JPH10125269A - 超高真空電子顕微鏡 - Google Patents
超高真空電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH10125269A JPH10125269A JP8273421A JP27342196A JPH10125269A JP H10125269 A JPH10125269 A JP H10125269A JP 8273421 A JP8273421 A JP 8273421A JP 27342196 A JP27342196 A JP 27342196A JP H10125269 A JPH10125269 A JP H10125269A
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- JP
- Japan
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- chamber
- ultra
- yoke
- high vacuum
- fixed
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- Granted
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- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 238000005219 brazing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【課題】超高真空を得やすく、かつ耐振性に優れ、ま
た、スペーサを不要とし試料ホルダ、検出器等の大きさ
に制約を受けにくい超高真空電子顕微鏡を提供する。 【解決手段】対物レンズ３上に固定された超高真空ステ
ージ２のチャンバ７と、該チャンバの上部に固定された
内側ヨーク９ａ及び外側ヨーク９ｂと、前記内側ヨーク
に嵌合、固定された上極ポールピース１９と、該上極ポ
ールピースに対向して前記チャンバの下部に固定された
下極ポールピース１８とを備え、前記チャンバ、内側ヨ
ーク及び外側ヨークの接合部２２ａを真空ろう付けにて
構成する。
た、スペーサを不要とし試料ホルダ、検出器等の大きさ
に制約を受けにくい超高真空電子顕微鏡を提供する。 【解決手段】対物レンズ３上に固定された超高真空ステ
ージ２のチャンバ７と、該チャンバの上部に固定された
内側ヨーク９ａ及び外側ヨーク９ｂと、前記内側ヨーク
に嵌合、固定された上極ポールピース１９と、該上極ポ
ールピースに対向して前記チャンバの下部に固定された
下極ポールピース１８とを備え、前記チャンバ、内側ヨ
ーク及び外側ヨークの接合部２２ａを真空ろう付けにて
構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透過型電子顕微鏡
において超高真空を達成する技術分野に属する。
において超高真空を達成する技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、従来の超高真空電子顕微鏡の要
部を示す垂直断面図である。鏡筒１の下部には、超高真
空用ステージ２及び対物レンズ３が配設されている。対
物レンズ３は、中ヨーク４、コイル５及び外ヨーク６か
ら構成され、外ヨーク６上にステージ２のチャンバ７が
取付ボルト８により固定されている。チャンバ７の上部
には、対物レンズ３で発生した磁場の磁路となるヨーク
９が取付ボルト１０により固定され、かつ、中空メタル
Ｏリング１１で真空シールされている。また、チャンバ
７と対物レンズ３の中ヨーク４の間は中空メタルＯリン
グ１２で真空シールされている。チャンバ７の外周に取
り付けられているゴニオメータ１３の取付フランジ１
４、排気ポート１５用のフランジ１６、その他検出器用
フランジ、パイプ（図示せず）は、超高真空を得るため
に真空ろう付けされている。対物レンズ３の中ヨーク４
上には、スペーサ１７に圧入され一体となった下極ポー
ルピース１８及び上極ポールピース１９が載置され、下
極及び上極ポールピース１８、１９間に試料ホルダ２０
が挿入されている。チャンバ７にはヒータ２１が組み込
まれており、試料をベークアウトし試料に付着している
ガスや不純物を飛ばしてチャンバ７内の脱ガスを行うこ
とにより超高真空を達成する構造となっている。
部を示す垂直断面図である。鏡筒１の下部には、超高真
空用ステージ２及び対物レンズ３が配設されている。対
物レンズ３は、中ヨーク４、コイル５及び外ヨーク６か
ら構成され、外ヨーク６上にステージ２のチャンバ７が
取付ボルト８により固定されている。チャンバ７の上部
には、対物レンズ３で発生した磁場の磁路となるヨーク
９が取付ボルト１０により固定され、かつ、中空メタル
Ｏリング１１で真空シールされている。また、チャンバ
７と対物レンズ３の中ヨーク４の間は中空メタルＯリン
グ１２で真空シールされている。チャンバ７の外周に取
り付けられているゴニオメータ１３の取付フランジ１
４、排気ポート１５用のフランジ１６、その他検出器用
フランジ、パイプ（図示せず）は、超高真空を得るため
に真空ろう付けされている。対物レンズ３の中ヨーク４
上には、スペーサ１７に圧入され一体となった下極ポー
ルピース１８及び上極ポールピース１９が載置され、下
極及び上極ポールピース１８、１９間に試料ホルダ２０
が挿入されている。チャンバ７にはヒータ２１が組み込
まれており、試料をベークアウトし試料に付着している
ガスや不純物を飛ばしてチャンバ７内の脱ガスを行うこ
とにより超高真空を達成する構造となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の超高真空電子顕微鏡においては、試料を繰り返しベ
ークすると、熱の影響を受けやすい中空メタルＯリング
１１から微小リークが発生し真空度が低下するという問
題を有し、また、中空メタルＯリング１１を締め付ける
ためのボルト１０の本数が増加するという問題を有して
いる。また、試料ホルダ２０がチャンバ７側に、ポール
ピース１８、１９が対物レンズ３側に取り付けられてい
るため、外部からの外乱（振動）の影響を受けやすく試
料とレンズを構成する下極及び上極ポールピース１８、
１９の穴の相対移動が生じてしまうという問題を有して
いる。さらに、下極及び上極ポールピース１８、１９が
スペーサ１７に圧入されているため、チャンバ７回りの
フランジから挿入される試料ホルダ、検出器等の大きさ
に制約を受けるという問題を有している。
来の超高真空電子顕微鏡においては、試料を繰り返しベ
ークすると、熱の影響を受けやすい中空メタルＯリング
１１から微小リークが発生し真空度が低下するという問
題を有し、また、中空メタルＯリング１１を締め付ける
ためのボルト１０の本数が増加するという問題を有して
いる。また、試料ホルダ２０がチャンバ７側に、ポール
ピース１８、１９が対物レンズ３側に取り付けられてい
るため、外部からの外乱（振動）の影響を受けやすく試
料とレンズを構成する下極及び上極ポールピース１８、
１９の穴の相対移動が生じてしまうという問題を有して
いる。さらに、下極及び上極ポールピース１８、１９が
スペーサ１７に圧入されているため、チャンバ７回りの
フランジから挿入される試料ホルダ、検出器等の大きさ
に制約を受けるという問題を有している。
【０００４】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
であって、超高真空を得やすく、かつ耐振性に優れ、ま
た、スペーサを不要とし試料ホルダ、検出器等の大きさ
に制約を受けにくい超高真空電子顕微鏡を提供すること
を目的とする。
であって、超高真空を得やすく、かつ耐振性に優れ、ま
た、スペーサを不要とし試料ホルダ、検出器等の大きさ
に制約を受けにくい超高真空電子顕微鏡を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の超高真空電子顕微鏡は、対物レンズ上に固
定された超高真空ステージのチャンバと、該チャンバの
上部に固定された内側ヨーク及び外側ヨークと、前記内
側ヨークに嵌合、固定された上極ポールピースと、該上
極ポールピースに対向して前記チャンバの下部に固定さ
れた下極ポールピースとを備え、前記チャンバ、内側ヨ
ーク及び外側ヨークの接合部を真空ろう付けしたことを
特徴とする。
に、本発明の超高真空電子顕微鏡は、対物レンズ上に固
定された超高真空ステージのチャンバと、該チャンバの
上部に固定された内側ヨーク及び外側ヨークと、前記内
側ヨークに嵌合、固定された上極ポールピースと、該上
極ポールピースに対向して前記チャンバの下部に固定さ
れた下極ポールピースとを備え、前記チャンバ、内側ヨ
ーク及び外側ヨークの接合部を真空ろう付けしたことを
特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の態様】以下、本発明の実施の態様を図面
を参照しつつ説明する。図１は、本発明の超高真空電子
顕微鏡の１実施形態を示し、その要部を示す垂直断面図
である。
を参照しつつ説明する。図１は、本発明の超高真空電子
顕微鏡の１実施形態を示し、その要部を示す垂直断面図
である。
【０００７】図１において、内部に電子銃、加速電極、
収束レンズ等を有する鏡筒１の下部には、超高真空用ス
テージ２及び対物レンズ３が配設されている。対物レン
ズ３は、中ヨーク４、コイル５及び外ヨーク６から構成
され、ステージ２のチャンバ７は、中ヨーク４に嵌合す
ると共に外ヨーク６上に取付ボルト８により固定され、
チャンバ７と中ヨーク４の間は中空メタルＯリング１２
で真空シールされている。
収束レンズ等を有する鏡筒１の下部には、超高真空用ス
テージ２及び対物レンズ３が配設されている。対物レン
ズ３は、中ヨーク４、コイル５及び外ヨーク６から構成
され、ステージ２のチャンバ７は、中ヨーク４に嵌合す
ると共に外ヨーク６上に取付ボルト８により固定され、
チャンバ７と中ヨーク４の間は中空メタルＯリング１２
で真空シールされている。
【０００８】対物レンズ３で発生した磁場の磁路となる
ヨークは、リング形状の内側ヨーク９ａと外側ヨーク９
ｂに２分割され、それぞれ取付ボルト１０ａ、１０ｂに
よりチャンバ７の上部に固定され、チャンバ６、内側ヨ
ーク９ａ及び外側ヨーク９ｂの接合部２２ａで真空ろう
付けされている。また、チャンバ７の外周に取り付けら
れているゴニオメータ１３の取付フランジ１４、排気ポ
ート１５用のフランジ１６、その他検出器用フランジ、
パイプ類（図示せず）は、チャンバ７との接合部２２
ｂ、２２ｃで真空ろう付けされている。チャンバ７には
ヒータ２１が組み込まれ、試料をベークアウトし試料に
付着しているガスや不純物を飛ばしてチャンバ７内の脱
ガスを行うことにより超高真空を達成する構造となって
いる。
ヨークは、リング形状の内側ヨーク９ａと外側ヨーク９
ｂに２分割され、それぞれ取付ボルト１０ａ、１０ｂに
よりチャンバ７の上部に固定され、チャンバ６、内側ヨ
ーク９ａ及び外側ヨーク９ｂの接合部２２ａで真空ろう
付けされている。また、チャンバ７の外周に取り付けら
れているゴニオメータ１３の取付フランジ１４、排気ポ
ート１５用のフランジ１６、その他検出器用フランジ、
パイプ類（図示せず）は、チャンバ７との接合部２２
ｂ、２２ｃで真空ろう付けされている。チャンバ７には
ヒータ２１が組み込まれ、試料をベークアウトし試料に
付着しているガスや不純物を飛ばしてチャンバ７内の脱
ガスを行うことにより超高真空を達成する構造となって
いる。
【０００９】内側ヨーク９ａの開口部には、上極ポール
ピース１９が嵌合されボルト２３により固定されてい
る。下極ポールピース１８は、対物レンズ３の中ヨーク
４に載置され、下極ポールピース１８の外周には固定用
リング２４がボルト２５により取り付けられ、固定用リ
ング２４はチャンバ７にボルト２６により固定されてい
る。下極及び上極ポールピース１８、１９間には試料ホ
ルダ２０が挿入されている。
ピース１９が嵌合されボルト２３により固定されてい
る。下極ポールピース１８は、対物レンズ３の中ヨーク
４に載置され、下極ポールピース１８の外周には固定用
リング２４がボルト２５により取り付けられ、固定用リ
ング２４はチャンバ７にボルト２６により固定されてい
る。下極及び上極ポールピース１８、１９間には試料ホ
ルダ２０が挿入されている。
【００１０】上記構成からなる本発明においては、対物
レンズ３上に固定された超高真空ステージ２のチャンバ
７と、該チャンバの上部に固定された内側ヨーク９ａ及
び外側ヨーク９ｂと、前記内側ヨークに嵌合、固定され
た上極ポールピース１９と、該上極ポールピースに対向
して前記チャンバの下部に固定された下極ポールピース
１８とを備え、前記チャンバ、内側ヨーク及び外側ヨー
クの接合部２２ａを真空ろう付けにて構成し、ヨークが
チャンバと一体型となったため、従来のＯリングが不要
となり、超高真空が得やすくなった。また、下極及び上
極ポールピース１８、１９間にスペーサがなくなったた
め、試料ホルダ、検出器等の大きさに制約が受けにくく
なった。さらに、下極及び上極ポールピース１８、１９
が試料ホルダ２０と同じチャンバ７側に固定されるた
め、試料とレンズを構成する下極及び上極ポールピース
１８、１９の穴の相対移動が生じることがなく、耐振性
の向上を図ることができる。
レンズ３上に固定された超高真空ステージ２のチャンバ
７と、該チャンバの上部に固定された内側ヨーク９ａ及
び外側ヨーク９ｂと、前記内側ヨークに嵌合、固定され
た上極ポールピース１９と、該上極ポールピースに対向
して前記チャンバの下部に固定された下極ポールピース
１８とを備え、前記チャンバ、内側ヨーク及び外側ヨー
クの接合部２２ａを真空ろう付けにて構成し、ヨークが
チャンバと一体型となったため、従来のＯリングが不要
となり、超高真空が得やすくなった。また、下極及び上
極ポールピース１８、１９間にスペーサがなくなったた
め、試料ホルダ、検出器等の大きさに制約が受けにくく
なった。さらに、下極及び上極ポールピース１８、１９
が試料ホルダ２０と同じチャンバ７側に固定されるた
め、試料とレンズを構成する下極及び上極ポールピース
１８、１９の穴の相対移動が生じることがなく、耐振性
の向上を図ることができる。
【図１】本発明の超高真空電子顕微鏡の１実施形態を示
し、その要部を示すす垂直断面図である。
し、その要部を示すす垂直断面図である。
【図２】従来の超高真空電子顕微鏡の要部を示す垂直断
面図である。
面図である。
２…超高真空ステージ、３…対物レンズ、７…チャンバ ９ａ…内側ヨーク、９ｂ…外側ヨーク、１８…下極ポー
ルピース １９…上極ポールピース、２２ａ…接合部
ルピース １９…上極ポールピース、２２ａ…接合部
Claims (1)
- 【請求項１】対物レンズ上に固定された超高真空ステー
ジのチャンバと、該チャンバの上部に固定された内側ヨ
ーク及び外側ヨークと、前記内側ヨークに嵌合、固定さ
れた上極ポールピースと、該上極ポールピースに対向し
て前記チャンバの下部に固定された下極ポールピースと
を備え、前記チャンバ、内側ヨーク及び外側ヨークの接
合部を真空ろう付けしたことを特徴とする超高真空電子
顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27342196A JP3414600B2 (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | 超高真空電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27342196A JP3414600B2 (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | 超高真空電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10125269A true JPH10125269A (ja) | 1998-05-15 |
| JP3414600B2 JP3414600B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=17527670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27342196A Expired - Fee Related JP3414600B2 (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | 超高真空電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3414600B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100951729B1 (ko) * | 2003-03-07 | 2010-04-07 | 삼성전자주식회사 | 전자빔 포커싱 장치 및 이를 채용한 전자빔 프로젝션리소그라피 시스템 |
-
1996
- 1996-10-16 JP JP27342196A patent/JP3414600B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100951729B1 (ko) * | 2003-03-07 | 2010-04-07 | 삼성전자주식회사 | 전자빔 포커싱 장치 및 이를 채용한 전자빔 프로젝션리소그라피 시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3414600B2 (ja) | 2003-06-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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