JPH10160583A - 光サンプリング波形観測装置 - Google Patents
光サンプリング波形観測装置Info
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- JPH10160583A JPH10160583A JP31673296A JP31673296A JPH10160583A JP H10160583 A JPH10160583 A JP H10160583A JP 31673296 A JP31673296 A JP 31673296A JP 31673296 A JP31673296 A JP 31673296A JP H10160583 A JPH10160583 A JP H10160583A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 偏光状態が変動している被測定信号光を、そ
の偏光状態によらず、正確に測定することができる光サ
ンプリング波形観測装置を提供すること。 【解決手段】 光合波器２は、被測定信号光とサンプリ
ングパルス光とを合波し、ＳＦ光発生部３に入射する。
ＳＦ光発生部３は、２種類の非線形光学結晶を光学的に
貼り合わせたものである。非線形光学結晶Ａでは、被測
定信号光の縦方向の偏光成分とサンプリングパルス光の
横方向の偏光成分とによってＳＦ光が発生し、非線形光
学結晶Ｂでは、被測定信号光の横方向の偏光成分とサン
プリングパルス光の縦方向の偏光成分とによってＳＦ光
が発生する。基本波除去フィルタ４は、ＳＦ光発生部３
の出力光のうちＳＦ光以外を除去する。受光器５は、該
ＳＦ光を電気信号に変換する。電気信号処理部６は、該
電気信号に基づいて、被測定信号光を復元する。表示器
７は、復元された被測定信号光の波形を表示する。
の偏光状態によらず、正確に測定することができる光サ
ンプリング波形観測装置を提供すること。 【解決手段】 光合波器２は、被測定信号光とサンプリ
ングパルス光とを合波し、ＳＦ光発生部３に入射する。
ＳＦ光発生部３は、２種類の非線形光学結晶を光学的に
貼り合わせたものである。非線形光学結晶Ａでは、被測
定信号光の縦方向の偏光成分とサンプリングパルス光の
横方向の偏光成分とによってＳＦ光が発生し、非線形光
学結晶Ｂでは、被測定信号光の横方向の偏光成分とサン
プリングパルス光の縦方向の偏光成分とによってＳＦ光
が発生する。基本波除去フィルタ４は、ＳＦ光発生部３
の出力光のうちＳＦ光以外を除去する。受光器５は、該
ＳＦ光を電気信号に変換する。電気信号処理部６は、該
電気信号に基づいて、被測定信号光を復元する。表示器
７は、復元された被測定信号光の波形を表示する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光電変換素子を用
いた手法では観測できない超短時間領域の光波形を観測
する光サンプリング波形観測装置に利用され、特に、そ
の偏光状態が直線偏光に限定されない超高速光信号を観
測できるようにした光サンプリング波形観測装置に関す
る。
いた手法では観測できない超短時間領域の光波形を観測
する光サンプリング波形観測装置に利用され、特に、そ
の偏光状態が直線偏光に限定されない超高速光信号を観
測できるようにした光サンプリング波形観測装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の光サンプリング波形観測装置は、
２次の非線形光学効果である和周波光発生（Sum-Freque
ncy Generation：以下、「ＳＦＧ」という）を利用し、
被測定信号光（光角周波数ω1 ）と、これよりパルス幅
の狭いサンプリングパルス光（光角周波数ω2 ）とを非
線形光学結晶内で相互相関させることによって、光角周
波数が（ω1 ＋ω2 ）となる和周波光（以下、「ＳＦ
光」という）を取り出していた（特公平６−６３８６９
号参照）。
２次の非線形光学効果である和周波光発生（Sum-Freque
ncy Generation：以下、「ＳＦＧ」という）を利用し、
被測定信号光（光角周波数ω1 ）と、これよりパルス幅
の狭いサンプリングパルス光（光角周波数ω2 ）とを非
線形光学結晶内で相互相関させることによって、光角周
波数が（ω1 ＋ω2 ）となる和周波光（以下、「ＳＦ
光」という）を取り出していた（特公平６−６３８６９
号参照）。
【０００３】図８は、上述した従来の光サンプリング波
形観測装置の構成例を示すブロック図である。この図に
示すように、従来の光サンプリング波形観測装置では、
非線形光学結晶１００で発生したＳＦ光を、受光器５に
よって光電変換し、光電変換された電気信号に基づい
て、電気信号処理部６・表示器７によって、被測定信号
光を復元・表示していた。
形観測装置の構成例を示すブロック図である。この図に
示すように、従来の光サンプリング波形観測装置では、
非線形光学結晶１００で発生したＳＦ光を、受光器５に
よって光電変換し、光電変換された電気信号に基づい
て、電気信号処理部６・表示器７によって、被測定信号
光を復元・表示していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の光サンプリング波形観測装置では、非線形光学結晶
の特徴として、直線偏光あるいは円偏光の光信号を入力
することが前提となっている。例えば、上記従来装置で
は、図８に示すように、直線偏光の被測定信号光と、同
じく直線偏光のサンプリングパルス光とを、その偏光方
向が互いに直交するように非線形光学結晶１００に入射
する。このとき、発生するＳＦ光との位相整合条件を満
たすように非線形光学結晶１００の結晶方位，環境温度
等を設定することによって、円偏光のＳＦ光が発生す
る。しかしながら、この手法では、特定の偏光方向のみ
の被測定信号光に対してしかＳＦ光を発生することがで
きない。
来の光サンプリング波形観測装置では、非線形光学結晶
の特徴として、直線偏光あるいは円偏光の光信号を入力
することが前提となっている。例えば、上記従来装置で
は、図８に示すように、直線偏光の被測定信号光と、同
じく直線偏光のサンプリングパルス光とを、その偏光方
向が互いに直交するように非線形光学結晶１００に入射
する。このとき、発生するＳＦ光との位相整合条件を満
たすように非線形光学結晶１００の結晶方位，環境温度
等を設定することによって、円偏光のＳＦ光が発生す
る。しかしながら、この手法では、特定の偏光方向のみ
の被測定信号光に対してしかＳＦ光を発生することがで
きない。
【０００５】そのため、上記従来装置では、この前提以
外の偏光状態で被測定信号光が入射されたり、測定中に
被測定信号光の偏光状態が変動すると、これらは該被測
定信号光の強度変動として観測されてしまい、正常な測
定ができなかった。すなわち、上記従来装置には、単一
偏光の被測定信号光しか測定できない、という課題があ
った。
外の偏光状態で被測定信号光が入射されたり、測定中に
被測定信号光の偏光状態が変動すると、これらは該被測
定信号光の強度変動として観測されてしまい、正常な測
定ができなかった。すなわち、上記従来装置には、単一
偏光の被測定信号光しか測定できない、という課題があ
った。
【０００６】このように、従来装置では特定の偏光状態
の被測定信号光しか測定できないため、測定前に（すな
わち、図８において、光合波器２に入射する前に）被測
定信号光の偏光状態を該従来装置に対して最適状態に設
定する必要があった。しかし、実際の光通信において、
被測定信号光の偏光状態は常に変動している。また、該
光通信において、被測定信号光は通信データ（デジタル
データ）として送受信されるわけであるが、該デジタル
データにおいて、各ビットの被測定信号光が同じ偏光方
向である保証は全くない。そのため、実際問題として、
被測定信号光の偏光状態を最適状態に設定することは難
しかった。また、従来の光サンプリング波形観測装置で
は、被測定信号光の偏光状態がどのようになっているの
かを確認することもできなかった。
の被測定信号光しか測定できないため、測定前に（すな
わち、図８において、光合波器２に入射する前に）被測
定信号光の偏光状態を該従来装置に対して最適状態に設
定する必要があった。しかし、実際の光通信において、
被測定信号光の偏光状態は常に変動している。また、該
光通信において、被測定信号光は通信データ（デジタル
データ）として送受信されるわけであるが、該デジタル
データにおいて、各ビットの被測定信号光が同じ偏光方
向である保証は全くない。そのため、実際問題として、
被測定信号光の偏光状態を最適状態に設定することは難
しかった。また、従来の光サンプリング波形観測装置で
は、被測定信号光の偏光状態がどのようになっているの
かを確認することもできなかった。
【０００７】この発明は、このような背景の下になされ
たもので、上述した問題点を解決し、光サンプリング波
形観測装置の被測定信号光に対する偏光依存性を解消す
ることによって偏光無依存化を行い、偏光状態が変動し
ている被測定信号光の光波形および偏光状態を、その偏
光状態によらず、正確に測定することができる光サンプ
リング波形観測装置を提供することを目的とする。
たもので、上述した問題点を解決し、光サンプリング波
形観測装置の被測定信号光に対する偏光依存性を解消す
ることによって偏光無依存化を行い、偏光状態が変動し
ている被測定信号光の光波形および偏光状態を、その偏
光状態によらず、正確に測定することができる光サンプ
リング波形観測装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
任意の偏光状態の被測定信号光に対して、該被測定信号
光とは異なる波長であり、かつ、円偏光のサンプリング
パルス光を出力するサンプリングパルス光源と、前記被
測定信号光と前記サンプリングパルス光とを合波する合
波手段と、前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定
信号光の所定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス
光との和周波光、および、前記被測定信号光の前記所定
方向とは異なる方向の偏光成分と前記サンプリングパル
ス光との和周波光を発生する和周波光発生手段と、前記
和周波光発生手段が出力した和周波光を検出する検出手
段と、前記検出手段の検出値に基づいて、元の被測定信
号光を復元する処理手段とを具備することを特徴とす
る。請求項２記載の発明は、任意の偏光状態の被測定信
号光に対して、該被測定信号光とは異なる波長であり、
かつ、円偏光のサンプリングパルス光を出力するサンプ
リングパルス光源と、前記被測定信号光と前記サンプリ
ングパルス光とを合波する合波手段と、前記合波手段の
出力光を入力し、前記被測定信号光の所定方向の偏光成
分と前記サンプリングパルス光との和周波光、および、
前記被測定信号光の前記所定方向とは異なる方向の偏光
成分と前記サンプリングパルス光との和周波光を発生す
る和周波光発生手段と、前記和周波光発生手段が出力し
た和周波光について、前記被測定信号光の所定方向の偏
光成分に対応する和周波光と、前記被測定信号光の前記
所定方向とは異なる方向の偏光成分に対応する和周波光
とを分離する分離手段と、前記分離手段が分離した各和
周波光を個別に検出する検出手段と、前記検出手段の各
検出値に基づいて、元の被測定信号光を復元する処理手
段とを具備することを特徴とする。請求項３記載の発明
は、請求項２記載の光サンプリング波形観測装置におい
て、前記検出手段の各検出値の一方あるいは両方を補正
する補正手段を具備し、前記処理手段は、前記補正手段
が補正した各検出値に基づいて、元の被測定信号光を復
元することを特徴とする。請求項４記載の発明は、請求
項１ないし請求項３のいずれかに記載の光サンプリング
波形観測装置において、前記和周波光発生手段は、前記
和周波光が発生する和周波光発生部と、発生した和周波
光のみを出力する除去手段とからなることを特徴とす
る。請求項５記載の発明は、請求項１ないし請求項４の
いずれかに記載の光サンプリング波形観測装置におい
て、前記和周波光発生部は、位相整合条件の異なる２つ
の非線形光学結晶を、貼り合わせたものであることを特
徴とする。請求項６記載の発明は、請求項１ないし請求
項４のいずれかに記載の光サンプリング波形観測装置に
おいて、前記和周波光発生部は、同じ種類の非線形光学
結晶を、光軸を互いに異ならせて貼り合わせたものであ
ることを特徴とする。請求項７記載の発明は、任意の偏
光状態の被測定信号光に対して、該被測定信号光とは異
なる波長であり、かつ、円偏光のサンプリングパルス光
を出力するサンプリングパルス光源と、前記被測定信号
光と前記サンプリングパルス光とを合波する合波手段
と、前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定信号光
の所定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との
差周波光、および、前記被測定信号光の前記所定方向と
は異なる方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光と
の差周波光を発生する差周波光発生手段と、前記差周波
光発生手段が出力した差周波光を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出値に基づいて、元の被測定信号光を
復元する処理手段とを具備することを特徴とする。請求
項８記載の発明は、任意の偏光状態の被測定信号光に対
して、該被測定信号光とは異なる波長であり、かつ、円
偏光のサンプリングパルス光を出力するサンプリングパ
ルス光源と、前記被測定信号光と前記サンプリングパル
ス光とを合波する合波手段と、前記合波手段の出力光を
入力し、前記被測定信号光の所定方向の偏光成分と前記
サンプリングパルス光との差周波光、および、前記被測
定信号光の前記所定方向とは異なる方向の偏光成分と前
記サンプリングパルス光との差周波光を発生する差周波
光発生手段と、前記差周波光発生手段が出力した差周波
光について、前記被測定信号光の所定方向の偏光成分に
対応する差周波光と、前記被測定信号光の前記所定方向
とは異なる方向の偏光成分に対応する差周波光とを分離
する分離手段と、前記分離手段が分離した各差周波光を
個別に検出する検出手段と、前記検出手段の各検出値に
基づいて、元の被測定信号光を復元する処理手段とを具
備することを特徴とする。請求項９記載の発明は、請求
項８記載の光サンプリング波形観測装置において、前記
検出手段の各検出値の一方あるいは両方を補正する補正
手段を具備し、前記処理手段は、前記補正手段が補正し
た各検出値に基づいて、元の被測定信号光を復元するこ
とを特徴とする。請求項１０記載の発明は、請求項７な
いし請求項９のいずれかに記載の光サンプリング波形観
測装置において、前記差周波光発生手段は、前記差周波
光が発生する差周波光発生部と、発生した差周波光のみ
を出力する除去手段とからなることを特徴とする。請求
項１１記載の発明は、請求項７ないし請求項１０のいず
れかに記載の光サンプリング波形観測装置において、前
記差周波光発生部は、位相整合条件の異なる２つの非線
形光学結晶を、貼り合わせたものであることを特徴とす
る。請求項１２記載の発明は、請求項７ないし請求項１
０のいずれかに記載の光サンプリング波形観測装置にお
いて、前記差周波光発生部は、同じ種類の非線形光学結
晶を、光軸を互いに異ならせて貼り合わせたものである
ことを特徴とする。請求項１３記載の発明は、請求項１
ないし請求項１２のいずれかに記載の光サンプリング波
形観測装置において、前記サンプリングパルス光源は、
該サンプリングパルス光源が出力するサンプリングパル
ス光の波長を任意の値に選択することを特徴とする。
任意の偏光状態の被測定信号光に対して、該被測定信号
光とは異なる波長であり、かつ、円偏光のサンプリング
パルス光を出力するサンプリングパルス光源と、前記被
測定信号光と前記サンプリングパルス光とを合波する合
波手段と、前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定
信号光の所定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス
光との和周波光、および、前記被測定信号光の前記所定
方向とは異なる方向の偏光成分と前記サンプリングパル
ス光との和周波光を発生する和周波光発生手段と、前記
和周波光発生手段が出力した和周波光を検出する検出手
段と、前記検出手段の検出値に基づいて、元の被測定信
号光を復元する処理手段とを具備することを特徴とす
る。請求項２記載の発明は、任意の偏光状態の被測定信
号光に対して、該被測定信号光とは異なる波長であり、
かつ、円偏光のサンプリングパルス光を出力するサンプ
リングパルス光源と、前記被測定信号光と前記サンプリ
ングパルス光とを合波する合波手段と、前記合波手段の
出力光を入力し、前記被測定信号光の所定方向の偏光成
分と前記サンプリングパルス光との和周波光、および、
前記被測定信号光の前記所定方向とは異なる方向の偏光
成分と前記サンプリングパルス光との和周波光を発生す
る和周波光発生手段と、前記和周波光発生手段が出力し
た和周波光について、前記被測定信号光の所定方向の偏
光成分に対応する和周波光と、前記被測定信号光の前記
所定方向とは異なる方向の偏光成分に対応する和周波光
とを分離する分離手段と、前記分離手段が分離した各和
周波光を個別に検出する検出手段と、前記検出手段の各
検出値に基づいて、元の被測定信号光を復元する処理手
段とを具備することを特徴とする。請求項３記載の発明
は、請求項２記載の光サンプリング波形観測装置におい
て、前記検出手段の各検出値の一方あるいは両方を補正
する補正手段を具備し、前記処理手段は、前記補正手段
が補正した各検出値に基づいて、元の被測定信号光を復
元することを特徴とする。請求項４記載の発明は、請求
項１ないし請求項３のいずれかに記載の光サンプリング
波形観測装置において、前記和周波光発生手段は、前記
和周波光が発生する和周波光発生部と、発生した和周波
光のみを出力する除去手段とからなることを特徴とす
る。請求項５記載の発明は、請求項１ないし請求項４の
いずれかに記載の光サンプリング波形観測装置におい
て、前記和周波光発生部は、位相整合条件の異なる２つ
の非線形光学結晶を、貼り合わせたものであることを特
徴とする。請求項６記載の発明は、請求項１ないし請求
項４のいずれかに記載の光サンプリング波形観測装置に
おいて、前記和周波光発生部は、同じ種類の非線形光学
結晶を、光軸を互いに異ならせて貼り合わせたものであ
ることを特徴とする。請求項７記載の発明は、任意の偏
光状態の被測定信号光に対して、該被測定信号光とは異
なる波長であり、かつ、円偏光のサンプリングパルス光
を出力するサンプリングパルス光源と、前記被測定信号
光と前記サンプリングパルス光とを合波する合波手段
と、前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定信号光
の所定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との
差周波光、および、前記被測定信号光の前記所定方向と
は異なる方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光と
の差周波光を発生する差周波光発生手段と、前記差周波
光発生手段が出力した差周波光を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出値に基づいて、元の被測定信号光を
復元する処理手段とを具備することを特徴とする。請求
項８記載の発明は、任意の偏光状態の被測定信号光に対
して、該被測定信号光とは異なる波長であり、かつ、円
偏光のサンプリングパルス光を出力するサンプリングパ
ルス光源と、前記被測定信号光と前記サンプリングパル
ス光とを合波する合波手段と、前記合波手段の出力光を
入力し、前記被測定信号光の所定方向の偏光成分と前記
サンプリングパルス光との差周波光、および、前記被測
定信号光の前記所定方向とは異なる方向の偏光成分と前
記サンプリングパルス光との差周波光を発生する差周波
光発生手段と、前記差周波光発生手段が出力した差周波
光について、前記被測定信号光の所定方向の偏光成分に
対応する差周波光と、前記被測定信号光の前記所定方向
とは異なる方向の偏光成分に対応する差周波光とを分離
する分離手段と、前記分離手段が分離した各差周波光を
個別に検出する検出手段と、前記検出手段の各検出値に
基づいて、元の被測定信号光を復元する処理手段とを具
備することを特徴とする。請求項９記載の発明は、請求
項８記載の光サンプリング波形観測装置において、前記
検出手段の各検出値の一方あるいは両方を補正する補正
手段を具備し、前記処理手段は、前記補正手段が補正し
た各検出値に基づいて、元の被測定信号光を復元するこ
とを特徴とする。請求項１０記載の発明は、請求項７な
いし請求項９のいずれかに記載の光サンプリング波形観
測装置において、前記差周波光発生手段は、前記差周波
光が発生する差周波光発生部と、発生した差周波光のみ
を出力する除去手段とからなることを特徴とする。請求
項１１記載の発明は、請求項７ないし請求項１０のいず
れかに記載の光サンプリング波形観測装置において、前
記差周波光発生部は、位相整合条件の異なる２つの非線
形光学結晶を、貼り合わせたものであることを特徴とす
る。請求項１２記載の発明は、請求項７ないし請求項１
０のいずれかに記載の光サンプリング波形観測装置にお
いて、前記差周波光発生部は、同じ種類の非線形光学結
晶を、光軸を互いに異ならせて貼り合わせたものである
ことを特徴とする。請求項１３記載の発明は、請求項１
ないし請求項１２のいずれかに記載の光サンプリング波
形観測装置において、前記サンプリングパルス光源は、
該サンプリングパルス光源が出力するサンプリングパル
ス光の波長を任意の値に選択することを特徴とする。
【０００９】
§１．第１実施形態 以下、図面を参照して、この発明の第１実施形態につい
て説明する。図１は、この発明の第１実施形態による光
サンプリング波形観測装置の構成例を示すブロック図で
ある。この図において、図８の各部に対応する部分には
同一の符号を付け、その説明を省略する。この図に示す
光サンプリング波形観測装置においては、非線形光学結
晶１００に代えてＳＦ光発生部３が新たに設けられてい
る。
て説明する。図１は、この発明の第１実施形態による光
サンプリング波形観測装置の構成例を示すブロック図で
ある。この図において、図８の各部に対応する部分には
同一の符号を付け、その説明を省略する。この図に示す
光サンプリング波形観測装置においては、非線形光学結
晶１００に代えてＳＦ光発生部３が新たに設けられてい
る。
【００１０】この図において、被測定信号光（光角周波
数ω1 ）の偏光方向は任意の方向とする。また、サンプ
リングパルス光源１は、被測定信号光より光パルス幅の
狭いサンプリングパルス光（光角周波数ω2 ）を生成す
る。なお、ここで、上記サンプリングパルス光の偏光状
態は円偏光である。また、サンプリングパルス光の光角
周波数ω2 は、サンプリングパルス光源１によって任意
の値に選択可能とする。光合波器２は、上記被測定信号
光とサンプリングパルス光とを合波し、該合波光をＳＦ
光発生部３に入射する。
数ω1 ）の偏光方向は任意の方向とする。また、サンプ
リングパルス光源１は、被測定信号光より光パルス幅の
狭いサンプリングパルス光（光角周波数ω2 ）を生成す
る。なお、ここで、上記サンプリングパルス光の偏光状
態は円偏光である。また、サンプリングパルス光の光角
周波数ω2 は、サンプリングパルス光源１によって任意
の値に選択可能とする。光合波器２は、上記被測定信号
光とサンプリングパルス光とを合波し、該合波光をＳＦ
光発生部３に入射する。
【００１１】ＳＦ光発生部３は、２種類の非線形光学結
晶（非線形光学結晶Ａおよび非線形光学結晶Ｂ）を光学
的に貼り合わせたものである。なお、非線形光学結晶Ａ
および非線形光学結晶Ｂとしては、具体的には、ＫＴＰ
等が用いられる。このとき、非線形光学結晶Ａおよび非
線形光学結晶Ｂ内でＳＦＧが起こり得るように、各非線
形光学結晶の結晶方位，環境温度等を設定することによ
って位相整合条件を満たせば、ＳＦ光発生部３（すなわ
ち、非線形光学結晶Ａおよび非線形光学結晶Ｂ）に被測
定信号光とサンプリングパルス光の両方が入射されたと
きだけ、各非線形光学結晶からＳＦ光が発生する。
晶（非線形光学結晶Ａおよび非線形光学結晶Ｂ）を光学
的に貼り合わせたものである。なお、非線形光学結晶Ａ
および非線形光学結晶Ｂとしては、具体的には、ＫＴＰ
等が用いられる。このとき、非線形光学結晶Ａおよび非
線形光学結晶Ｂ内でＳＦＧが起こり得るように、各非線
形光学結晶の結晶方位，環境温度等を設定することによ
って位相整合条件を満たせば、ＳＦ光発生部３（すなわ
ち、非線形光学結晶Ａおよび非線形光学結晶Ｂ）に被測
定信号光とサンプリングパルス光の両方が入射されたと
きだけ、各非線形光学結晶からＳＦ光が発生する。
【００１２】一般に、ＳＦ光を発生させる位相整合とし
ては、タイプ１、タイプ２の２つの手法があるが、該位
相整合がどちらの手法であっても本発明は適用できるの
で、本実施形態では、タイプ２の手法を用いた場合を例
にとって説明する。この場合、図２に示すように、非線
形光学結晶Ａは、光軸の進行方向に対する垂直面内で、
その偏光方向が縦方向である被測定信号光と、サンプリ
ングパルス光（円偏光）の横方向の偏光成分とに対して
位相整合条件を満たすように設定されている。一方、図
２に示すように、非線形光学結晶Ｂは、光軸の進行方向
に対する垂直面内で、その偏光方向が横方向である被測
定信号光と、サンプリングパルス光（円偏光）の縦方向
の偏光成分とに対して位相整合条件を満たすように設定
されている。
ては、タイプ１、タイプ２の２つの手法があるが、該位
相整合がどちらの手法であっても本発明は適用できるの
で、本実施形態では、タイプ２の手法を用いた場合を例
にとって説明する。この場合、図２に示すように、非線
形光学結晶Ａは、光軸の進行方向に対する垂直面内で、
その偏光方向が縦方向である被測定信号光と、サンプリ
ングパルス光（円偏光）の横方向の偏光成分とに対して
位相整合条件を満たすように設定されている。一方、図
２に示すように、非線形光学結晶Ｂは、光軸の進行方向
に対する垂直面内で、その偏光方向が横方向である被測
定信号光と、サンプリングパルス光（円偏光）の縦方向
の偏光成分とに対して位相整合条件を満たすように設定
されている。
【００１３】その結果、非線形光学結晶Ａにおいては、
被測定信号光の縦方向の偏光成分とサンプリングパルス
光の横方向の偏光成分とによってＳＦ光が発生し、非線
形光学結晶Ｂにおいては、被測定信号光の横方向の偏光
成分とサンプリングパルス光の縦方向の偏光成分とによ
ってＳＦ光が発生する。これらのＳＦ光は、被測定信号
光およびサンプリングパルス光と共に、各非線形光学結
晶（すなわち、ＳＦ光発生部３）から出力される。これ
により、本実施形態では、被測定信号光の偏光方向によ
らず、その光強度に応じた光強度のＳＦ光を得ることが
でき、偏光無依存化を達成することができる。
被測定信号光の縦方向の偏光成分とサンプリングパルス
光の横方向の偏光成分とによってＳＦ光が発生し、非線
形光学結晶Ｂにおいては、被測定信号光の横方向の偏光
成分とサンプリングパルス光の縦方向の偏光成分とによ
ってＳＦ光が発生する。これらのＳＦ光は、被測定信号
光およびサンプリングパルス光と共に、各非線形光学結
晶（すなわち、ＳＦ光発生部３）から出力される。これ
により、本実施形態では、被測定信号光の偏光方向によ
らず、その光強度に応じた光強度のＳＦ光を得ることが
でき、偏光無依存化を達成することができる。
【００１４】次に、図１に示す基本波除去フィルタ４
は、ＳＦ光発生部３から出力されたＳＦ光，被測定信号
光，サンプリングパルス光のうち、ＳＦ光以外を除去す
る。受光器５は、基本波除去フィルタ４から出力された
ＳＦ光を検出して電気信号に変換する。電気信号処理部
６は、受光器５で検出・変換された電気信号に対し、所
定の処理（Ａ／Ｄ変換，Ａ／Ｄ変換されたＳＦ光に基づ
く被測定信号光の復元）を行う。このとき、サンプリン
グパルス光源１において、サンプリングパルス光の繰り
返し周波数を、被測定信号光の繰り返し周波数の整数分
の１よりわずかにずらす（低くするまたは高くする）こ
とによって、該被測定信号光をサンプリングしたＳＦ光
がＳＦ光発生部３から得られる。そこで、電気信号処理
部６は、サンプリングの原理に従って、得られたＳＦ光
に基づいて、被測定信号光の波形を復元することができ
る。そして、表示器７は、復元された被測定信号光の波
形を表示する。
は、ＳＦ光発生部３から出力されたＳＦ光，被測定信号
光，サンプリングパルス光のうち、ＳＦ光以外を除去す
る。受光器５は、基本波除去フィルタ４から出力された
ＳＦ光を検出して電気信号に変換する。電気信号処理部
６は、受光器５で検出・変換された電気信号に対し、所
定の処理（Ａ／Ｄ変換，Ａ／Ｄ変換されたＳＦ光に基づ
く被測定信号光の復元）を行う。このとき、サンプリン
グパルス光源１において、サンプリングパルス光の繰り
返し周波数を、被測定信号光の繰り返し周波数の整数分
の１よりわずかにずらす（低くするまたは高くする）こ
とによって、該被測定信号光をサンプリングしたＳＦ光
がＳＦ光発生部３から得られる。そこで、電気信号処理
部６は、サンプリングの原理に従って、得られたＳＦ光
に基づいて、被測定信号光の波形を復元することができ
る。そして、表示器７は、復元された被測定信号光の波
形を表示する。
【００１５】本実施形態においては、被測定信号光の偏
光成分を２つの方向に分解して、各偏光成分ごとにＳＦ
Ｇを行い、発生した各ＳＦ光を加算する形で受光してい
るため、被測定信号光の偏光状態が測定中に変動した
り、該偏光状態がビットごとに不一致であっても、受光
器５が受光するＳＦ光の光強度は常に一定となり、絶対
的な光強度を正確に測定し、光波形を表示することがで
きる。
光成分を２つの方向に分解して、各偏光成分ごとにＳＦ
Ｇを行い、発生した各ＳＦ光を加算する形で受光してい
るため、被測定信号光の偏光状態が測定中に変動した
り、該偏光状態がビットごとに不一致であっても、受光
器５が受光するＳＦ光の光強度は常に一定となり、絶対
的な光強度を正確に測定し、光波形を表示することがで
きる。
【００１６】§２．第２実施形態 次に、この発明の第２実施形態について説明する。図３
は、この発明の第２実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図１の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、ＳＦ光発生部３に代えてＤＦ
光発生部８、また、基本波除去フィルタ４に代えて基本
波除去フィルタ９が新たに設けられている。
は、この発明の第２実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図１の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、ＳＦ光発生部３に代えてＤＦ
光発生部８、また、基本波除去フィルタ４に代えて基本
波除去フィルタ９が新たに設けられている。
【００１７】ＤＦ光発生部８は、２種類の非線形光学結
晶（非線形光学結晶Ｃおよび非線形光学結晶Ｄ）を光学
的に貼り合わせたものである。なお、非線形光学結晶Ｃ
および非線形光学結晶Ｄとしては、具体的には、ＫＴＰ
等が用いられる。このとき、非線形光学結晶Ｃおよび非
線形光学結晶Ｄ内で差周波光発生（Difference Frequen
cy Generation ：以下、「ＤＦＧ」という）が起こり得
るように、各非線形光学結晶の結晶方位，環境温度等を
設定することによって位相整合条件を満たせば、ＤＦ光
発生部８（すなわち、非線形光学結晶Ｃおよび非線形光
学結晶Ｄ）に被測定信号光とサンプリングパルス光の両
方が入射されたときだけ、各非線形光学結晶から差周波
光（以下、「ＤＦ光」という）が発生する。
晶（非線形光学結晶Ｃおよび非線形光学結晶Ｄ）を光学
的に貼り合わせたものである。なお、非線形光学結晶Ｃ
および非線形光学結晶Ｄとしては、具体的には、ＫＴＰ
等が用いられる。このとき、非線形光学結晶Ｃおよび非
線形光学結晶Ｄ内で差周波光発生（Difference Frequen
cy Generation ：以下、「ＤＦＧ」という）が起こり得
るように、各非線形光学結晶の結晶方位，環境温度等を
設定することによって位相整合条件を満たせば、ＤＦ光
発生部８（すなわち、非線形光学結晶Ｃおよび非線形光
学結晶Ｄ）に被測定信号光とサンプリングパルス光の両
方が入射されたときだけ、各非線形光学結晶から差周波
光（以下、「ＤＦ光」という）が発生する。
【００１８】一般に、ＤＦ光を発生させる位相整合とし
ては、タイプ１、タイプ２の２つの手法があるが、該位
相整合がどちらの手法であっても本発明は適用できるの
で、本実施形態では、タイプ１の手法を用いた場合を例
にとって説明する。この場合、図４に示すように、非線
形光学結晶Ｃは、光軸の進行方向に対する垂直面内で、
その偏光方向が縦方向である被測定信号光と、サンプリ
ングパルス光（円偏光）の縦方向の偏光成分とに対して
位相整合条件を満たすように設定されている。一方、図
４に示すように、非線形光学結晶Ｄは、光軸の進行方向
に対する垂直面内で、その偏光方向が横方向である被測
定信号光と、サンプリングパルス光（円偏光）の横方向
の偏光成分とに対して位相整合条件を満たすように設定
されている。
ては、タイプ１、タイプ２の２つの手法があるが、該位
相整合がどちらの手法であっても本発明は適用できるの
で、本実施形態では、タイプ１の手法を用いた場合を例
にとって説明する。この場合、図４に示すように、非線
形光学結晶Ｃは、光軸の進行方向に対する垂直面内で、
その偏光方向が縦方向である被測定信号光と、サンプリ
ングパルス光（円偏光）の縦方向の偏光成分とに対して
位相整合条件を満たすように設定されている。一方、図
４に示すように、非線形光学結晶Ｄは、光軸の進行方向
に対する垂直面内で、その偏光方向が横方向である被測
定信号光と、サンプリングパルス光（円偏光）の横方向
の偏光成分とに対して位相整合条件を満たすように設定
されている。
【００１９】その結果、非線形光学結晶Ｃにおいては、
被測定信号光の縦方向の偏光成分とサンプリングパルス
光の縦方向の偏光成分とによってＤＦ光が発生し、非線
形光学結晶Ｄにおいては、被測定信号光の横方向の偏光
成分とサンプリングパルス光の横方向の偏光成分とによ
ってＤＦ光が発生する。これらのＤＦ光は、被測定信号
光およびサンプリングパルス光と共に、各非線形光学結
晶（すなわち、ＤＦ光発生部８）から出力される。これ
により、本実施形態では、被測定信号光の偏光方向によ
らず、その光強度に応じた光強度のＤＦ光を得ることが
でき、偏光無依存化を達成することができる。
被測定信号光の縦方向の偏光成分とサンプリングパルス
光の縦方向の偏光成分とによってＤＦ光が発生し、非線
形光学結晶Ｄにおいては、被測定信号光の横方向の偏光
成分とサンプリングパルス光の横方向の偏光成分とによ
ってＤＦ光が発生する。これらのＤＦ光は、被測定信号
光およびサンプリングパルス光と共に、各非線形光学結
晶（すなわち、ＤＦ光発生部８）から出力される。これ
により、本実施形態では、被測定信号光の偏光方向によ
らず、その光強度に応じた光強度のＤＦ光を得ることが
でき、偏光無依存化を達成することができる。
【００２０】次に、図３に示す基本波除去フィルタ９
は、ＤＦ光発生部８から出力されたＤＦ光，被測定信号
光，サンプリングパルス光のうち、ＤＦ光以外を除去す
る。以下、受光器５，電気信号処理部６，表示器７の動
作は、ＳＦ光の代わりにＤＦ光を扱うことを除くと、第
１実施形態と同じものであるので、その説明を省略す
る。本実施形態においては、被測定信号光の偏光成分を
２つの方向に分解して、各偏光成分ごとにＤＦＧを行
い、発生した各ＤＦ光を加算する形で受光しているた
め、被測定信号光の偏光状態が測定中に変動したり、該
偏光状態がビットごとに不一致であっても、受光器５が
受光するＤＦ光の光強度は常に一定となり、絶対的な光
強度を正確に測定し、光波形を表示することができる。
は、ＤＦ光発生部８から出力されたＤＦ光，被測定信号
光，サンプリングパルス光のうち、ＤＦ光以外を除去す
る。以下、受光器５，電気信号処理部６，表示器７の動
作は、ＳＦ光の代わりにＤＦ光を扱うことを除くと、第
１実施形態と同じものであるので、その説明を省略す
る。本実施形態においては、被測定信号光の偏光成分を
２つの方向に分解して、各偏光成分ごとにＤＦＧを行
い、発生した各ＤＦ光を加算する形で受光しているた
め、被測定信号光の偏光状態が測定中に変動したり、該
偏光状態がビットごとに不一致であっても、受光器５が
受光するＤＦ光の光強度は常に一定となり、絶対的な光
強度を正確に測定し、光波形を表示することができる。
【００２１】§３．第３実施形態 次に、この発明の第３実施形態について説明する。図５
は、この発明の第３実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図１の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、ＳＦ光発生部３に代えてＳＦ
光発生部１０が新たに設けられている。
は、この発明の第３実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図１の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、ＳＦ光発生部３に代えてＳＦ
光発生部１０が新たに設けられている。
【００２２】ＳＦ光発生部１０は、同種類の非線形光学
結晶Ｅを、結晶軸が互いに９０度異なるように貼り合わ
せたものである。これにより、ＳＦ光発生部１０は、第
１実施形態のＳＦ光発生部３（図１参照）と同様の作用
を示す。従って、図５に示す光サンプリング波形観測装
置は、偏光状態が変動している被測定信号光の光波形
を、その偏光状態によらず、正確に測定することができ
る。
結晶Ｅを、結晶軸が互いに９０度異なるように貼り合わ
せたものである。これにより、ＳＦ光発生部１０は、第
１実施形態のＳＦ光発生部３（図１参照）と同様の作用
を示す。従って、図５に示す光サンプリング波形観測装
置は、偏光状態が変動している被測定信号光の光波形
を、その偏光状態によらず、正確に測定することができ
る。
【００２３】なお、本実施形態は、第１実施形態（ＳＦ
Ｇを利用して、発生したＳＦ光から、被測定信号光の波
形を復元する装置）の変形例であるが、この他にも、第
２実施形態（ＤＦＧを利用して、発生したＤＦ光から、
被測定信号光の波形を復元する装置）の変形例としても
よい。
Ｇを利用して、発生したＳＦ光から、被測定信号光の波
形を復元する装置）の変形例であるが、この他にも、第
２実施形態（ＤＦＧを利用して、発生したＤＦ光から、
被測定信号光の波形を復元する装置）の変形例としても
よい。
【００２４】§４．第４実施形態 次に、この発明の第４実施形態について説明する。図６
は、この発明の第４実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図３の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、偏光ビームスプリッタ１１が
新たに設けられると共に、受光器５が２つに増やされて
いる。
は、この発明の第４実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図３の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、偏光ビームスプリッタ１１が
新たに設けられると共に、受光器５が２つに増やされて
いる。
【００２５】この図において、ＤＦ光発生部８から発生
するＤＦ光に関して説明すると、被測定信号光の縦方向
の偏光成分に対しては該ＤＦ光の縦方向の偏光成分が、
また、被測定信号光の横方向の偏光成分に対しては該Ｄ
Ｆ光の横方向の偏光成分が、それぞれ対応している。そ
こで、このＤＦ光を、偏光成分をその偏光方向によって
分離する素子（偏光ビームスプリッタ１１）を用いて分
離する。そして、受光器５ａはＤＦ光の横方向の偏光成
分を、受光器５ｂはＤＦ光の縦方向の偏光成分を受光す
る。このように、本実施形態によれば、被測定信号光の
各偏光成分に対応するＤＦ光を、その偏光成分ごとに測
定するので、被測定信号光の光波形のみならず、偏光状
態をも同時に測定することができる。なお、本実施形態
は、第２実施形態の変形例であるが、この他にも、第１
実施形態の変形例としてもよい。
するＤＦ光に関して説明すると、被測定信号光の縦方向
の偏光成分に対しては該ＤＦ光の縦方向の偏光成分が、
また、被測定信号光の横方向の偏光成分に対しては該Ｄ
Ｆ光の横方向の偏光成分が、それぞれ対応している。そ
こで、このＤＦ光を、偏光成分をその偏光方向によって
分離する素子（偏光ビームスプリッタ１１）を用いて分
離する。そして、受光器５ａはＤＦ光の横方向の偏光成
分を、受光器５ｂはＤＦ光の縦方向の偏光成分を受光す
る。このように、本実施形態によれば、被測定信号光の
各偏光成分に対応するＤＦ光を、その偏光成分ごとに測
定するので、被測定信号光の光波形のみならず、偏光状
態をも同時に測定することができる。なお、本実施形態
は、第２実施形態の変形例であるが、この他にも、第１
実施形態の変形例としてもよい。
【００２６】§５．第５実施形態 次に、この発明の第５実施形態について説明する。図７
は、この発明の第５実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図６の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、電気増幅器１２が新たに設け
られている。
は、この発明の第５実施形態による光サンプリング波形
観測装置の構成例を示すブロック図である。この図にお
いて、図６の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す光サンプリング
波形観測装置においては、電気増幅器１２が新たに設け
られている。
【００２７】本実施形態において、電気増幅器１２は、
受光器５ｂで受光されたＤＦ光の光強度を示す電気信号
に、所定の係数αを乗算することにより、該光強度を補
正する。一般的に、光学系を作成する場合、光軸のず
れ、あるいは結晶軸のずれ等が発生する可能性があり、
これにより、縦方向偏光成分，横方向偏光成分のＤＦ光
発生効率のずれを生じる可能性がある。また、受光器の
ばらつきによる光電変換効率のずれを生じる可能性もあ
る。本実施形態では、それらを補正することにより、縦
方向偏光成分と横方向偏光成分の比、または絶対値を補
正し、正確な偏光情報を得ることができる。
受光器５ｂで受光されたＤＦ光の光強度を示す電気信号
に、所定の係数αを乗算することにより、該光強度を補
正する。一般的に、光学系を作成する場合、光軸のず
れ、あるいは結晶軸のずれ等が発生する可能性があり、
これにより、縦方向偏光成分，横方向偏光成分のＤＦ光
発生効率のずれを生じる可能性がある。また、受光器の
ばらつきによる光電変換効率のずれを生じる可能性もあ
る。本実施形態では、それらを補正することにより、縦
方向偏光成分と横方向偏光成分の比、または絶対値を補
正し、正確な偏光情報を得ることができる。
【００２８】なお、本実施形態では、電気増幅器１２を
用いて、受光器５ｂが出力する電気信号を増幅している
が、これはあくまで一例であり、当然のことながら、増
幅される電気信号は、受光器５ａと受光器５ｂから出力
される電気信号の片方、あるいは両方のいずれでも構わ
ない。また、本実施形態は、第２実施形態の変形例であ
るが、この他にも、第１実施形態の変形例としてもよ
い。
用いて、受光器５ｂが出力する電気信号を増幅している
が、これはあくまで一例であり、当然のことながら、増
幅される電気信号は、受光器５ａと受光器５ｂから出力
される電気信号の片方、あるいは両方のいずれでも構わ
ない。また、本実施形態は、第２実施形態の変形例であ
るが、この他にも、第１実施形態の変形例としてもよ
い。
【００２９】以上、この発明の実施形態を図面を参照し
て詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限ら
れるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の
設計の変更等があってもこの発明に含まれる。
て詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限ら
れるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の
設計の変更等があってもこの発明に含まれる。
【００３０】次に、請求項記載の各手段間の包含関係、
および、該各手段と本実施形態との対応関係を説明す
る。なお、以下に示す包含関係において、包含される手
段（下位手段）は、包含する手段（上位手段）に対し、
一段下げて記載されているものとする。 サンプリングパルス光源……サンプリングパルス光源１ 合波手段……光合波器２ 和周波光発生手段 和周波光発生部……ＳＦ光発生部３，１０ 除去手段……基本波除去フィルタ４ 差周波光発生手段 差周波光発生部……ＤＦ光発生部８ 除去手段……基本波除去フィルタ９ 検出手段……受光器５，５ａ，５ｂ 処理手段……電気信号処理部６，表示器７ 分離手段……偏光ビームスプリッタ１１ 補正手段……電気増幅器１２
および、該各手段と本実施形態との対応関係を説明す
る。なお、以下に示す包含関係において、包含される手
段（下位手段）は、包含する手段（上位手段）に対し、
一段下げて記載されているものとする。 サンプリングパルス光源……サンプリングパルス光源１ 合波手段……光合波器２ 和周波光発生手段 和周波光発生部……ＳＦ光発生部３，１０ 除去手段……基本波除去フィルタ４ 差周波光発生手段 差周波光発生部……ＤＦ光発生部８ 除去手段……基本波除去フィルタ９ 検出手段……受光器５，５ａ，５ｂ 処理手段……電気信号処理部６，表示器７ 分離手段……偏光ビームスプリッタ１１ 補正手段……電気増幅器１２
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、偏光状態が変動している被測定信号光の光波形およ
び偏光状態を、その偏光状態によらず、正確に測定する
ことができる。
ば、偏光状態が変動している被測定信号光の光波形およ
び偏光状態を、その偏光状態によらず、正確に測定する
ことができる。
【図１】 この発明の第１実施形態による光サンプリン
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
【図２】 和周波発生を用いた場合の偏光無依存化の原
理を示す説明図である。
理を示す説明図である。
【図３】 この発明の第２実施形態による光サンプリン
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
【図４】 差周波発生を用いた場合の偏光無依存化の原
理を示す説明図である。
理を示す説明図である。
【図５】 この発明の第３実施形態による光サンプリン
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
【図６】 この発明の第４実施形態による光サンプリン
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
【図７】 この発明の第５実施形態による光サンプリン
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
グ波形観測装置の構成例を示すブロック図である。
【図８】 従来の光サンプリング波形観測装置の構成例
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
１……サンプリングパルス光源、 ２……光合波器、
３，１０……ＳＦ光発生部、 ４，９……基本波除去フ
ィルタ、５，５ａ，５ｂ……受光器、 ６……電気信号
処理部、 ７……表示器、８……ＤＦ光発生部、 １１
……偏光ビームスプリッタ、１２……電気増幅器
３，１０……ＳＦ光発生部、 ４，９……基本波除去フ
ィルタ、５，５ａ，５ｂ……受光器、 ６……電気信号
処理部、 ７……表示器、８……ＤＦ光発生部、 １１
……偏光ビームスプリッタ、１２……電気増幅器
Claims (13)
- 【請求項１】 任意の偏光状態の被測定信号光に対し
て、該被測定信号光とは異なる波長であり、かつ、円偏
光のサンプリングパルス光を出力するサンプリングパル
ス光源と、 前記被測定信号光と前記サンプリングパルス光とを合波
する合波手段と、 前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定信号光の所
定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との和周
波光、および、前記被測定信号光の前記所定方向とは異
なる方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との和
周波光を発生する和周波光発生手段と、 前記和周波光発生手段が出力した和周波光を検出する検
出手段と、 前記検出手段の検出値に基づいて、元の被測定信号光を
復元する処理手段とを具備することを特徴とする光サン
プリング波形観測装置。 - 【請求項２】 任意の偏光状態の被測定信号光に対し
て、該被測定信号光とは異なる波長であり、かつ、円偏
光のサンプリングパルス光を出力するサンプリングパル
ス光源と、 前記被測定信号光と前記サンプリングパルス光とを合波
する合波手段と、 前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定信号光の所
定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との和周
波光、および、前記被測定信号光の前記所定方向とは異
なる方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との和
周波光を発生する和周波光発生手段と、 前記和周波光発生手段が出力した和周波光について、前
記被測定信号光の所定方向の偏光成分に対応する和周波
光と、前記被測定信号光の前記所定方向とは異なる方向
の偏光成分に対応する和周波光とを分離する分離手段
と、 前記分離手段が分離した各和周波光を個別に検出する検
出手段と、 前記検出手段の各検出値に基づいて、元の被測定信号光
を復元する処理手段とを具備することを特徴とする光サ
ンプリング波形観測装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の光サンプリング波形観測
装置において、 前記検出手段の各検出値の一方あるいは両方を補正する
補正手段を具備し、 前記処理手段は、前記補正手段が補正した各検出値に基
づいて、元の被測定信号光を復元することを特徴とする
光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
載の光サンプリング波形観測装置において、 前記和周波光発生手段は、 前記和周波光が発生する和周波光発生部と、 発生した和周波光のみを出力する除去手段とからなるこ
とを特徴とする光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし請求項４のいずれかに記
載の光サンプリング波形観測装置において、 前記和周波光発生部は、位相整合条件の異なる２つの非
線形光学結晶を、貼り合わせたものであることを特徴と
する光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項６】 請求項１ないし請求項４のいずれかに記
載の光サンプリング波形観測装置において、 前記和周波光発生部は、同じ種類の非線形光学結晶を、
光軸を互いに異ならせて貼り合わせたものであることを
特徴とする光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項７】 任意の偏光状態の被測定信号光に対し
て、該被測定信号光とは異なる波長であり、かつ、円偏
光のサンプリングパルス光を出力するサンプリングパル
ス光源と、 前記被測定信号光と前記サンプリングパルス光とを合波
する合波手段と、 前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定信号光の所
定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との差周
波光、および、前記被測定信号光の前記所定方向とは異
なる方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との差
周波光を発生する差周波光発生手段と、 前記差周波光発生手段が出力した差周波光を検出する検
出手段と、 前記検出手段の検出値に基づいて、元の被測定信号光を
復元する処理手段とを具備することを特徴とする光サン
プリング波形観測装置。 - 【請求項８】 任意の偏光状態の被測定信号光に対し
て、該被測定信号光とは異なる波長であり、かつ、円偏
光のサンプリングパルス光を出力するサンプリングパル
ス光源と、 前記被測定信号光と前記サンプリングパルス光とを合波
する合波手段と、 前記合波手段の出力光を入力し、前記被測定信号光の所
定方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との差周
波光、および、前記被測定信号光の前記所定方向とは異
なる方向の偏光成分と前記サンプリングパルス光との差
周波光を発生する差周波光発生手段と、 前記差周波光発生手段が出力した差周波光について、前
記被測定信号光の所定方向の偏光成分に対応する差周波
光と、前記被測定信号光の前記所定方向とは異なる方向
の偏光成分に対応する差周波光とを分離する分離手段
と、 前記分離手段が分離した各差周波光を個別に検出する検
出手段と、 前記検出手段の各検出値に基づいて、元の被測定信号光
を復元する処理手段とを具備することを特徴とする光サ
ンプリング波形観測装置。 - 【請求項９】 請求項８記載の光サンプリング波形観測
装置において、 前記検出手段の各検出値の一方あるいは両方を補正する
補正手段を具備し、 前記処理手段は、前記補正手段が補正した各検出値に基
づいて、元の被測定信号光を復元することを特徴とする
光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項１０】 請求項７ないし請求項９のいずれかに
記載の光サンプリング波形観測装置において、 前記差周波光発生手段は、 前記差周波光が発生する差周波光発生部と、 発生した差周波光のみを出力する除去手段とからなるこ
とを特徴とする光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項１１】 請求項７ないし請求項１０のいずれか
に記載の光サンプリング波形観測装置において、 前記差周波光発生部は、位相整合条件の異なる２つの非
線形光学結晶を、貼り合わせたものであることを特徴と
する光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項１２】 請求項７ないし請求項１０のいずれか
に記載の光サンプリング波形観測装置において、 前記差周波光発生部は、同じ種類の非線形光学結晶を、
光軸を互いに異ならせて貼り合わせたものであることを
特徴とする光サンプリング波形観測装置。 - 【請求項１３】 請求項１ないし請求項１２のいずれか
に記載の光サンプリング波形観測装置において、 前記サンプリングパルス光源は、該サンプリングパルス
光源が出力するサンプリングパルス光の波長を任意の値
に選択することを特徴とする光サンプリング波形観測装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31673296A JPH10160583A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | 光サンプリング波形観測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31673296A JPH10160583A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | 光サンプリング波形観測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10160583A true JPH10160583A (ja) | 1998-06-19 |
Family
ID=18080291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31673296A Pending JPH10160583A (ja) | 1996-11-27 | 1996-11-27 | 光サンプリング波形観測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10160583A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6154309A (en) * | 1997-09-19 | 2000-11-28 | Anritsu Corporation | Complementary optical sampling waveform measuring apparatus and polarization beam splitter which can be assembled therein |
-
1996
- 1996-11-27 JP JP31673296A patent/JPH10160583A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6154309A (en) * | 1997-09-19 | 2000-11-28 | Anritsu Corporation | Complementary optical sampling waveform measuring apparatus and polarization beam splitter which can be assembled therein |
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