JPH10144704A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH10144704A
JPH10144704A JP8300589A JP30058996A JPH10144704A JP H10144704 A JPH10144704 A JP H10144704A JP 8300589 A JP8300589 A JP 8300589A JP 30058996 A JP30058996 A JP 30058996A JP H10144704 A JPH10144704 A JP H10144704A
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JP
Japan
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resin
epoxy resin
powder
conductive paste
dicyclopentadienyl skeleton
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JP8300589A
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Hironori Shizuhata
弘憲 賤機
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Kyocera Chemical Corp
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Toshiba Chemical Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain electrically conductive paste with improved thermal resistance, moisture resistance, and adhesion with gold plating when heated by introducing epoxy resin and phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton into a denatured resin. SOLUTION: A modified resin consisting of epoxy resin having a dicyclopentadienyl skeleton and phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton, and a solvent, a monomer or a mixture thereof are used. Silver powder, powder having a silver layer on the surface thereof, nickel powder, and carbon etc., are listed as an electrically conductive powder, and these can be used singly or by mixing two or more of them. Thus, an electrically conductive paste with improved thermal resistance, moisture resistance, and adhesion with gold plating when heated can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に係
り、特に金属薄板(リードフレーム)上に導電性ペース
トを用いて半導体チップを接合する技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a technique for bonding a semiconductor chip on a thin metal plate (lead frame) using a conductive paste.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属薄板(リードフレーム)上にLE
D、IC、LSI等の化合物半導体チップを物理的かつ
電気的に接合する工程は、素子の長期信頼性に影響を与
える重要な工程の一つである。従来から、かかる化合物
半導体チップの接合方法としては、低融点の合金(半田
や半田ボール)を用いてろう付けする方法や、樹脂ペー
ストを用いて接着する方法等がある。
2. Description of the Related Art LE on a thin metal plate (lead frame).
The step of physically and electrically bonding compound semiconductor chips such as D, IC, and LSI is one of the important steps that affect the long-term reliability of an element. Conventionally, as a joining method of such a compound semiconductor chip, there are a method of brazing using a low melting point alloy (solder or solder ball) and a method of bonding using a resin paste.

【0003】しかし、半田を使用する方法は、半田や半
田ボールが飛散して電極等に付着し、腐食断線の原因と
なるという可能性が指摘されている。
[0003] However, it has been pointed out that the method using solder may cause the solder or solder balls to scatter and adhere to electrodes and the like, causing corrosion and disconnection.

【0004】一方、樹脂ペーストを使用する方法として
は、樹脂ペーストとして銀粉末を配合したエポキシ樹脂
(導電性ペースト)を用いる方法が一部で実用化されて
いる。この導電性ペーストを使用する方法は、半田法に
比べて耐熱性に優れる等の長所を持つ。
On the other hand, as a method of using a resin paste, a method of using an epoxy resin (conductive paste) containing silver powder as the resin paste has been partially put into practical use. The method using the conductive paste has advantages such as superior heat resistance as compared with the soldering method.

【0005】しかしながら、ペースト中の樹脂やその硬
化剤がアルミニウム電極の腐食を促進し、やはり断線不
良を招く恐れがあり、シリコンチップにおけるAu−S
iの共晶合金を生成させる共晶法に比較して信頼性に劣
るものとなっていた。
[0005] However, the resin in the paste and its hardener promote the corrosion of the aluminum electrode, which may also cause a disconnection failure.
The reliability was inferior to the eutectic method for producing the eutectic alloy of i.

【0006】さらに、近年、半導体チップの電気的な接
合信頼性の向上を目的として電極等の接合面に金メッキ
を施す場合が多くなってきている。しかし、金メッキ表
面は化学的に不活性で表面活性基をほとんど持っていな
いことから、上記導電性ペーストを用いた半導体チップ
接合においてペースト中のエポキシ樹脂との水素結合が
形成されず、十分な接着強度が得られない。このため、
アッセンブリ工程や実装工程中の熱履歴によって、半導
体チップがリードフレームから剥離するといった問題が
生じていた。
Further, in recent years, gold plating has been often performed on bonding surfaces of electrodes and the like for the purpose of improving the electrical bonding reliability of semiconductor chips. However, since the gold-plated surface is chemically inert and has few surface-active groups, hydrogen bonding with the epoxy resin in the paste is not formed when bonding the semiconductor chip using the conductive paste, and sufficient adhesion is achieved. The strength cannot be obtained. For this reason,
The heat history during the assembly process and the mounting process has caused a problem that the semiconductor chip is separated from the lead frame.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】このように、導電性ペ
ーストを用いて半導体チップをリードフレームに物理的
かつ電気的に接合する場合、導電性ペーストを構成する
材料の種類によっては、ペースト中の樹脂やその硬化剤
がアルミニウム電極の腐食を促進して断線不良を招く恐
れがあり、また、電極等の接合面に金めっきを施した半
導体チップの場合、リードフレームとの十分な接着強度
が得られず、剥離しやすいという問題があった。
As described above, when a semiconductor chip is physically and electrically joined to a lead frame by using a conductive paste, depending on the type of material constituting the conductive paste, Resin and its curing agent may promote corrosion of the aluminum electrode, leading to disconnection failure.In the case of a semiconductor chip with a gold-plated bonding surface for electrodes, etc., sufficient adhesive strength with the lead frame is obtained. There was a problem that it was not easily peeled off.

【0008】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、耐熱性、耐湿性、および金メッキ面との熱時接着
性に優れ、アッセンブリ工程において信頼性の高い半導
体装置を提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor device which is excellent in heat resistance, moisture resistance, and hot adhesion to a gold-plated surface and has high reliability in an assembly process. Things.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、後述する組成の
導電性ペーストを使用することによって、上記目的が達
成できることを見いだし、本発明を完成した。
The inventor of the present invention has conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, has found that the above object can be achieved by using a conductive paste having a composition described later. Completed the invention.

【0010】すなわち、本発明の半導体装置は、(A)
ジシクロペンタジエニル骨格を持つエポキシ樹脂、ジシ
クロペンタジエニル骨格を持つフェノール樹脂からなる
変性樹脂、(Β)溶剤、モノマーまたはこれらの混合
物、および(C)導電性粉末を必須成分とする導電性ペ
ースを用いて、半導体チップをリードフレームに接着固
定してなることを特徴とするものである。
That is, the semiconductor device of the present invention comprises:
Modified resin composed of epoxy resin having dicyclopentadienyl skeleton, phenol resin having dicyclopentadienyl skeleton, (Β) solvent, monomer or mixture thereof, and (C) conductive powder containing conductive powder as essential components The semiconductor chip is bonded and fixed to a lead frame by using a natural pace.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実視する場合の形
態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments in which the present invention is viewed will be described.

【0012】本発明を実施する場合に用いるジシクロペ
ンタジエニル骨格を持つエポキシ樹脂としては、例え
ば、EXA7200(大日本インキ化学工業社製、商品
名)等が挙げられる。このジシクロペンタジエニル骨格
を持つエポキシ樹脂は単独或いは他の樹脂と混合して使
用することができる。混合される樹脂としては、硬化可
能なエポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、
ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポ
キシ樹脂、多官能エポキシ樹脂等を挙げることができ
る。この場合、本発明は熱時接着強度を向上させること
を目的とするため、平均エポキシ基数3以上のエポキシ
樹脂を使用することが望ましい。
Examples of the epoxy resin having a dicyclopentadienyl skeleton used in carrying out the present invention include EXA7200 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.). The epoxy resin having a dicyclopentadienyl skeleton can be used alone or as a mixture with another resin. As the resin to be mixed, a curable epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin,
Novolak type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, polyfunctional epoxy resin and the like can be mentioned. In this case, it is desirable to use an epoxy resin having an average number of epoxy groups of 3 or more, since the object of the present invention is to improve the adhesive strength when heated.

【0013】本発明を実施する場合に用いるジシクロペ
ンタジエニル骨格を持つフェノール樹脂としては、例え
ば、DPΡ−600M(日本石油化学社製、商品名)等
が挙げられる。
Examples of the phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton used in carrying out the present invention include DP @ -600M (trade name, manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.).

【0014】この(A)ジシクロペンタジエニル骨格を
持つエポキシ樹脂およびジシクロペンタジエニル骨格を
持つフェノール樹脂からなる変性樹脂は、後述する
(B)溶剤、モノマーまたはこれらの混合物に単に溶解
混合してもよいし、必要であれば加熱反応をコントロー
ルして相互に部分的に結合させたものでもよい。この反
応には必要に応じて硬化触媒を使用する。
The modified resin (A) comprising an epoxy resin having a dicyclopentadienyl skeleton and a phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton is simply dissolved and mixed in a solvent (B) to be described later, a monomer or a mixture thereof. Alternatively, if necessary, the reaction may be partially controlled by controlling the heating reaction. In this reaction, a curing catalyst is used as necessary.

【0015】また、他のエポキシ樹脂を混合する場合、
(ジシクロペンタジエニル骨格を持つエポキシ樹脂+ジ
シクロペンタジエニル骨格を持つフェノール樹脂)の配
合量は、変性樹脂の固形分に対して40重量%以上含有
するように配合することが望ましい。配合割合が40重
量%未満では、金メッキ面との熱時接着性向上に効果が
ない。
When mixing with another epoxy resin,
It is desirable that the compounding amount of (epoxy resin having a dicyclopentadienyl skeleton + phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton) be 40% by weight or more based on the solid content of the modified resin. When the compounding ratio is less than 40% by weight, there is no effect in improving the adhesiveness to the gold-plated surface when heated.

【0016】本発明を実施する場合に用いる(B)溶剤
またはモノマーは、(A)の変性樹脂を溶解するもので
あり、ペーストの作業粘度を調整、改善するためのもの
である。溶剤としては、例えば、ジオキサン、へキサ
ン、トルエン、メチルセロソルブ、シクロヘキサノン、
ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、ブチ
ルカルビトールアセテート、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジアセトンアルコール、N−メチルピロ
リドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジノン等が挙げらる。また、これらは単独又は2
種以上混合して使用することができる。
The solvent or monomer (B) used in carrying out the present invention dissolves the modified resin (A) and is used for adjusting and improving the working viscosity of the paste. As the solvent, for example, dioxane, hexane, toluene, methyl cellosolve, cyclohexanone,
Butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, butyl carbitol acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diacetone alcohol, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like. These may be used alone or in two.
A mixture of more than one species can be used.

【0017】またモノマーとしては、n−ブチルグリシ
ジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチル
ヘキシルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フ
ェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテ
ル、p−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、
グリシジルメタクリレート、t−ブチルフェニルグリシ
ジルエーテル、ジグリシジルエーテル、(ポリ)エチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、(ポリ)プロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジ
グリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテル、1,6−へキサンジオールジグリシジ
ルエーテル等が挙げられる。これらは単独または混合し
て使用することができる。また、溶剤とモノマーを混合
して使用することもできる。溶剤を使用する場合は、硬
化温度や硬化時間、ならびに作業条件に合わせ、適当な
沸点の溶剤を選ぶ必要がある。
The monomers include n-butyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, p-sec-butylphenyl glycidyl ether,
Glycidyl methacrylate, t-butylphenyl glycidyl ether, diglycidyl ether, (poly) ethylene glycol diglycidyl ether, (poly) propylene glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 1,6-to Xandiol diglycidyl ether and the like. These can be used alone or in combination. Further, a mixture of a solvent and a monomer can be used. When a solvent is used, it is necessary to select a solvent having an appropriate boiling point according to the curing temperature, the curing time, and the working conditions.

【0018】本発明を実施する場合に用いる(C)導電
性粉末としては、例えば銀粉末、表面に銀層を有する粉
末、銅粉末、ニッケル粉末、カーボン等が挙げられ、こ
れらは単独または2種以上混合して使用することができ
る。導電性粉末の配合量は特に制限されないが、電気特
性を重視する場合には、(導電性粉末/(変性樹脂の固
形分十導電性粉末))の比率が80〜95重量%の範囲
であることが望ましい。 本発明に用いる導電性ペース
トは、上述した変性樹脂、導電性粉末および溶剤または
モノマーを必須成分とするが、本発明の目的に反しない
限り、また必要に応じて硬化触媒、消泡剤、カップリン
グ剤、その他の添加剤を配合することができる。
Examples of the (C) conductive powder used in carrying out the present invention include silver powder, powder having a silver layer on its surface, copper powder, nickel powder, carbon and the like. These can be used in combination. The amount of the conductive powder is not particularly limited, but when importance is placed on the electrical characteristics, the ratio of (conductive powder / (solid content of modified resin / conductive powder)) is in the range of 80 to 95% by weight. It is desirable. The conductive paste used in the present invention contains the above-mentioned modified resin, conductive powder and solvent or monomer as essential components. However, as long as the object of the present invention is not adversely affected, and if necessary, a curing catalyst, an antifoaming agent, and a cup are used. A ring agent and other additives can be blended.

【0019】この導電性ペーストは、常法に従い上述し
た各成分を十分混合した後、ディスパース、ニーダー、
三本ロールミル等により混練処理を行い、その後減圧脱
泡して製造することができる。
The conductive paste is prepared by thoroughly mixing the above-mentioned components according to a conventional method, and then dispersing, kneading,
It can be manufactured by performing a kneading treatment with a three-roll mill or the like, and then defoaming under reduced pressure.

【0020】こうして製造した導電性ペーストをシリン
ジに充填し、ディスペンサを用いてリードフレーム上に
吐出し、硬化により例えば化合物半導体チップを接合し
た後、ワイヤボンディングを行い、樹脂封止剤で封止し
て樹脂封止型の半導体装置を製造することができる。
The thus prepared conductive paste is filled in a syringe, discharged onto a lead frame by using a dispenser, and, for example, a compound semiconductor chip is joined by curing, followed by wire bonding and sealing with a resin sealant. Thus, a resin-sealed semiconductor device can be manufactured.

【0021】本発明によれば、変性樹脂中にジシクロペ
ンタジエニル骨格を持つエポキシ樹脂およびフェノール
樹脂を導入したことで、耐熱性、耐湿性、および金メッ
キとの熱時密着性に優れた導電性ペーストが得られ、以
て、アルミニウム電極等の耐腐食性に優れ、半導体チッ
プの十分な接合強度を持つ信頼性の高い半導体装置を実
現することが可能となる。
According to the present invention, by introducing an epoxy resin and a phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton into the modified resin, a conductive material having excellent heat resistance, moisture resistance, and adhesion when heated to gold plating is obtained. As a result, it is possible to realize a highly reliable semiconductor device having excellent corrosion resistance of an aluminum electrode or the like and sufficient bonding strength of a semiconductor chip.

【0022】[0022]

【実施例】次に本発明の実施例を説明する。なお、以下
の実施例および比較例において「部」とは特に説明のな
い限り「重量部」を意味する。
Next, embodiments of the present invention will be described. In the following Examples and Comparative Examples, “parts” means “parts by weight” unless otherwise specified.

【0023】(実施例1)ジシクロペンタジエニル骨格
を有するエポキシ樹脂EXA7200(大日本インキ化
学工業社製、商品名) 100部に対し、硬化剤としてジシ
クロペンタジエニル骨格を有するフェノール樹脂DPP
−600M(日本石油化学社製、商品名)76部を、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル 176部中で85℃、 1
時間溶解反応を行い、粘稠な樹脂を得た。この樹脂30部
に硬化触媒としてイミダゾールの2−エチル−4−メチ
ルイミダゾールを0.20部、添加剤0.02部および銀粉末60
部を混合し、さらに三本ロールにより混練処理を行い、
減圧脱泡して導電性ペースト(A)を製造した。
(Example 1) A phenolic resin DPP having a dicyclopentadienyl skeleton as a curing agent was added to 100 parts of an epoxy resin EXA7200 having a dicyclopentadienyl skeleton (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.).
76 parts of -600M (trade name, manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.) in 176 parts of diethylene glycol diethyl ether at 85 ° C., 1
The dissolution reaction was performed for a time to obtain a viscous resin. To 30 parts of this resin, 0.20 part of imidazole 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing catalyst, 0.02 part of an additive and 60 parts of silver powder
Parts, and further kneading treatment by three rolls,
The conductive paste (A) was produced by defoaming under reduced pressure.

【0024】(実施例2)ジシクロペンタジエニル骨格
を有するエポキシ樹脂EXA7200(大日本インキ化
学工業社製、商品名)60部、エポキシ樹脂のEOCN1
03S(日本化薬社製、商品名)40部に対し、硬化剤と
してジシクロペンタジエニル骨格を有するフェノール樹
脂DPP−600Μ(日本石油化学社製、商品名)76部
を、ジエチレングリコールジエチルエーテル80部とブチ
ルカルビトールアセテート20部の混合溶剤中で85℃、 1
時間溶解反応を行い粘稠な樹脂を得た。この樹脂30部に
硬化触媒としてイミダゾールの2−エチル−4−メチル
イミダゾールを0.15部、添加剤0.10部および銀粉末60部
を混合し、さらに三本ロールにより混練処理を行い、減
圧脱泡して導電性ペースト(Β)を製造した。
(Example 2) 60 parts of an epoxy resin EXA7200 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) having a dicyclopentadienyl skeleton, and EOCN1 as an epoxy resin
For 40 parts of 03S (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 76 parts of phenolic resin DPP-600 (trade name, manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.) having a dicyclopentadienyl skeleton as a curing agent, and diethylene glycol diethyl ether 80 85 ° C in a mixed solvent of 1 part and 20 parts of butyl carbitol acetate, 1
The dissolution reaction was performed for a time to obtain a viscous resin. To 30 parts of this resin, 0.15 part of imidazole 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing catalyst, 0.10 part of an additive and 60 parts of silver powder were mixed, and kneading treatment was further performed with a three-roll mill, followed by defoaming under reduced pressure. A conductive paste (Β) was produced.

【0025】(比較例)市販のエポキシ樹脂ベースの溶
剤型半導体用導電性ペースト(C)を入手した。 実施
例1,2および比較例で得た導電性ペースト(Α)
(Β)(C)を用いて、厚さ 200μmのリードフレーム
(銅系)上に 1× 1mmのシリコンチップ(裏面金ベタ
メッキ)を表1の半導体素子接着条件で接着固定して化
合物半導体装置をそれぞれ製造した。
COMPARATIVE EXAMPLE A commercially available epoxy resin-based conductive paste for solvent-type semiconductors (C) was obtained. Conductive paste obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example (Α)
(III) Using (C), a 1 × 1 mm silicon chip (solid gold plating on the back side) was bonded and fixed on a 200 μm-thick lead frame (copper-based) under the semiconductor element bonding conditions shown in Table 1 to complete the compound semiconductor device. Each was manufactured.

【0026】これらの化合物半導体装置について、接着
強度、耐湿性バイアスPCΤ、およびPCΤ試験を行っ
た。その結果を表1に示す。
With respect to these compound semiconductor devices, adhesion strength, moisture resistance bias PC # and PC # tests were performed. Table 1 shows the results.

【0027】[0027]

【表1】 なお、接着強度試験は、 200μm厚さのリードフレーム
(銅系)上に 1× 1mmのシリコンチップ(裏面金ベタ
メッキ)を表1の半導体素子接着条件で接着後、 300℃
のヒートブロック上でプシュプルゲージを用いてせん断
方向の接着強度を測定して行った。
[Table 1] The bonding strength test was conducted by bonding a 1 × 1 mm silicon chip (backside solid gold plating) on a 200 μm-thick lead frame (copper) under the semiconductor element bonding conditions shown in Table 1 and then 300 ° C.
The measurement was performed by measuring the adhesive strength in the shear direction on a heat block using a push-pull gauge.

【0028】また、耐湿試験は、温度 121℃、圧力2気
圧の水蒸気中での耐湿試験(PCT)と、温度 121℃、
圧力2気圧の水蒸気中で印加電圧 1.5Vを通電しての耐
湿試験(バイアスPCT)を行った。この耐湿試験に供
した半導体装置は、各々60個で、時間の経過に伴う不良
発生数を数えた。不良判定の方法は、半導体装置を構成
するアルミニウム電極の腐食によるオープン、またはリ
ーク電流の許容値の 500%以上の上昇をもって不良とし
た。
The moisture resistance test was carried out in a moisture resistance test (PCT) in steam at a temperature of 121 ° C. and a pressure of 2 atm.
A moisture resistance test (bias PCT) was conducted in a steam at a pressure of 2 atm by applying an applied voltage of 1.5 V. Sixty semiconductor devices were subjected to the humidity resistance test, and the number of failures generated over time was counted. The defect was judged to be defective when the aluminum electrode constituting the semiconductor device was opened due to corrosion of the aluminum electrode or when the allowable value of the leak current increased by 500% or more.

【0029】この表1より明らかなように、実施例1,
2は、比較例に比べ、接着強度および耐湿性のいずれの
特性においても優れていることが確認された。
As apparent from Table 1, Examples 1 and 2
It was confirmed that Sample No. 2 was superior in both adhesive strength and moisture resistance properties as compared with the Comparative Example.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明によれば、変性樹脂中にジシクロペンタジエ
ニル骨格を持つエポキシ樹脂およびフェノール樹脂を導
入したことで、耐熱性、耐湿性、および金メッキとの熱
時密着性に優れた導電性ペーストが得られ、以て、アル
ミニウム電極等の耐腐食性に優れ、半導体チップの十分
な接合強度を持つ信頼性の高い半導体装置を実現するこ
とが可能となる。
As apparent from the above description and Table 1, according to the present invention, heat resistance and moisture resistance are improved by introducing an epoxy resin and a phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton into the modified resin. A conductive paste with excellent heat resistance and adhesiveness to gold plating can be obtained, and as a result, a highly reliable semiconductor device with excellent corrosion resistance of aluminum electrodes etc. and sufficient bonding strength of semiconductor chips has been realized. It is possible to do.

【0031】[0031]

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)ジシクロペンタジエニル骨格を持
つエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエニル骨格を持つフ
ェノール樹脂からなる変性樹脂、 (B)溶剤、モノマーまたはこれらの混合物、および (C)導電性粉末を必須成分とする導電性ペーストを用
いて、半導体チップをリードフレームに接着固定してな
ることを特徴とする半導体装置。
1. A modified resin comprising (A) an epoxy resin having a dicyclopentadienyl skeleton, a phenol resin having a dicyclopentadienyl skeleton, (B) a solvent, a monomer or a mixture thereof, and (C) a conductive material. A semiconductor device comprising a semiconductor chip bonded and fixed to a lead frame by using a conductive paste containing conductive powder as an essential component.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置において、 前記半導体チップが、化合物半導体チップであることを
特徴とする半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said semiconductor chip is a compound semiconductor chip.
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