JPH10161324A - 投影露光方法 - Google Patents
投影露光方法Info
- Publication number
- JPH10161324A JPH10161324A JP9180894A JP18089497A JPH10161324A JP H10161324 A JPH10161324 A JP H10161324A JP 9180894 A JP9180894 A JP 9180894A JP 18089497 A JP18089497 A JP 18089497A JP H10161324 A JPH10161324 A JP H10161324A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- patterns
- substrate
- target
- target patterns
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】投影露光方法において、Ｘ方向、Ｙ方向の伸縮
歪およびＸＹ方向の直交度歪を検出し、補正することが
でき、マスクまたはレテイクルと基板上のパターンとの
重ね合せ精度を高める。 【解決手段】非直線上に配置され中心を含まない少くと
も３点のターゲットパターンの位置を検出することで、
ウエーハのＸ、Ｙ両方向の伸縮歪およびＸ、Ｙの直交度
歪を検出する。
歪およびＸＹ方向の直交度歪を検出し、補正することが
でき、マスクまたはレテイクルと基板上のパターンとの
重ね合せ精度を高める。 【解決手段】非直線上に配置され中心を含まない少くと
も３点のターゲットパターンの位置を検出することで、
ウエーハのＸ、Ｙ両方向の伸縮歪およびＸ、Ｙの直交度
歪を検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ホトレジスト等の
感光性防蝕剤を用いて基板上にマスクまたはレテイクル
のパターンを転写する際に使用される投影露光方法に関
し、特に、基板上のパターンとマスクまたはレテイクル
パターンとを高精度に合わせることを必要とする場合に
好適な投影露光方法に関する。
感光性防蝕剤を用いて基板上にマスクまたはレテイクル
のパターンを転写する際に使用される投影露光方法に関
し、特に、基板上のパターンとマスクまたはレテイクル
パターンとを高精度に合わせることを必要とする場合に
好適な投影露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の投影露光装置として、例えば特公
昭５７−４２９７１号公報には、２次元的に稼動可能な
ステージ上に載置された被露光物上のマークと、前記被
露光物に転写される原画上のマークとを検出する開示が
ある。従来の投影露光方法では、図１に示すように、基
板１上の２つのターゲットパターン２、３のＸ、Ｙ位置
を検出し、これにマスクまたはレテイクル４上のターゲ
ットパターン５、６を合せることにより、両者を整合さ
せていた。
昭５７−４２９７１号公報には、２次元的に稼動可能な
ステージ上に載置された被露光物上のマークと、前記被
露光物に転写される原画上のマークとを検出する開示が
ある。従来の投影露光方法では、図１に示すように、基
板１上の２つのターゲットパターン２、３のＸ、Ｙ位置
を検出し、これにマスクまたはレテイクル４上のターゲ
ットパターン５、６を合せることにより、両者を整合さ
せていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の投影露
光方法では、基板上で左右方向をＸ、上下方向をＹとし
た場合にＸ、Ｙ方向それぞれに２点のターゲット位置を
検出し、Ｘ方向、Ｙ方向、回転およびＸまたはＹ方向の
基板パターンの伸縮歪を検出するためには、Ｘ方向とＹ
方向の伸縮歪が等しくないと、基板全面での補正が正し
く行なわれず、またＸ方向とＹ方向の直角度の狂いを補
正することが不可能であるという欠点を有していた。
光方法では、基板上で左右方向をＸ、上下方向をＹとし
た場合にＸ、Ｙ方向それぞれに２点のターゲット位置を
検出し、Ｘ方向、Ｙ方向、回転およびＸまたはＹ方向の
基板パターンの伸縮歪を検出するためには、Ｘ方向とＹ
方向の伸縮歪が等しくないと、基板全面での補正が正し
く行なわれず、またＸ方向とＹ方向の直角度の狂いを補
正することが不可能であるという欠点を有していた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の投影露光方法で
は、非直線上に配置された少くとも３点のターゲットパ
ターンの位置を検出することで、ウエーハのＸ、Ｙ両方
向の伸縮歪およびＸ、Ｙの直交度歪を検出することを特
徴とする。
は、非直線上に配置された少くとも３点のターゲットパ
ターンの位置を検出することで、ウエーハのＸ、Ｙ両方
向の伸縮歪およびＸ、Ｙの直交度歪を検出することを特
徴とする。
【０００５】本発明の投影露光方法とすることで、Ｘ方
向、Ｙ方向の伸縮歪およびＸＹ方向の直交度歪を検出
し、補正することができ、マスクまたはレテイクルと基
板上のパターンとの重ね合せ精度を高め得る新規な投影
露光方法が提供される。
向、Ｙ方向の伸縮歪およびＸＹ方向の直交度歪を検出
し、補正することができ、マスクまたはレテイクルと基
板上のパターンとの重ね合せ精度を高め得る新規な投影
露光方法が提供される。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
により説明する。図２は本発明の一実施例を示すもの
で、基板１０上には３点のターゲットパターン１１、１
２、１３が設けられており、これにマスクまたはレテイ
クル上のターゲットパターン１４、１５、１６を合わせ
る。ターゲットパターン１１、１２、１３は同一直線上
になく配置され、ターゲットパターン１１、１２間の距
離Ａを検出することにより、Ｘ方向の伸縮歪を検出で
き、またターゲットパターン１１、１２を結ぶ直線とタ
ーゲットパターン１３との距離Ｂを求めることによりＹ
方向の伸縮歪を測定できる。更にターゲットパターン１
３について検出されたＸ座標と、ターゲット１１、１２
の測定から算出される設定上のターゲットパターン１３
のＸ座標との差より、Ｘ、Ｙ方向の直交度を検出でき
る。
により説明する。図２は本発明の一実施例を示すもの
で、基板１０上には３点のターゲットパターン１１、１
２、１３が設けられており、これにマスクまたはレテイ
クル上のターゲットパターン１４、１５、１６を合わせ
る。ターゲットパターン１１、１２、１３は同一直線上
になく配置され、ターゲットパターン１１、１２間の距
離Ａを検出することにより、Ｘ方向の伸縮歪を検出で
き、またターゲットパターン１１、１２を結ぶ直線とタ
ーゲットパターン１３との距離Ｂを求めることによりＹ
方向の伸縮歪を測定できる。更にターゲットパターン１
３について検出されたＸ座標と、ターゲット１１、１２
の測定から算出される設定上のターゲットパターン１３
のＸ座標との差より、Ｘ、Ｙ方向の直交度を検出でき
る。
【０００７】図３は本発明の他の実施例を示すもので、
基板２０上には５個のターゲットパターン２１、２２、
２３、２４、２５が設けられ、これにマスクまたはレテ
イクル上のターゲットパターン２６、２７、２８、２
９、３０を合せるようになっている。Ｘ方向のウエーハ
の伸縮は、ターゲットパターン２１、２５間、２２、２
５間の距離により求められ、またＹ方向の伸縮はターゲ
ットパターン２３、２５間、２４、２５間の距離を検出
することにより測定できる。更に、ターゲットパターン
２１、２５を基準とし、∠２１、２５、２３，∠２１、
２５、２２，∠２１、２５、２４を求めることにより、
それぞれの方向の角度歪を検出することができる。この
ようにして求められた歪データに応じ、露光時に、基板
またはマスクかレテイクルの移動距離を修正することに
より、前記歪を補正することができる。
基板２０上には５個のターゲットパターン２１、２２、
２３、２４、２５が設けられ、これにマスクまたはレテ
イクル上のターゲットパターン２６、２７、２８、２
９、３０を合せるようになっている。Ｘ方向のウエーハ
の伸縮は、ターゲットパターン２１、２５間、２２、２
５間の距離により求められ、またＹ方向の伸縮はターゲ
ットパターン２３、２５間、２４、２５間の距離を検出
することにより測定できる。更に、ターゲットパターン
２１、２５を基準とし、∠２１、２５、２３，∠２１、
２５、２２，∠２１、２５、２４を求めることにより、
それぞれの方向の角度歪を検出することができる。この
ようにして求められた歪データに応じ、露光時に、基板
またはマスクかレテイクルの移動距離を修正することに
より、前記歪を補正することができる。
【０００８】
【発明の効果】本発明によれば、基板上のＸ方向、Ｙ方
向の伸縮歪とＸ、Ｙ方向の直交度歪を従来の方法より一
段と精度良く検出し補正できる。従って、マスクまたは
レテイクルと基板上のパターンとの重ね合せ精度を著し
く向上させることができる。
向の伸縮歪とＸ、Ｙ方向の直交度歪を従来の方法より一
段と精度良く検出し補正できる。従って、マスクまたは
レテイクルと基板上のパターンとの重ね合せ精度を著し
く向上させることができる。
【図１】従来の装置におけるマスクまたはレテイクルと
基板上のターゲットパターンの配置を示す平面説明図。
基板上のターゲットパターンの配置を示す平面説明図。
【図２】本発明の一実施の形態におけるターゲットパタ
ーンの配置を示す平面説明図。
ーンの配置を示す平面説明図。
【図３】本発明の他の実施の形態のターゲットパターン
の配置を示す平面説明図。
の配置を示す平面説明図。
１０、２０…基板、１１、１２、１３、２１、２２、２
３、２４、２５…基板上のターゲットパターン、１４、
１５、１６、２６、２７、２８、２９、３０…マスクま
たはレテイクル上のターゲットパターン。
３、２４、２５…基板上のターゲットパターン、１４、
１５、１６、２６、２７、２８、２９、３０…マスクま
たはレテイクル上のターゲットパターン。
Claims (1)
- 【請求項１】感光性防蝕剤を塗布した基板上にマスクま
たはレテイクルのパターンを転写する投影露光方法にお
いて、上記マスクまたはレテイクル上の中心を含まない
２点と該２点を結ぶ直線上に無く、かつ中心でない他の
点からなる、少くとも３点のターゲットパターンと、上
記基板上の中心を含まない２点と該２点を結ぶ直線上に
無く、かつ中心でない他の点からなる、少くとも３点の
ターゲットパターンを用いて上記基板のＸ，Ｙ両方向の
伸縮歪およびＸＹの直交度歪を検出することを特徴とす
る投影露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9180894A JPH10161324A (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 投影露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9180894A JPH10161324A (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 投影露光方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60016510A Division JPH069182B2 (ja) | 1985-02-01 | 1985-02-01 | 投影露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10161324A true JPH10161324A (ja) | 1998-06-19 |
Family
ID=16091193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9180894A Pending JPH10161324A (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 投影露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10161324A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9782136B2 (en) | 2014-06-17 | 2017-10-10 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Intraoral tomosynthesis systems, methods, and computer readable media for dental imaging |
-
1997
- 1997-07-07 JP JP9180894A patent/JPH10161324A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9782136B2 (en) | 2014-06-17 | 2017-10-10 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Intraoral tomosynthesis systems, methods, and computer readable media for dental imaging |
| US9907520B2 (en) | 2014-06-17 | 2018-03-06 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Digital tomosynthesis systems, methods, and computer readable media for intraoral dental tomosynthesis imaging |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |