９０〜１００モル％含有する請求項１に記載
の記録表示媒体。
【請求項３】高分子マトリックスが、式Ａの反復単位
９９〜９０モル％と下記式Ｂで表される反復単位を１〜
１０％とを含有するコポリマーである請求項１に記載の
記録表示媒体。
【請求項４】高分子マトリックスが、式Ａの反復単位
からなるポリマー９９〜９０重量％と式Ｂで表される反
復単位からなるポリマー１〜１０重量％との混合物であ
る請求項１に記載の記録表示媒体。
【請求項５】高分子マトリックスが少なくとも１種の
可塑剤を含有する請求項１に記載の記録表示媒体。
【請求項６】可塑剤の含有量が高分子マトリックスの
０．０１〜１５．０重量％である請求項１に記載の記録
表示媒体。
【請求項７】液晶が、下記一般式（Ｉ）（式中、Ｒ^１は炭素数８〜１８のアルキル基又はアルコ
キシ基を示す）で表わされる化合物の少なくとも１種
と、下記一般式（II）〜（VII）（式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^８は、炭
素数２〜１８のアルキル基を、Ｒ^７、Ｒ^９及びＲ
^１０は、炭素数２〜１８のアルキル基又はアルコキシ基
を、又、Ｘはハロゲン元素を示す）で表される化合物か
ら選択される１種又は２種以上とを含有するスメクチッ
ク液晶混合物である請求項１に記載の記録表示媒体。
【請求項８】液晶混合物が、一般式（Ｉ）で表される
化合物の少なくとも１種と、一般式（II）で表される化
合物の少なくとも１種と、一般式（IV）〜（VII）で表
される化合物から選択される１種又は２種以上とを含有
する請求項７に記載の記録表示媒体。
【請求項９】液晶／高分子複合膜上に、保護層を設け
た請求項１に記載の記録表示媒体。
【請求項１０】情報の記録を熱により行い、情報の消
去を熱及び電界により行う請求項１に記載の記録表示媒
体の使用方法。