JPH10118171A - 加熱体を用いた液体の気化方法及び同方法を実施する 装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加熱体に気化用液体を付着させて気化用液体
をガス化する装置において、気化用液体の含有物質が加
熱体表面に付着固化するのを防止する。 【解決手段】 気化用液体供給管１３を介してタンク１
２内の気化用液体を回転盤４の中心部に滴下供給する。
滴下された気化用液体は回転盤４の回転により周囲に飛
散し、所定の温度（例えば１５０℃）に加熱された加熱
体６において気化する。一方気化用液体の滴下の直後
（例えば１００ｍｓ後）に水供給管１０を介してタンク
９内の水を、気化用液体と同量から約１．５倍の量滴下
する。これにより気化用液体中の高沸点物質が加熱体表
面で固化する前に水の気化によりこの高沸点物質を水蒸
気と共に装置外に排出し、加熱体６の表面に付着物が付
着固化するのを効果的に防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は加熱体を用いて液体
を気化拡散する方法およびこの方法を実施するための装
置に係り、特に液体の拡散を効率的に行いかつ加熱体に
対する液体の含有物の付着を低減させる方法および同方
法を実施するための装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】芳香剤、消臭剤、除菌剤或いは特定の動
物や昆虫等を近づけないようにする忌避剤等を拡散する
手段として、この液体を加熱体に付着させ気化（ガス
化）させて空気中に拡散させる方法がある。この方法は
液体を霧吹き等により霧化する方法に比較して短時間で
広い空間にの対象物を拡散することができる利点があ
る。

【０００３】発明者は先に、回転体に液体を滴下し、回
転体の回転により微粒化された液体を回転体周囲に配置
された加熱体に付着させ気化拡散させる装置（特願平８
−３４２１６号）、段付きピラミッド状の加熱体に対し
て液体を滴下させ、気化拡散させる装置（特願平８−１
３０５６２号）等を提案している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上の装置は、芳香剤
等の気化対象液体を極めて効果的に気化拡散させること
ができる反面、気化対象液体の種類によっては含有する
成分が加熱体表面に付着する。例えば気化対象液体を天
然の香料とした場合、香料の中の沸点の高い成分、例え
ばワックスが気化されず加熱体表面に付着する。この場
合付着したワックス等の成分が焼き付きを起こし、気化
ガスの香りが悪くなったり、加熱体の表面温度の低下に
よる気化不良等の問題を起こすことがある。このため、
気化対象液体の種類によっては比較的短時間で加熱体を
取り外し、付着物を除去するための洗浄作業を実施する
必用がある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は上述の問題点を
除去し、加熱体に対して気化液体の含有物が付着するの
を防止し、かつ気化対象液体の気化効率自体も向上させ
るよう構成した方法および同方法を実施する装置に係
り、加熱体に対して直接または間接に滴下供給すること
により加熱体に対して非連続に液体を供給する際に、こ
の非連続の時間帯のうち少なくとも一部の時間帯に水を
供給し、加熱体に対して液体中の成分が付着固化する前
に水の気化した水蒸気と共に拡散させる方法、及び同方
法を実施するため、加熱体に対して液体を供給する手段
に加えて水を供給する手段を配設したことを特徴とする
液体気化拡散装置である。

【０００６】

【発明の実施の態様】水は不純物を含んでいないため、
加熱体に接触した水は全量気化する。また水は気化する
ことによりその体積は約２６００倍に膨張する。この水
の性質を利用することにより気化対象液体中の主として
高沸点成分が加熱体表面に付着する前に水の気化作用に
よりこの高沸点成分を水蒸気内に取込み、加熱対象に対
する付着を最小限に抑える。これにより加熱体の清掃や
交換の頻度を従来の１／１０或いはそれ以下に抑えるこ
とが可能となる。

【０００７】以下本発明の方法実施するための装置の構
成を説明し、かつ同装置の構成を用いて本発明方法を説
明する。

【０００８】

【実施例１】図１は本発明装置の第１の実施例を示す。
この装置は発明者が特願平８−３４２１６号として提案
している構成に本発明方法を実施するよう構成されてい
る。符号３はモータであって同モータ３は、図示しない
乾電池、蓄電池（二次電池）或いはＡＣ１００Ｖの電灯
線により作動するよう構成されている。同モータ３の回
転軸は装置の底板２を貫通してほぼ鉛直方向に位置し、
かつ同回転軸には回転盤４が設けられ、この回転盤４は
モータ３の軸を中心として、平面円形に形成れされてい
る。また回転盤４の中心には滴下された芳香剤等の滴下
液体を均一に分散させるための略円錐状の部材（以下
「スピンナー」と称する）５が固設されている。

【０００９】６はホルダ８により支持され、上記回転盤
４の周囲に配置されれた円筒状の加熱体であって、回転
盤４と軸心を共有し、かつ一定の空間を介して同回転盤
４の円周方向に位置するよう配置されている。７は加熱
体６の下部端縁の円周方向に形成された溝６ａ内に配置
されたリング状の発熱体である。９は水を貯留する水タ
ンク、１０は水供給管であって、一端は水タンク９に接
続し、他端は前記スピンナー５の上部においてその中心
に開口位置している。１１はこの水供給管１０配置され
た水供給用のポンプである。

【００１０】一方符号１２は香料等、気化を行う液体
（以下「気化用液体」とする）を貯留する気化用液体タ
ンク、１３は気化用液体供給管であって一端は気化用液
体タンク１２に接続し、かつ他端部は前記水供給管１０
内に軸線を共通にするよう配置され水供給管１０と同心
円状に、前記スピンナー５上部に開口部が位置してい
る。１４は気化用液体供給管に設けられたポンプであ
る。

【００１１】符号１４は制御装置であって、温度センサ
１５により発熱体７の温度を検知し、かつ前記発熱体７
の温度を制御することによりこの加熱体６を所定の温度
に保持する。また各ポンプ１１、１６を介して、気化用
液体と水の供給を制御する。

【００１２】

【実施例２】次に上記装置において、気化用液体の気化
方法及び加熱体に対する気化用液体の含有物の付着を防
止する方法を実施例２として説明する。先ず図示しない
スイッチをオンすると、発熱体７が発熱し、加熱体６を
加熱する。この加熱体６の温度は温度センサ１５を介し
て制御装置１４によりモニターされる。加熱体６が所定
の温度に達したならば自動的にモータ３を作動させ、回
転盤４を回転させる。かつ同時にポンプ１１および１６
を交互に作動させることにより気化用液体および水を交
互にスピンナー５に供給する。

【００１３】先ず、気化用液体を滴下した状態について
説明すると、気化用液体供給管１３を介して滴下された
気化用液体は回転盤４の回転により回転盤４の周縁部に
急速に移動し、かつこの周縁部から粒子として飛散して
加熱体６の内周壁に付着する。付着した気化用液体は加
熱体６の熱により瞬時に気化し、ガスＷＧとなって装置
内を上昇し装置外部に拡散する。

【００１４】次にポンプ１１を作動させて、水供給管１
０から水を回転盤４に供給すると、前記気化用液体と同
様、滴下供給された水もこの回転盤４の回転動作により
微粒となって発熱体７に付着し、その全量が蒸発し、こ
の際気化用液体の高沸点物質等、加熱体表面に付着固化
する可能性のある物質も固化前に、その殆どが水蒸気に
気化する際に固化が阻止され、この水蒸気と共に空気中
に拡散される。

【００１５】以上の構成において、加熱体６の温度を１
５０℃に設定し、かつ気化用液体を天然のバラからの抽
出液１００パーセントあるいは５０パーセント以上含有
する水溶液である芳香剤（以下単に「ローズ」とする）
を先ず０．１ｍｌ滴下し、１００ｍｓ後に気化用液体滴
下量と同量から約１．５倍の水を滴下する。加熱体６に
衝突した気化用液体たるローズは直ちに気化が始まる
が、水の滴下を前記の如くローズ滴下後極めて短時間で
行うと、水の気化に助けられて本来気化し難いワックス
分等の成分も水蒸気に搬送され、大気中に拡散される。
水の滴下から約１５秒後にまたローズを０．１ｍｌ滴下
し、前記と同様１００ｍｓ後に気化用液体滴下量と同量
から約１．５倍の水を滴下する。この動作を順次繰り返
してローズを気化させる。

【００１６】

【実施例３】気化用液体はベルガモットであって、約１
５０℃に設定してある加熱体６に対して先ず水を、後続
のベルガモット滴下量である０．１ｍｌからこの滴下量
の約１．５倍の量滴下する。この水の滴下から１００ｍ
ｓ後にベルガモット０．１ｍｌを滴下する。ベルガモッ
ト等の一群の香料は熱による分解が起きやすいので、予
め水を滴下することにより加熱体６の温度上昇を防止
し、かつ水の滴下から１００ｍｓ後では水の気化は完了
していないので、水の気化に促進されてベルガモットも
気化すると共に、水により温度上昇が抑えられているた
め加熱体６の熱による熱分解も避けられる。ベルガモッ
トの滴下から約１５秒後にまた水を滴下し、１００ｍｓ
後にベルガモット０．１ｍｌを滴下する。この動作を繰
り返すことによりベルガモットを気化させる。

【００１７】

【実施例４】次に本発明方法を実施する別の装置を実施
例４として示す。この装置では供給される液体を微粒化
或いは霧化する手段を持たない装置であるため、加熱体
に対して水を霧化して供給する手段を備えている。

【００１８】段状ピラミッド型に形成された加熱体２１
の空間２２内に配置された電熱ヒータ３１が加熱し、こ
の熱により加熱体２１が加熱昇温する。図示しない温度
センサより加熱体２１が予め設定された温度にまで昇温
したならば、ポンプ２６およびモータ３２が作動を開始
する。

【００１９】ポンプ２６の作動開始によりタンク２４内
の気化用液体は気化用液体供給管２７を介して液滴とな
って加熱体２１の頂部の中心に向かって落下し、気化す
る。一方モータ３２により作動しているファン４１によ
って上昇気流Ａが生じており、筒体２０内を上昇した気
化用液体のガスＧはこの上昇気流Ａに搬送されて装置外
部に排出される。

【００２０】一方符号３３は水ノズル、３４はこの水ノ
ズル３３に連接する霧化部である。３５は給水管であ
り、一端は水タンク３６に開口し他端は霧化部３４に開
口している。３７は霧化用気体供給管であって一端は霧
化用気体ボンベ３８に接続し、他端は霧化部３４に開口
する霧化用気体ノズル３９となっている。また符号４０
は霧化用気体供給管３７に設けられた弁である。なお、
本装置では制御装置が示されていないが、当然図１と同
様の制御装置の設置は可能である。

【００２１】以上の構成において、気化用液体供給管２
７から気化用液体が滴下供給されてから、例えば前記実
施例と同様１００ｍｓ後に弁４０を開として、霧化用気
体（例えば窒素ガス等の不活性ガス）を霧化用気体ノズ
ル３９から噴射する。これにより水タンク３６内の水は
霧化部３４において微粒の水滴となって加熱体２１に向
かって噴射され、気化の完了していない気化用液体を前
記実施例の装置と同様効果的に気化させ、加熱体２１に
付着物が付着形成するのを防止する。なおこの構成の装
置では、図１に示す装置よりも時間当たり水の供給量を
多くすることが可能であるため、加熱体２１の温度を１
５０℃以上として比較的多量の気化用液体を気化させる
装置であっても対応可能である。

【００２２】なお図１の円盤をもちいた気化拡散装置に
対しては水を滴下する構成を示し、図２のピラミッド型
の加熱体を有する装置に対してはを水を噴霧する装置を
設けた構成を示したが、この構成とは逆に円盤を用いた
気化拡散装置に対して水を噴霧する装置を設け、図２の
ピラミッド型の加熱体を有する装置に対して水を滴下す
る手段を設けるようにすることも可能である。

【００２３】

【発明の効果】以上本発明を具体的に説明したように、
本発明は加熱体に対して直接または間接に滴下供給する
することにより加熱体に対して非連続に液体を供給する
際に、この非連続の時間帯のうち少なくとも一部の時間
帯に水を供給し、加熱体に対して液体中の成分が付着固
化する前に水の気化により、水蒸気と共に気化用液体を
気化拡散させるので、加熱体に対する付着物の形成量を
大幅に低減することができ、加熱体の清掃頻度を１／１
０或いはそれ以下にすることが可能となる。

【００２４】また、加熱体に於ける水の気化により加熱
体の温度を微妙に調整することが可能となるため、熱分
解し易い気化用液体であっても、気化前に熱分解するこ
とによる香りの変化等、所定の効果が発揮できない事態
を回避することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る方法を実施するための回転盤式気
化装置の断面図である。

【図２】本発明に係る方法を実施するためのピラミッド
型加熱体を有する気化装置の断面図である。

【符号の説明】

４ 回転盤 ６ （リング状）加熱体 ９ 水タンク １０ 水供給管 １２ 気化用液体タンク １３ 気化用液体供給管 １４ 制御装置 ２１ （ピラミッド状）加熱体 ２４ 気化用液体タンク ２７ 気化用液体供給管 ３３ 水ノズル ３４ 霧化部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 気化を行う気化用液体を加熱体に対して
   供給付着させ、加熱体の熱により当該気化用液体を気化
   拡散させる方法において、気化用液体は加熱体に対して
   非連続に供給され、気化用液体が供給されない時間帯で
   かつ気化用液体の気化未了のときに加熱体に対して水を
   供給し、当該水の蒸発により気化用液体中の高沸点物質
   を中心とした気化の遅い物質も水蒸気により拡散させ、
   この気化の遅い物質が加熱体に付着固化するのを防止す
   るよう構成したことを特徴とする加熱体を用いた液体の
   気化方法。
2. 【請求項２】 気化用液体を加熱体に供給した後、この
   気化用液体と同量から約１．５倍の量の水を加熱体に供
   給して気化用液体の未気化分を水の蒸発により気化拡散
   させて一動作とし、この動作を順次繰り返すようにした
   ことを特徴とする請求項１記載の加熱体を用いた液体の
   気化方法。
3. 【請求項３】 回転盤と、この回転盤周囲に配置された
   加熱体と、回転盤に気化用液体を滴下供給する手段と、
   当該回転盤に対して水を滴下供給する手段とが設けら
   れ、滴下された気化用液体又は水が回転盤の回転により
   回転盤周囲の加熱体に飛散するよう構成したことを特徴
   とする加熱体を用いた液体の気化方法を実施する気化装
   置。
4. 【請求項４】 前記水を滴下供給する手段に代えて、水
   を噴霧する手段を設け、当該水を噴霧する手段のノズル
   が回転盤に向かって開口していることを特徴とする請求
   項３記載の加熱体を用いた液体の気化方法を実施する気
   化装置。
5. 【請求項５】 略ピラミッド状に形成された加熱体の頂
   部に対して気化用液体を滴下する手段が設けられ、当該
   加熱体に対しては水を噴霧する手段のノズルが開口して
   いることを特徴とする加熱体を用いた液体の気化方法を
   実施する気化装置。
6. 【請求項６】 前記水を噴霧する手段に代えて、略ピラ
   ミッド状に形成された加熱体の頂部に対して水を滴下す
   る手段が設けられたことを特徴とする請求項５記載の加
   熱体を用いた液体の気化方法を実施する気化装置。