JPH10132763A - Method for automatically adjusting position of sample in x-ray diffraction apparatus - Google Patents

Method for automatically adjusting position of sample in x-ray diffraction apparatus

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JPH10132763A
JPH10132763A JP8292632A JP29263296A JPH10132763A JP H10132763 A JPH10132763 A JP H10132763A JP 8292632 A JP8292632 A JP 8292632A JP 29263296 A JP29263296 A JP 29263296A JP H10132763 A JPH10132763 A JP H10132763A
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Japan
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sample
axis
ray diffraction
ray
rays
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JP8292632A
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Japanese (ja)
Inventor
Chuji Katayama
忠二 片山
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MAC SCI KK
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MAC SCI KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To automatically adjust the position of a sample in an X-ray diffraction apparatus. SOLUTION: A sample 4 is cooled to be subjected to an X-ray diffraction measurement in a low temperature area in the X-ray diffraction apparatus. According to the method, the position of the sample 4 is automatically adjusted at this time. While predetermined three coordinate axes orthogonal to one another are set as X-axis, Y-axis and Z-axis, when the sample is moved in a predetermined range in a YZ direction with X rays being projected to the sample in parallel to the X-axis, a position where an intensity of diffraction rays is maximum is detected. The sample 4 is moved to the position (YZ position adjustment process). Then, the sample 4 is moved in an XZ direction within a predetermined range while the X rays are projected to the sample 4 in parallel to the Y-axis, and a position where the intensity of diffraction rays is maximum is detected. The sample 4 is moved to the position (XZ position adjustment process). The sample 4 is gradually cooled. The YZ position adjustment process and XZ position adjustment process are repeated until the sample 4 reaches a predetermined temperature, thereby, the position of the sample 4 is automatically adjusted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、試料を冷却して低
温域でX線回折測定を行うX線回折装置における試料の
位置を自動的に調整する試料位置自動調整方法に関し、
例えば、クライオスタットを用いた極低温X線回折装置
に適用し得るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automatic sample position adjusting method for automatically adjusting the position of a sample in an X-ray diffraction apparatus for performing X-ray diffraction measurement in a low temperature range by cooling the sample.
For example, it can be applied to a cryogenic X-ray diffractometer using a cryostat.

【0002】[0002]

【従来の技術】極低温領域(10K以下)での単結晶X
線回折の実験にはクライオスタット(cryosta
t)が利用されている。クライオスタットに用いられる
低温源には寒剤貯蔵方式、寒剤連続フロー方式や冷凍機
方式等があり、試料冷却法には伝導冷却方式やガス雰囲
気方式等がある。
2. Description of the Related Art Single crystal X in a cryogenic temperature region (10K or less)
X-ray diffraction experiments were carried out using a cryostat.
t) is used. The low-temperature source used in the cryostat includes a cryogen storage method, a cryogen continuous flow method, a refrigerator method, and the like, and the sample cooling method includes a conduction cooling method, a gas atmosphere method, and the like.

【0003】図4は従来のクライオスタットとX線回折
装置の一例を示したものであり、クライオスタット1
は、冷却部2、試料ホルダ3、気密ケース5、X線透過
窓6、及びヒータ7と温度センサ8等からなり、X線回
折装置は、ゴニオメータ基台10、試料回転台11、及
びX線発生装置12とX線計数装置13等からなる。
FIG. 4 shows an example of a conventional cryostat and an X-ray diffraction apparatus.
Comprises a cooling unit 2, a sample holder 3, an airtight case 5, an X-ray transmission window 6, a heater 7, a temperature sensor 8, and the like. The X-ray diffraction apparatus includes a goniometer base 10, a sample rotating base 11, and an X-ray It comprises a generator 12, an X-ray counter 13, and the like.

【0004】図4のクライオスタット1は、ヘリウムガ
スを閉回路で循環させながら断熱圧縮・膨張を繰り返し
て低温を得る冷却器のヘッドを形成する冷却部2の先端
に、試料ホルダ3を固定し、この試料ホルダ3に試料4
を取り付けるようにしたものである。
In the cryostat 1 shown in FIG. 4, a sample holder 3 is fixed to the tip of a cooling unit 2 forming a head of a cooler for obtaining a low temperature by repeating adiabatic compression and expansion while circulating helium gas in a closed circuit. The sample 4 is placed in the sample holder 3.
Is to be attached.

【0005】冷却部2は、内部を真空に保持するための
円筒状の気密ケース5で覆われており、この気密ケース
5の下部付近には、試料4に照射するX線を透過させる
ためのX線透過窓6が設けてある。また、気密ケース5
の下端部は試料回転台8に固定され、さらに試料回転台
11を挟んでゴニオメータ基台10の両側には、試料4
にX線透過窓6を介してX線を照射させるX線発生装置
12と、試料4からの回折X線をX線透過窓6を介して
検出するX線計数装置13とが設けてある。X線計数装
置13は試料4の回りに所定の角速度で回転可能となっ
ており、X線透過窓6は気密ケース5の周方向に中心角
190゜程度の範囲で形成されている。
The cooling unit 2 is covered with a cylindrical airtight case 5 for keeping the inside of the airtight vacuum, and near the lower part of the airtight case 5, a X-ray for irradiating the sample 4 is transmitted. An X-ray transmission window 6 is provided. In addition, airtight case 5
The lower end of the sample 4 is fixed to the sample turntable 8, and the sample 4 is placed on both sides of the goniometer base 10 with the sample turntable 11 interposed therebetween.
An X-ray generator 12 that irradiates X-rays through the X-ray transmission window 6 and an X-ray counter 13 that detects diffracted X-rays from the sample 4 through the X-ray transmission window 6 are provided. The X-ray counter 13 is rotatable around the sample 4 at a predetermined angular velocity, and the X-ray transmission window 6 is formed at a central angle of about 190 ° in the circumferential direction of the airtight case 5.

【0006】冷却部2の下端に形成された冷却部位2a
の上面には温度センサ8が取り付けられていて、温度セ
ンサ8によってX線回折測定時の試料4の温度を検出し
冷却部位2aの温度制御を行うようにしている。また、
冷却部位2aの直上付近には、ヒータ7が巻き付けてあ
り、このヒータ7で試料4の温度を制御できるようにな
っている。
A cooling part 2a formed at the lower end of the cooling part 2
A temperature sensor 8 is mounted on the upper surface of the sample 4, and the temperature sensor 8 detects the temperature of the sample 4 at the time of the X-ray diffraction measurement to control the temperature of the cooling portion 2a. Also,
A heater 7 is wound just above the cooling portion 2a, and the temperature of the sample 4 can be controlled by the heater 7.

【0007】このようなクライオスタット1とX線回折
装置で測定を行うときには、常温で気密ケース5をはず
した状態で試料4を試料ホルダ3に取り付けて、その
後、気密ケースを取り付けてから、冷却を行うようにし
ていた。
When the measurement is performed with such a cryostat 1 and an X-ray diffractometer, the sample 4 is mounted on the sample holder 3 in a state where the airtight case 5 is removed at room temperature, and then the airtight case is mounted, and then the cooling is performed. Had to do it.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】X線透過窓6の材料に
は、Beや繊維強化プラスチック(fiber rei
nforced plastics)が用いられる。こ
のため、内部の試料4の位置が外部から確認できない。
The material of the X-ray transmission window 6 is Be or fiber reinforced plastic (fiber rei).
nforced plastics) is used. For this reason, the position of the sample 4 inside cannot be confirmed from the outside.

【0009】一方、クライオスタット1を低温にすると
冷却部2の縮みと変形によって試料4の位置が移動す
る。試料4を常温から極低温に冷却すると試料の位置が
mmのオーダーで移動することがある。
On the other hand, when the cryostat 1 is set at a low temperature, the position of the sample 4 moves due to the contraction and deformation of the cooling unit 2. When the sample 4 is cooled from room temperature to extremely low temperature, the position of the sample may move in the order of mm.

【0010】従来は、このような試料4の位置の調整を
手作業で行っており、非常に手間がかかるものであっ
た。また、モーター等で試料位置を調整しようとして
も、調整作業に熟練した調整担当者が測定の都度調整を
行う必要があった。
Conventionally, such adjustment of the position of the sample 4 is performed manually, which is very troublesome. In addition, even if an attempt is made to adjust the sample position by a motor or the like, an adjusting person skilled in adjustment work has to perform adjustment each time measurement is performed.

【0011】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであり、X線回折装置の試料の位置を自動的に
調整する自動試料位置調整装置を提供することを目的と
する。
The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide an automatic sample position adjusting apparatus for automatically adjusting the position of a sample in an X-ray diffraction apparatus.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、試料
を冷却して低温域でX線回折測定を行うX線回折装置に
おける試料の位置を自動的に調整する試料位置自動調整
方法において、互い直交する所定の3つの座標軸を、そ
れぞれX軸、Y軸、Z軸としたときに、試料に対してX
軸と平行にX線を照射しながら試料をYZ方向に所定の
範囲内で移動させて、回折線の強度が最大になる位置を
探し出し、試料をその位置に移動させるYZ位置調整工
程と、試料に対してY軸と平行にX線を照射しながら試
料をXZ方向に所定の範囲内で移動させて、回折線の強
度が最大になる位置を探し出し、試料をその位置に移動
させるXZ位置調整工程とを有し、試料を徐々に冷却し
ながら、上記YZ位置調整工程とXZ位置調整工程とを
試料が所定の温度に達するまで繰り返して試料の位置を
自動的に調整することを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a method for automatically adjusting the position of a sample in an X-ray diffraction apparatus for performing X-ray diffraction measurement in a low temperature range by cooling the sample. When three predetermined coordinate axes orthogonal to each other are set to an X axis, a Y axis, and a Z axis, respectively,
A YZ position adjusting step of moving the sample in a predetermined range in the YZ direction while irradiating X-rays in parallel with the axis to find a position where the intensity of the diffraction line is maximized, and moving the sample to that position; XZ position adjustment that moves the sample within a predetermined range in the XZ direction while irradiating X-rays in parallel with the Y axis to find the position where the intensity of the diffraction line is maximum, and moves the sample to that position. And adjusting the position of the sample automatically by repeating the YZ position adjustment step and the XZ position adjustment step until the sample reaches a predetermined temperature while gradually cooling the sample. .

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明によるX線回折装置
における試料位置自動調整方法の実施の形態を図面を参
照しながら詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of a method for automatically adjusting a sample position in an X-ray diffraction apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0014】図1は本実施の形態に係るX線回折装置と
クライオスタットの構成を示したものであり、従来との
同一、対応部分には同一符号を付した。なお、X軸調整
装置20、Y軸調整装置21、Z軸調整装置22以外の
各部は従来と同様に機能するのでその説明は省略する。
FIG. 1 shows the configuration of an X-ray diffraction apparatus and a cryostat according to the present embodiment. The components other than the X-axis adjustment device 20, the Y-axis adjustment device 21, and the Z-axis adjustment device 22 function in the same manner as in the related art, and a description thereof will be omitted.

【0015】X軸調整装置20は、クライオスタット1
の位置をX軸方向に微調整する装置であり、クライオス
タット1と試料回転台11の間に取り付けられていて、
後述するように制御装置によってコントロールされる。
同様にY軸調整装置21とZ軸調整装置22は、クライ
オスタット1の位置をそれぞれY軸、Z軸方向に微調整
する装置であり、クライオスタット1と試料回転台11
の間に取り付けられていて、制御装置によってコントロ
ールされる。
The X-axis adjusting device 20 includes a cryostat 1
Is a device for finely adjusting the position of the sample in the X-axis direction, and is attached between the cryostat 1 and the sample turntable 11,
It is controlled by the control device as described later.
Similarly, the Y-axis adjustment device 21 and the Z-axis adjustment device 22 are devices for finely adjusting the position of the cryostat 1 in the Y-axis and Z-axis directions, respectively.
And is controlled by a controller.

【0016】ここで、Z軸とは試料回転台11の回転面
に垂直な座標軸である。また、X軸はZ軸に垂直に交差
する座標軸であり、Y軸はX軸とZ軸の双方に垂直に交
差する座標軸である。
Here, the Z axis is a coordinate axis perpendicular to the rotation plane of the sample turntable 11. The X axis is a coordinate axis perpendicular to the Z axis, and the Y axis is a coordinate axis perpendicular to both the X axis and the Z axis.

【0017】図2は、制御装置の概略構成を示したもの
であり、制御装置30は、中央処理装置31、主記憶装
置32、補助記憶装置33、キーボードインターフェー
ス34、マウスインターフェース35、及びディスプレ
イインターフェース36と入出力インターフェース37
等からなり、制御装置30には、キーボード40とマウ
ス41と表示装置42が各インターフェース34〜36
を介して接続されている。なお、図1との同一、対応部
分には同一符号を付して示した。本実施の形態では、こ
の制御装置30と中央処理装置31上で走行するソフト
ウェアによって、クライオスタット1とX線回折装置の
各部が制御される。
FIG. 2 shows a schematic configuration of the control device. The control device 30 includes a central processing unit 31, a main storage device 32, an auxiliary storage device 33, a keyboard interface 34, a mouse interface 35, and a display interface. 36 and input / output interface 37
The control device 30 includes a keyboard 40, a mouse 41, and a display device 42.
Connected through. The same and corresponding parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In the present embodiment, each unit of the cryostat 1 and the X-ray diffraction device is controlled by the control device 30 and software running on the central processing unit 31.

【0018】入出力インターフェース37は、制御装置
30とクライオスタット1とX線回折装置の各部とを接
続するインターフェースであり、図2においてはX軸調
整装置20、Y軸調整装置21、及びZ軸調整装置22
とX線計数装置13の4つが接続されている。実際に
は、入出力インターフェース37にはクライオスタット
1とX線回折装置の他の部分も接続されているがその部
分の説明は省略する。
The input / output interface 37 is an interface for connecting the control device 30, the cryostat 1, and each part of the X-ray diffraction device. In FIG. 2, the X-axis adjustment device 20, the Y-axis adjustment device 21, and the Z-axis adjustment device Device 22
And the X-ray counter 13 are connected. Actually, the cryostat 1 and other parts of the X-ray diffraction apparatus are also connected to the input / output interface 37, but the description of those parts will be omitted.

【0019】このような構成で、試料の位置を調整する
ときの動作を図3のフローチャートを参照しながら以下
に説明する。
The operation for adjusting the position of the sample with such a configuration will be described below with reference to the flowchart of FIG.

【0020】最初に試料4を試料ホルダ3に取り付け
て、試料を常温から徐々に冷却していく。
First, the sample 4 is mounted on the sample holder 3, and the sample is gradually cooled from room temperature.

【0021】制御装置30は、X線回折装置の各部を制
御して、X線発生装置12が試料4にX軸と平行にX線
を照射して、X線計数装置13がその回折線をとらえる
ようにする(ステップ301)。
The control device 30 controls each part of the X-ray diffractometer, the X-ray generator 12 irradiates the sample 4 with X-rays in parallel with the X-axis, and the X-ray counter 13 converts the diffracted rays. (Step 301).

【0022】制御装置30は、入出力インターフェース
37を介してY軸調整装置21とZ軸調整装置22を制
御してクライオスタット1をYZ平面に平行に移動させ
て、YZ平面の所定の範囲をスキャンする。スキャンの
間、X線計数装置13は回折線の強度を入出力インター
フェース37を介して制御装置30に送り、制御装置3
0はその強度とそのときのY軸とZ軸方向へのクライオ
スタット1の移動量を主記憶装置32又は補助記憶装置
33に記憶する(ステップ302)。
The control device 30 controls the Y-axis adjustment device 21 and the Z-axis adjustment device 22 via the input / output interface 37 to move the cryostat 1 in parallel with the YZ plane, and scan a predetermined range on the YZ plane. I do. During the scan, the X-ray counter 13 sends the intensity of the diffraction line to the controller 30 via the input / output interface 37, and the controller 3
0 stores the strength and the amount of movement of the cryostat 1 in the Y-axis and Z-axis directions at that time in the main storage device 32 or the auxiliary storage device 33 (step 302).

【0023】YZ平面の所定の範囲をスキャンが終わっ
てから、制御装置30は、記憶した回折線の強度の中か
らピークを検出して(最高強度を探索して)、そのとき
のY軸とZ軸方向へのクライオスタット1の移動量を求
めて、Y軸調整装置21とZ軸調整装置22を制御して
回折線の強度が最高になる位置にクライオスタット1を
移動させる。移動が終わってから、制御装置30は、強
度とY軸とZ軸方向へのクライオスタット1の移動量の
データを消去する(ステップ303)。
After the scanning of the predetermined range on the YZ plane is completed, the control device 30 detects a peak from the stored intensities of the diffraction lines (searches for the highest intensity) and sets the Y-axis and the Y-axis at that time. The amount of movement of the cryostat 1 in the Z-axis direction is obtained, and the Y-axis adjustment device 21 and the Z-axis adjustment device 22 are controlled to move the cryostat 1 to a position where the intensity of the diffraction line becomes maximum. After the movement is completed, the control device 30 deletes the data of the strength and the movement amount of the cryostat 1 in the Y-axis and Z-axis directions (Step 303).

【0024】制御装置30は、X線回折装置の各部を制
御して、X線発生装置12が試料4にY軸と平行にX線
を照射して、X線計数装置13がその回折線をとらえる
ようにする(ステップ304)。
The control device 30 controls each part of the X-ray diffraction device, the X-ray generation device 12 irradiates the sample 4 with X-rays in parallel with the Y-axis, and the X-ray counting device 13 converts the diffraction lines. (Step 304).

【0025】制御装置30は、入出力インターフェース
37を介してX軸調整装置20とZ軸調整装置22を制
御してクライオスタット1をXZ平面に平行に移動させ
て、XZ平面の所定の範囲をスキャンする。スキャンの
間、X線計数装置13は回折線の強度を入出力インター
フェース37を介して制御装置30に送り、制御装置3
0はその強度とそのときのX軸とZ軸方向へのクライオ
スタット1の移動量を主記憶装置32又は補助記憶装置
33に記憶する(ステップ305)。
The control device 30 controls the X-axis adjustment device 20 and the Z-axis adjustment device 22 via the input / output interface 37 to move the cryostat 1 in parallel with the XZ plane and scan a predetermined range on the XZ plane. I do. During the scan, the X-ray counter 13 sends the intensity of the diffraction line to the controller 30 via the input / output interface 37, and the controller 3
0 stores the strength and the amount of movement of the cryostat 1 in the X-axis and Z-axis directions at that time in the main storage device 32 or the auxiliary storage device 33 (step 305).

【0026】XZ平面の所定の範囲をスキャンが終わっ
てから、制御装置30は、記憶した回折線の強度の中か
らピークを検出して(最高強度を探索して)、そのとき
のX軸とZ軸方向へのクライオスタット1の移動量を求
めて、X軸調整装置20とZ軸調整装置22を制御して
回折線の強度が最高になる位置にクライオスタット1を
移動させる。移動が終わってから、制御装置30は、強
度とX軸とZ軸方向へのクライオスタット1の移動量の
データを消去する(ステップ306)。
After the scanning of the predetermined range on the XZ plane is completed, the control device 30 detects a peak from the stored diffraction line intensities (searches for the highest intensity), and determines the X-axis at that time. The amount of movement of the cryostat 1 in the Z-axis direction is obtained, and the X-axis adjustment device 20 and the Z-axis adjustment device 22 are controlled to move the cryostat 1 to a position where the intensity of the diffraction line becomes maximum. After the movement is completed, the control device 30 deletes the data of the strength and the movement amount of the cryostat 1 in the X-axis and Z-axis directions (Step 306).

【0027】試料4の冷却が定常状態になったときは試
料位置の調整を終了する。そうでないときは、ステップ
301に戻り再度調整を行う(ステップ307)。
When the cooling of the sample 4 has reached a steady state, the adjustment of the sample position is terminated. If not, the process returns to step 301 to perform the adjustment again (step 307).

【0028】以上のように上記の実施の形態によれば、
試料を常温から徐々に冷却しながら、YZ方向の回折線
の強度が最大になる位置に試料を移動させる処理と、X
Z方向の回折線の強度が最大になる位置に試料を移動さ
せる処理とを、試料の温度が定常状態まで繰り返すよう
にしたので、非常に簡易に試料4の位置を自動的に調整
することが可能になる。
As described above, according to the above embodiment,
A process of moving the sample to a position where the intensity of the diffraction line in the YZ direction is maximized while gradually cooling the sample from room temperature;
The process of moving the sample to the position where the intensity of the diffraction line in the Z direction is maximized is repeated until the temperature of the sample reaches a steady state, so that the position of the sample 4 can be automatically adjusted very easily. Will be possible.

【0029】本発明は、上記の実施の形態のものに限定
されるものでなく、種々の変形を許容するものである。
The present invention is not limited to the above embodiment, but allows various modifications.

【0030】本発明は、上記の実施の形態で示したクラ
イオスタットだけでなく、他のクライオスタットにも同
様に適用できる。適用可能なクライオスタットに用いら
れる低温源には寒剤貯蔵方式、寒剤連続フロー方式や冷
凍機方式等があり、試料冷却法には伝導冷却方式やガス
雰囲気方式等がある。
The present invention can be applied not only to the cryostat shown in the above embodiment, but also to other cryostats. The low-temperature source used for the applicable cryostat includes a cryogen storage method, a cryogen continuous flow method, a refrigerator method, and the like, and a sample cooling method includes a conduction cooling method, a gas atmosphere method, and the like.

【0031】また、本発明に係るX線計数装置は、CC
D(電荷結合素子)カメラ、X線フィルム、平板又は円
筒IP(Imaging Plate)とその読み取り
器等X線を計数できるものであれば何れにも適用でき
る。
Further, the X-ray counter according to the present invention has a CC
The present invention can be applied to any device capable of counting X-rays, such as a D (charge coupled device) camera, an X-ray film, a flat plate or a cylindrical IP (Imaging Plate), and a reader thereof.

【0032】さらに、上記の実施の形態では、X軸調整
装置とY軸調整装置とZ軸調整装置をクライオスタット
と試料回転台の間に設けたが、他の場所に設けてもよ
い。また、X軸調整装置とY軸調整装置とZ軸調整装置
との相対的な位置関係も任意に定めてもよい。
Further, in the above embodiment, the X-axis adjustment device, the Y-axis adjustment device, and the Z-axis adjustment device are provided between the cryostat and the sample rotating table, but they may be provided at other places. Further, the relative positional relationship between the X-axis adjustment device, the Y-axis adjustment device, and the Z-axis adjustment device may be arbitrarily determined.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、互
い直交する所定の3つの座標軸を、それぞれX軸、Y
軸、Z軸としたときに、試料を徐々に冷却しながら、試
料に対してX軸と平行にX線を照射しながら試料をYZ
方向に所定の範囲内で移動させて、回折線の強度が最大
になる位置を探し出し、試料をその位置に移動させる工
程と、試料に対してY軸と平行にX線を照射しながら試
料をXZ方向に所定の範囲内で移動させて、回折線の強
度が最大になる位置を探し出し、試料をその位置に移動
させる工程とを試料が所定の温度に達するまで繰り返し
て試料の位置を自動的に調整するようにしたので、非常
に簡易にX線回折装置の試料の位置を自動的に調整する
ことが可能になる。
As described above, according to the present invention, the predetermined three coordinate axes orthogonal to each other are set to the X axis and the Y axis, respectively.
When the sample is gradually cooled, the sample is irradiated with X-rays in parallel with the X axis, and the sample is placed in the YZ direction.
Moving the sample within a predetermined range in the direction to find the position where the intensity of the diffraction line is maximum, and moving the sample to that position; and irradiating the sample with X-rays in parallel with the Y axis. The process of moving the sample in the XZ direction within a predetermined range to find a position where the intensity of the diffraction line is maximum, and moving the sample to that position is repeated until the sample reaches a predetermined temperature, and the position of the sample is automatically set. , The position of the sample of the X-ray diffractometer can be automatically adjusted very easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態におけるX線回折装置とクライオス
タットの正面断面図である。
FIG. 1 is a front sectional view of an X-ray diffraction apparatus and a cryostat according to an embodiment.

【図2】実施の形態における制御装置の概略構成を示す
ブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a control device according to the embodiment.

【図3】実施の形態における試料の自動試料位置調整を
するときの動作を示すフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing an operation when performing automatic sample position adjustment of a sample in the embodiment.

【図4】従来のX線回折装置とクライオスタットの正面
断面図である。
FIG. 4 is a front sectional view of a conventional X-ray diffraction apparatus and a cryostat.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 クライオスタット 10 ゴニオメータ基台 11 試料回転台 12 X線発生装置 13 X線計数装置 20 X軸調整装置 21 Y軸調整装置 22 Z軸調整装置 30 制御装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cryostat 10 Goniometer base 11 Sample turntable 12 X-ray generator 13 X-ray counter 20 X-axis adjuster 21 Y-axis adjuster 22 Z-axis adjuster 30 Controller

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 試料を冷却して低温域でX線回折測定を
行うX線回折装置における試料の位置を自動的に調整す
る試料位置自動調整方法であって、 互い直交する所定の3つの座標軸を、それぞれX軸、Y
軸、Z軸としたときに、 試料に対してX軸と平行にX線を照射しながら試料をY
Z方向に所定の範囲内で移動させて、回折線の強度が最
大になる位置を探し出し、試料をその位置に移動させる
YZ位置調整工程と、 試料に対してY軸と平行にX線を照射しながら試料をX
Z方向に所定の範囲内で移動させて、回折線の強度が最
大になる位置を探し出し、試料をその位置に移動させる
XZ位置調整工程とを有し、 試料を徐々に冷却しながら、上記YZ位置調整工程と上
記XZ位置調整工程とを試料が所定の温度に達するまで
繰り返して試料の位置を自動的に調整することを特徴と
するX線回折装置における試料位置自動調整方法。
1. An automatic sample position adjusting method for automatically adjusting the position of a sample in an X-ray diffractometer for performing X-ray diffraction measurement in a low temperature range by cooling the sample, comprising: three predetermined coordinate axes orthogonal to each other To the X axis and Y
When the sample is irradiated with X-rays in parallel with the X axis,
A YZ position adjustment step of moving the sample in the predetermined direction in the Z direction to find a position where the intensity of the diffraction line is maximized and moving the sample to that position, and irradiating the sample with X-rays in parallel with the Y axis. X
An XZ position adjustment step of moving the sample in the predetermined direction in the Z direction to find the position where the intensity of the diffraction line is maximum, and moving the sample to that position. A method for automatically adjusting the position of a sample in an X-ray diffraction apparatus, wherein the position of the sample is automatically adjusted by repeating the position adjusting step and the XZ position adjusting step until the sample reaches a predetermined temperature.
JP8292632A 1996-11-05 1996-11-05 Method for automatically adjusting position of sample in x-ray diffraction apparatus Pending JPH10132763A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008066127A1 (en) * 2006-11-30 2008-06-05 Ulvac, Inc. Refrigerating machine
JP2019109123A (en) * 2017-12-18 2019-07-04 富士通株式会社 X-ray analyzer and analysis method

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