JPH10172943A - Substrate treatment apparatus - Google Patents
Substrate treatment apparatusInfo
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- JPH10172943A JPH10172943A JP32533296A JP32533296A JPH10172943A JP H10172943 A JPH10172943 A JP H10172943A JP 32533296 A JP32533296 A JP 32533296A JP 32533296 A JP32533296 A JP 32533296A JP H10172943 A JPH10172943 A JP H10172943A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレ
イパネル)用ガラス基板などの各種の被処理基板に対し
て処理を施すための基板処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing processing on various substrates to be processed such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, and a glass substrate for a PDP (plasma display panel).
【0002】[0002]
【従来の技術】超LSI(大規模集積回路)の製造工程
においては、半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」とい
う。)の洗浄処理工程やウエットエッチング処理工程が
重要な工程となっている。これらの工程では、たとえ
ば、スピンチャックに保持されたウエハの表面および/
または裏面に、フッ酸などの薬液を供給するようにした
基板処理装置が用いられる。2. Description of the Related Art In a process of manufacturing an VLSI (Large Scale Integrated Circuit), a cleaning process and a wet etching process of a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as "wafer") are important processes. In these steps, for example, the surface of the wafer held by the spin chuck and / or
Alternatively, a substrate processing apparatus that supplies a chemical solution such as hydrofluoric acid to the back surface is used.
【0003】このような基板処理装置における薬液の供
給に関連する構成は、図9に示されている。この基板処
理装置では、スピンチャック1に保持されたウエハWに
ノズル2から薬液を供給することによって、ウエハWが
処理される。ノズル2に供給すべき薬液は、薬液タンク
3から、薬液供給経路4を介して導かれる。薬液の圧送
のために、薬液供給経路4には、ベローズポンプ5が介
装されている。さらに、薬液供給経路4には、薬液の流
量を計測する流量計6、薬液中の異物を除去するための
フィルタ7、薬液の流量を調整するための流量調整弁
8、および薬液の供給を開始/停止するためのエア弁9
が介装されている。そして、エア弁9とノズル2との間
には、薬液供給経路4を通る薬液の圧力を検出するため
の圧力センサ10が設けられている。この圧力センサ1
0の出力を監視することにより、エア弁9による薬液供
給の開始/停止の状況をモニタすることができる。FIG. 9 shows a configuration related to the supply of a chemical solution in such a substrate processing apparatus. In this substrate processing apparatus, the wafer W is processed by supplying a chemical solution from the nozzle 2 to the wafer W held by the spin chuck 1. The chemical to be supplied to the nozzle 2 is guided from the chemical tank 3 via the chemical supply path 4. A bellows pump 5 is interposed in the chemical solution supply path 4 for pressure feeding of the chemical solution. Further, in the chemical supply path 4, a flow meter 6 for measuring the flow rate of the chemical, a filter 7 for removing foreign substances in the chemical, a flow control valve 8 for adjusting the flow of the chemical, and the supply of the chemical are started. / Air valve 9 for stopping
Is interposed. A pressure sensor 10 is provided between the air valve 9 and the nozzle 2 to detect the pressure of the chemical passing through the chemical supply path 4. This pressure sensor 1
By monitoring the output of 0, it is possible to monitor the start / stop state of the supply of the chemical liquid by the air valve 9.
【0004】薬液供給経路4において、フィルタ7と流
量調整弁8との間の位置からは、エア弁9が閉成状態で
あるときに、薬液を薬液タンク3に帰還させるための循
環経路11が分岐している。この循環経路11の途中部
には、エア弁9が開成状態のときに閉成状態に制御さ
れ、エア弁9が閉成状態のときには開成状態に制御され
るエア弁12が介装されている。循環経路11にはま
た、薬液タンク3に帰還される薬液の流量を調整するた
めの流量調整弁13が介装されている。ベローズポンプ
5と流量計6との間の薬液供給経路4には、薬液の温度
を一定に保持するための温度調整手段としての熱交換器
15が付属している。薬液をノズル2から吐出しないと
きには、上記の循環経路11を介して薬液タンク3に薬
液が帰還されることにより、薬液を熱交換器15を通っ
て循環させることができ、薬液タンク3からエア弁9の
近傍に至るまでの薬液供給経路4内の薬液の温度を最適
値に保持することができる。From the position between the filter 7 and the flow control valve 8 in the chemical supply path 4, a circulation path 11 for returning the chemical to the chemical tank 3 when the air valve 9 is closed is provided. It has branched. An air valve 12, which is controlled to be closed when the air valve 9 is in an open state and is controlled to be open when the air valve 9 is in a closed state, is provided at an intermediate portion of the circulation path 11. . The circulation path 11 is also provided with a flow control valve 13 for adjusting the flow rate of the chemical solution returned to the chemical solution tank 3. In the chemical supply path 4 between the bellows pump 5 and the flow meter 6, a heat exchanger 15 is attached as temperature adjusting means for maintaining the temperature of the chemical at a constant level. When the chemical is not discharged from the nozzle 2, the chemical is returned to the chemical tank 3 via the circulation path 11, whereby the chemical can be circulated through the heat exchanger 15. The temperature of the chemical in the chemical supply path 4 up to the vicinity of 9 can be maintained at the optimum value.
【0005】ベローズポンプ5は、薬液を可及的にかき
回さない状態で薬液の圧送を達成する目的で採用されて
いるものである。このベローズポンプ5は、通常、圧縮
空気によって駆動されるようになっている。ベローズポ
ンプのベローズは、たとえば、フッ素樹脂製であり、耐
用年数が1ないし3年である。したがって、ベローズ
は、使用期間長が耐用年数に達する以前に定期的に交換
されるのが通常である。しかし、場合によっては、耐用
年数以前にベローズが破損する場合もある。[0005] The bellows pump 5 is employed for the purpose of achieving the pumping of the chemical solution while stirring the chemical solution as little as possible. The bellows pump 5 is normally driven by compressed air. The bellows of the bellows pump are made of, for example, a fluororesin and have a service life of one to three years. Therefore, the bellows are usually replaced regularly before the service life reaches its useful life. However, in some cases, the bellows may break before its useful life.
【0006】ベローズポンプ5のベローズが破損する
と、駆動用の圧縮空気が薬液供給路4に入り込み、これ
により、薬液流量が不安定になるため、ウエハの処理に
不具合が生じるおそれがある。したがって、ベローズポ
ンプ5の破損を検知して、速やかにウエハの処理を停止
し、処理に不具合が生じたウエハをその後の工程に送ら
ないようにしなければならない。When the bellows of the bellows pump 5 is damaged, the compressed air for driving enters the chemical solution supply path 4 and the flow rate of the chemical solution becomes unstable, which may cause a problem in processing the wafer. Therefore, it is necessary to detect the breakage of the bellows pump 5, stop the processing of the wafer immediately, and prevent the wafer having the processing failure from being sent to the subsequent process.
【0007】そこで、従来では、エア弁9の開放期間に
おける圧力センサ10の出力を監視し、液圧の低下を検
知を通じて、ベローズの破損を検知するようにしてい
る。Therefore, conventionally, the output of the pressure sensor 10 during the opening period of the air valve 9 is monitored to detect a decrease in the hydraulic pressure, thereby detecting breakage of the bellows.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、液圧の低下の
みでは、必ずしもベローズの破損が生じたと断定できる
わけではない。たとえば、薬液吐出の開始直後には、ベ
ローズポンプ5の特性上、液圧の低下が生じる場合もあ
る。また、薬液中に溶存しているガスが発泡すれば、圧
力低下が生じる。発泡しやすい薬液には、たとえば硫酸
過水がある。また、フィルタ7にガスが溜まって圧力低
下を引き起こす場合もある。したがって、圧力の低下に
は、ベローズの破損以外にも種々の原因があるから、圧
力センサ10の出力に基づくベローズの破損の検知で
は、確実性に欠けるという欠点がある。However, it is not always possible to determine that the bellows has been damaged simply by lowering the hydraulic pressure. For example, immediately after the start of the discharge of the chemical solution, the fluid pressure may decrease due to the characteristics of the bellows pump 5. Further, if gas dissolved in the chemical liquid foams, a pressure drop occurs. An example of a chemical solution that easily foams is sulfuric acid peroxide. Further, gas may accumulate in the filter 7 to cause a pressure drop. Therefore, the pressure drop has various causes other than the damage of the bellows, and there is a disadvantage that the detection of the damage of the bellows based on the output of the pressure sensor 10 lacks certainty.
【0009】また、ベローズが破損しているにもかかわ
らず圧力低下がごくわずかである場合もあり、このよう
な場合には、ベローズの破損を検知できないから、薬液
の吐出状態が不安定なままウエハの処理が継続されてし
まう。そこで、本発明の目的は、上述の技術的課題を解
決し、処理液を圧送するための圧送手段の破損を確実に
検知することができる基板処理装置を提供することであ
る。In some cases, even though the bellows is damaged, the pressure drop is very small. In such a case, the damage of the bellows cannot be detected, and the discharge state of the chemical solution remains unstable. Wafer processing is continued. Therefore, an object of the present invention is to solve the above-described technical problem and to provide a substrate processing apparatus capable of reliably detecting breakage of a pumping unit for pumping a processing liquid.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項1記載の発明は、基板に処
理を施すための処理液を基板に供給するための処理液供
給路と、この処理液供給路を通して処理液を圧送するた
めの圧送手段と、上記処理液供給路に介装され、上記処
理液を所定量だけ蓄えることができる容器と、上記容器
に接続された気体排出路に設けられ、弁が開成されるこ
とによって上記容器内の気体の排出を許容し、弁が閉成
されることによって上記容器内の気体の排出を制限する
気体排出弁と、上記容器内の上記処理液の量を、多い順
から第1の液量範囲、第2の液量範囲、および第3の液
量範囲の3つの液量範囲のうちのいずれかに区別して検
出し、上記容器内の処理液の量が上記3つの液量範囲の
うちのいずれの範囲にあるかを表す処理液量検出信号を
出力する処理液量検出手段と、上記処理液量検出信号に
基づいて、上記容器内の上記処理液の量が、上記第1の
液量範囲にある場合には上記気体排出弁を閉成し、上記
第2の液量範囲にある場合には上記気体排出弁を開成
し、上記第3の液量範囲にある場合には上記圧送手段の
破損を検知したことを示す破損検知信号を出力する制御
部とを備えたことを特徴とする基板処理装置である。Means for Solving the Problems and Effects of the Invention According to the first aspect of the present invention, there is provided a processing liquid supply path for supplying a processing liquid for processing a substrate to the substrate. A pumping means for pumping the processing liquid through the processing liquid supply path, a container interposed in the processing liquid supply path and capable of storing a predetermined amount of the processing liquid, and a gas discharge connected to the container. A gas discharge valve that is provided in the passage, permits discharge of gas in the container by opening a valve, and restricts discharge of gas in the container by closing the valve; Detecting the amount of the treatment liquid in one of three liquid amount ranges, a first liquid amount range, a second liquid amount range, and a third liquid amount range, in descending order; The amount of the processing liquid in the A processing liquid amount detection unit that outputs a processing liquid amount detection signal indicating whether the processing liquid is present in the container, and the amount of the processing liquid in the container is within the first liquid amount range based on the processing liquid amount detection signal. In this case, the gas discharge valve is closed, and when the gas is in the second liquid amount range, the gas discharge valve is opened. And a control unit for outputting a damage detection signal indicating that the detection has been performed.
【0011】上記の構成によれば、処理液供給路中に生
じた気泡は、処理液供給路に介装された容器において捕
獲される。この気泡が容器内に蓄積されることによって
容器内の液量が少なくなると、容器内の液量は第1の液
量範囲から第2の液量範囲へと低下する。これに応答し
て、気体排出弁が開成され、容器内の液体気体排出路か
ら排出される。こうして、処理液供給路中で気泡が発生
しても、これを捕獲し、速やかに排除することができ
る。According to the above arrangement, air bubbles generated in the processing liquid supply path are captured by the container provided in the processing liquid supply path. When the amount of liquid in the container decreases due to the accumulation of the bubbles in the container, the amount of liquid in the container decreases from the first liquid amount range to the second liquid amount range. In response, the gas discharge valve is opened and discharged from the liquid gas discharge passage in the container. In this way, even if bubbles are generated in the processing liquid supply path, the bubbles can be captured and quickly eliminated.
【0012】一方、容器中における気泡の蓄積が急激に
進み、気体排出弁の開成による排気によってもなお容器
中の液量の低下を防ぐことができないときには、容器内
の液量は第3の範囲に至る。これに応答して、制御部
は、圧送手段に破損が生じたことを表す破損検知信号を
出力する。つまり、たとえば、圧送手段が圧縮空気で駆
動されるものの場合、処理液供給路中で大量の気泡が一
気に生じたとすれば、圧送手段の破損であると考えられ
る。そこで、この発明では、容器内の処理液量の急激な
減少に基づき、圧送手段の破損を検知するようにしてい
る。On the other hand, when the accumulation of air bubbles in the container progresses rapidly and the decrease in the amount of liquid in the container cannot be prevented even by exhausting gas by opening the gas discharge valve, the amount of liquid in the container falls within the third range. Leads to. In response, the control unit outputs a damage detection signal indicating that the pumping means has been damaged. That is, for example, when the pumping means is driven by compressed air, if a large amount of air bubbles are generated at once in the processing liquid supply path, it is considered that the pumping means is damaged. Therefore, in the present invention, the breakage of the pressure feeding means is detected based on a sudden decrease in the amount of the processing liquid in the container.
【0013】こうして、従来のように圧力センサの出力
によることなく圧送手段の破損を検知できるから、圧送
手段の破損を確実に、かつ、迅速に検知することができ
る。これにより、基板の処理に不良が生じることを防止
できる。請求項2記載の発明は、上記処理液量検出手段
は、上記容器内の上記処理液の液面の位置を検出するこ
とによって上記処理液の量を3つの液量範囲に区別して
検出する液面検出手段であることを特徴とする基板処理
装置である。In this way, since the breakage of the pumping means can be detected without relying on the output of the pressure sensor as in the prior art, the breakage of the pumping means can be reliably and quickly detected. Thereby, it is possible to prevent the occurrence of a defect in the processing of the substrate. According to a second aspect of the present invention, the processing liquid amount detection means detects the amount of the processing liquid in three liquid amount ranges by detecting the level of the processing liquid in the container. A substrate processing apparatus characterized in that the substrate processing apparatus is a surface detection unit.
【0014】この構成によれば、液量の検知を液面の検
知により行っているから、容器内の液量を正確に検知す
ることができる。これにより、容器内の気体の排出およ
び圧送手段の破損の検知をより正確に行える。請求項3
記載の発明は、上記容器の水平断面の面積は下部よりも
上部の方が小さくなっていることを特徴とする請求項2
記載の基板処理装置である。According to this configuration, since the detection of the liquid amount is performed by detecting the liquid level, the liquid amount in the container can be accurately detected. Thus, the discharge of the gas in the container and the detection of the breakage of the pumping means can be performed more accurately. Claim 3
The invention described in claim 2, wherein the area of the horizontal cross section of the container is smaller in the upper part than in the lower part.
It is a substrate processing apparatus of a statement.
【0015】この構成によれば、容器の上部の水平断面
が比較的小さく形成されているので、気泡の蓄積開始に
伴う液面の変化を速やかに検知することができる。これ
により、容器中に蓄積された気体を速やかに排除でき
る。According to this configuration, since the horizontal cross section of the upper portion of the container is formed relatively small, it is possible to quickly detect a change in the liquid level due to the start of the accumulation of bubbles. Thereby, the gas accumulated in the container can be quickly eliminated.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、この
発明の一実施形態にかかる基板処理装置の薬液供給に関
連する構成を示す系統図である。この基板処理装置は、
ウエハW(基板)を保持した状態で、ウエハWの中心を
通る鉛直軸まわりに高速回転することができるスピンチ
ャック21を備えている。スピンチャック21に関連し
て、このスピンチャック21に保持された状態のウエハ
Wの表面および/または裏面に薬液を供給するためのノ
ズル22が備えられている。ノズル22に供給すべき薬
液は、薬液タンク23に貯留されており、この薬液タン
ク23内の薬液が、薬液供給経路24を介してノズル2
2に供給されるようになっている。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a system diagram showing a configuration related to a chemical solution supply of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. This substrate processing equipment
A spin chuck 21 capable of rotating at high speed around a vertical axis passing through the center of the wafer W while holding the wafer W (substrate) is provided. In connection with the spin chuck 21, a nozzle 22 for supplying a chemical solution to the front surface and / or the back surface of the wafer W held by the spin chuck 21 is provided. The chemical to be supplied to the nozzle 22 is stored in a chemical tank 23, and the chemical in the chemical tank 23 is supplied to the nozzle 2 via a chemical supply path 24.
2 is supplied.
【0017】薬液供給経路24には、薬液をノズル22
に向けて圧送するための圧送手段としてのベローズポン
プ25、薬液を所定量だけ蓄えることができ、薬液供給
経路24内で生じた気体を回収するための容器としての
トラップタンク26、薬液供給経路24を通る薬液の流
量を計測するための流量計27、薬液中の異物を除去す
るためのフィルタ28、薬液の流量を調整するための流
量調整弁29、およびウエハWへの薬液供給を開始/停
止するためのエア弁30が介装されている。エア弁30
と、ノズル22との間の薬液供給路24には、さらに、
薬液供給経路24中における薬液の液圧を検出するため
の圧力センサ31が設けられている。この圧力センサ3
1の出力を監視することによって、エア弁30の開閉が
正常に行われているか否かを検知できる。A chemical solution is supplied to the nozzle 22
Pump 25 as a pumping means for pumping the liquid toward the container, a trap tank 26 as a container capable of storing a predetermined amount of the chemical liquid and collecting gas generated in the chemical liquid supply path 24, a chemical liquid supply path 24 Flow meter 27 for measuring the flow rate of the chemical solution passing through, a filter 28 for removing foreign substances in the chemical solution, a flow rate adjusting valve 29 for adjusting the flow rate of the chemical solution, and start / stop of the supply of the chemical solution to the wafer W An air valve 30 is provided. Air valve 30
And the chemical supply path 24 between the nozzle 22 and
A pressure sensor 31 for detecting the liquid pressure of the chemical in the chemical supply path 24 is provided. This pressure sensor 3
By monitoring the output of No. 1, it is possible to detect whether the air valve 30 is normally opened and closed.
【0018】フィルタ28と、流量調整弁29との間の
薬液供給路24からは、エア弁30が閉成状態のとき
に、圧送されてくる薬液を薬液タンク23に帰還するた
めの循環経路32が分岐して形成されている。この循環
経路32の途中部には、エア弁30が開成状態のときに
閉じられ、エア弁30が閉成状態のときに開成されるエ
ア弁33が介装されており、さらに、循環される薬液の
流量を調整するための流量調整弁34が介装されてい
る。薬液の温度をウエハWの処理のための最適温度に保
持するために、ベローズポンプ25とトラップタンク2
6との間の薬液供給経路24には、温度調整手段として
の熱交換器35が設けられており、循環経路32を介す
る薬液の循環によって、薬液タンク23から流量調整弁
29の近傍に至る薬液供給経路24中の薬液の温度を、
最適値に保持することができる。つまり、この実施形態
では、基板処理装置の動作中、ベローズポンプ25は終
始、駆動状態にある。From the chemical supply path 24 between the filter 28 and the flow control valve 29, a circulation path 32 for returning the pressure-fed chemical to the chemical tank 23 when the air valve 30 is closed. Are formed by branching. An air valve 33, which is closed when the air valve 30 is in the open state and opened when the air valve 30 is in the closed state, is interposed in the middle of the circulation path 32, and is further circulated. A flow control valve 34 for adjusting the flow rate of the chemical is provided. In order to maintain the temperature of the chemical solution at an optimum temperature for processing the wafer W, the bellows pump 25 and the trap tank 2
A heat exchanger 35 as a temperature adjusting means is provided in the chemical solution supply path 24 between the chemical solution supply path 6 and the chemical solution supply path 24. The temperature of the chemical in the supply path 24 is
It can be kept at the optimum value. That is, in this embodiment, during operation of the substrate processing apparatus, the bellows pump 25 is in a driven state throughout.
【0019】トラップタンク26の上部には、気体排出
路を形成するエア抜き配管41が接続されており、この
エア抜き配管41は、トラップタンク26内に蓄積され
た気体を薬液タンク23に導く。エア抜き配管41の途
中部には、気体排出弁としてのエア弁42と、流量調整
弁43とが介装されている。一方、トラップタンク26
には、このトラップタンク26内の液体の液面を検知す
る2つの液面センサS1,S2が設けられている。An air vent pipe 41 forming a gas discharge passage is connected to the upper part of the trap tank 26. The air vent pipe 41 guides the gas stored in the trap tank 26 to the chemical liquid tank 23. An air valve 42 as a gas discharge valve and a flow control valve 43 are interposed in the middle of the air vent pipe 41. On the other hand, the trap tank 26
Are provided with two liquid level sensors S1 and S2 for detecting the liquid level of the liquid in the trap tank 26.
【0020】これらのセンサS1およびS2の出力信号
は、装置の各部を制御するための制御部50に与えられ
ている。この制御部50には、圧力センサ31の出力信
号も与えられている。そして、この制御部50は、これ
らのセンサ類の出力に基づいて、エア弁30,33,4
2の開閉を制御し、さらに、ベローズポンプ25の動作
を制御する。制御部50にはまた、液晶表示装置などか
らなる表示部51が接続されており、この表示部51に
は、制御部50の制御の下、異常メッセージなどが表示
される。The output signals of these sensors S1 and S2 are given to a control unit 50 for controlling each unit of the apparatus. The output signal of the pressure sensor 31 is also supplied to the control unit 50. The control unit 50 controls the air valves 30, 33, 4 based on the outputs of these sensors.
2 and the operation of the bellows pump 25 is controlled. A display unit 51 such as a liquid crystal display device is also connected to the control unit 50. Under the control of the control unit 50, an abnormal message and the like are displayed on the display unit 51.
【0021】図2は、液面センサS1およびS2による
液面検知の態様を説明するための図である。液面センサ
S1およびS2は、たとえば、液の有無による静電容量
の変化を検出する静電容量型センサからなり、トラップ
タンク26の外側面に取り付けられている。液面センサ
S1は、トラップタンク26の上面26aよりもやや下
方においてトラップタンク26内の薬液を検知する。ま
た、液面センサS2は、液面センサS1よりもさらに下
方において、トラップタンク26内の薬液を検知する。
この2つの液面センサS1,S2により、トラップタン
ク26内の薬液の液面が、液面センサS1の検知高さよ
りも上方の第1範囲R1(第1の液量範囲に相当す
る。)、液面センサS1およびS2の各検知高さの間の
第2範囲R2(第2の液量範囲に相当する。)、ならび
に液面センサS2の検知高さよりも下方の第3範囲R3
(第3の液量範囲に相当する。)のうちのいずれの高さ
範囲に存在しているかを区別して検知することができ
る。すなわち、液量センサS1およびS2の出力信号
は、トラップタンク26内の薬液の量が、第1の液量範
囲、第2の液量範囲、および第3の液量範囲の3つの液
量範囲のうちのいずれの範囲にあるかを表す処理液量検
出信号となる。FIG. 2 is a diagram for explaining a mode of liquid level detection by the liquid level sensors S1 and S2. The liquid level sensors S1 and S2 are, for example, capacitance type sensors that detect a change in capacitance due to the presence or absence of liquid, and are attached to the outer surface of the trap tank 26. The liquid level sensor S1 detects a chemical solution in the trap tank 26 slightly below the upper surface 26a of the trap tank 26. Further, the liquid level sensor S2 detects the chemical solution in the trap tank 26 further below the liquid level sensor S1.
With these two liquid level sensors S1 and S2, the liquid level of the chemical in the trap tank 26 is higher than the detection height of the liquid level sensor S1 in a first range R1 (corresponding to a first liquid amount range), A second range R2 (corresponding to a second liquid volume range) between the detection heights of the liquid level sensors S1 and S2, and a third range R3 lower than the detection height of the liquid level sensor S2.
(Corresponding to the third liquid amount range), it is possible to distinguish and detect which height range exists. That is, the output signals of the liquid amount sensors S1 and S2 indicate that the amount of the chemical in the trap tank 26 is in three liquid amount ranges of a first liquid amount range, a second liquid amount range, and a third liquid amount range. The processing liquid amount detection signal indicates which of the ranges is within.
【0022】薬液供給路24においては、薬液中に溶存
している様々なガスが、圧力の変動により、気泡となっ
てトラップタンク26に溜まり、その結果、トラップタ
ンク26の内部における上方の空間には、空隙45が形
成される。また、トラップタンク26に気泡が溜まる他
の原因として、ベローズポンプ25のベローズの破損が
ある。この実施形態では、薬液中に溶存しているガスが
気泡となってトラップタンク26に溜まるときの速さ
と、ベローズポンプ25のベローズの破損によってトラ
ップタンク26内に気泡が溜まる速さとが異なる点に着
目し、後述するようにして、ベローズの破損の正確な検
知を達成している。In the chemical supply path 24, various gases dissolved in the chemical are changed into bubbles to accumulate in the trap tank 26 due to pressure fluctuations. In this case, a void 45 is formed. Another cause of accumulation of air bubbles in the trap tank 26 is that the bellows of the bellows pump 25 is damaged. In this embodiment, the speed at which the gas dissolved in the chemical solution becomes bubbles and accumulates in the trap tank 26 is different from the speed at which bubbles accumulate in the trap tank 26 due to breakage of the bellows of the bellows pump 25. Attention has been paid to achieving accurate detection of bellows breakage as described below.
【0023】図3は、ベローズポンプ25の基本的な構
成を示す図解図である。このベローズポンプ25は、対
向して配置された一対のシリンダ61および62を有し
ており、各シリンダ61,62内には、ベローズ63,
64がそれぞれ配置されている。シリンダ61,62の
内部空間には、電磁弁機構65を介して圧縮空気が交互
に供給され、またシリンダ61,62の内部空間の空気
は、電磁弁機構65を介して交互に排気されるようにな
っている。すなわち、シリンダ61,62のうちの一方
に圧縮空気が供給されるときには、他方のシリンダ内の
空気が排気される。ベローズ63,64のフランジ63
aおよび64aは、連結部材66によって連結されてお
り、一方のベローズの伸長と他方のベローズの収縮とが
同期するようになっている。FIG. 3 is an illustrative view showing a basic structure of the bellows pump 25. The bellows pump 25 has a pair of cylinders 61 and 62 disposed opposite to each other.
64 are arranged respectively. Compressed air is alternately supplied to the internal space of the cylinders 61 and 62 via an electromagnetic valve mechanism 65, and air in the internal space of the cylinders 61 and 62 is alternately exhausted via the electromagnetic valve mechanism 65. It has become. That is, when compressed air is supplied to one of the cylinders 61 and 62, the air in the other cylinder is exhausted. Flange 63 of bellows 63, 64
a and 64a are connected by a connecting member 66 so that the extension of one bellows and the contraction of the other bellows are synchronized.
【0024】ベローズ63,64の内部空間は、薬液室
になっており、この薬液室は薬液タンク23からの薬液
が導かれる薬液供給路67,68とそれぞれ連通してい
る。この薬液供給路67,68には、薬液タンク23へ
の逆流を防止する逆止弁69,70がそれぞれ介装され
ている。また、ベローズ63,62の内部空間により形
成された薬液室は、トラップタンク26へと薬液を導く
薬液流出路71,72とそれぞれ連通している。この薬
液流出路71,72には、トラップタンク26側への薬
液の流出のみを許容する逆止弁73,74がそれぞれ介
装されている。The internal space of the bellows 63, 64 is a chemical solution chamber, and this chemical solution chamber communicates with chemical solution supply passages 67, 68 through which the chemical solution from the chemical solution tank 23 is led. Check valves 69 and 70 for preventing backflow to the chemical tank 23 are interposed in the chemical supply paths 67 and 68, respectively. The chemical chambers formed by the inner spaces of the bellows 63 and 62 communicate with chemical outflow passages 71 and 72 for guiding the chemical to the trap tank 26, respectively. Non-return valves 73 and 74 that allow only the outflow of the chemical solution to the trap tank 26 side are interposed in the chemical solution outflow passages 71 and 72, respectively.
【0025】この構成により、電磁弁機構65からシリ
ンダ62に圧縮空気を供給し、シリンダ61内の空気を
電磁弁機構65を介して排気すれば、ベローズ64が収
縮して、このベローズ64内の薬液は、薬液排出路72
および逆止弁74を通ってトラップタンク26へ向けて
圧送される。このとき、ベローズ63は伸長し、その内
部には、薬液タンク23からの薬液が、逆止弁69およ
び薬液供給路67を介して供給される。逆に、電磁弁機
構65からシリンダ61に圧縮空気を供給し、シリンダ
62内の空気を電磁弁機構65を介して排気すれば、ベ
ローズ63が収縮し、ベローズ64が伸長する。したが
って、この場合には、薬液タンク23からの薬液はベロ
ーズ64の内部の薬液室に導入され、ベローズ63の内
部の薬液室内の薬液がトラップタンク26側に圧送され
ることになる。こうして、ベローズ63,64が交互に
伸縮することにより、ほぼ連続的に薬液を供給できる。With this configuration, if compressed air is supplied from the solenoid valve mechanism 65 to the cylinder 62 and the air in the cylinder 61 is exhausted through the solenoid valve mechanism 65, the bellows 64 contracts and the inside of the bellows 64 The chemical is supplied to the chemical discharge passage 72
And the pressure is sent to the trap tank 26 through the check valve 74. At this time, the bellows 63 extends, and a chemical solution from the chemical solution tank 23 is supplied to the inside thereof through the check valve 69 and the chemical solution supply path 67. Conversely, if compressed air is supplied from the electromagnetic valve mechanism 65 to the cylinder 61 and the air in the cylinder 62 is exhausted through the electromagnetic valve mechanism 65, the bellows 63 contracts and the bellows 64 expands. Therefore, in this case, the chemical from the chemical tank 23 is introduced into the chemical chamber inside the bellows 64, and the chemical in the chemical chamber inside the bellows 63 is pressure-fed to the trap tank 26 side. Thus, the bellows 63 and 64 alternately expand and contract, so that the chemical solution can be supplied almost continuously.
【0026】このような構成のベローズポンプ25にお
いては、ベローズ63または64に破損が生じれば、電
磁弁機構65を介して供給される圧縮空気が薬液排出路
71,72を介して、トラップタンク26側に送られる
ことになる。この圧縮空気の気泡の混じった薬液がウエ
ハWにまで供給されると、ウエハWの処理に不良が生じ
ることになる。In the bellows pump 25 having such a configuration, if the bellows 63 or 64 is damaged, the compressed air supplied through the solenoid valve mechanism 65 is supplied to the trap tank via the chemical discharge passages 71 and 72. It is sent to the 26 side. If the chemical solution containing the bubbles of the compressed air is supplied to the wafer W, the processing of the wafer W becomes defective.
【0027】図4は、制御部50の動作を説明するため
のフローチャートであり、ベローズポンプ25における
不具合の検知に関連する処理が表されている。制御部5
0は、まず、液面センサS1の出力を調べる(ステップ
n1)。この液面センサS1が薬液を検知しており、し
たがって、トラップタンク26内の薬液の液面が第1範
囲R1に存在している場合には、エア弁42を閉成状態
とする(ステップn2)。FIG. 4 is a flowchart for explaining the operation of the control unit 50, and shows processing related to detection of a malfunction in the bellows pump 25. Control unit 5
In the case of 0, first, the output of the liquid level sensor S1 is checked (step n1). If the liquid level sensor S1 detects the chemical, and the liquid level of the chemical in the trap tank 26 is within the first range R1, the air valve 42 is closed (step n2). ).
【0028】一方、液面センサS1が薬液を検知してい
ないときには、さらに、液面センサS2の出力を調べる
(ステップn3)。液面センサS2が薬液を検知してお
り、したがって、トラップタンク26内の薬液の液面が
第2範囲R2に存在しているときには、エア弁42を開
成状態とする(ステップn4)。これにより、エア抜き
が行われ、トラップタンク26の内部に貯まった気体
が、流量調整弁43により調整された流量で排気され
る。これにより、液面が上昇して液面センサS1に達す
れば(ステップn1)、エア弁42が閉成されることに
なる(ステップn2)。On the other hand, when the liquid level sensor S1 has not detected the chemical, the output of the liquid level sensor S2 is further checked (step n3). When the liquid level sensor S2 detects the chemical, and the liquid level of the chemical in the trap tank 26 is in the second range R2, the air valve 42 is opened (step n4). As a result, air is vented, and the gas stored in the trap tank 26 is exhausted at a flow rate adjusted by the flow adjustment valve 43. Thereby, when the liquid level rises and reaches the liquid level sensor S1 (step n1), the air valve 42 is closed (step n2).
【0029】こうして、センサS1およびS2の出力に
基づくエア弁42の開閉制御により、トラップタンク2
6内の液面は、通常、第2範囲R2よりも下回らない範
囲で、上下する。トラップタンク26内における気体の
貯留が急激に進み、エア弁42を開成しても、なお液面
の低下が継続する場合には、液面センサS2が薬液を検
知しない状態に至り、液面は第3範囲R3にまで下降す
る。このとき、制御部50は、装置の動作を停止させ
(ステップn5)、さらに、ベローズポンプ25の破損
を検知して、破損検知信号を出力する。これにより、表
示部51において、ベローズポンプ25の破損を知らせ
るメッセージが表示される(ステップn6)。In this way, the opening / closing control of the air valve 42 based on the outputs of the sensors S1 and S2 allows the trap tank 2
The liquid level in 6 usually rises and falls within a range not lower than the second range R2. If the gas level in the trap tank 26 rapidly increases and the liquid level continues to decrease even when the air valve 42 is opened, the liquid level sensor S2 does not detect the chemical, and the liquid level becomes It falls to the third range R3. At this time, the control unit 50 stops the operation of the device (step n5), further detects the damage of the bellows pump 25, and outputs a damage detection signal. As a result, a message notifying that the bellows pump 25 has been damaged is displayed on the display unit 51 (step n6).
【0030】エア抜き経路41に介装されている流量調
整弁43の開度は、ベローズポンプ25が正常な場合に
おけるトラップタンク26の内部の気泡の増加よりも速
くエア抜きができ、かつ、ベローズポンプ25の破損に
よるトラップタンク26の内部の気泡の増加よりもはる
かに遅くエア抜きがされるように調整されることが好ま
しい。これにより、ベローズポンプ25が正常な場合に
は、トラップタンク26内の液面が第2範囲R2を下回
ることがなく、また、ベローズポンプ25が破損した場
合には、トラップタンク26内の液面が速やかに第3範
囲R3まで下がることになる。The opening of the flow control valve 43 interposed in the air bleed path 41 allows the air to be bleed faster than the increase in the air bubbles in the trap tank 26 when the bellows pump 25 is normal, and the bellows It is preferable that the air is evacuated much later than the increase of bubbles inside the trap tank 26 due to the damage of the pump 25. Thus, when the bellows pump 25 is normal, the liquid level in the trap tank 26 does not fall below the second range R2, and when the bellows pump 25 is damaged, the liquid level in the trap tank 26 does not fall. Quickly falls to the third range R3.
【0031】このように、この実施形態においては、薬
液供給路24に介装されたトラップタンク26において
気泡を蓄え、この気泡を排気するようにしているので、
薬液中の気泡を良好に除去することができる。また、ト
ラップタンク26内の気泡が急激に増加したことに基づ
いて、ベローズポンプ25の破損を検知しているから、
圧力センサの出力に頼っていた従来技術に比較して、迅
速に、かつ、確実にベローズポンプ25の破損を検知す
ることができる。そして、トラップタンク26内の液面
が第3範囲R3にまで下降したことに応答して装置の動
作が速やかに停止され、ベローズポンプ25に破損が生
じた旨のメッセージを出力するようにしているから、多
量の気泡が混入した薬液によってウエハWが処理するこ
とを防止でき、かつ、装置の使用者に速やかに故障の事
実を報知することができる。As described above, in this embodiment, air bubbles are stored in the trap tank 26 interposed in the chemical solution supply path 24, and the air bubbles are exhausted.
Bubbles in the chemical solution can be satisfactorily removed. In addition, since the breakage of the bellows pump 25 is detected based on the rapid increase of the air bubbles in the trap tank 26,
Compared with the conventional technology that relies on the output of the pressure sensor, it is possible to detect the damage of the bellows pump 25 quickly and reliably. Then, in response to the liquid level in the trap tank 26 having dropped to the third range R3, the operation of the apparatus is stopped immediately, and a message indicating that the bellows pump 25 has been damaged is output. Accordingly, it is possible to prevent the wafer W from being processed by the chemical solution containing a large amount of air bubbles, and to promptly notify the user of the apparatus of the failure.
【0032】図5は、この発明の第2の実施形態の構成
を説明するための図であり、図2に示されたトラップタ
ンク26に代えて用いられるべきトラップタンク126
の構成が示されている。図2に示されたトラップタンク
26は、水平断面がいずれの高さでも等しく形成されて
いるのに対して、この図5に示されたトラップタンク1
26においては、上方の液面センサS1による検知範囲
付近における水平断面が、下方の液面センサS2による
検知範囲付近における水平断面よりも小さくなるように
形成されている。FIG. 5 is a view for explaining the structure of the second embodiment of the present invention. A trap tank 126 to be used instead of the trap tank 26 shown in FIG.
Is shown. The trap tank 26 shown in FIG. 2 has the same horizontal cross section at any height, whereas the trap tank 26 shown in FIG.
In 26, the horizontal section near the detection range of the upper liquid level sensor S1 is formed to be smaller than the horizontal section near the detection range of the lower liquid level sensor S2.
【0033】この構成によれば、トラップタンク126
内に気体が蓄積されると、液面が速やかに下降する。し
たがって、気体の蓄積が液面センサS1によって速やか
に検知されるから、エア抜きを迅速に行うことができ
る。この発明の2つの実施形態について説明したが、こ
の発明は上述の実施形態に限定されるものではない。た
とえば、上記の実施形態においては、トラップタンク2
6または126内の液面を検出する液面センサとして、
静電容量型センサが用いられているが、他の形態の液面
センサが用いられても良いことは言うまでもない。たと
えば、光ファイバ型センサ、フォトマイクロセンサ、超
音波式センサなどが適用可能である。According to this configuration, the trap tank 126
When gas accumulates in the liquid, the liquid level quickly drops. Therefore, the accumulation of gas is promptly detected by the liquid level sensor S1, so that the air can be quickly removed. Although two embodiments of the present invention have been described, the present invention is not limited to the above embodiments. For example, in the above embodiment, the trap tank 2
As a liquid level sensor for detecting the liquid level in 6 or 126,
Although a capacitance type sensor is used, it goes without saying that another form of liquid level sensor may be used. For example, an optical fiber sensor, a photo micro sensor, an ultrasonic sensor, or the like can be applied.
【0034】光ファイバ型センサは、図6に示すよう
に、たとえはフッ素樹脂からなるファイバ部81の先端
部部81aにおける光の反射の有無を検知するようにし
たものである。先端部81aは、逆円錐面状をなすよう
に形成されている。この先端部81aが液中82にある
ときには、ファイバ部81と液82との屈折率の差が小
さいため、ファイバ部81により導かれてきた光のほと
んどは、液82中に放射される(図6(a) )。これに対
して、先端部81aが空気中にあるときには、ファイバ
部81と空気との大きな屈折率差のために、ファイバ部
81により先端部81aに導かれてきた光のほとんど
は、この先端部81aの逆円錐面において反射される
(図6(b) )。したがって、ファイバ部81の基端部に
おいて、先端部81aから戻ってくる光を受光素子によ
り検出すれば、この受光素子の出力に基づいて、先端部
81aの位置における液82の有無を検出できる。As shown in FIG. 6, the optical fiber type sensor detects the presence or absence of light reflection at the tip portion 81a of a fiber portion 81 made of, for example, a fluororesin. The tip portion 81a is formed to have an inverted conical surface shape. When the tip portion 81a is in the liquid 82, most of the light guided by the fiber portion 81 is radiated into the liquid 82 because the difference in the refractive index between the fiber portion 81 and the liquid 82 is small (see FIG. 6 (a)). On the other hand, when the distal end portion 81a is in the air, most of the light guided to the distal end portion 81a by the fiber portion 81 due to a large refractive index difference between the fiber portion 81 and the air. The light is reflected by the inverted conical surface 81a (FIG. 6 (b)). Therefore, if the light returning from the distal end portion 81a is detected by the light receiving element at the base end portion of the fiber portion 81, the presence or absence of the liquid 82 at the position of the distal end portion 81a can be detected based on the output of the light receiving element.
【0035】また、フォトマイクロセンサは、発光素子
と受光素子との対を含み、発光素子から出た光を受光素
子で受光することができるようにしたものである。発光
素子と受光素子との間の光路中に薬液が存在するかしな
いかで受光素子が受光する光量が変化するから、これに
基づき、薬液の有無を検知できる。このようなフォトマ
イクロセンサを用いる場合には、たとえば、図7に示す
ように、トラップタンク26の側面に、鉛直方向に沿っ
て配置された透明なバイパス管85が設けられることが
好ましい。このバイパス管85の外面に、上下方向に間
隔を開けて、フォトマイクロセンサ86,87を設けれ
ば、これらのフォトマイクロセンサ86,87を上述の
液面センサS1,S2として機能させることができる。The photomicrosensor includes a pair of a light emitting element and a light receiving element, so that light emitted from the light emitting element can be received by the light receiving element. Since the amount of light received by the light receiving element changes depending on whether or not the chemical is present in the optical path between the light emitting element and the light receiving element, the presence or absence of the chemical can be detected based on this. In the case of using such a photomicrosensor, for example, as shown in FIG. 7, it is preferable to provide a transparent bypass pipe 85 disposed along the vertical direction on the side surface of the trap tank 26. If photomicrosensors 86 and 87 are provided on the outer surface of the bypass pipe 85 at intervals in the vertical direction, these photomicrosensors 86 and 87 can function as the above-described liquid level sensors S1 and S2. .
【0036】さらに、超音波式センサは、超音波発生手
段と、いずれかの物体から反射されてくる超音波を受信
する超音波受信手段とからなる。このような超音波セン
サをトラップタンクの側壁に取り付け、トラップタンク
の内部空間に向けて超音波を放射すると、薬液が存在す
る場合には超音波の反射量が多いが、薬液が存在しなけ
れば超音波の反射量が少ない。したがって、この超音波
センサをトラップタンクの側壁に上下方向に間隔を開け
て配置すれば、上述の液面センサS1およびS2として
の機能を果たすことができる。Further, the ultrasonic sensor comprises ultrasonic wave generating means and ultrasonic wave receiving means for receiving ultrasonic waves reflected from any object. When such an ultrasonic sensor is attached to the side wall of the trap tank and emits ultrasonic waves toward the internal space of the trap tank, the amount of reflected ultrasonic waves is large when a chemical solution is present, but if the chemical solution does not exist, The amount of ultrasonic reflection is small. Therefore, if the ultrasonic sensors are arranged on the side wall of the trap tank at an interval in the vertical direction, the function as the liquid level sensors S1 and S2 can be achieved.
【0037】また、トラップタンク内の液量の検知に
は、液面センサを用いる以外にも、たとえば、図8に示
すように、トラップタンク26の重量を検出する重量セ
ンサ90を用いることもできる。さらに、上記の実施形
態においては、トラップタンク26が、ベローズポンプ
25と流量計27との間に配置されているが、トラップ
タンク26は、ベローズポンプ25よりもノズル22寄
りであれば、薬液供給経路24のいずれの位置に配置さ
れてもよい。ただし、フィルタ28が気泡を通しにくい
性質を有するものの場合には、フィルタ28よりもベロ
ーズポンプ25側にトラップタンクが配置されることが
好ましい。For detecting the amount of liquid in the trap tank, a weight sensor 90 for detecting the weight of the trap tank 26 can be used as shown in FIG. . Furthermore, in the above embodiment, the trap tank 26 is disposed between the bellows pump 25 and the flow meter 27. However, if the trap tank 26 is closer to the nozzle 22 than the bellows pump 25, It may be arranged at any position on the path 24. However, when the filter 28 has a property that air bubbles are difficult to pass through, it is preferable that the trap tank is disposed closer to the bellows pump 25 than the filter 28 is.
【0038】また、上記の実施形態においては、ベロー
ズポンプ25を終始動作させ、ノズル22から薬液を吐
出しないときには、循環経路32を介して薬液タンク2
3に薬液を帰還させるようにしているが、薬液の温度制
御が重要でない場合には、循環経路32を設ける必要は
ない。ただし、この場合には、エア弁30を閉じて薬液
の供給を停止する際に、ベローズポンプ25も同時に停
止させる必要がある。In the above embodiment, when the bellows pump 25 is operated all the time and the chemical liquid is not discharged from the nozzle 22, the chemical liquid tank 2 is connected via the circulation path 32.
Although the chemical solution is returned to 3, the circulation path 32 need not be provided when temperature control of the chemical solution is not important. However, in this case, it is necessary to stop the bellows pump 25 at the same time when the supply of the chemical solution is stopped by closing the air valve 30.
【0039】さらに、上記の実施形態においては、処理
液を圧送する圧送手段としてベローズポンプが用いられ
ている例について説明したが、この発明は、破損により
圧縮空気が処理液中に混入するおそれのある任意の形態
の圧送手段を用いた基板処理装置に対して広く適用する
ことができるものである。また、上記の実施形態におい
ては、薬液の供給に関連する構成について説明したが、
薬液以外にも、たとえば純水のような他の処理液の供給
系に対しても同様な構成を採用してもよい。Further, in the above-described embodiment, an example has been described in which the bellows pump is used as the pressure-feeding means for pressure-feeding the processing liquid. However, in the present invention, compressed air may be mixed into the processing liquid due to breakage. The present invention can be widely applied to a substrate processing apparatus using a certain type of pressure feeding means. Further, in the above embodiment, the configuration related to the supply of the chemical solution has been described,
A similar configuration may be adopted for a supply system of another processing liquid such as pure water, for example, in addition to the chemical liquid.
【0040】さらに、上記の実施形態においては、ウエ
ハを処理するための装置に本発明が適用された例につい
て説明したが、この発明は、液晶表示装置用ガラス基板
のような他の被処理基板に対しても広く適用することが
できる。その他、特許請求の範囲に記載された範囲で種
々の変更を施すことが可能である。Further, in the above-described embodiment, an example in which the present invention is applied to an apparatus for processing a wafer has been described. However, the present invention relates to another substrate to be processed such as a glass substrate for a liquid crystal display device. Can be widely applied. In addition, various changes can be made within the scope described in the claims.
【図1】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の薬
液供給に関連する構成を示す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing a configuration related to a chemical solution supply of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】上記基板処理装置のトラップタンクに関連する
部分の構成を示す図解図である。FIG. 2 is an illustrative view showing a configuration of a portion related to a trap tank of the substrate processing apparatus.
【図3】ベローズポンプの構成を説明するための図解図
である。FIG. 3 is an illustrative view for explaining a configuration of a bellows pump;
【図4】ベローズポンプの破損の検知に関連する制御部
の動作を説明するためのフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart for explaining an operation of a control unit related to detection of breakage of the bellows pump.
【図5】トラップタンクの他の構成例を示す図解図であ
る。FIG. 5 is an illustrative view showing another configuration example of the trap tank;
【図6】液面センサの例を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a liquid level sensor.
【図7】液面センサの他の例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing another example of the liquid level sensor.
【図8】トラップタンク内の薬液量を検出するための他
の構成例を示す図解図である。FIG. 8 is an illustrative view showing another configuration example for detecting the amount of the chemical solution in the trap tank;
【図9】従来の基板処理装置の薬液供給に関連する構成
を示す系統図である。FIG. 9 is a system diagram showing a configuration related to chemical supply of a conventional substrate processing apparatus.
22 ノズル 23 薬液タンク 24 薬液供給路 25 ベローズポンプ 26 トラップタンク 41 エア抜き配管 42 エア弁 S1,S2 液面センサ 22 Nozzle 23 Chemical liquid tank 24 Chemical liquid supply path 25 Bellows pump 26 Trap tank 41 Air vent pipe 42 Air valve S1, S2 Liquid level sensor
Claims (3)
給するための処理液供給路と、 この処理液供給路を通して処理液を圧送するための圧送
手段と、 上記処理液供給路に介装され、上記処理液を所定量だけ
蓄えることができる容器と、 上記容器に接続された気体排出路に設けられ、弁が開成
されることによって上記容器内の気体の排出を許容し、
弁が閉成されることによって上記容器内の気体の排出を
制限する気体排出弁と、 上記容器内の上記処理液の量を、多い順から第1の液量
範囲、第2の液量範囲、および第3の液量範囲の3つの
液量範囲のうちのいずれかに区別して検出し、上記容器
内の処理液の量が上記3つの液量範囲のうちのいずれの
範囲にあるかを表す処理液量検出信号を出力する処理液
量検出手段と、 上記処理液量検出信号に基づいて、上記容器内の上記処
理液の量が、上記第1の液量範囲にある場合には上記気
体排出弁を閉成し、上記第2の液量範囲にある場合には
上記気体排出弁を開成し、上記第3の液量範囲にある場
合には上記圧送手段の破損を検知したことを示す破損検
知信号を出力する制御部とを備えたことを特徴とする基
板処理装置。1. A processing liquid supply path for supplying a processing liquid for processing a substrate to a substrate, a pumping means for pumping the processing liquid through the processing liquid supply path, and a processing liquid supply path. A container that is interposed and is capable of storing a predetermined amount of the processing liquid, and is provided in a gas discharge path connected to the container, and allows discharge of gas in the container by opening a valve,
A gas discharge valve for restricting discharge of gas in the container by closing a valve; and a first liquid amount range and a second liquid amount range in descending order of the amount of the processing liquid in the container. , And a third liquid volume range, and detects which one of the three liquid volume ranges the volume of the processing liquid in the container is in. A processing liquid amount detection unit that outputs a processing liquid amount detection signal representing the processing liquid amount, and based on the processing liquid amount detection signal, when the amount of the processing liquid in the container is within the first liquid amount range, The gas discharge valve is closed, and when it is in the second liquid amount range, the gas discharge valve is opened, and when it is in the third liquid amount range, it is detected that the pressure feeding means is damaged. And a control unit for outputting a breakage detection signal as shown in the figure.
記処理液の液面の位置を検出することによって上記処理
液の量を3つの液量範囲に区別して検出する液面検出手
段であることを特徴とする基板処理装置。2. The liquid level detecting means for detecting the amount of the processing liquid in three ranges by detecting the position of the liquid level of the processing liquid in the container. A substrate processing apparatus, characterized in that:
部の方が小さくなっていることを特徴とする請求項2記
載の基板処理装置。3. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the area of the horizontal section of the container is smaller at the upper part than at the lower part.
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