JPH10126038A - Printed wiring board and its manufacture - Google Patents

Printed wiring board and its manufacture

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JPH10126038A
JPH10126038A JP27590896A JP27590896A JPH10126038A JP H10126038 A JPH10126038 A JP H10126038A JP 27590896 A JP27590896 A JP 27590896A JP 27590896 A JP27590896 A JP 27590896A JP H10126038 A JPH10126038 A JP H10126038A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal layer
wiring board
ink
manufacturing
printed wiring
Prior art date
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Pending
Application number
JP27590896A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuaki Masuda
和明 益田
Hiroshi Koizumi
寛 小泉
Masami Ikeda
雅実 池田
Hiromichi Noguchi
弘道 野口
Hiroshi Sugitani
博志 杉谷
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to JP27590896A priority Critical patent/JPH10126038A/en
Publication of JPH10126038A publication Critical patent/JPH10126038A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make an exposing process and developing process using a photomask omittable after a resist is formed by roughening the surface of a metallic layer on a wiring circuit forming surface side so that a prescribed roughness can be obtained non-directionally and jetting photo-setting ink upon a roughened circuit forming section from an ink jet head. SOLUTION: The surface of a metallic layer 11 is roughened by non- directionally forming recessed and projecting sections by spraying particles with a sandblaster 16 from the direction perpendicular to the surface in a roughening process. After the surface is roughened, photo-setting ink is jetted upon the roughened surface from an ink jet head 17 in accordance with a set pattern. Consequently, the cured photo-curing ink composition 13B corresponding to a circuit forming section 13a is formed on the surface of the roughened metal layer 11. Thereafter, a conductive circuit 11A can be formed on an insulating layer 12 through an etching process. The sandblast in the roughening process is performed by using, for example, fused alumina particles having a particle size of #220.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線基板
およびその製造方法に関し、詳しくは、印刷技術を用い
て図形を作画した上、エッチングにより配線回路を残し
て形成するプリント配線基板およびその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a printed wiring board formed by forming a figure using a printing technique and leaving a wiring circuit by etching, and a method of manufacturing the same. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の一般的なプリント配線基板製造方
法を図3に従って説明する。
2. Description of the Related Art A conventional general printed circuit board manufacturing method will be described with reference to FIG.

【0003】図3の(A)において、11は絶縁層12
上に積層された金属層である。絶縁層12は例えばガラ
エポと称されるガラスやエポキシ樹脂を主材として形成
され、基体をなすもの(樹脂層)で、その上に銅などの
導電性金属による金属層11が積層されて、プリント配
線用の基板21として用意される。次に示す(B)は整
面処理過程であり、上記の金属層11上にUV光(紫外
線光)に対して感光性のあるレジスト層13が(C)に
示す過程で形成されるが、それに先行してレジスト層1
3の金属層11への密着性を高める目的で行われるもの
である。なお、かかる整面処理にはこれまで一般的にバ
フ研磨などの方法がとられてきた。
In FIG. 3A, reference numeral 11 denotes an insulating layer 12.
It is a metal layer laminated thereon. The insulating layer 12 is formed mainly of glass or epoxy resin called glass epoxy, for example, and serves as a base (resin layer). The metal layer 11 made of a conductive metal such as copper is laminated thereon and printed. It is prepared as a wiring substrate 21. (B) shown below is a surface conditioning process in which a resist layer 13 that is sensitive to UV light (ultraviolet light) is formed on the metal layer 11 in the process shown in (C). Prior to that, resist layer 1
3 is performed for the purpose of improving the adhesion to the metal layer 11. Note that a method such as buff polishing has been generally used for such surface conditioning treatment.

【0004】このようなバフ研磨により金属層11の表
面粗さは研磨前に比べて稍荒くされる。かくして過程
(C)においてレジスト層13の金属層11に対する密
着性が高められる。次の(D)は露光過程における露光
状態を示し、ここで、14はフォトマスク、14Aはフ
ォトマスク14に設けられた透光窓、14Bは紫外線光
である。しかしてこの露光過程(D)により透光窓14
Aを介して露光されたレジスト層13の露光部(以下で
は回路形成部という)13Aが組成変化し、次に示す現
像過程(E)でこの回路形成部13Aが不溶性となって
金属層11上に残る。上記の透光窓14Aは金属層11
上に要求に応じて形成される回路パターンに応じて穿設
されるものである。なお、以上に述べた過程はフォトリ
ソグラフィ技術として公知のもので、ポジ型とネガ型と
によって実際の操作は異なるが、上記ではその基本的な
一例を示したものである。また、レジスト層13の形成
にあたっては、液状のレジスト形成材に限らずドライフ
ィルム型のものが使用されることもある。
[0004] By such buff polishing, the surface roughness of the metal layer 11 is made slightly rougher than before polishing. Thus, in the step (C), the adhesion of the resist layer 13 to the metal layer 11 is enhanced. Next, (D) shows an exposure state in an exposure process, where 14 is a photomask, 14A is a light transmitting window provided in the photomask 14, and 14B is ultraviolet light. Thus, the light transmitting window 14 is formed by the exposing process (D).
The exposed portion (hereinafter, referred to as a circuit forming portion) 13A of the resist layer 13 exposed through A changes in composition, and the circuit forming portion 13A becomes insoluble in a developing process (E) described below and becomes insoluble on the metal layer 11. Remains. The light transmitting window 14A is made of the metal layer 11.
It is formed in accordance with a circuit pattern formed on demand. The above-described process is known as a photolithography technique, and the actual operation is different depending on whether it is a positive type or a negative type. However, the above is only a basic example. In forming the resist layer 13, a dry film type material may be used instead of a liquid resist forming material.

【0005】以上のようにして(E)に示す現像過程で
フォトレジスト層13の未感光部分を現像液で溶解除去
したあと、(F)に示すエッチング過程で、金属を化学
的に腐蝕させるエッチング薬液を用い、回路形成部13
Aによって被覆されていない金属層露出部11Bと共に
レジスト層13の回路形成部13Aを溶解除去して回路
形成部13Aによって被覆された金属層11の部分に導
電回路11Aを形成することができる。よって、このあ
との過程(G)で絶縁層12上の導電回路11Aの周り
にソルダーレジスト(はんだの保護絶縁層)15を形成
して、所望のプリント配線基板20が得られる。なお、
要すれば、さらに(G)の過程に加えて導電回路11A
上に銀めっきが施されることもある(不図示)。
After the unexposed portion of the photoresist layer 13 is dissolved and removed with a developing solution in the developing process shown in FIG. 1E, the metal is chemically etched in the etching process shown in FIG. Circuit forming unit 13 using chemical
By dissolving and removing the circuit forming portion 13A of the resist layer 13 together with the metal layer exposed portion 11B not covered with A, the conductive circuit 11A can be formed in the portion of the metal layer 11 covered by the circuit forming portion 13A. Therefore, in the subsequent process (G), a solder resist (a protective insulating layer of solder) 15 is formed around the conductive circuit 11A on the insulating layer 12, and a desired printed wiring board 20 is obtained. In addition,
If necessary, in addition to the process of (G), the conductive circuit 11A
Silver plating may be applied on the top (not shown).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
プリント配線基板の製造方法では感光性レジスト層をい
ったん形成し、さらにフォトマスクを用いて露光するこ
とにより金属層上のレジスト層に配線回路に対応する回
路形成部を形成するという過程を必要とし、それだけプ
リント配線基板の製造コストが高くつく。
In the above-mentioned conventional method for manufacturing a printed wiring board, a photosensitive resist layer is formed once and then exposed using a photomask to form a resist layer on a metal layer into a wiring circuit. A process of forming a corresponding circuit forming portion is required, and the manufacturing cost of the printed wiring board is correspondingly high.

【0007】そこで、本発明者らは、先にインクジェッ
ト記録装置により図3の(B)に示したように積層基板
21の整面処理された金属層11上に紫外線光に対して
感光性のある組成部を有するインクを直接吐出させ、そ
のインク吐出を所望のパターンに従って行うことにより
上述の(C),(D)および(E)の過程を省略するこ
とのできる製造方法を提案してきた。本発明者等の提案
によれば、このあと、図3の(F),(G)の過程作業
を実施するだけで済み、製作時間の短縮、製造設備の簡
略化によりプリント配線基板のコスト低減に貢献でき
る。
Therefore, the inventors of the present invention have shown in FIG. 3B that an ink jet recording apparatus has been used to form a photosensitive layer having ultraviolet light sensitivity on the metal layer 11 on which the surface of the laminated substrate 21 has been adjusted. A manufacturing method has been proposed in which the ink having a certain composition portion is directly discharged, and the ink discharge is performed according to a desired pattern, whereby the steps (C), (D) and (E) can be omitted. According to the proposals of the present inventors, thereafter, it is only necessary to carry out the processes shown in FIGS. 3 (F) and 3 (G), thereby reducing the manufacturing time and the cost of the printed wiring board by simplifying the manufacturing equipment. Can contribute to

【0008】しかしながら、上記の提案によるプリント
配線基板の製造方法では、プリント配線基板のコスト低
減には貢献できるものの、金属層表面に対し従来と同様
な整面処理を行うことに問題があった。
[0008] However, the method of manufacturing a printed wiring board according to the above proposal can contribute to cost reduction of the printed wiring board, but has a problem in performing the same leveling treatment on the surface of the metal layer as before.

【0009】すなわち、上述のインク(以下ではUV硬
化インクという)を従来の整面化した金属層表面に着弾
させた場合、着弾したUV硬化インク滴は微細ではある
が、着弾時に有する衝撃量である程度ひろがる傾向を有
する。ところが、整面化した金属層表面には、例えばバ
フ研磨等により整面過程で研削された時に形成されたす
じ状の細かい凹凸が残っており、かかるすじ状の凹凸は
研磨時の方向にほぼ沿って形成される傾向がある。そこ
で、UV硬化インク滴によって金属層11上に形成され
るパターンとしては、図2の(B)に示すような形状の
画素30Bの集合体となり、そのため特に高密度のパタ
ーンを描画しようとする場合、隣接する回路パターン同
士が接合してしまったり、逆に互いに画素30B同士に
連続性が要求されるにかかわらず分断されてしまう場合
があり、かかることがあると、折角仕上がったパターン
において短絡や断線の発生することがあり、製造歩留り
の低下につながる。
That is, when the above-described ink (hereinafter, referred to as a UV-curable ink) is landed on the surface of a conventional metal layer having a flat surface, the landed UV-curable ink droplets are fine, but the impact amount at the time of landing is small. It has a tendency to spread to some extent. However, on the surface of the metal layer that has been surface-formed, fine streaks and irregularities formed when the surface is ground in the surface-setting process by, for example, buff polishing, remain. Tend to be formed along. Therefore, the pattern formed on the metal layer 11 by the UV curable ink droplets is an aggregate of pixels 30B having a shape as shown in FIG. 2B, and therefore, especially when a high-density pattern is to be drawn. In some cases, adjacent circuit patterns may be joined to each other, or conversely, the pixels 30B may be separated from each other regardless of the need for continuity. In such a case, a short circuit or a short circuit may occur in the finished pattern. Disconnection may occur, leading to a reduction in manufacturing yield.

【0010】本発明の目的は、上述したような問題点に
着目し、従来のようにレジスト層を形成した上フォトマ
スクを用いて露光し、さらに現像する過程を省略するこ
とができると共に、高精度の回路パターンにならった配
線回路が形成可能なプリント配線基板およびその製造方
法を提供および提案するにある。
An object of the present invention is to pay attention to the above-mentioned problems, and it is possible to omit a process of exposing and developing using a photomask after forming a resist layer as in the related art, It is an object of the present invention to provide and propose a printed wiring board capable of forming a wiring circuit following an accurate circuit pattern and a method of manufacturing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明は、絶縁層上に配線回路形成のための金属
層が積層された基板に対し、前記金属層のうち、回路形
成部を光硬化組成物により被覆した後エッチング処理に
より前記配線回路が前記絶縁層上に得られるようにする
プリント配線基板の製造方法において、所定の粗度が無
方向に得られるような粗面化手段により前記金属層の配
線回路形成側の面を粗面化し、粗面化された前記配線回
路形成面上の前記回路形成部に前記光硬化組成物をイン
クとしてインクジェットヘッドから吐出させるようにす
ることを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention is directed to a method for forming a circuit forming portion of a metal layer on a substrate having a metal layer for forming a wiring circuit formed on an insulating layer. In a method for manufacturing a printed wiring board, wherein the wiring circuit is obtained on the insulating layer by etching after coating with a photocurable composition, a roughening means such that a predetermined roughness is obtained in a non-directional manner. Roughening the surface of the metal layer on the wiring circuit forming side, and discharging the photocurable composition as ink from the inkjet head to the circuit forming portion on the roughened wiring circuit forming surface. It is characterized by the following.

【0012】本発明によれば、金属層の配線回路形成面
を無方向性でかつ所定の粗度が得られるように粗面化し
た上、その粗面化された配線回路形成面上にインクジェ
ットヘッドから光硬化組成物の生成が可能なインクを吐
出して回路形成部を被覆するので、従来のようにフォト
レジスト層を形成して露光した上現像するという工程を
省くことができ、しかも粗面化された配線回路形成面上
に不接線や短絡の惧れのない微細なほぼ円形のドットに
より配線回路に対応する部分の被覆を行い、エッチング
処理によりその部分に金属層を形成する導体による精細
な配線回路を形成することができる。
According to the present invention, the surface of the metal layer on which the wiring circuit is formed is roughened in a non-directional manner so as to obtain a predetermined roughness. Since a circuit capable of forming a photo-curable composition is ejected from the head to cover the circuit forming portion, a process of forming a photoresist layer, exposing and developing as in the related art can be omitted. The surface corresponding to the wiring circuit is covered with fine, almost circular dots without fear of non-contact and short circuit on the surface of the wiring circuit, and a metal layer is formed on the surface by etching. A fine wiring circuit can be formed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に、図面に基づいて本発明の
実施例を詳細かつ具体的に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0014】図1は本発明によるプリント配線基板の製
造過程を示す。図1の(A)は図3の(A)において説
明したと同様予め用意される基板21の構成を示すが、
ここで絶縁層12としてはガラエポに限らず、その片面
若しくは両面に銅などの金属層11が積層される形態の
ものであればどのような形態のものであってもよい。図
1の(B)は金属層11の表面を整面化する工程である
が、先にも述べたように従来のバフ研磨などによる方法
はその表面に微細なほぼ同方向に形成される筋痕が問題
であった。
FIG. 1 shows a process of manufacturing a printed wiring board according to the present invention. FIG. 1A shows the configuration of a substrate 21 prepared in advance similarly to that described with reference to FIG.
Here, the insulating layer 12 is not limited to the glass epoxy, but may be of any form as long as the metal layer 11 such as copper is laminated on one or both sides thereof. FIG. 1B shows a step of leveling the surface of the metal layer 11. As described above, the conventional method using buffing or the like forms fine stripes formed on the surface in almost the same direction. The scar was a problem.

【0015】本発明では、この点に着目し、この工程で
方向性の無い微細な凹凸が得られるようにする。そこ
で、本実施例の場合はサンドブラストによってかかる方
向性の無いランダムの微細な凹凸が得られるようにし
た。なお、従来の整面化と区別するために、この過程を
粗面化の工程と呼ぶ。かくして図1の(B)に示す粗面
化過程で矢印方向で示すようにサンドブラスト16によ
り面と直交する方向から粒子を吹き付けて金属層11の
表面を方向性の無い凹凸の形成により粗面化し、次の過
程(C)でインクジェットヘッド17から設定パターン
に従ってUV硬化インクを吐出する。ここで、13Bは
粗面化した金属層11の表面に形成されたUVインク硬
化組成物であり、硬化組成物13Bは図3の(E)に示
した回路形成部13Aに対応するものである。
In the present invention, attention is paid to this point, and fine irregularities without directivity are obtained in this step. Therefore, in the case of this embodiment, random fine irregularities having no directivity are obtained by sandblasting. This process is called a roughening process in order to distinguish it from the conventional surface smoothing. Thus, in the surface roughening process shown in FIG. 1B, particles are sprayed from a direction perpendicular to the surface by sandblasting 16 as shown by the arrow direction to roughen the surface of the metal layer 11 by forming irregularities having no direction. In the next step (C), the UV curable ink is ejected from the inkjet head 17 according to the set pattern. Here, 13B is a UV ink curing composition formed on the surface of the roughened metal layer 11, and the curing composition 13B corresponds to the circuit forming portion 13A shown in FIG. .

【0016】なお、このあとは、エッチング過程(図3
の説明のところで述べたと同様)を経て図1の(D)に
示すように絶縁層12上に導電回路11Aを形成するこ
とができる。この場合の導電回路11Aを形成する画素
30Aは図2の(A)に示すようにほぼ円形状に形成さ
れた。従って、これまでの整面化した金属層11表面に
形成された画素(図2の(B)参照)30Bのように筋
状に流れることがなく、画素30Aによって形成された
回路パターンでは短絡や断線を防止することができる。
本例の場合UV硬化インクの吐出にあたっては、360
ドット/inchの密度で64個の吐出口を有する記録
ヘッドを用いて行い、画素30A形成のための吐出量は
約80ng、得られた画素30Aの直径は1つあたり約
100μmであった。
After this, the etching process (FIG. 3)
1D), the conductive circuit 11A can be formed on the insulating layer 12 as shown in FIG. The pixel 30A forming the conductive circuit 11A in this case was formed in a substantially circular shape as shown in FIG. Therefore, the current does not flow in a streak like the pixel (see FIG. 2B) 30B formed on the surface of the metal layer 11 that has been flattened so far. Disconnection can be prevented.
In the case of this example, when discharging the UV curable ink, 360
The recording was performed using a recording head having 64 ejection openings at a dot / inch density. The ejection amount for forming the pixel 30A was about 80 ng, and the diameter of the obtained pixel 30A was about 100 μm per one.

【0017】以下に、かかる記録ヘッドからUV硬化イ
ンクを吐出してその画素30Aにより回路パターンを形
成するにあたり、具体的に行った粗面化の実施例につい
て説明する。
Hereinafter, a specific example of roughening performed when a circuit pattern is formed by discharging the UV curable ink from the recording head and using the pixels 30A will be described.

【0018】〔実施例1〕本実施例の粗面化処理は、ブ
ラストで実施した。ブラスト材として溶融アルミナを用
い、粒度は#220を用いた。
[Embodiment 1] The surface roughening treatment of this embodiment was performed by blasting. Fused alumina was used as the blast material, and the particle size was # 220.

【0019】まず、基板21を水平面方向に移動可能な
ステージ上にセットし、その基板に対してブラスト材の
吹き付け方向をその上側垂直方向にセットした。両者の
距離を約20cmに保持し噴射ノズル径約φ6.5m
m、空気圧約2.0kgf/cm2 で吹きを行い。前記
ステージ上の基板を移動させながら、索地表面11の粗
さに変化が認められなくなるまで行った。
First, the substrate 21 was set on a stage movable in the horizontal plane direction, and the blasting direction of the blast material was set on the substrate in the upper vertical direction. The distance between the two is maintained at about 20 cm, and the injection nozzle diameter is about φ6.5 m
m, air pressure is about 2.0 kgf / cm 2 . The movement was performed while moving the substrate on the stage until the roughness of the rope ground surface 11 was no longer changed.

【0020】また別の吹き付け例として、#400番の
ブラスト材を用いて、同様に粗面化を行った。前者が表
面粗さが約10μm前後であったものが、この例では約
5μm程度であった。本実施例の目的は、方向性のない
面を得ることであるため、もちろんさらに細かい粒度の
ブラストを用いて粗面化を行っても良い。ただし、粒度
の大きい側は、たとえば#46のブラスト材を用いて行
うと、この場合は、吹工程でのインクジェットによるパ
ターニングを行った際に凹凸が大きすぎるためか、所望
の大きさにまでインクが拡がらず、パターンが細かくな
たり、ショートしたりするという不具合が発生すること
がある。
As another spraying example, the surface was similarly roughened using a # 400 blast material. The former had a surface roughness of about 10 μm, but in this example was about 5 μm. Since the purpose of the present embodiment is to obtain a surface having no directivity, the surface may be roughened by using a blast having a finer grain size. However, if the blast material of # 46 is used on the side having a large particle size, for example, the pattern may be too large when performing patterning by inkjet in the blowing step, or the ink may be reduced to a desired size. However, there is a possibility that the pattern does not spread and the pattern becomes fine or short-circuit occurs.

【0021】さらに、いくつかの粒度のブラスト材で処
理を行った後にインクによるパターニングを行いその良
否を目視で確認した。その結果を下表に示す。
Further, after processing with a blast material having several particle sizes, patterning with ink was performed, and the quality was visually checked. The results are shown in the table below.

【0022】表において、○印はパターンの均一性が良
く、ショートなどの不具合のないものであり、×印は大
きさが不規則であたっり、ショート気味であったりな
ど、実用にならないと判断したものである。また、△印
はその中間のものである。
In the table, the mark ○ indicates that the pattern uniformity was good and there were no problems such as short-circuits, and the mark × indicates that the size was irregular, that it seemed to be short, etc., and that it was not practical. It was done. The symbol "△" is intermediate.

【0023】表から明らかなように粒度分布で、#60
より細かなブラスト材は、パターニング性が良好である
ことがわかる。
As is apparent from the table, the particle size distribution is # 60.
It can be seen that a finer blast material has better patterning properties.

【0024】[0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】上述のような記録ヘッドはこれまで一般的
に市販されているものであり、以上に述べた実施例では
UV硬化インクを吐出させるエネルギ発生源として電気
エネルギを熱エネルギに変換する電気熱変換素子を各液
路に有する形態の記録ヘッドを使用して行った。一方、
サンドブラストによって形成される金属層表面の荒さと
UV硬化インクの粘度や表面張力との関係によって、得
られる画素の大きさも当然のことながら変化する。従っ
て、使用されるUV硬化インクの物性に応じてサンドブ
ラストに使用する粒径も適切なものを選択する必要があ
ることは勿論である。特に表面粗さを必要以上に大きく
するとUV硬化インクの表面上での拡散が阻害され、不
規則な画素の形状となるので好ましくなく、好適には、
表面粗さでRmax=10μm〜Rmax=0.1μm
の範囲が良い。
The recording head as described above is generally commercially available. In the above-described embodiment, an electric heat source for converting electric energy into heat energy is used as an energy source for discharging the UV curable ink. The test was performed using a recording head having a conversion element in each liquid path. on the other hand,
Obviously, the size of the obtained pixel also changes depending on the relationship between the roughness of the surface of the metal layer formed by sandblasting and the viscosity and surface tension of the UV curable ink. Therefore, it is of course necessary to select an appropriate particle size for sandblasting according to the physical properties of the UV curable ink used. In particular, if the surface roughness is unnecessarily large, diffusion on the surface of the UV-curable ink is inhibited, resulting in an irregular pixel shape, which is not preferable.
Rmax = 10 μm to Rmax = 0.1 μm in surface roughness
Good range.

【0026】また、粗面化の手段としては、上述の実施
例で使用したサンドブラストに限らず、例えば液体ホー
ニングを用いることも可能である。かかる液体ホーニン
グにより不規則な凹凸を金属層表面に形成することがで
きる。さらにまた、化学的エッチング法を用いることも
可能であり、要は微細でかつ方向性がない凹凸を金属表
面に形成可能な手段であればどのような粗面化手段であ
っても良い。
The means for roughening the surface is not limited to the sandblasting used in the above-described embodiment, but may be, for example, liquid honing. Irregular irregularities can be formed on the surface of the metal layer by such liquid honing. Furthermore, it is also possible to use a chemical etching method. In short, any roughening means can be used as long as it is a means capable of forming fine and non-directional irregularities on the metal surface.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかるプ
リント配線基板の製造方法によれば、、所定の粗度が無
方向に得られるような粗面化手段により前記金属層の配
線回路形成側の面を粗面化し、粗面化された前記配線回
路形成面上の前記回路形成部に前記光硬化組成物をイン
クとしてインクジェットヘッドから吐出させるようにす
るので、工程の簡略化を図ることができ、作業時間の短
縮が図られると共に回路に不連続の部分を生じたり逆に
短絡が生じることなく精細な密度の回路パターンを基板
上に形成することができるようになった。
As described above, according to the method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the wiring circuit of the metal layer is formed by the surface roughening means for obtaining a predetermined roughness in a non-directional manner. The surface on the side is roughened, and the photocurable composition is ejected as ink from the inkjet head to the circuit forming portion on the roughened wiring circuit forming surface, so that the process is simplified. As a result, the working time can be shortened, and a circuit pattern having a fine density can be formed on the substrate without causing discontinuous portions in the circuit or short-circuiting.

【0028】また、作業時間の短縮、フォトマスクによ
る露光処理過程や現像過程を省略することができるもの
でプリント配線基板のコスト低減に貢献し、殊に試作段
階でのプリント配線においてその作業の簡略化を図るこ
とができる。
Further, the work time can be shortened, and the exposure process and the development process using a photomask can be omitted, which contributes to a reduction in the cost of a printed wiring board. Can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるプリント配線基板の製造方法を
(A)〜(D)の過程順に示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing a method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention in the order of steps (A) to (D).

【図2】基板上に回路形成のためにUV硬化インクを吐
出して得られた画素が金属表面整面作業の相違により異
なるのを(A),(B)の模式的比較によって示す説明
図である。
FIGS. 2A and 2B are schematic diagrams showing that pixels obtained by discharging UV curable ink for forming a circuit on a substrate are different due to a difference in metal surface flattening work, by a schematic comparison of FIGS. It is.

【図3】従来のプリント配線基板の製造方法を(A)〜
(G)の過程順に示す説明図である。
FIGS. 3A to 3C show a conventional method for manufacturing a printed wiring board.
It is explanatory drawing shown in process order of (G).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 金属層 11A 導電回路 12 樹脂層 13 レジスト層 13A 露光部(回路形成部) 13B UVインク硬化組成物 14 フォトマスク 14A 透光窓 15 ソルダーレジスト 16 サンドブラスト 17 インクジェットヘッド 20 プリント配線基板 21 積層基板 30A,30B 画素 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Metal layer 11A Conductive circuit 12 Resin layer 13 Resist layer 13A Exposure part (circuit formation part) 13B UV ink curing composition 14 Photomask 14A Translucent window 15 Solder resist 16 Sandblast 17 Inkjet head 20 Printed wiring board 21 Laminated substrate 30A, 30B pixels

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野口 弘道 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 杉谷 博志 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiromichi Noguchi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Hiroshi Sugitani 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside the corporation

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁層上に配線回路形成のための金属層
が積層された基板に対し、前記金属層のうち、回路形成
部を光硬化組成物により被覆した後エッチング処理によ
り前記配線回路が前記絶縁層上に得られるようにするプ
リント配線基板の製造方法において、 所定の粗度が無方向に得られるような粗面化手段により
前記金属層の配線回路形成側の面を粗面化し、 粗面化された前記配線回路形成面上の前記回路形成部に
前記光硬化組成物をインクとしてインクジェットヘッド
から吐出させるようにすることを特徴とするプリント配
線基板の製造方法。
1. A circuit in which a circuit forming portion of a metal layer is coated with a photocurable composition on a substrate on which a metal layer for forming a wiring circuit is laminated on an insulating layer, and then the wiring circuit is etched by an etching process. In the method for manufacturing a printed wiring board to be obtained on the insulating layer, the surface of the metal layer on the wiring circuit forming side of the metal layer is roughened by a surface roughening means such that a predetermined roughness is obtained in a non-directional manner. A method for manufacturing a printed wiring board, characterized in that the photocurable composition is ejected as ink from an ink jet head to the circuit forming portion on the roughened wiring circuit forming surface.
【請求項2】 前記所定の粗度は前記金属層の配線回路
形成面に対し直交する方向からのサンドブラストによっ
て得られることを特徴とする請求項1に記載のプリント
配線基板の製造方法。
2. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein said predetermined roughness is obtained by sandblasting from a direction perpendicular to a wiring circuit forming surface of said metal layer.
【請求項3】 前記サンドブラストに使用される吹き付
け粒子は、その大きさが、#60より細かいものである
ことを特徴とする請求項2に記載のプリント配線基板の
製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the size of the spray particles used in the sandblasting is smaller than that of # 60.
【請求項4】 前記所定の粗度は、前記金属層の配線回
路形成面に対し直交する方向からの液体ホーニングによ
って得られることを特徴とする請求項1に記載のプリン
ト配線基板の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the predetermined roughness is obtained by liquid honing from a direction perpendicular to a wiring circuit forming surface of the metal layer.
【請求項5】 前記所定の粗度は、Rmaxが20μm
以下の範囲であることを特徴とする請求項1ないし4の
いずれかの項に記載のプリント配線基板の製造方法。
5. The predetermined roughness is such that Rmax is 20 μm.
The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the range is as follows.
【請求項6】 前記光硬化組成物は紫外線光により硬化
されることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかの
項に記載のプリント配線基板の製造方法。
6. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the photocurable composition is cured by ultraviolet light.
【請求項7】 前記インクジェットヘッドは前記光硬化
組成物を含むインクを吐出するエネルギを発生する素子
として電気エネルギを熱エネルギに変換する電気熱変換
体を有することを特徴とする請求項1に記載のプリント
配線基板の製造方法。
7. The ink-jet head according to claim 1, wherein an element for generating energy for ejecting the ink containing the photocurable composition includes an electrothermal converter for converting electric energy to heat energy. Manufacturing method of printed wiring board.
【請求項8】 前記インクジェットヘッドは、360ド
ット/インチの密度で設けられたインク吐出口を有し、
該インク吐出口から吐出されたインク滴により前記配線
回路形成面上に形成される光硬化物の径が約100μm
であることを特徴とする請求項7に記載のプリント配線
基板の製造方法。
8. The ink jet head has an ink ejection port provided at a density of 360 dots / inch,
The diameter of the photo-cured product formed on the wiring circuit forming surface by the ink droplets discharged from the ink discharge port is about 100 μm.
The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 7, wherein
【請求項9】 前記金属層は銅によって形成されること
を特徴とする請求項1ないし8のいずれかの項に記載の
プリント配線基板の製造方法。
9. The method according to claim 1, wherein the metal layer is formed of copper.
【請求項10】 請求項1ないし9のいずれかの項に記
載の製造方法によって製造されたことを特徴とするプリ
ント配線基板。
10. A printed wiring board manufactured by the manufacturing method according to claim 1. Description:
JP27590896A 1996-10-18 1996-10-18 Printed wiring board and its manufacture Pending JPH10126038A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8119327B2 (en) 2002-03-28 2012-02-21 Huntsman Advanced Materials Americas Llc Polymerisable composition

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8119327B2 (en) 2002-03-28 2012-02-21 Huntsman Advanced Materials Americas Llc Polymerisable composition

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