JPH10139570A - 耐酸化性多孔質セラミックス部材及びその製造方法 - Google Patents
耐酸化性多孔質セラミックス部材及びその製造方法Info
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Abstract
る耐酸化性多孔質SiCセラミックス部材及びその製造
方法を提供する。 【解決手段】 本発明の耐酸化性セラミックス部材は、
純度99%以上の多孔質SiCセラミックス焼結体100 重
量部当たり0.1 〜0.5 重量部(Fe2 O3 換算)の鉄分
を含浸したもので、高純度多孔質SiCセラミックス焼
結体を鉄アセチルアセトネート等の含鉄化合物の溶液中
に浸漬し、乾燥後空気中で加熱することにより製造す
る。
Description
熱、内燃機関の排ガス処理等に用いるフィルター部材と
して好適な耐酸化性多孔質セラミックス部材及びその製
造方法に関する。
関の排ガス処理等を行うフィルター部材として、優れた
耐熱性、耐酸化性、耐食性等を有するセラミックス質の
多孔体が注目されている。この用途に適するセラミック
スとしては、SiC,MoSi2 、ZrO2、 LaCrO3 等が挙げ
られるが、耐熱衝撃性、熱伝導性等の観点からSiCが
最適であり、多く使用されている。しかしながらSiC
は耐酸化性に問題があり、特に多数の気孔を有する多孔
体では実質表面積が大きいため耐酸化性は更に劣り、そ
のままでは高温の酸化性雰囲気での使用は困難で、中性
あるいは還元性雰囲気で使用される部材に使用されるに
とどまっている。
の表面層改質方法として、炭素質材料の気孔表面に気相
浸透と化学反応蒸着によりSiCを析出させることが特
開平8-91963 号に開示されている。この方法は耐酸化性
の非常に劣る炭素材の改質には一応の効果はあるが、析
出材料がSiCであり高温の酸化性雰囲気での使用に対
する根本的な対策とはなっていない。
部材表面へのSiCのCVDコーティング法が特開平3-
115174号に開示されている。この方法には耐酸化性の向
上効果が認められるが、処理を行うのに非常に高価な装
置を必要とし、また部材形状が制限されるため、一般的
な使用には至っていない。
は、耐酸化性に劣る多孔質SiCセラミックスを簡単な
処理でしかも安価に改質することにより、高温の酸化性
及び腐食性の雰囲気で使用し得るようになった耐酸化性
多孔質SiCセラミックス部材を提供することである。
性多孔質SiCセラミックス部材の製造方法を提供する
ことである。
の酸化挙動に及ぼす微量添加元素の影響について鋭意研
究した結果、微量のFe2 O3 の存在によりSiCの耐
酸化性が著しく向上することを発見し、本発明を完成さ
せた。
部材は、純度99%以上の多孔質SiCセラミックス100
重量部にFe0.1 〜0.5 重量部(Fe2 O3 換算)を含
浸させたことを特徴とする。
する本発明の方法は、含鉄化合物溶液中に高純度多孔質
SiCセラミックスを浸漬した後、空気中で加熱するこ
とにより改質することを特徴とする。
のファインセラミックス用原料である高純度のSiCを
用いて焼結した多孔質セラミックスで、SiCの純度が
99%以上であればどのような材料でも良い。SiCの純
度が99%未満の多孔質セラミックスは耐熱衝撃性、熱伝
導性等に劣る。好ましくは99.2%以上の純度である。
れないが、気孔率35%以上の材料が特に有効である。気
孔率が35%未満では耐酸化性の向上効果が若干低下す
る。好ましい気孔率は40%以上である。なお気孔率の上
限については、多孔質セラミックスの機械的強度の観点
から、70%であるのが好ましい。また多孔質セラミック
スの平均孔径は用途により異なるが、いかなる平均孔径
の多孔質セラミックスに対しても本発明を適用すること
ができる。
含有する無機又は有機化合物(単に「含鉄化合物」とい
う)の溶液中に多孔質SiCセラミックス焼結体を浸漬
することにより行うのが好ましい。含鉄化合物溶液は含
鉄化合物を水又は有機溶媒に溶解したものである。
成分がガス化するものであれば、どのようなものでも使
用できる。このような含鉄化合物の具体例としては、例
えば鉄アセチルアセトネート[Fe(C3H7O2)3 ]、硫酸ア
ンモニウム鉄(III )・12水和物[FeNH4(SO4)2 ・12H2
O ]、しゅう酸第二鉄アンモニウム三水和物[Fe(NH4)3
(C2O4)3 ・3H2O]、硫酸アンモニウム鉄(II)六水和物
[(NH4)2 Fe(SO4)2 ・6H2O]、鉄(III )ベンゾイルア
セトネート[{C6H5COCH:C(CH3)O}3 Fe]、臭化鉄(I
I)四水和物[FeBr2 ・4H2O]、塩化鉄(II)水和物[F
eCl2 ・nH2O]、くえん酸鉄(III )水和物[FeC6H5O7
・nH2O]、トリエトキシ鉄[Fe(OC2H5)3]、トリイソプ
ロポキシ鉄[Fe{OCH(CH3)2 }3 ]、乳酸鉄(II)三水
和物[Fe{CH3CH(OH)COO}2 ・3H2O]、硝酸鉄(III )
九水和物[Fe(NO3)3・9H2O]、しゅう酸鉄(II)二水和
物[FeC2O4・2H2O]等が挙げられるが、これらに限定さ
れない。
であればなんでもよい。一般的には水、アルコール、ベ
ンゼン、アセトン等を用いるが、これらに限定されな
い。
SiCセラミックスへの浸透が容易になるように、一般
には1mol/リットル以下であるのが好ましい。1m
ol/リットルより濃度が高くなると、浸漬速度が大き
すぎて浸漬量の制御が困難になり、また溶液の粘性が大
きくなりすぎてセラミックス内での鉄分の濃度勾配がで
きるおそれがある。含鉄化合物のより好ましい濃度は0.
03〜0.8 mol/リットルである。
鉄化合物溶液の種類、濃度及びセラッミクスの粒径、気
孔率等に応じて異なるので、最適条件を求めるには、多
孔質セラミックッスに使用する含鉄化合物及び溶媒の種
類等について予備試験を充分に実施することが必要であ
る。
分以内とするのが好ましい。例えば1〜10mmの厚みの
多孔質セラミックスを用いて鉄アセチルアセトネートの
アセトン溶液により含浸させる場合には、0.05〜0.5 m
ol/リットルの濃度で2〜30分で本発明品が得られ
る。もちろん、本発明の鉄分含有量になる処理であれば
改質に使用する含鉄化合物及び溶剤の種類及び処理条件
はこれに限定されるものではない。
ックス焼結体を充分乾燥した後、空気中で加熱する。加
熱処理は含浸した鉄分の酸化と、付着した含鉄化合物の
分解による鉄以外の成分のガス化除去及び生成したフリ
ーカーボンの除去のためである。
とするのが好ましい。加熱処理温度が800 ℃未満では上
記加熱処理が充分でなく、また950 ℃超では鉄分の酸化
と付着含鉄化合物の分解、フリーカーボンの除去等との
バランスが崩れ、表面の処理が終了しても鉄分の酸化が
充分でない等の問題がある。
体の厚み及び処理温度との関連で決定されるが、通常30
〜180 分でよい。30分未満では上記加熱処理が不充分で
あり、180 分超では鉄分の酸化反応等の終了後も加熱を
続けることになり無駄である。もちろん、処理時間も焼
結体の表面状況を観察しながら決定されるものであり、
以上の条件に限定されるものではない。
に変化するが、その量は次式により計算できる。 (W1 −W2 )×100 /W2 (重量%) ただし、 W1 ;加熱処理後の焼結体の重量、 W2 ;含浸前の焼結体の重量。
e2 O3 の量は0.1 〜0.5 重量部(Fe2 O3 換算)で
ある。Fe2 O3 の含浸量が0.1 重量%未満では耐酸化
性向上の効果がなく、また0.5 重量%を超えると低融点
化合物が多量に生成し、耐酸化性はかえって低下する。
好ましいFe2 O3 の含浸量は0.2 〜0.4 重量%であ
る。
クスの耐酸化性が著しく改善される機構については、次
のように考えられる。
よりSiO2 を生成し、CO及びCO2 を発生する。 SiC+2O2 =SiO2 +CO2 ・・・・(1) SiC+3/2O2 =SiO2 +CO・・・(2)
一部は次の反応により還元され、FeOを生成する。 Fe2 O3 +CO=2FeO+CO2 ・・・(3)
により低融点(1,205 ℃)のFe2 SiO4 を生成す
る。 2FeO+SiO2 =Fe2 SiO4 ・・・(4)
したときにSiO2 が生成し、これが保護膜を形成する
条件であり、温度1,700 K(1,427 ℃)では酸素分圧
(PO2)が0.1 kPa 以上である。保護酸化条件より酸素
分圧が低いときはSiCと酸素が反応しSiOが生成す
る。SiOはガス状であるので、いわゆる還元揮発が起
こりSiCセラミックスはどんどん消耗する。従って、
本発明品を使用する酸素雰囲気は保護酸化の条件である
必要がある。もちろん大気中は保護酸化の領域である。
L.Bowen and J.L.Schairer,Am.J.Sci.,24,177-213(193
2) )から明らかなように、一般にFeOとSiO2 と
の共存下では高温領域でトリジマイト又はクリストバラ
イトの融液が生成し、低融点のFe2 SiO4 を核とし
てトリジマイト又はクリストバライトは結晶として晶出
する。本発明部材の組成の場合には、クリストバライト
が結晶化する。この結晶化したクリストバライトは緻密
であり、これがSiCの表面に晶出して保護膜となり、
SiCの酸化を抑制するものと考えられる。
明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
いて鉄アセチルアセトネート[Fe(C3H7O2)3 ]のアセト
ン溶液に浸漬した。鉄アセチルアセトネート溶液の濃度
を0.05〜0.8 mol/リットルと変化させ、浸漬時間を
0〜60分としたときのFe2 O3 の含浸量を測定した。
アセチルアセトネート溶液の濃度を変化させたときの含
浸時間とFe2 O3 含浸量との関係を示し、図3は同様
に含浸時間とFe2 O3 含浸深さとの関係を示す。含浸
後の試料はいずれも900 ℃で60分間大気中で加熱し、含
浸した鉄分はFe2 O3 までの酸化と付着溶液の除去を
行った。
1 〜0.5 重量%(Fe2 O3 換算)含浸させるのに必要
な浸漬時間は、鉄アセチルアセトネートのアセトン溶液
の濃度が0.05、0.1 及び0.5 mol/リットルの場合に
はそれぞれ20分以上、4〜30分及び1〜7分であった。
濃度が0.8 mol/リットル以上になると適正な浸漬時
間の許容幅が非常に狭くなり、制御が困難である。
うに、通常使用される1〜10mmの厚さのセラミックス
であれば、0.05〜0.5 mol/リットルの溶液濃度の場
合、3分程度の浸漬時間で充分な浸漬深さが得られた。
%のファインセラミックス用原料を使用した多孔質Si
Cセラミックス焼結体を使用し、比較例4ではSiC純
度85%の低純度の多孔質SiCセラミックス焼結体を使
用した。各焼結体を3mm×4mm×40mmに切断し、
試験に供した。
トのアセトン溶液(0.1 mol/リットル)に多孔質S
iCセラミックス焼結体をそれぞれ5分、10分、15分及
び10分間浸漬し、900 ℃の大気中で60分加熱した。比較
例1は含浸処理を行わなかった例であり、比較例2は含
浸処理を行ったが含浸時間が短かすぎたため鉄分含有量
が0.08重量%と低かった例であり、比較例3は含浸処理
を行ったが含浸時間が長すぎて鉄分含有量が0.6 重量%
と過剰になった例である。また比較例5は従来例のCV
D処理を行った例である。
囲気[酸素分圧:2kPa (0.02atm )]の炉に載置し、
1,700 K(1,427 ℃)で一定時間保持し、酸化増量を測
定した。また各試料を大気雰囲気(酸素分圧:0.21atm
)の炉に載置し、同様にして酸化増量を測定した。保
持時間はそれぞれ15時間としたが、酸素分圧2kPa の場
合には45時間の試験も実施した。
化による増量を求めるとともに、酸化生成物であるSi
O2 (クリストバライト)の(101)ピークとSiC
の(111)ピークとのX線強度比を求めた。
いて使用した多孔質セラミックス焼結体の種類、改質処
理条件、加熱処理条件、酸化増量試験結果及びX線強度
比の測定結果を示す。
ン溶液に浸漬。 (2) 浸漬後の試料を乾燥後大気中で加熱。 (3) [鉄の重量(Fe2 O3 換算)/セラミックスの重
量]×100 (重量%)。 (4) 酸化試験[酸素分圧:2kPa (0.02atm )、1,427
℃]。 (5) 酸化試験(大気中(酸素分圧:0.21atm )、1,427
℃)。 (6) クリストバライトの(101)ピークとSiCの
(111)ピークのX線強度比。 (7) 評価基準。 ○ 耐酸化性良好 △ 耐酸化性やや不良 × 耐酸化性不良
施例2〜4)は比較例1〜4に比べて耐酸化性が飛躍的
に向上している。これは鉄を含浸させることによって、
結晶性の良好なクリストバライトが生成するためであ
る。X線強度比の試験結果からも明らかなように、鉄未
含浸の比較例1の場合にも少量のクリストバライトの生
成はあるが、含浸処理を行った本発明品(実施例2〜
4)ではクリストバライトの量が急増している。
たが、SiC純度が低いため耐酸化性向上が不十分であ
った。また従来技術であるCVD処理を行った比較例5
の試料の耐酸化性は本発明品と同等であったが、CVD
処理は非常に高価であり、しかも形状の制限がある等の
欠点がある。
術に比較して非常に簡便でしかも安価に多孔質SiCセ
ラミックスの耐酸化性を向上させることができ、高温で
酸化性及び/又は腐食性の雰囲気での使用に耐えるセラ
ミックス部材が得られる。本発明の耐酸化性セラミック
ス部材は、例えばガスや流体の加熱、内燃機関等のよう
に過酷な環境下で使用するフィルター部材やガスバーナ
ーノズル等に好適である。
せたときの含浸時間とFe2 O3 含浸量との関係を示す
グラフである。
せたときの含浸時間とFe2 O3 含浸深さとの関係を示
すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項1】 純度99%以上の多孔質SiCセラミック
ス100 重量部にFe0.1 〜0.5 重量部(Fe2 O3 換
算)を含浸させたことを特徴とする耐酸化性セラミック
ス部材。 - 【請求項2】 請求項1に記載の耐酸化性セラミックス
部材を製造する方法において、含鉄化合物溶液中に高純
度SiCからなる多孔質セラミックス焼結体を浸漬した
後、空気中で加熱することにより改質することを特徴と
する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30574296A JP3781321B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 耐酸化性多孔質セラミックス高温ガスフィルター部材及びその製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30574296A JP3781321B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 耐酸化性多孔質セラミックス高温ガスフィルター部材及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10139570A true JPH10139570A (ja) | 1998-05-26 |
JP3781321B2 JP3781321B2 (ja) | 2006-05-31 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30574296A Expired - Fee Related JP3781321B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 耐酸化性多孔質セラミックス高温ガスフィルター部材及びその製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3781321B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017149621A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 東京窯業株式会社 | ハニカム構造体及びハニカム構造体の製造方法 |
-
1996
- 1996-10-31 JP JP30574296A patent/JP3781321B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2017149621A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 東京窯業株式会社 | ハニカム構造体及びハニカム構造体の製造方法 |
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