JPH11273557A - Manufacture of plasma display panel and ink jet printer apparatus employed the manufacture - Google Patents

Manufacture of plasma display panel and ink jet printer apparatus employed the manufacture

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JPH11273557A
JPH11273557A JP7048998A JP7048998A JPH11273557A JP H11273557 A JPH11273557 A JP H11273557A JP 7048998 A JP7048998 A JP 7048998A JP 7048998 A JP7048998 A JP 7048998A JP H11273557 A JPH11273557 A JP H11273557A
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JP
Japan
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ink
substrate
electrode
printing
pattern
Prior art date
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Application number
JP7048998A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinsuke Yura
信介 由良
Masao Kano
雅夫 狩野
Kazutoshi Morikawa
和敏 森川
Kazuya Kawabe
和也 河部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH11273557A publication Critical patent/JPH11273557A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a plasma display panel capable of lessening the amount of a film forming material to be used and forming a pattern with high precision and to provide an ink jet printer apparatus to be employed for the manufacture. SOLUTION: This plasma display panel manufacturing method includes a process of roughening the surface of a substrate, a process of printing electrodes, a color filter, and a black matrix or phosphors on the surface 18 roughened substrate 16 by an ink jet printer, and a process of removing an organic component contained in the printed ink by firing. Instead of the surface roughening of the substrate 16, an ink absorptive layer of an organic material is formed. This ink jet printer apparatus tube used for the method comprises a means for heating the substrate 16 and a means for cooling a nozzle head 11. The head of the ink jet printer apparatus is provided with a plurality of nozzles 12 arranged in a line at fixed intervals and a means for rotating the head around the rotary axis vertical to the printing face.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマディス
プレイパネルの製造方法に関するものであり、さらにそ
の製造に用いられるインクジェットプリンタに関するも
のである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method of manufacturing a plasma display panel, and more particularly to an ink jet printer used for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10は例えば文献(「ディスプレイ」
1997、Vol.3、No.10pp.39〜41)
に記載された感光性Agペーストによる従来のプラズマ
ディスプレイパネルの前面パネルの母電極形成方法を示
す。図において、16はガラス基板、101は感光性電
極材料厚膜、51はフォトマスク、52は紫外光、53
はフォトマスク51上に形成された遮光乳剤パターン、
17は露光された電極パターン、43は透明電極パター
ンを示す。プラズマディスプレイの電極パターン17は
通常は線幅50〜150μmで長さ400〜1000m
mの等ピッチに形成されたラインである。
2. Description of the Related Art FIG. 10 shows, for example, a document ("display").
1997, Vol. 3, No. 10 pp. 39-41)
1 shows a conventional method for forming a mother electrode of a front panel of a plasma display panel using a photosensitive Ag paste. In the figure, 16 is a glass substrate, 101 is a thick film of a photosensitive electrode material, 51 is a photomask, 52 is ultraviolet light, 53
Denotes a light-shielding emulsion pattern formed on the photomask 51,
Reference numeral 17 denotes an exposed electrode pattern, and 43 denotes a transparent electrode pattern. The electrode pattern 17 of the plasma display usually has a line width of 50 to 150 μm and a length of 400 to 1000 m.
This is a line formed at an equal pitch of m.

【0003】次に母電極形成方法について説明する。ま
ず、図10(a)に示すように、透明電極43の形成さ
れたガラス基板16上にスクリーン印刷又はロールコー
ト又はダイコートにより10〜15μmの感光性の厚膜
電極ペースト材料101を塗布し、乾燥させる。次に、
図10(b)に示すように、フォトマスク51をガラス
基板16に重ね、透明電極のパターン43に位置合わせ
をした後、紫外光52を照射して感光性電極厚膜101
を露光する。通常感光性電極厚膜101はネガ型で紫外
光52の照射部17のみ感光性樹脂が重合する。その
後、図10(c)に示すように、未露光部の感光性電極
厚膜材料を弱アルカリ現像液で現像して除去する。この
ようにして形成された母電極パターン17を500〜6
00℃の温度で焼成して、感光性厚膜電極ペースト10
1に含まれた樹脂成分を酸化して除去すると供に、感光
性厚膜電極ペースト101に含まれるAgの粒子を基板
16に融着させて電極を形成する。このような感光性厚
膜ペースト101を用いたパターン形成方法はプラズマ
ディスプレイの他の構成要素、例えば背面パネルのアド
レス電極、前面パネルのブラックストライプ、カラーフ
ィルタ等にも適用されている。但し、前面パネルのブラ
ックストライプやカラーフィルタのパターン形成につい
てはペースト材料にAgの微粒子の代わりに黒色顔料や
赤、青、緑の顔料を混合している。
Next, a method of forming a mother electrode will be described. First, as shown in FIG. 10A, a 10 to 15 μm photosensitive thick film electrode paste material 101 having a thickness of 10 to 15 μm is applied on the glass substrate 16 on which the transparent electrode 43 is formed by screen printing, roll coating or die coating. Let it. next,
As shown in FIG. 10B, a photomask 51 is superimposed on the glass substrate 16 and aligned with the pattern 43 of the transparent electrode.
Is exposed. Normally, the photosensitive electrode thick film 101 is of a negative type, and the photosensitive resin is polymerized only in the irradiated portion 17 of the ultraviolet light 52. Thereafter, as shown in FIG. 10C, the unexposed portions of the photosensitive electrode thick film material are developed and removed with a weak alkaline developer. The mother electrode pattern 17 formed in this manner is
Baking at a temperature of 00 ° C. to form a photosensitive thick film electrode paste 10
In addition to oxidizing and removing the resin component contained in 1, Ag particles contained in the photosensitive thick film electrode paste 101 are fused to the substrate 16 to form an electrode. The pattern forming method using the photosensitive thick film paste 101 is also applied to other components of the plasma display, for example, address electrodes on the rear panel, black stripes on the front panel, color filters, and the like. However, regarding the pattern formation of the black stripe and the color filter on the front panel, a black pigment or a red, blue or green pigment is mixed in the paste material instead of the Ag fine particles.

【0004】次に、上記とは別のスクリーン印刷による
母電極形成方法の従来例を説明する。図11は例えば文
献(「電子材料」1996年12月、pp.45〜4
9)或いは刊行物(「プラズマディスプレイ最新技術」
御子柴茂夫著、EDリサーチ社、pp.84〜86)に
記載された従来のAC型プラズマディスプレイパネルの
前面パネルの電極形成方法を示す。図において、111
は印刷したい電極部分に開口のあるメッシュから成るス
クリーン版である。また112はスクリーン版111に
圧力を加えて基板16と接触させるとともにスクリーン
メッシュに付着した印刷ペーストを押し出し、基板16
に転写させるためのゴム製のスキージである。
Next, a conventional example of a method for forming a mother electrode by screen printing, which is different from the above, will be described. FIG. 11 shows, for example, a document (“Electronic Materials”, December 1996, pp. 45-4).
9) or publication ("Latest technology of plasma display")
Shigeo Mikoshiba, ED Research, pp. 84 to 86) show a method of forming electrodes on the front panel of the conventional AC plasma display panel described in the above. In the figure, 111
Is a screen plate made of a mesh having an opening in an electrode portion to be printed. Reference numeral 112 applies pressure to the screen plate 111 to make the screen plate 111 come into contact with the substrate 16 and at the same time, extrudes the printing paste attached to the screen mesh, and
This is a rubber squeegee for transferring to a squeegee.

【0005】次に母電極形成方法について説明する。ま
ず、図11(a)に示すように、電極用の印刷ペースト
をコートしたスクリーン版111を透明電極43を形成
したガラス基板16に近づける。このとき透明電極43
とスクリーン版111上の母電極の開口部分の位置合わ
せをする。そして、スキージ112でスクリーン版11
1を基板側に押し込みながら横に移動させ、スクリーン
版の電極部分に付着した印刷ペーストを基板16に転写
させて、図11(b)に示すような母電極パターン17
を印刷する。印刷後は50〜200℃で基板に転写され
たペーストを乾燥し、350〜600℃で焼成して電極
を形成する。このようなスクリーン印刷によるパターン
形成方法は、背面パネルのアドレス電極、蛍光体パター
ン、前面パネルのブラックストライプ、カラーフィルタ
等のプラスマディスプレイの他の構成要素にも適用され
ている。
Next, a method of forming a mother electrode will be described. First, as shown in FIG. 11A, the screen plate 111 coated with the electrode printing paste is brought close to the glass substrate 16 on which the transparent electrode 43 is formed. At this time, the transparent electrode 43
And the opening of the mother electrode on the screen plate 111 are aligned. Then, screen version 11 with squeegee 112
1 is pushed laterally while being pushed into the substrate side, the printing paste adhered to the electrode portion of the screen plate is transferred to the substrate 16, and the mother electrode pattern 17 as shown in FIG.
Print. After printing, the paste transferred to the substrate is dried at 50 to 200 ° C and baked at 350 to 600 ° C to form electrodes. Such a pattern forming method by screen printing is also applied to other components of a plasma display such as an address electrode on a rear panel, a phosphor pattern, a black stripe on a front panel, and a color filter.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来の感光性Agペー
ストによる電極形成方法では現像時に未露光部の厚膜電
極材料を現像液により除去するため、厚膜電極材料とし
ては、実際に使用する量よりも多くの材料が必要にな
る。通常電極を形成しない面積の方が広いため、数倍の
材料が必要になる。このため材料コストが高くなり、結
果として製品の価格を高価にする。特に厚膜電極材料と
しては低抵抗で化学的に安定な材料として高価なAgが
よく用いられ材料価格としては高価なものとなる。
In the conventional method for forming an electrode using a photosensitive Ag paste, the unexposed portion of the thick film electrode material is removed by a developing solution during development. More material is needed. Since the area where no electrode is formed is generally larger, several times as many materials are required. This results in high material costs and consequently high product prices. In particular, expensive Ag is often used as a low resistance and chemically stable material as a thick film electrode material, and the material price is expensive.

【0007】他方、従来のスクリーン印刷による電極形
成方法においては印刷ペーストは電極部分にのみ転写さ
れるため、無駄がなく材料コストは低くなる。しかしス
クリーン版111は印刷時に圧力が加わるため、繰り返
して使用するとテンションの緩みとパターンの変形が発
生する。このため、印刷回数が1000〜2000回で
交換が必要であり、1枚当たりのスクリーン版111の
コストが製造コストに加算され、やはり製造コストを高
くしてしまう。またスクリーン版111の交換の際には
仕上がり製版状態の検査が必要で生産工程を煩雑なもの
とし、結果として生産コストを高くしてしまう。
On the other hand, in the conventional electrode forming method by screen printing, since the printing paste is transferred only to the electrode portion, there is no waste and the material cost is reduced. However, since pressure is applied to the screen plate 111 during printing, if it is used repeatedly, the tension will be loosened and the pattern will be deformed. For this reason, the number of times of printing is 1000 to 2000 times and replacement is necessary, and the cost of the screen plate 111 per sheet is added to the manufacturing cost, which also increases the manufacturing cost. In addition, when the screen plate 111 is replaced, it is necessary to inspect the finished plate making state, which complicates the production process, and as a result, increases the production cost.

【0008】更にプラズマディスプレイは高画質化が求
められるため、高精細化の傾向にあるが、スクリーン印
刷による電極形成方法においては、スクリーン版111
のメッシュのピッチから印刷できる最小パターン寸法が
決定され、100μm以下のパターンの形成が困難であ
るという問題もある。
[0008] Further, the plasma display is required to have high image quality, and thus tends to have high definition. However, in the electrode forming method by screen printing, the screen plate 111 is used.
The minimum pattern size that can be printed is determined from the pitch of the mesh, and it is difficult to form a pattern of 100 μm or less.

【0009】そこで、厚膜電極材料の材料コストを下げ
かつスクリーン版を使用しない印刷方式として、いわゆ
るインクジェット方式が考えられる。インクとして電極
材料となるAgや結着剤となるガラス粉を分散させたも
のを用い、ガラス基板にプラズマディスプレイの電極パ
ターンを印刷すればよく、必要な部分のみインクを消費
し、スクリーン版も不要なため生産コストを著しく下げ
る可能性が期待される。
In order to reduce the material cost of the thick-film electrode material and to use no screen plate, a so-called ink jet system can be considered. It is only necessary to print the electrode pattern of the plasma display on the glass substrate by using a dispersion of Ag as the electrode material or glass powder as the binder, and the ink is consumed only in the necessary parts and no screen plate is required Therefore, it is expected that the production cost may be significantly reduced.

【0010】しかしながら、インクジェット方式におい
ても以下のような問題がある。まず、ガラス基板の場
合、液滴を基板に衝突させると基板側にインクを吸収す
る機能がないため、インクは反跳して飛び散り易い。ま
た、インクの粘度は20mPas以下と小さいため、基
板に乗ったインクが流れて印刷形状が変化する問題があ
る。
However, the ink jet system has the following problems. First, in the case of a glass substrate, when a droplet collides with the substrate, the substrate does not have a function of absorbing the ink, so that the ink easily recoils and scatters. Further, since the viscosity of the ink is as small as 20 mPas or less, there is a problem that the ink on the substrate flows and the print shape changes.

【0011】また、感光性厚膜ペーストやスクリーン印
刷の印刷ペーストは粘度が50Pas以上と大きく一回
の印刷で10〜20μmの膜厚を形成することが可能で
あるのに対して、インクジェットに用いられるインクで
は粘度は20mPas以下で、一回の印刷と乾燥のみで
10〜20μmの膜厚を形成することは困難である。電
極の膜厚は、印刷と乾燥後で10μm程度必要であり、
この膜厚を得るために繰り返し重ねて印刷して膜厚を厚
くするとスループットが著しく下がるという問題があ
る。
A photosensitive thick film paste or a printing paste for screen printing has a viscosity as large as 50 Pas or more and can form a film having a thickness of 10 to 20 μm by one printing. The resulting ink has a viscosity of 20 mPas or less, and it is difficult to form a film having a thickness of 10 to 20 μm by only one printing and drying. The electrode thickness needs to be about 10 μm after printing and drying,
If the film thickness is increased by repeatedly printing in order to obtain this film thickness, there is a problem that the throughput is significantly reduced.

【0012】また、インクジェット方式では直径数十〜
100μmの液滴を飛ばしてパターンが形成されるた
め、印刷仕上がりのパターンエッジは微視的にみると数
十〜100μmの凹凸が発生し、パターンの形状の精度
が良くないという問題がある。
In the ink jet system, the diameter is several tens to
Since the pattern is formed by flying droplets of 100 μm, the pattern edge of the print finish has microscopic irregularities of several tens to 100 μm, and there is a problem that the accuracy of the pattern shape is not good.

【0013】上述のような問題は電極形成のみならず、
蛍光体やブラックストライプやカラーフィルタのパター
ン形成についても当てはまる。
[0013] The above-mentioned problems arise not only in the formation of electrodes, but also in
The same applies to the pattern formation of the phosphor, the black stripe, and the color filter.

【0014】本発明は上記のような従来のものの問題を
解決するためになされたもので、プラズマディスプレイ
パネルの製造の際の電極等の膜材料の節減と精度の高い
パターン形成が可能な製造方法を提供することを目的と
し、さらにはその製造に用いられるインクジェットプリ
ンタ装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and is a manufacturing method capable of saving film materials such as electrodes and manufacturing a pattern with high accuracy in manufacturing a plasma display panel. And an ink jet printer used for the production thereof.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の方法に係
るプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板表面
を荒らす工程と、前記表面を荒らした基板上にインクジ
ェットプリンタにより電極、カラーフィルタ、ブラック
マトリクス又は蛍光体を印刷する工程と、前記印刷した
電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体
のインクに含まれる有機物成分を焼成により除去する工
程とを有するものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plasma display panel, comprising the steps of roughening a substrate surface, and forming an electrode, a color filter, and a black color on the roughened substrate by an ink jet printer. The method includes a step of printing a matrix or a phosphor, and a step of removing an organic component contained in the printed electrode, color filter, black matrix, or ink of the phosphor by baking.

【0016】本発明の第2の方法に係るプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、基板に有機物材料からなる
インク吸収層を形成する工程と、前記インク吸収層を形
成した基板上にインクジェットプリンタにより電極、カ
ラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷す
る工程と、前記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラッ
クマトリクス又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分
及び前記インク吸収層を焼成により除去する工程とを有
するものである。
A method of manufacturing a plasma display panel according to a second method of the present invention comprises the steps of: forming an ink absorbing layer made of an organic material on a substrate; A step of printing a color filter, a black matrix or a phosphor, and a step of removing the printed electrode, the color filter, the organic components contained in the ink of the black matrix or the phosphor and the ink absorbing layer by firing. is there.

【0017】本発明の第3の方法に係るプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、基板を50〜200℃に加
熱しながら、インクジェットプリンタにより電極、カラ
ーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷する
工程と、前記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラック
マトリクス又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分を
焼成により除去する工程とを有するものである。
A method of manufacturing a plasma display panel according to a third method of the present invention includes the steps of printing electrodes, color filters, black matrices, or phosphors by an ink jet printer while heating the substrate to 50 to 200 ° C. Removing the organic components contained in the printed electrode, color filter, black matrix or phosphor ink by baking.

【0018】本発明の第4の方法に係るプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、基板上にフォトレジストに
よるパターンを形成する工程と、前記フォトレジストの
除去部分にインクジェットプリンタにより電極、カラー
フィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷する工
程と、フォトレジストのパターンを除去する工程と、前
記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス
又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分を焼成により
除去する工程とを有するものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a plasma display panel, comprising the steps of: forming a pattern using a photoresist on a substrate; and forming an electrode, a color filter, and a black matrix on an area where the photoresist is removed by an inkjet printer. Or a step of printing a phosphor, a step of removing a pattern of a photoresist, and a step of removing an organic component contained in the printed electrode, color filter, black matrix or phosphor ink by baking. is there.

【0019】本発明の第5の方法に係るプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、基板上にインクジェットプ
リンタにより感光性樹脂を含むインクで電極、カラーフ
ィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を所望のパター
ンより大きく印刷する工程と、印刷された電極、カラー
フィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を露光して現
像し、必要な部分を残して除去する工程と、前記印刷し
た電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光
体のインクに含まれる有機物成分を焼成により除去する
工程とを有するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a plasma display panel, comprising printing an electrode, a color filter, a black matrix, or a fluorescent substance on a substrate with an ink containing a photosensitive resin in a size larger than a desired pattern. Exposing and developing the printed electrodes, color filters, black matrices or phosphors to remove necessary portions, and removing the printed electrodes, color filters, black matrices or phosphor inks Removing the organic components contained in the above by firing.

【0020】本発明の第6の方法に係るプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、基板にエッチングのパター
ンを決めるためのレジストを形成する工程と、前記レジ
ストを形成した基板にエッチングにより凹部を形成する
工程と、前記凹部にインクジェットプリンタにより電
極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を
印刷する工程と、前記印刷した電極、カラーフィルタ、
ブラックマトリクス又は蛍光体のインクに含まれる有機
物成分を焼成により除去する工程とを有するものであ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a plasma display panel, comprising: forming a resist for determining an etching pattern on a substrate; and forming a concave portion by etching on the substrate on which the resist has been formed. And a step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a fluorescent substance on the recess by an inkjet printer, and the printed electrode, a color filter,
Removing the organic components contained in the black matrix or the phosphor ink by baking.

【0021】本発明の第7の方法に係るプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、ガラス基板上に無機材料か
らなる黒色の反射防止層を形成する工程と、前記反射防
止層を形成したガラス基板にエッチングのパターンを決
めるためのレジストを形成する工程と、前記レジストを
形成したガラス基板をエッチングにより切削して凹部を
形成する工程と、前記凹部にインクジェットプリンタに
よりアドレス電極を印刷する工程と、前記印刷した電極
のインクに含まれる有機物成分を焼成により除去する工
程とを有するものである。
A method for manufacturing a plasma display panel according to a seventh method of the present invention comprises the steps of forming a black antireflection layer made of an inorganic material on a glass substrate, and etching the glass substrate having the antireflection layer formed thereon. Forming a resist for determining the pattern, cutting the glass substrate on which the resist is formed by etching to form a recess, printing an address electrode by an inkjet printer in the recess, and printing the resist. Removing the organic components contained in the ink of the electrode by firing.

【0022】本発明の第1の構成に係るインクジェット
プリンタ装置は、ヘッドに設けられたノズルからインク
を噴射して基板に印刷するインクジェットプリンタ装置
において、前記基板を50〜200℃に加熱する加熱装
置と、前記ノズルヘッドを冷却する手段とを備えたもの
である。
A first aspect of the present invention relates to an ink jet printer for printing on a substrate by ejecting ink from nozzles provided on a head, wherein the substrate is heated to 50 to 200 ° C. And means for cooling the nozzle head.

【0023】本発明の第2の構成に係るインクジェット
プリンタ装置は、固定された間隔で直線上に並んだ複数
個のノズルを備えたヘッドと、印刷面と垂直な回転軸の
まわりに前記ヘッドを回転させる手段とを備えたもので
ある。
An ink jet printer apparatus according to a second configuration of the present invention includes a head having a plurality of nozzles arranged in a straight line at fixed intervals, and the head having a plurality of nozzles arranged around a rotation axis perpendicular to a printing surface. Means for rotating.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、本発明の一
実施の形態を図をもとに説明する。図1は本発明の実施
の形態1によるインクジェットプリンタを用いたプラズ
マディスプレイパネルの製造方法及びその装置を示し、
インクジェットによるプラズマディスプレイの背面基板
のアドレス電極パターンの形成を説明する断面構成図で
ある。図において、11はインクジェットプリンタのノ
ズルヘッド、12はノズル、13はインク溜、14は圧
電素子、15はノズル12から放出された液滴、16は
ガラス基板、17はアドレス電極、18はすりガラス状
のガラス基板16の表面である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a method and an apparatus for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram illustrating formation of an address electrode pattern on a back substrate of a plasma display by inkjet. In the figure, 11 is a nozzle head of an ink jet printer, 12 is a nozzle, 13 is an ink reservoir, 14 is a piezoelectric element, 15 is a droplet discharged from the nozzle 12, 16 is a glass substrate, 17 is an address electrode, and 18 is ground glass. Of the glass substrate 16 of FIG.

【0025】次に、製造方法について説明する。ノズル
ヘッド11に設けられたノズル12は、基板16に対し
て約1mm程度の距離に置かれる。ノズルヘッド11に
はインク溜13と圧電素子14が備えられ、圧電素子1
4による振動でインク溜13の体積が変動し、ノズルヘ
ッド12よりインクが放出される。圧電素子14の振動
周波数やノズル12の形状を制御することにより、ノズ
ルヘッド11からは直径100μm以下のインクの液滴
15が放出される。放出された液滴15がガラス基板1
6の表面に付着し、電極パターン17を形成する。ノズ
ルヘッド11を電極を形成したいガラス基板16上の適
当な位置へ移動させ、インクを噴出させることにより電
極パターン17が形成される。プラズマディスプレイで
は通常電極は多くの部分は平行な直線になるため、ノズ
ルヘッド11はインクを放出しながら一方向に移動す
る。逆にガラス基板16側を移動させて位置決めしても
よい。
Next, the manufacturing method will be described. The nozzle 12 provided in the nozzle head 11 is placed at a distance of about 1 mm from the substrate 16. The nozzle head 11 includes an ink reservoir 13 and a piezoelectric element 14.
The vibration of 4 causes the volume of the ink reservoir 13 to fluctuate, and the ink is discharged from the nozzle head 12. By controlling the vibration frequency of the piezoelectric element 14 and the shape of the nozzle 12, a droplet 15 of ink having a diameter of 100 μm or less is emitted from the nozzle head 11. The discharged droplet 15 is the glass substrate 1
6 to form an electrode pattern 17. The electrode pattern 17 is formed by moving the nozzle head 11 to an appropriate position on the glass substrate 16 on which an electrode is to be formed, and ejecting ink. In a plasma display, usually, most of the electrodes are parallel straight lines, so that the nozzle head 11 moves in one direction while discharging ink. Conversely, the positioning may be performed by moving the glass substrate 16 side.

【0026】ガラス基板表面18はインクを保持するた
めにすりガラス状に荒らされている。このように表面を
荒らすために、ガラス基板16はサンドブラスト或いは
希弗酸により処理し、0.1〜5μm程度の表面粗さに
している。
The glass substrate surface 18 is roughened into a frosted glass shape to hold ink. In order to roughen the surface, the glass substrate 16 is treated with sandblast or dilute hydrofluoric acid to have a surface roughness of about 0.1 to 5 μm.

【0027】インクにはAgの微粒子が分散されてい
る。微粒子はこのガラス基板表面18の凹凸に吸着して
電極17を形成する。このため粘度の低いインクを用い
てもインクの流れが避けられ、精度の高いパターン形状
が得られる。インクに含まれる溶媒は印刷後の乾燥処理
により除去される。基板16は更に350〜550℃の
温度で大気中で焼成されてAgの微粒子はガラス表面に
固着されると共にお互いが融着し電極を形成する。焼成
の際インクに含まれる有機成分も酸化されて除去され
る。本製造方法により50〜150μmの線幅を得るこ
とが可能である。
Ag fine particles are dispersed in the ink. The fine particles are adsorbed on the irregularities of the glass substrate surface 18 to form the electrode 17. Therefore, even if ink having a low viscosity is used, the flow of the ink can be avoided, and a highly accurate pattern shape can be obtained. The solvent contained in the ink is removed by a drying process after printing. The substrate 16 is further fired in the air at a temperature of 350 to 550 ° C., and the Ag fine particles are fixed to the glass surface and fused together to form an electrode. During firing, the organic components contained in the ink are also oxidized and removed. With this manufacturing method, a line width of 50 to 150 μm can be obtained.

【0028】なお、本実施の形態では電極17の形成に
ついて示したが、Agの微粒子の代わりに無機顔料をイ
ンクに分散させれば、プラズマディスプレイの前面板に
形成されるブラックマトリクスやカラーフィルタ等の印
刷も同様にして実施できる。さらに、蛍光体をインクに
分散させれば蛍光体の印刷にも適用できる。
In this embodiment, the formation of the electrode 17 has been described. However, if an inorganic pigment is dispersed in the ink instead of the Ag fine particles, a black matrix, a color filter, etc. formed on the front plate of the plasma display can be obtained. Can be printed in the same manner. Further, if the phosphor is dispersed in the ink, it can be applied to the printing of the phosphor.

【0029】以上のように、本実施の形態によれば、イ
ンクジェットプリンタでパターン部分にのみインクを噴
射し、パターンを形成するため、従来の感光性ペースト
を用いるよりも遥かに少ない材料でパターンを形成でき
る。また、従来のスクリーン印刷法に比較するとスクリ
ーン版が不要で必要な消耗品としてはインクジェットの
ヘッド11のみである。さらに、印刷前にガラス基板1
6表面を荒らしておくため、表面18の凹凸に印刷され
たインクが保持され、基板16に乗ったインクが流れる
ことなく精度の高いパターン形状が得られる。
As described above, according to the present embodiment, the ink is jetted only to the pattern portion by the ink jet printer to form the pattern, so that the pattern can be formed with much less material than the conventional photosensitive paste. Can be formed. Further, as compared with the conventional screen printing method, a screen plate is unnecessary and the only necessary consumable is the inkjet head 11. Further, before printing, the glass substrate 1
Since the surface 6 is roughened, the ink printed on the unevenness of the surface 18 is retained, and a highly accurate pattern shape can be obtained without flowing the ink on the substrate 16.

【0030】実施の形態2.図2は本発明の実施の形態
2によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明
する断面構成図である。実施の形態1ではガラス基板1
6の表面を粗してインクを吸着させたが、本実施の形態
では、ガラス基板16の表面に有機物を主成分とするイ
ンク吸収層21を塗布してインクを吸収させている。イ
ンク吸収層21はエチルセルロース等の繊維状の樹脂や
粒子状の高分子材料からなるペーストを基板16上に1
〜30μm程度の膜厚で塗布し、乾燥して形成する。な
お、塗布にはスクリーン印刷、ロールコート、ブレード
コート、ダイコート等の方法を用いればよい。
Embodiment 2 FIG. FIG. 2 is a sectional view illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to Embodiment 2 of the present invention. In the first embodiment, the glass substrate 1
The surface of the glass substrate 16 is roughened to absorb the ink, but in the present embodiment, the ink is absorbed by coating the surface of the glass substrate 16 with the ink absorbing layer 21 mainly composed of an organic substance. The ink absorbing layer 21 is formed by applying a paste made of a fibrous resin such as ethyl cellulose or a particulate polymer material onto the substrate 16.
It is applied to a thickness of about 30 μm and dried to form. The coating may be performed by a method such as screen printing, roll coating, blade coating, and die coating.

【0031】ノズルヘッド11から噴出されたインクは
インク吸収層21に吸着される。このように、インクは
インク吸収層21に吸収されるため、実施の形態1の場
合に比較して厚い膜を形成することが可能である。印刷
後、乾燥工程によりインクに含まれる溶剤を除去する。
基板16は更に350〜550℃の温度で大気中で焼成
される。焼成の際、インク吸収層21の有機物成分は酸
化により除去される。またインクに含まれる有機物成分
も酸化されて除去される。そしてインクに含まれるAg
や無機成分のみが残る。Agの微粒子はガラス基板16
表面に固着されると共にお互いが融着し電極17を形成
する。
The ink ejected from the nozzle head 11 is adsorbed on the ink absorbing layer 21. As described above, since the ink is absorbed by the ink absorbing layer 21, it is possible to form a thicker film than in the case of the first embodiment. After printing, the solvent contained in the ink is removed by a drying step.
Substrate 16 is further fired in air at a temperature of 350-550 ° C. At the time of baking, the organic components of the ink absorbing layer 21 are removed by oxidation. Further, organic components contained in the ink are also oxidized and removed. And Ag contained in the ink
And only inorganic components remain. Ag fine particles are deposited on the glass substrate 16.
The electrodes 17 are fixed to the surface and fused together.

【0032】本実施の形態においても、実施の形態1の
場合と同様に、Agの微粒子の代わりに無機顔料をイン
クに分散させれば、プラズマディスプレイの前面板に形
成されるブラックマトリクスやカラーフィルタ等の印刷
も可能である。さらに、蛍光物質をインクに分散させれ
ば蛍光体の印刷にも適用できる。
In this embodiment, as in the first embodiment, if an inorganic pigment is dispersed in ink instead of Ag fine particles, a black matrix or a color filter formed on the front plate of the plasma display can be formed. Is also possible. Further, if the fluorescent substance is dispersed in the ink, it can be applied to the printing of the fluorescent substance.

【0033】以上のように、本実施の形態では、インク
ジェットによりパターンを形成する基板16に予めイン
クを吸収する吸収層21を設けることによって、インク
の液滴15が基板16に到達した後、吸収層21に吸収
されるため、液滴15の反跳やインクの流れを防止する
ことができ、精度の高いパターン形状が得られる。ま
た、吸収層21の厚みを厚くすればインクを多量に保持
することが可能であり、膜厚の大きな電極等のパターン
が形成できる。また、必要な所にのみ印刷するので、イ
ンク材料の節減が図れる。なお、印刷後の焼成工程で吸
収層21を燃焼させ、除去することが可能である。
As described above, in the present embodiment, the ink droplets 15 reach the substrate 16 after the ink droplets 15 reach the substrate 16 by providing the ink absorbing layer 21 in advance on the substrate 16 on which a pattern is formed by ink jet. Since it is absorbed by the layer 21, recoil of the droplet 15 and flow of ink can be prevented, and a highly accurate pattern shape can be obtained. In addition, if the thickness of the absorbing layer 21 is increased, a large amount of ink can be held, and a pattern of a thick electrode or the like can be formed. Further, since printing is performed only where necessary, the amount of ink material can be reduced. The absorbing layer 21 can be burned and removed in a firing step after printing.

【0034】実施の形態3.図3に本発明の実施の形態
3によるインクジェットプリンタを用いたプラズマディ
スプレイパネルのパターン印刷の方法とその装置の構成
を示す。本実施の形態では実施の形態1と同様の印刷工
程において、基板16を加熱しながら印刷する。図にお
いて、31は基板16の温度を調節する手段であり、保
温プレートである。32はノズルヘッド11を冷却する
手段であり、水冷された金属製プレートである。次に、
製造方法について説明する。印刷前に基板16は50〜
200℃に加熱される。基板16は保温プレート31上
でその温度を保持しながら、実施の形態1と同様の方法
で印刷を行う。基板16の温度が高いため液滴が基板1
6に到達するとインクの溶媒は瞬時に乾燥する。このた
めインクの基板16上での広がりは小さくなり、精度の
高いパターン形状が得られると共に電極パターン17の
印刷膜厚を厚くすることができる。
Embodiment 3 FIG. 3 shows a method of printing a pattern on a plasma display panel using an inkjet printer according to a third embodiment of the present invention, and the configuration of the apparatus. In the present embodiment, printing is performed while heating the substrate 16 in the same printing step as in the first embodiment. In the drawing, reference numeral 31 denotes a means for adjusting the temperature of the substrate 16, which is a heat retaining plate. A means 32 for cooling the nozzle head 11 is a water-cooled metal plate. next,
The manufacturing method will be described. Before printing, substrate 16
Heat to 200 ° C. The substrate 16 is printed in the same manner as in the first embodiment while maintaining the temperature on the heat retaining plate 31. Since the temperature of the substrate 16 is high, the droplets
Upon reaching 6, the solvent of the ink dries instantly. Therefore, the spread of the ink on the substrate 16 is reduced, so that a highly accurate pattern shape can be obtained and the printed film thickness of the electrode pattern 17 can be increased.

【0035】印刷時の輻射熱によるノズルヘッド11の
昇温を防ぐため、本実施の形態で用いるノズルヘッド1
1は水冷された金属製プレート32で囲まれている。
In order to prevent the temperature of the nozzle head 11 from rising due to radiant heat during printing, the nozzle head 1 used in this embodiment is used.
1 is surrounded by a water-cooled metal plate 32.

【0036】溶媒乾燥後は実施の形態1と同様に、基板
16は更に350〜550℃の温度で大気中で焼成され
てAgの微粒子はガラス表面に固着されると共にお互い
が融着し電極17を形成する。焼成の際、インクに含ま
れる有機成分は酸化されて除去され、インクに含まれる
Agや無機成分のみが残る。
After the solvent is dried, the substrate 16 is further fired in the air at a temperature of 350 to 550 ° C. as in the first embodiment, and the Ag fine particles are fixed to the glass surface and fused together to form the electrode 17. To form During firing, the organic components contained in the ink are oxidized and removed, leaving only the Ag and inorganic components contained in the ink.

【0037】本実施の形態では実施の形態1と同様に基
板16表面を荒らしたものを示したが、実施の形態2と
同様に基板16表面にインク吸収層21を設けてもよ
い。また、本実施の形態ではインクが瞬時に乾燥するた
め、基板16表面の上記の処理は必ずしも必要ではな
い。
In this embodiment, the surface of the substrate 16 is roughened as in the first embodiment. However, the ink absorbing layer 21 may be provided on the surface of the substrate 16 as in the second embodiment. Further, in the present embodiment, since the ink dries instantaneously, the above-described treatment of the surface of the substrate 16 is not necessarily required.

【0038】本実施の形態においても、実施の形態1と
同様に、Agの微粒子の代わりに無機顔料をインクに分
散させれば、プラズマディスプレイの前面板に形成され
るブラックマトリクスやカラーフィルタ等の印刷も可能
である。さらに、蛍光体をインクに分散させれば蛍光体
の印刷にも適用できる。
In this embodiment, as in the first embodiment, if an inorganic pigment is dispersed in ink instead of Ag fine particles, a black matrix or a color filter formed on the front plate of the plasma display can be formed. Printing is also possible. Further, if the phosphor is dispersed in the ink, it can be applied to the printing of the phosphor.

【0039】以上のように、本実施の形態によれば、印
刷中の基板16の温度を50〜200℃に保持すること
により、基板16に付着したインクを瞬時に乾燥させ、
基板16表面でのインクの流れを防ぐことができるの
で、精度の高いパターン形状が得られる。また、必要な
所にのみ印刷するので、インク材料の節減が図れる。ま
た、ノズルヘッド11を冷却することにより、基板16
からの輻射熱でノズルヘッド11の温度が上がって内部
のインクが乾燥するのを防止することができる。
As described above, according to the present embodiment, by maintaining the temperature of the substrate 16 during printing at 50 to 200 ° C., the ink adhered to the substrate 16 is instantaneously dried,
Since the flow of ink on the surface of the substrate 16 can be prevented, a highly accurate pattern shape can be obtained. Further, since printing is performed only where necessary, the amount of ink material can be reduced. Further, by cooling the nozzle head 11, the substrate 16
This can prevent the temperature of the nozzle head 11 from rising due to radiant heat from the ink and drying of the ink inside.

【0040】実施の形態4.図4は本発明の実施の形態
4によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を示
し、インクジェットによるプラズマディスプレイの前面
基板の母電極パターンの形成工程を説明する図である。
図において、41はネガパターン、42はレジスト除去
部、43は透明電極である。次に、製造方法について説
明する。まず、ガラス基板16上にドライフィルムレジ
ストでネガパターン41を形成する。即ちガラス基板1
6にドライフィルムレジストをラミネートし、露光、現
像により電極パターンがレジスト除去部42となるよう
なパターンを形成する。その後、図4(a)に示すよう
に、レジスト除去部42にノズルヘッド11からインク
の液滴15を噴射してインクを充填する。次に、50℃
〜200℃の温度に加熱してインクの溶媒を蒸発させ
る。その後、弱アルカリ液でドライフィルム41を膨潤
剥離させ、図4(b)に示すように電極パターン17の
みを残す。更に、実施の形態1と同様に350〜550
℃の温度で大気中で焼成する。なお、ドライフィルム4
1の剥離工程を省略し、ドライフィルム41を焼成によ
り除去してもよい。
Embodiment 4 FIG. FIG. 4 is a view illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to a fourth embodiment of the present invention, illustrating a process of forming a mother electrode pattern on a front substrate of a plasma display by inkjet.
In the figure, 41 is a negative pattern, 42 is a resist removal portion, and 43 is a transparent electrode. Next, a manufacturing method will be described. First, a negative pattern 41 is formed on a glass substrate 16 using a dry film resist. That is, the glass substrate 1
6 is laminated with a dry film resist, and a pattern is formed by exposure and development so that the electrode pattern becomes the resist removal portion 42. Thereafter, as shown in FIG. 4A, the ink is filled by ejecting the ink droplets 15 from the nozzle head 11 to the resist removing section 42. Next, at 50 ° C
Heat to a temperature of ~ 200C to evaporate the solvent of the ink. Thereafter, the dry film 41 is swelled and peeled off with a weak alkaline solution, leaving only the electrode pattern 17 as shown in FIG. Further, 350 to 550 as in the first embodiment.
Firing in air at a temperature of ° C. In addition, dry film 4
The first peeling step may be omitted, and the dry film 41 may be removed by firing.

【0041】印刷パターン形状はドライフィルム41の
パターン形状に従うため写真製版により決定される。こ
のためパターンの形状精度はインクジェットのみで形成
する場合に比較して優れたものができる。また、ドライ
フィルム41の厚みは30〜100μmの厚みに印刷で
きるため、電極パターン17の膜厚を厚くすることがで
きるという利点がある。また、必要な所にのみ印刷する
ので、インク材料の節減が図れる。
The printing pattern shape is determined by photolithography to follow the pattern shape of the dry film 41. For this reason, the shape precision of the pattern can be excellent compared to the case where the pattern is formed only by the ink jet. Further, since the dry film 41 can be printed with a thickness of 30 to 100 μm, there is an advantage that the film thickness of the electrode pattern 17 can be increased. Further, since printing is performed only where necessary, the amount of ink material can be reduced.

【0042】なお、本実施の形態は母電極の形成のみな
らず、蛍光体のように厚い印刷パターンの形成が必要な
場合やバリアリブやパターンエッジの直線性が要求され
る前面板ブラックマトリクスやカラーフィルタのパター
ン形成にも適用が可能である。
In the present embodiment, not only the formation of the mother electrode but also the formation of a thick print pattern such as a phosphor or the front plate black matrix or the color where linearity of barrier ribs and pattern edges are required. It is also applicable to filter pattern formation.

【0043】実施の形態5.図5は本発明の実施の形態
5によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を示
し、ネガ型感光性のインクを用いた母電極の形成方法を
説明する図である。図において、51はフォトマスク、
52は紫外光、53は遮光乳剤パターンである。次に製
造方法について説明する。まず、図5(a)に示すよう
な透明電極43付きのガラス基板16を用意する。次
に、図5(b)に示すように、実施の形態2に述べたイ
ンク吸収層21を塗布する。次に、図5(c)に示すよ
うに、ネガ型の感光性樹脂及びAg粒子を含むインクに
より所望の電極パターンより太い電極パターン17を印
刷する。その後、図5(d)に示すように、所望の電極
パターン形状が透明部分となっているフォトマスク51
を基板16に近接させ、紫外光52で露光し、現像す
る。図5(e)に示すように露光されない部分のインク
吸収層21は現像時に同じく露光されない電極パターン
17と供に除去される。これにより電極幅が決定され
る。現像後の電極を焼成してインクに含まれる有機物成
分を除去すると共にAg粒子を融着させて基板16表面
に固着させ、最終的な電極が形成される。以上のよう
に、本実施の形態ではパターン形状は写真製版プロセス
で決定されるため、精度の高いパターン形状が得られ
る。また、感光性のインクは全面に印刷しないため、感
光性厚膜材料を用いる従来方法と比較すると材料の節減
が図れる。
Embodiment 5 FIG. FIG. 5 is a view illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to Embodiment 5 of the present invention, and illustrating a method of forming a mother electrode using negative photosensitive ink. In the figure, 51 is a photomask,
52 is an ultraviolet light, and 53 is a light-shielding emulsion pattern. Next, a manufacturing method will be described. First, a glass substrate 16 having a transparent electrode 43 as shown in FIG. 5A is prepared. Next, as shown in FIG. 5B, the ink absorbing layer 21 described in the second embodiment is applied. Next, as shown in FIG. 5C, an electrode pattern 17 that is thicker than the desired electrode pattern is printed using a negative photosensitive resin and an ink containing Ag particles. Thereafter, as shown in FIG. 5D, the photomask 51 in which the desired electrode pattern shape is a transparent portion.
Is exposed to ultraviolet light 52 and developed. As shown in FIG. 5E, the unexposed portion of the ink absorbing layer 21 is removed together with the unexposed electrode pattern 17 during development. This determines the electrode width. The electrode after development is baked to remove the organic components contained in the ink, and the Ag particles are fused and fixed to the surface of the substrate 16 to form a final electrode. As described above, in the present embodiment, since the pattern shape is determined by the photolithography process, a highly accurate pattern shape can be obtained. Further, since the photosensitive ink is not printed on the entire surface, material saving can be achieved as compared with the conventional method using a photosensitive thick film material.

【0044】なお、本実施の形態は母電極の形成のみな
らず、パターンエッジの直線性が要求される前面板ブラ
ックマトリクスやカラーフィルタ及び背面板のアドレス
電極のパターン形成にも適用が可能である。また、蛍光
体のパターン形成にも適用が可能である。
The present embodiment can be applied not only to the formation of the mother electrode but also to the formation of the pattern of the address electrodes of the front plate black matrix, the color filter and the back plate which require the linearity of the pattern edge. . Also, the present invention can be applied to pattern formation of a phosphor.

【0045】実施の形態6.図6は本発明の実施の形態
6によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明
する図である。図において、61は基板16に形成され
た凹部、62はマスクパターン、63はサンドブラスト
研磨材である。本実施の形態では基板16にエッチング
により凹部61を形成し、その凹部61の中にインクジ
ェットによりインクを充填し、パターン17形成を行
う。
Embodiment 6 FIG. FIG. 6 is a diagram illustrating a method for manufacturing a plasma display panel according to Embodiment 6 of the present invention. In the figure, 61 is a concave portion formed on the substrate 16, 62 is a mask pattern, and 63 is a sandblast abrasive. In the present embodiment, the recesses 61 are formed in the substrate 16 by etching, and the recesses 61 are filled with ink by inkjet to form the pattern 17.

【0046】次に、製造方法について詳細に説明する。
まず、ガラス基板16のパターンを形成したい部分をエ
ッチングして凹部61を形成する。エッチングは例えば
以下のようにして行う。まず、ドライフィルムレジスト
をガラス基板16にラミネートし、露光、現像してドラ
イフィルムパターン62をガラス基板16上に形成す
る。その後、図6(a)に示すように、このドライフィ
ルムパターン62をマスクにしてガラス基板16をサン
ドブラストにより所望の深さまで削る。研磨材63はガ
ラスより硬いもの例えばAl23やSiC等の50μm
以下の粒子が用いられる。その後、基板16を、実施の
形態1と同様に弱アルカリ液に浸積するか弱アルカリ性
の水溶液のシャワーに晒しドライフィルム62を膨潤剥
離して除去し、同時に研磨材63も洗浄して図6(b)
に示すような凹部61を形成した基板16を得る。な
お、ドライフィルムを用いず、液体レジストを塗布して
パターン形成を行い、希弗酸又はバッファ弗酸でエッチ
ングしてパターンを形成しても良い。以上のようにして
凹部61を形成する。次に、図6(c)に示すように、
実施の形態4と同様に凹部61にAgの微粒子を含むイ
ンクをノズルヘッド12から放出させて凹部61パター
ンに充填する。さらに、基板16温度を100〜200
℃に上げてインクの溶媒を蒸発させ、インクを乾燥させ
てから、基板16全体を350〜550℃の温度で大気
中で焼成して実施の形態1同様に電極パターン17を形
成し、図6(d)に示すような凹部61に電極パターン
17が形成された基板16を得る。
Next, the manufacturing method will be described in detail.
First, a concave portion 61 is formed by etching a portion of the glass substrate 16 where a pattern is to be formed. The etching is performed, for example, as follows. First, a dry film resist is laminated on the glass substrate 16, exposed and developed to form a dry film pattern 62 on the glass substrate 16. Thereafter, as shown in FIG. 6A, the glass substrate 16 is ground to a desired depth by sandblasting using the dry film pattern 62 as a mask. The abrasive 63 is harder than glass, for example, 50 μm of Al 2 O 3 or SiC.
The following particles are used: Thereafter, the substrate 16 is immersed in a weak alkaline solution or exposed to a shower of a weak alkaline aqueous solution to swell and peel off the dry film 62 in the same manner as in the first embodiment. (B)
The substrate 16 having the concave portion 61 as shown in FIG. Instead of using a dry film, a liquid resist may be applied to form a pattern, and the pattern may be formed by etching with dilute hydrofluoric acid or buffered hydrofluoric acid. The recess 61 is formed as described above. Next, as shown in FIG.
In the same manner as in the fourth embodiment, the ink containing fine particles of Ag is discharged from the nozzle head 12 into the concave portion 61 to fill the concave portion 61 pattern. Further, the temperature of the substrate 16 is set to 100 to 200.
6C, the solvent of the ink is evaporated, the ink is dried, and the entire substrate 16 is fired in the air at a temperature of 350 to 550 ° C. to form the electrode pattern 17 in the same manner as in the first embodiment. The substrate 16 in which the electrode pattern 17 is formed in the concave portion 61 as shown in FIG.

【0047】本実施の形態では、実施の形態4と同様に
凹部61にインクを充填するため、インクの流れを防止
して精度の高いパターン形状が得られると共に、電極1
7厚みを厚く形成できる。さらに、基板16を堀込んだ
凹部16に印刷するため仕上がりの基板表面を平滑にす
ることができる。また、必要なところのみに印刷するの
で、インク材料の節減が図れる。
In the present embodiment, since the recess 61 is filled with ink in the same manner as in the fourth embodiment, the flow of ink is prevented, a highly accurate pattern shape is obtained, and the electrode 1
7 can be formed thicker. Further, since the substrate 16 is printed in the recessed portion 16 in which the substrate 16 is dug, the finished substrate surface can be smoothed. Further, since printing is performed only where necessary, the amount of ink material can be reduced.

【0048】なお、本実施の形態は母電極のみならずパ
ターンエッジの直線性が要求される前面板ブラックマト
リクスやカラーフィルタのパターン形成にも適用が可能
である。また、蛍光体のパターン形成にも適用が可能で
ある。
The present embodiment can be applied not only to the mother electrode but also to the pattern formation of the front panel black matrix or the color filter which requires the linearity of the pattern edge. Also, the present invention can be applied to pattern formation of a phosphor.

【0049】実施の形態7.図7は本発明の実施の形態
7によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を示
し、インクジェットによるバリアリブ及びアドレス電極
の形成方法を説明する図である。図において、71は黒
色顔料を含むガラス、72はレジストパターン、73は
サンドブラスト研磨材、74はアドレス電極パターン、
75はバリアリブ、76は白色誘電体材料である。次
に、製造方法について説明する。まず、図7(a)に示
すようにガラス基板16上に黒色顔料を含むガラス層7
1を形成し、その上にバリアリブのストライプパターン
72をフォトレジストで形成する。黒色顔料を含むガラ
ス層71の形成方法は、黒色顔料とガラスから成るペー
ストをガラス基板16表面に塗布して焼成する。塗布方
法はスクリーン印刷、ロールコート、ブレードコート、
ダイコート等何れでもよい。フォトレジストは液状のレ
ジストをコートしてもよいし、シート状のレジストいわ
ゆるドライフィルムレジストをラミネートしてもよい。
次に、フォトレジストにバリアリブのパターンとなるス
トライプパターン72を焼き付け、露光、現像して形成
する。その後、研磨材73を吹き付けて、いわゆるサン
ドブラストによりガラス基板16を彫り込む。この時レ
ジストパターン72がマスクとなってその部分が残り、
図7(b)に示すようなバリアリブ75形状が形成され
る。バリアリブ75の高さはサンドブラストの彫り込み
深さで決定されるが、100〜150μmの高さであ
る。また研磨材73はガラスより硬いもの例えばAl2
3やSiC等の50μm以下の粒子が用いられる。次
に、バリアリブ75のトップにあるレジスト72を水酸
化ナトリウム等のアルカリの水溶液で剥離して除去す
る。その際、同時に研磨材73も洗浄する。その後、図
7(c)に示すように、アドレス電極74を実施の形態
4及び6と同様にインクジェットにより印刷し、実施の
形態4及び6と同様に乾燥、焼成して電極74を形成す
る。次に、図7(d)に示すように、再度インクジェッ
トにより白色誘電体膜76を印刷する。ここで用いられ
るインクは、ガラス、白色顔料、樹脂、及び有機溶媒か
ら成る。その後、100〜200℃で乾燥後、500〜
600℃で焼成し、緻密な白色誘電体膜76を形成す
る。
Embodiment 7 FIG. FIG. 7 shows a method for manufacturing a plasma display panel according to Embodiment 7 of the present invention, and is a view for explaining a method for forming barrier ribs and address electrodes by inkjet. In the figure, 71 is a glass containing a black pigment, 72 is a resist pattern, 73 is a sandblasting abrasive, 74 is an address electrode pattern,
75 is a barrier rib, and 76 is a white dielectric material. Next, a manufacturing method will be described. First, as shown in FIG. 7A, a glass layer 7 containing a black pigment is formed on a glass substrate 16.
1 and a stripe pattern 72 of barrier ribs is formed thereon by photoresist. In the method of forming the glass layer 71 containing a black pigment, a paste made of a black pigment and glass is applied to the surface of the glass substrate 16 and baked. Application method is screen printing, roll coating, blade coating,
Any of die coating and the like may be used. The photoresist may be coated with a liquid resist or may be laminated with a sheet-like resist, a so-called dry film resist.
Next, a stripe pattern 72 serving as a barrier rib pattern is baked on the photoresist, and is formed by exposing and developing. Thereafter, the abrasive 73 is sprayed, and the glass substrate 16 is carved by so-called sand blasting. At this time, the resist pattern 72 serves as a mask to leave that portion.
The shape of the barrier rib 75 as shown in FIG. 7B is formed. The height of the barrier rib 75 is determined by the engraving depth of the sandblast, and is 100 to 150 μm. The abrasive 73 is harder than glass, for example, Al 2
Particles of 50 μm or less such as O 3 and SiC are used. Next, the resist 72 on the top of the barrier rib 75 is peeled and removed with an aqueous solution of an alkali such as sodium hydroxide. At this time, the abrasive 73 is also washed at the same time. Thereafter, as shown in FIG. 7C, the address electrodes 74 are printed by ink jet as in the fourth and sixth embodiments, and are dried and fired to form the electrodes 74 as in the fourth and sixth embodiments. Next, as shown in FIG. 7D, the white dielectric film 76 is printed again by inkjet. The ink used here consists of glass, white pigment, resin, and organic solvent. Then, after drying at 100-200 ° C, 500-
By firing at 600 ° C., a dense white dielectric film 76 is formed.

【0050】以上のように、本実施の形態によれば、実
施の形態4と同様にバリアリブ75に囲まれた凹部にイ
ンクを充填するため、インクの流れを防止して精度の高
いパターン形状が得られ、さらに必要なところのみに印
刷するので、インク材料の節減が図れるのは勿論のこ
と、ガラス基板16を直接削ってバリアリブ75を形成
できるため、例えば刊行物(「プラズマディスプレイ最
新技術」御子柴茂夫著、EDリサーチ社、pp.86〜
89)に記載されたスクリーン印刷法やサンドブラスト
法に比較してバリアリブの材料が不要になり、低コスト
でパネルを形成できる利点がある。また、電極74は必
ずバリアリブの間に形成されるためスクリーン印刷法や
感光性ペースト法で発生するバリアリブ75と電極74
との位置ずれを無くすことができる。
As described above, according to the present embodiment, since the ink is filled in the concave portion surrounded by the barrier rib 75 as in the fourth embodiment, it is possible to prevent the flow of the ink and to form a highly accurate pattern shape. Since the ink is obtained and printed only where necessary, not only the ink material can be saved, but also the glass substrate 16 can be directly cut to form the barrier ribs 75. For example, a publication ("Latest Technology of Plasma Display", Mikoshiba) By Shigeo, ED Research, pp.86-
As compared with the screen printing method and the sand blast method described in 89), there is an advantage that a material for the barrier rib is not required and a panel can be formed at low cost. Since the electrode 74 is always formed between the barrier ribs, the barrier rib 75 and the electrode 74 generated by the screen printing method or the photosensitive paste method are used.
Can be eliminated.

【0051】実施の形態8.図8及び図9は本発明の実
施の形態8によるインクジェットプリンタ装置の要部の
構成を示し、図8は正面から見た図、図9は上から見た
図である。図8において、81は4個のノズル11が一
体化されたノズルヘッドである。各ノズル12は等間隔
で同一基板上に形成されている。それぞれのノズル12
に対応して独立したインク溜13と圧電素子14が搭載
されている。それぞれのインク溜13にはインク供給用
のチューブ82が接続されている。4個の圧電素子14
は独立に駆動させることができる。ノズルヘッド81は
印刷面に垂直な支持棒83に支持棒83の回転軸83a
が一番端のノズル12の中心を通るように貼りつけられ
ている。このように構成されたノズルヘッド81を用い
れば、図8に示すように同時に4ポイントを印刷するこ
とが可能である。
Embodiment 8 FIG. 8 and 9 show a configuration of a main part of an ink jet printer according to an eighth embodiment of the present invention. FIG. 8 is a front view, and FIG. 9 is a top view. 8, reference numeral 81 denotes a nozzle head in which four nozzles 11 are integrated. Each nozzle 12 is formed on the same substrate at equal intervals. Each nozzle 12
Independently, the ink reservoir 13 and the piezoelectric element 14 are mounted. Each ink reservoir 13 is connected to an ink supply tube 82. Four piezoelectric elements 14
Can be driven independently. The nozzle head 81 is attached to a support rod 83 that is perpendicular to the printing surface.
Is attached so as to pass through the center of the nozzle 12 at the end. By using the nozzle head 81 configured as described above, four points can be printed simultaneously as shown in FIG.

【0052】図9(a)の矢印91でノズルヘッドの移
動方向を示すように、インクを滴下しながらノズル12
の並んだ方向に垂直にヘッド81を移動させれば、ノズ
ル12の間隔dと等しい間隔で4本のライン17を同時
に印刷することができる。このため本ノズルヘッド81
を用いれば1個のノズル12を有するヘッドの場合と比
較して4倍のスループットを得ることができる。更に本
ノズルヘッドは円柱状の支持棒83によって支持されて
おり、この支持棒83をその回転軸83aを中心に回転
させることにより、図9(b)に示すようにライン17
のピッチを変更することができる。この時、ノズル12
の配置は複数のノズルの何れか1つの位置が支持棒回転
軸83aと一致していれば印刷の基準点を固定すること
ができる。
As shown by the arrow 91 in FIG. 9A, the direction of movement of the nozzle head is
If the head 81 is moved vertically in the direction in which the four lines 17 are arranged, four lines 17 can be simultaneously printed at an interval equal to the interval d between the nozzles 12. Therefore, the present nozzle head 81
Is used, four times the throughput can be obtained as compared with the case of a head having one nozzle 12. Further, the present nozzle head is supported by a cylindrical support rod 83, and by rotating the support rod 83 about its rotation shaft 83a, as shown in FIG.
Pitch can be changed. At this time, the nozzle 12
Can fix the printing reference point if any one position of the plurality of nozzles coincides with the support rod rotation shaft 83a.

【0053】以上のように、本実施の形態によれば、イ
ンクジェットプリンタのノズル12を等間隔に直線上に
並べて複数個設けることにより、同時に複数のラインを
印刷できるため、印刷速度を上げ装置のスループットを
向上させることができる。またノズル間隔d以下のライ
ンピッチであればノズルヘッド81を回転させることに
より異なるラインピッチの電極パターンに対応できる。
従って例えば同一機種のアドレス電極と母電極を同一の
インクジェットプリンタ装置で印刷できる。またピッチ
の異なる別の機種の印刷にも対応できる。
As described above, according to the present embodiment, a plurality of nozzles 12 of an ink-jet printer are arranged in a straight line at regular intervals so that a plurality of lines can be printed at the same time. Throughput can be improved. Further, if the line pitch is equal to or less than the nozzle interval d, it is possible to cope with electrode patterns having different line pitches by rotating the nozzle head 81.
Therefore, for example, the same type of address electrodes and mother electrodes can be printed by the same ink jet printer. In addition, it is possible to cope with printing of another model having a different pitch.

【0054】なお、本実施の形態ではノズルの数は4と
して説明したが2個以上であれば何個直線状に配列して
もよい。
In the present embodiment, the number of nozzles has been described as four, but any number of nozzles may be arranged in a straight line as long as the number is two or more.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上のように、本発明の第1の方法によ
れば、基板表面を荒らす工程と、前記表面を荒らした基
板上にインクジェットプリンタにより電極、カラーフィ
ルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷する工程
と、前記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラックマト
リクス又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分を焼成
により除去する工程とを有するので、インクジェットプ
リンタで印刷されたインクを基板表面の凹凸に保持する
ことができ、インクの流れを防止して精度の高いパター
ン形状が得られると同時にインクは必要な部分にのみ使
用するため、工程で必要とする材料を節減し、生産コス
トを下げる効果がある。
As described above, according to the first method of the present invention, the step of roughening the surface of the substrate and the steps of forming electrodes, color filters, black matrices or phosphors on the roughened substrate by an ink jet printer. Since the method includes a printing step and a step of removing an organic component contained in the printed electrode, color filter, black matrix, or phosphor ink by baking, the ink printed by the inkjet printer is held on the unevenness of the substrate surface. In addition, it is possible to prevent the flow of ink and obtain a highly accurate pattern shape, and at the same time, to use the ink only in the necessary parts, thereby reducing the material required in the process and reducing the production cost. .

【0056】また、本発明の第2の方法によれば、基板
に有機物材料からなるインク吸収層を形成する工程と、
前記インク吸収層を形成した基板上にインクジェットプ
リンタにより電極、カラーフィルタ、ブラックマトリク
ス又は蛍光体を印刷する工程と、前記印刷した電極、カ
ラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体のインク
に含まれる有機物成分及び前記インク吸収層を焼成によ
り除去する工程とを有するので、インクジェットで印刷
されたインクをインク吸収層に保持することによりイン
クの流れを防止して精度の高いパターン形状が得られる
と同時にインクは必要な部分にのみ使用するため、工程
で必要とする材料を節減し、生産コストを下げる効果が
ある。さらに吸収層の厚みを厚くすれば膜厚の大きな印
刷パターンが得られる。
According to the second method of the present invention, a step of forming an ink absorbing layer made of an organic material on a substrate,
The step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a phosphor by an ink jet printer on the substrate on which the ink absorption layer is formed, and the printed electrode, the color filter, an organic component contained in the black matrix or the phosphor ink and Removing the ink absorbing layer by baking, so that the ink printed by the ink is held in the ink absorbing layer, thereby preventing the flow of the ink and obtaining a highly accurate pattern shape, and at the same time, the ink is necessary. Since it is used only for the essential parts, the materials required in the process can be saved and the production cost can be reduced. If the thickness of the absorbing layer is further increased, a printed pattern having a large thickness can be obtained.

【0057】また、本発明の第3の方法によれば、基板
を50〜200℃に加熱しながら、インクジェットプリ
ンタにより電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス
又は蛍光体を印刷する工程と、前記印刷した電極、カラ
ーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体のインクに
含まれる有機物成分を焼成により除去する工程とを有す
るので、基板に付着したインクに含まれる溶媒を瞬時に
乾燥させることにより、基板表面でのインクの流れを防
止して精度の高いパターン形状が得られると同時にイン
クは必要な部分にのみ使用するため、工程で必要とする
材料を節減し、生産コストを下げる効果がある。
According to the third method of the present invention, a step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a phosphor by an ink jet printer while heating the substrate to 50 to 200 ° C .; Removing the organic components contained in the color filter, black matrix or phosphor ink by baking, by instantaneously drying the solvent contained in the ink attached to the substrate, At the same time, the flow is prevented and a highly accurate pattern shape can be obtained, and at the same time, the ink is used only in the necessary parts.

【0058】また、本発明の第4の方法によれば、基板
上にフォトレジストによるパターンを形成する工程と、
前記フォトレジストの除去部分にインクジェットプリン
タにより電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又
は蛍光体を印刷する工程と、フォトレジストのパターン
を除去する工程と、前記印刷した電極、カラーフィル
タ、ブラックマトリクス又は蛍光体のインクに含まれる
有機物成分を焼成により除去する工程とを有するので、
インクジェットプリンタにより印刷したパターン形状は
フォトレジストのパターン形状により決定されるため精
度の高いパターン形状を得ることができると供に、フォ
トレジストによりインクの流れを防ぎ、厚い印刷膜を得
ることができる効果がある。またインクは必要な部分に
のみ使用するため、工程で必要とする材料を節減し、生
産コストを下げる効果がある。
According to the fourth method of the present invention, a step of forming a pattern by a photoresist on a substrate;
An electrode, a color filter, a step of printing a black matrix or a phosphor by an ink jet printer on a portion where the photoresist is removed, a step of removing a pattern of the photoresist, and a step of removing the printed electrode, the color filter, the black matrix or the phosphor. Removing the organic components contained in the ink by baking,
Since the pattern shape printed by the ink jet printer is determined by the pattern shape of the photoresist, it is possible to obtain a highly accurate pattern shape, and also to prevent the flow of ink by the photoresist and obtain a thick print film. There is. Further, since the ink is used only for the necessary parts, there is an effect that the material required in the process can be reduced and the production cost can be reduced.

【0059】また、本発明の第5の方法によれば、基板
上にインクジェットプリンタにより感光性樹脂を含むイ
ンクで電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又は
蛍光体を所望のパターンより大きく印刷する工程と、印
刷された電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又
は蛍光体を露光して現像し、必要な部分を残して除去す
る工程と、前記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラッ
クマトリクス又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分
を焼成により除去する工程とを有するので、インクジェ
ットプリンタにより印刷したパターン形状はその後の写
真製版で決定されるため、感光性ペーストを用いたパタ
ーン形成方法と同等の精度の高いパターン形状が得られ
る。また、感光性樹脂を含むインクは全面に印刷しない
ため、感光性厚膜材料を用いる従来方法と比較すると材
料の節減が図れる。
Further, according to the fifth method of the present invention, a step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a phosphor larger than a desired pattern on a substrate with an ink containing a photosensitive resin by an ink jet printer; A step of exposing and developing the printed electrodes, color filters, black matrices or phosphors to remove necessary portions, and an organic substance contained in the printed electrodes, color filters, black matrices or phosphor inks And removing the components by baking, so that the pattern shape printed by the inkjet printer is determined by subsequent photoengraving, so that a highly accurate pattern shape equivalent to the pattern forming method using a photosensitive paste can be obtained. . Further, since the ink containing the photosensitive resin is not printed on the entire surface, the material can be saved as compared with the conventional method using a photosensitive thick film material.

【0060】また、本発明の第6の方法によれば、基板
にエッチングのパターンを決めるためのレジストを形成
する工程と、前記レジストを形成した基板にエッチング
により凹部を形成する工程と、前記凹部にインクジェッ
トプリンタにより電極、カラーフィルタ、ブラックマト
リクス又は蛍光体を印刷する工程と、前記印刷した電
極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体の
インクに含まれる有機物成分を焼成により除去する工程
とを有するので、凹部にインクを充填するため、インク
の流れを防止して精度の高いパターン形状が得られると
共に、厚みの大きなパターンを形成できる。さらに、印
刷パターンは基板を堀込んだ凹部に形成されるため、印
刷後の基板表面を平滑にすることができる。また、必要
なところのみに印刷するので、インク材料の節減が図れ
る。
According to the sixth method of the present invention, a step of forming a resist for determining an etching pattern on the substrate, a step of forming a concave portion by etching on the substrate on which the resist is formed, Since the method includes a step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a phosphor by an ink jet printer, and a step of firing and removing organic components contained in the printed electrode, color filter, black matrix or phosphor ink. Since the recesses are filled with ink, it is possible to prevent the flow of ink, obtain a highly accurate pattern shape, and form a pattern having a large thickness. Further, since the print pattern is formed in the recess formed by engraving the substrate, the surface of the substrate after printing can be smoothed. Further, since printing is performed only where necessary, the amount of ink material can be reduced.

【0061】また、本発明の第7の方法によれば、ガラ
ス基板上に無機材料からなる黒色の反射防止層を形成す
る工程と、前記反射防止層を形成したガラス基板にエッ
チングのパターンを決めるためのレジストを形成する工
程と、前記レジストを形成したガラス基板をエッチング
により切削して凹部を形成する工程と、前記凹部にイン
クジェットプリンタによりアドレス電極を印刷する工程
と、前記印刷した電極のインクに含まれる有機物成分を
焼成により除去する工程とを有するので、バリアリブで
インクの流れを防止して精度の高いパターン形状が得ら
れ、さらに必要なところのみに印刷するので、インク材
料の節減が図れるのみならず、バリアリブを形成する材
料の材料費をも節減することができると供にアドレス電
極とバリアリブとの位置ずれを無くすことが出来る効果
がある。
Further, according to the seventh method of the present invention, a step of forming a black anti-reflection layer made of an inorganic material on a glass substrate, and determining an etching pattern on the glass substrate on which the anti-reflection layer is formed Forming a resist, etching the glass substrate on which the resist is formed to form a concave portion, printing an address electrode in the concave portion with an inkjet printer, and applying ink to the printed electrode ink. The process of removing contained organic components by baking, so that the flow of ink is prevented by the barrier ribs, a highly accurate pattern shape is obtained, and printing is performed only where necessary, so that only ink material can be saved. In addition, the material cost of the material forming the barrier ribs can be reduced, and the address electrodes and the barrier ribs can be reduced. There is an effect that it is possible to eliminate the positional deviation.

【0062】また、本発明の第1の構成によれば、ヘッ
ドに設けられたノズルからインクを噴射して基板に印刷
するインクジェットプリンタ装置において、前記基板を
50〜200℃に加熱する加熱装置と前記ノズルヘッド
を冷却する手段とを備えたので、基板を高温に保持して
基板に付着したインクに含まれる溶媒を瞬時に乾燥させ
ることにより、基板表面でのインクの流れを防止して精
度の高い印刷パターン形状を得ることができる。さら
に、基板からの輻射熱によるノズルヘッドの温度上昇を
防ぎ、ノズルヘッド内のインクの乾燥を防ぐ効果があ
る。
According to the first configuration of the present invention, there is provided an ink jet printer for printing ink on a substrate by ejecting ink from nozzles provided on a head, comprising: a heating device for heating the substrate to 50 to 200 ° C. Means for cooling the nozzle head is provided, so that by keeping the substrate at a high temperature and instantaneously drying the solvent contained in the ink attached to the substrate, it is possible to prevent the flow of ink on the surface of the substrate and to improve the accuracy. A high print pattern shape can be obtained. Further, there is an effect that the temperature rise of the nozzle head due to the radiant heat from the substrate is prevented, and the ink inside the nozzle head is prevented from drying.

【0063】また、本発明の第2の構成によれば、固定
された間隔で直線上に並んだ複数個のノズルを備えたヘ
ッドと、印刷面と垂直な回転軸のまわりに前記ヘッドを
回転させる手段とを備えたので、印刷速度を上げると供
に異なるピッチのパターンを同一ノズルヘッドで製造す
ることができる効果がある。
According to the second configuration of the present invention, a head having a plurality of nozzles arranged in a straight line at fixed intervals, and rotating the head around a rotation axis perpendicular to the printing surface. Since the printing speed is increased, patterns having different pitches can be manufactured with the same nozzle head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1によるインクジェット
プリンタを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方
法及びその装置を説明する断面構成図である。
FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram illustrating a method and an apparatus for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態2によるインクジェット
プリンタを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方
法及びその装置を説明する断面構成図である。
FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram illustrating a method and an apparatus for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態3によるインクジェット
プリンタを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方
法及びその装置を説明する断面構成図である。
FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram illustrating a method and an apparatus for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態4によるインクジェット
プリンタを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方
法を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a method for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態5によるインクジェット
プリンタを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方
法を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a method for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態6によるインクジェット
プリンタを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方
法を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a method for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施の形態7によるインクジェット
プリンタを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方
法を説明する図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a method for manufacturing a plasma display panel using an inkjet printer according to a seventh embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の実施の形態8によるインクジェット
プリンタ装置のノズルヘッドの構成を示す正面図であ
る。
FIG. 8 is a front view showing a configuration of a nozzle head of an ink jet printer according to an eighth embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の実施の形態8によるインクジェット
プリンタ装置の動作を説明する図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating an operation of an ink jet printer according to an eighth embodiment of the present invention.

【図10】 従来の感光性ペーストによるプラズマディ
スプレイパネルの製造方法を説明する図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a conventional method for manufacturing a plasma display panel using a photosensitive paste.

【図11】 図10とは別の従来のスクリーン印刷によ
るプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明する図
である。
FIG. 11 is a view for explaining a method of manufacturing a plasma display panel by screen printing, which is different from the conventional method shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 インクジェットプリンタのノズルヘッド、12
インクジェットプリンタのノズル、13 インクジェッ
トプリンタのノズルヘッドのインク溜、14インクジェ
ットプリンタのノズルヘッドの圧電素子、15 インク
の液滴、16ガラス基板、17 電極パターン、18
ガラス基板の表面、21 インク吸収層、31 ホット
プレート、32 冷却用金属製プレート、41 レジス
トパターン、42 レジスト除去部分、43 透明電
極、51 フォトマスク基板、52 紫外光、53 遮
光乳剤パターン、61 基板に形成された凹部、62マ
スクパターン、63 サンドブラスト研磨材、71 黒
色顔料を含むガラス、72 レジストパターン、73
サンドブラスト研磨材、74 アドレス電極パターン、
75 バリアリブ、76 白色誘電体、81 インクジ
ェットノズルヘッド、82 インク供給用チューブ、8
3 支持棒、83a 回転軸、91 ノズルヘッドの移
動方向、101 感光性電極厚膜、111 スクリーン
版、112 スキージ。
11 Nozzle head of inkjet printer, 12
Nozzles of inkjet printer, 13 ink reservoir of nozzle head of inkjet printer, 14 piezoelectric elements of nozzle head of inkjet printer, 15 droplets of ink, 16 glass substrate, 17 electrode pattern, 18
Surface of glass substrate, 21 ink absorbing layer, 31 hot plate, 32 metal plate for cooling, 41 resist pattern, 42 resist removed portion, 43 transparent electrode, 51 photomask substrate, 52 ultraviolet light, 53 light shielding emulsion pattern, 61 substrate , A mask pattern, 63 a sandblast abrasive, 71 a glass containing a black pigment, 72 a resist pattern, 73
Sandblasting abrasive, 74 address electrode pattern,
75 barrier rib, 76 white dielectric, 81 ink jet nozzle head, 82 ink supply tube, 8
3 support rod, 83a rotation axis, 91 nozzle head moving direction, 101 photosensitive electrode thick film, 111 screen plate, 112 squeegee.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河部 和也 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on front page (72) Inventor Kazuya Kawabe 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Electric Corporation

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板表面を荒らす工程と、前記表面を荒
らした基板上にインクジェットプリンタにより電極、カ
ラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷す
る工程と、前記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラッ
クマトリクス又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分
を焼成により除去する工程とを有することを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
A step of roughening the surface of the substrate; a step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a fluorescent substance on the roughened substrate by an inkjet printer; Removing the organic component contained in the phosphor ink by baking.
【請求項2】 基板に有機物材料からなるインク吸収層
を形成する工程と、前記インク吸収層を形成した基板上
にインクジェットプリンタにより電極、カラーフィル
タ、ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷する工程と、
前記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラックマトリク
ス又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分及び前記イ
ンク吸収層を焼成により除去する工程とを有することを
特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. A step of forming an ink absorbing layer made of an organic material on a substrate, and a step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a phosphor by an ink jet printer on the substrate on which the ink absorbing layer is formed,
Removing the organic components contained in the printed electrode, color filter, black matrix or phosphor ink and the ink absorbing layer by firing.
【請求項3】 基板を50〜200℃に加熱しながら、
インクジェットプリンタにより電極、カラーフィルタ、
ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷する工程と、前記
印刷した電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又
は蛍光体のインクに含まれる有機物成分を焼成により除
去する工程とを有することを特徴とするプラズマディス
プレイパネルの製造方法。
3. While heating the substrate to 50 to 200 ° C.,
Electrodes, color filters,
A method of manufacturing a plasma display panel, comprising: printing a black matrix or a phosphor; and removing an organic component contained in the printed electrode, color filter, black matrix or phosphor ink by baking. Method.
【請求項4】 基板上にフォトレジストによるパターン
を形成する工程と、前記フォトレジストの除去部分にイ
ンクジェットプリンタにより電極、カラーフィルタ、ブ
ラックマトリクス又は蛍光体を印刷する工程と、フォト
レジストのパターンを除去する工程と、前記印刷した電
極、カラーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体の
インクに含まれる有機物成分を焼成により除去する工程
とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法。
4. A step of forming a pattern with a photoresist on a substrate, a step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a phosphor on an area where the photoresist is removed by an ink jet printer, and removing the pattern of the photoresist. And a step of removing organic components contained in the printed electrode, color filter, black matrix or phosphor ink by baking.
【請求項5】 基板上にインクジェットプリンタにより
感光性樹脂を含むインクで電極、カラーフィルタ、ブラ
ックマトリクス又は蛍光体を所望のパターンより大きく
印刷する工程と、印刷された電極、カラーフィルタ、ブ
ラックマトリクス又は蛍光体を露光して現像し、必要な
部分を残して除去する工程と、前記印刷した電極、カラ
ーフィルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体のインクに
含まれる有機物成分を焼成により除去する工程とを有す
ることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
5. A step of printing an electrode, a color filter, a black matrix or a phosphor larger than a desired pattern on a substrate with an ink containing a photosensitive resin by an ink jet printer, and printing the printed electrode, the color filter, the black matrix or Exposing and developing the phosphor to remove necessary portions, and removing an organic component contained in the printed electrode, color filter, black matrix or phosphor ink by firing. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising:
【請求項6】 基板にエッチングのパターンを決めるた
めのレジストを形成する工程と、前記レジストを形成し
た基板にエッチングにより凹部を形成する工程と、前記
凹部にインクジェットプリンタにより電極、カラーフィ
ルタ、ブラックマトリクス又は蛍光体を印刷する工程
と、前記印刷した電極、カラーフィルタ、ブラックマト
リクス又は蛍光体のインクに含まれる有機物成分を焼成
により除去する工程とを有することを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
6. A step of forming a resist for determining an etching pattern on a substrate, a step of forming a concave portion by etching on the substrate on which the resist is formed, and an electrode, a color filter, and a black matrix in the concave portion by an inkjet printer. Alternatively, a method of manufacturing a plasma display panel, comprising: printing a phosphor; and removing an organic component contained in the printed electrode, color filter, black matrix, or phosphor ink by baking.
【請求項7】 ガラス基板上に無機材料からなる黒色の
反射防止層を形成する工程と、前記反射防止層を形成し
たガラス基板にエッチングのパターンを決めるためのレ
ジストを形成する工程と、前記レジストを形成したガラ
ス基板をエッチングにより切削して凹部を形成する工程
と、前記凹部にインクジェットプリンタによりアドレス
電極を印刷する工程と、前記印刷した電極のインクに含
まれる有機物成分を焼成により除去する工程とを有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
7. A step of forming a black antireflection layer made of an inorganic material on a glass substrate, a step of forming a resist for determining an etching pattern on the glass substrate on which the antireflection layer is formed, Forming a recess by etching the glass substrate on which is formed, forming an address electrode by an inkjet printer in the recess, and removing an organic component contained in the ink of the printed electrode by firing. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising:
【請求項8】 ヘッドに設けられたノズルからインクを
噴射して基板に印刷するインクジェットプリンタ装置に
おいて、前記基板を50〜200℃に加熱する加熱装置
と、前記ノズルヘッドを冷却する手段とを備えたことを
特徴とするインクジェットプリンタ装置。
8. An ink jet printer apparatus for printing on a substrate by ejecting ink from nozzles provided on a head, comprising: a heating device for heating the substrate to 50 to 200 ° C .; and means for cooling the nozzle head. An ink jet printer device, characterized in that:
【請求項9】 固定された間隔で直線上に並んだ複数個
のノズルを備えたヘッドと、印刷面と垂直な回転軸のま
わりに前記ヘッドを回転させる手段とを備えたことを特
徴とするインクジェットプリンタ装置。
9. A head comprising a plurality of nozzles arranged in a straight line at fixed intervals, and means for rotating the head about an axis of rotation perpendicular to a printing surface. Ink jet printer device.
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