JPH1011731A - 磁気ヘッドスライダ及び該磁気ヘッドスライダの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ヘッドスライダの潤滑剤による吸着現象
の防止。 【解決手段】 浮上力を発生するスライダレール面６、
テーパ面７、側面８及び媒体対向面１０を持ち、潤滑剤
が塗布された磁気ディスク上にスライダレール面６によ
り発生する浮上力を用いて浮上する磁気ヘッドスライダ
において、スライダレール面以外の面の少なくとも一つ
の表面エネルギーを２３dyn/cm（×1０^-2N/m）乃至０dy
n/cm（×1０^-2N/m）以上とすることにより、磁気ディス
クとの吸着現象を防止したもの。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドスライ
ダ及び該磁気ヘッドスライダの製造方法に係り、特に磁
気ディスク上に塗布された潤滑剤の付着を減少して磁気
ディスクとの吸着を防止することができる磁気ヘッドス
ライダ及び該磁気ヘッドスライダの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の情報量の増加にともないコンピュ
ータシステムの外部記憶装置としての磁気ディスク装置
の重要度は益々高まり、その記録容量に対しては常に高
密度化が要求されている。

【０００３】一般に磁気ディスク装置は、図１に示す如
く、スピンドル３により高速回転駆動される磁気ディス
ク１と、該磁気ディスク１上の任意のトラックに磁気ヘ
ッドスライダ２を移動するヘッド位置決め機構４と、こ
れらを制御する処理回路５とから主に構成され、該処理
回路５の制御により磁気ヘッドスライダ２を磁気ディス
ク１上の任意のトラックに移動させた状態で磁気ディス
クへのデータの記録再生を行うものである。

【０００４】この磁気ディスク装置は、磁気ヘッドスラ
イダ２をディスク回転停止時に磁気ディスク１上に着陸
させ、起動時に磁気ディスク１の高速回転により生じる
空気粘性流により浮上させるコンタクト・スタート・ス
トップ（以下ＣＳＳと称す）方式が採用されている。更
に近年では記録再生時に磁気ヘッドスライダを磁気ディ
スクに常に接触させるコンタクト方式のものやほんとん
ど接触させるニアコンタクト方式のものも提案されてき
ている。

【０００５】一方、近年の磁気ディスク装置は記録密度
を向上させるためにトラック内の円周方向の情報密度
（線記録密度：ＢＰＩ）を大きくすることが要求されて
おり、この線記録密度は、磁気ディスクの磁性膜の特性
（保磁力、膜厚）、ヘッド特性（周波数特性、ギャップ
長等）および磁気ディスクの磁性膜と磁気ヘッドスライ
ダ間のスペーシング等に依存しているため、近年では特
に該スライダとディスクとの間隔（以下浮上量と称す
る）が急激に小さくなってきており、０.０５〜０.１μ
mが通常となっている。

【０００６】前述のＣＳＳ方式等の磁気ディスク装置
は、磁気ヘッドスライダが磁気ディスクとの浮上量が極
めて小さいか接触している状態が多いため、磁気ディス
ク上を磁気ヘッドスライダが移動（シーク）する際に、
磁気ディスク上の表面に耐摩耗性向上のために形成され
ているパーフルオロポリエーテル系の潤滑膜層の潤滑材
をかき集めて付着したり、浮遊している塵埃と混合した
潤滑剤が付着することがある。この付着は、ヘッドスラ
イダ面と交わる面、例えばスライダレール面の流出端後
方のテーパ面あるいはスライダの側面、また負圧スライ
ダでは正圧を発生するスライダレールを囲む溝部にかき
集めた部分に顕著に現れる。またＣＳＳ方式の磁気ディ
スク装置では、ディスク停止時に磁気ヘッドスライダが
磁気ディスク上に接触しているため、停止時に潤滑剤が
付着したり、起動時に潤滑剤をかき集めて磁気ヘッドス
ライダに潤滑剤が付着することがあった。

【０００７】この潤滑剤が磁気ヘッドスライダに付着し
た状態で、磁気ディスクの回転が停止し、磁気ディスク
表面に長時間放置されると、この堆積した潤滑剤が磁気
ヘッドスライダと磁気ディスクの隙間に侵入し、これら
を吸着する現象が発生し、再起動時にディスク回転が不
能になったり磁気ディスクの記録面や磁気ヘッドスライ
ダを破損する可能性があった。

【０００８】従来技術による磁気ディスク装置では、前
述の吸着現象を防止するため特開昭６１−８７２０９号
公報に記載されている如く、ヘッドのスライダレール面
にフッ化シラン化合物により処理を行い、表面エネルギ
ーを４０dyn/cm（×１０^-2N/m）以下になるように表面
処理を行うということが提案され、また特開平１−４９
２２号公報記載の如く、スライダレール面にステアリン
酸ナトリウム塩を塗布することで摩擦係数を低減させる
ようなことが提案されている。尚、表面エネルギー（su
reface energy）とは、一般には界面張力のことであ
り、本明細書では物体の表面の濡れ易さ／濡れ性の目安
に相当し、具体的には潤滑剤が磁気ヘッドスライダに付
着する程度を言う。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかながら前記従来技
術による磁気ヘッドスライダは、浮上力を発生するスラ
イダレール面の表面にしか着目しておらず、実際には潤
滑剤がスライダーレール面以外の面、例えばスライダレ
ール面の流出端後方のテーパ面、スライダの側面、又は
負圧を発生させる機能を持つ負圧スライダでは正圧レー
ル部を囲む溝部（スライダ面を除いたヘッドの媒体対向
面）に潤滑剤が付着及び堆積し、磁気ヘッドスライダと
磁気ディスクとが吸着し、再起動時にディスク回転が不
能になったり磁気ディスクの記録面や磁気ヘッドスライ
ダを破損する不具合があった。

【００１０】例えば前記公報に記載されたスライダレー
ル面にフッ化シラン化合物により処理を行って表面エネ
ルギーを４０dyn/cm（×１０^-2N/m）以下になるよう技
術は、スライダーレール面にみにしかフッ化シラン化合
物による処理を行っていないためにスライダレール面以
外のテーパ面や側面や溝部に潤滑剤が堆積し、磁気ヘッ
ドスライダと磁気ディスクとが吸着を起こして再起動時
にディスク回転が不能になったり磁気ディスクの記録面
や磁気ヘッドスライダを破損する可能性があった。

【００１１】即ち、磁気ディスク装置の稼働中にはヘッ
ドに潤滑剤が付着する過程とヘッドにより飛散する過程
と両方が同時に発生し、飛散した潤滑剤がスライダーレ
ール面以外に付着し、また浮上するスライダレール面は
磁気ディスク面と接触することもあるためスライダレー
ル面のみの表面エネルギーに着目しても充分な粘着帽子
には到らないと言う不具合があった。

【００１２】本発明の目的は、前述の従来技術による不
具合を除去することであり、磁気ヘッドスライダのスラ
イダーレール面以外の表面エネルギーを制御することに
より磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの吸着及び破
損を防止することができる磁気ヘッドスライダ及び該磁
気ヘッドスライダの製造方法を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、浮上力を発生するスライダレール面と、該ス
ライダレール面を除くテーパ面、側面及び溝部を持ち、
潤滑剤が塗布された磁気ディスク上に前記スライダレー
ル面により発生する浮上力を用いて浮上する磁気ヘッド
スライダにおいて、該スライダレール面以外のテーパ
面、側面及び溝部の少なくとも一つの表面エネルギーを
２３dyn/cm（×1０^-2N/m）乃至０dyn/cm（×1０^-2N/m）
以上としたことを特徴とする。

【００１４】更に本発明は、浮上力を発生するスライダ
レール面と、該スライダレール面を除くテーパ面、側面
及び溝部を持ち、潤滑剤が塗布された磁気ディスク上に
前記スライダレール面により発生する浮上力を用いて浮
上する磁気ヘッドスライダの製造方法において、少なく
とも磁気ヘッドスライダの磁気ディスク対向面に、浸漬
又は蒸着又はスプレー等により炭化水素又はフッ化炭素
化合物又はフッ化シラン化合物のうち少なくとも１つ以
上の材料よりなる膜を形成し、該膜を加熱又は紫外線に
より硬化させ、その後にスライダレール面についた膜を
削り落とすことにより、スライダレール面以外のテーパ
面、側面及び溝部の少なくとも一つの表面エネルギーを
２３dyn/cm（×1０^-2N/m）乃至０dyn/cm（×1０^-2N/m）
以上としたことを特徴とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明による磁気ヘッドス
ライダ及び該磁気ヘッドスライダの製造方法を図面を参
照して詳細に説明するものであるが、まず本発明の原理
について説明する。発明者らは、潤滑剤の磁気ヘッドス
ライダへの付着工程が、磁気ディスク装置の稼働中に磁
気ヘッドスライダが潤滑剤のかき集め等により付着する
過程と、逆に空気流により飛散する過程との両方が同時
に発生し、潤滑剤の堆積する部分の表面エネルギーが潤
滑剤の表面張力（：表面エネルギー）より小さい場合に
潤滑剤がヘッドをぬらさないため飛散していく力が大き
くなり、潤滑剤の堆積速度が減少し吸着力を低減させる
ことが可能となると考えた。

【００１６】そこで発明者らは、磁気ヘッドスライダと
磁気ディスクとが対向して配置されている磁気ディスク
装置において、狭浮上量で間接的あるいは直接的に接触
した状態で信号の記録再生を行う磁気ヘッドスライダの
スライダレール面に交わる他の面（例えばスライダレー
ル面の流出端後方のテーパ面あるいはスライダの周囲の
側面、正圧スライダーにおける溝部、また負圧スライダ
では正圧を発生するスライダレールを囲む溝部）の表面
エネルギーを２３dyn/cm（×１０^-2N/m）以下とした磁
気ヘッドスライダーを用いることによって、磁気ディス
ク装置の動作中にスライダレール面以外の面に潤滑剤が
堆積しにくくなり、磁気ディスクの回転が停止して表面
に磁気ヘッドスライダが長時間放置された場合であって
も、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとの隙間に侵入
する潤滑剤を低減することができ、これらが吸着又は吸
着現象を回避することが可能となることを発見したもの
である。

【００１７】前記スライダーレール面の表面エネルギー
のみを２３dyn/cm（×１０^-2N/m）以下としない理由
は、スライダーレール面の表面エネルギーを極端に小さ
くした場合、磁気ディスク表面に耐摩耗性向上のために
予め塗布されている潤滑剤が、ヘッドスライダレール面
表面と馴染みにくくなるため、摩耗が大きくなり、必要
とされる潤滑の効果が小さくなってヘッドクラッシュ等
の原因になる可能性があるためである。この無潤滑のＣ
ＳＳによる摩耗レベル近くまで摩耗が大きくなると、本
来はスライダーレールと相まって潤滑効果を達成する潤
滑剤が余計に飛散して通常ではみられない他の部分に溜
まる可能性もあるためである。

【００１８】前述の表面エネルギーを２３dyn/cm（×１
０^-2N/m）以下とするためには、炭化水素またはフッ素
化合物またはフッ化シラン化合物のうち少なくとも１つ
以上の材料より膜を形成することで吸着力を低減するこ
とができる。これらの磁気ヘッドスライダを製造するた
めには、ＨＧＡ（ヘッド・ジンバル・アセンブリ）また
はヘッド製過程のヘッドコア／ウエハーに対して、炭化
水素またはフッ素化合物またはフッ化シラン化合物のう
ち少なくとも１つ以上の材料を用い、有機溶剤等に溶解
させて浸漬、蒸着、スプレーなどして膜を形成し、更に
該膜を加熱による焼き付け／紫外線照射等で反応させる
ことにより表面処理剤が強固に吸着した膜を形成し、そ
の後スライダレール面に形成された膜のみを強制的なＣ
ＳＳ動作による拭き取り、またはラビングテープ等によ
る拭き取り等によって除去する方法により製造すること
ができる。

【００１９】前記炭化水素／フッ素化合物／フッ化シラ
ン化合物のうち少なくとも１つ以上の材料を用いた膜の
厚さは、膜厚と表面エネルギーの関係を示した図２の如
く、表面エネルギーに影響し、更に薄すぎると表面エネ
ルギーが低下したり膜質が不安定であったりするため、
表面エネルギーを２３dyn/cm（×１０^-2N/m）以下にす
るには少なくとも５nm以上は必要である。

【００２０】また前記スライダーレール面以外の表面エ
ネルギーは、実装置においては２３dyn/cm（×１０^-2N/
m）乃至１８以下dyn/cm（×１０^-2N/m）程度が好適であ
る。これは潤滑剤の表面エネルギーが下限がほぼ２３dy
n/cm（×１０^-2N/m）以上であり、形成する膜の表面エ
ネルギーが膜質も考慮するとテフロンを使用した場合で
も１８以下dyn/cm（×１０^-2N/m）程度が下限近くであ
ることを考慮したためである。

【００２１】このようにして最終的に磁気ディスク装置
として上述した磁気ヘッドスライダを使用することによ
り、磁気ディスク装置の動作に伴うヘッドの潤滑剤のか
き集めを防ぎ且つ飛散を促し、耐摩耗性を保持した優れ
た信頼性を有する磁気ディスク装置を提供することがで
きる。

【００２２】本実施形態の磁気ヘッドスライダによれ
ば、まず第一に浮上力を発生させるスライダレール面と
交わる面、特に流出端近傍の面、例えばヘッドのスライ
ダレールの浮上流出端後方のテーパ部の面、スライダレ
ール流出端の後方にあるスライダレール面とほぼ直行す
る面の一部、または全面の表面エネルギーを２３dyn/cm
（×１０^-2N/m）乃至０dyn/cm（×１０^-2N/m）以上とす
ることでヘッドが潤滑剤をその部分に堆積しにくくし、
吸着現象を防止することができる。尚、表面エネルギー
を２３dyn/cm（×１０^-2N/m）以下とする面は全面であ
る必要はなく、潤滑剤が堆積しやすい部分に対して処理
を行えば良いことは言うまでもない。

【００２３】また本実施形態によれば、少なくともヘッ
ドの磁気ディスク対向面全面に、浸漬／蒸着／スプレー
等により炭化水素／フッ化炭素化合物／フッ化シラン化
合物のうち少なくとも１つ以上の材料よりなる膜を形成
した後、加熱または紫外線により硬化させ、その後にス
ライダ面についた膜をラビングテープ等で削り落として
希望する面に固体状の膜を形成するため、膜が飛散する
ことがなく長期間その効果を保つことができる。またス
ライダレール面に形成した膜を取り除くことで浮上特性
を阻害することなく、またスライダ面と磁気ディスクの
潤滑剤の馴染みが早くなり耐摩耗性も保持することがで
きる。

【００２４】本発明は、スライダレール面に交わる他の
面の一部分の表面エネルギーを制御することで全面の表
面エネルギーを変えた場合と同様の効果を出すことも可
能である。具体的には、磁気ヘッドスライダのスライダ
レールの浮上流出端後方のテーパ部の面の一部、または
テーパ部全面の表面エネルギーを２３dyn/cm（×１０^-2
N/m）以下とした磁気ヘッドスライダや、またスライダ
レール流出端の後方にあるスライダレール面とほぼ直交
する面の一部、または全面の表面エネルギーを２３dyn/
cm（×１０^-2N/m）以下とした磁気ヘッドスライダや、
また負圧力を発生させ浮上するヘッドの正圧スライダレ
ールを取り囲む溝部の一部または全面の表面エネルギー
を２３dyn/cm（×１０^-2N/m）以下とした磁気ヘッドス
ライダにより前述したメカニズムによる吸着現象を回避
することができる。

【００２５】本発明による磁気ヘッドスライダ及び該磁
気ヘッドスライダの製造方法の具体的実施例を以下に述
べる。本発明の表面エネルギーの効果を検討した比較
例、実施例については表１に示す。この表は、表面エネ
ルギーを低減するための膜の材質としてのフッ化炭素化
合物／炭化水素／フッ化シラン化合物の３種の膜材料
と、ヘッド形状を２レール（テーパなし）／２レールテ
ーパ有り／負圧式の３種に適用した場合の処理方法及び
表面エネルギＥ／膜圧を示す図である。

【００２６】

【表１】

【００２７】＜比較例１＞図３に一般的に使用されてい
る２レールのヘッドスライダの形状を示す。この磁気ヘ
ッドスライダは、２本の平行スライダレール面６と、該
レール面６の空気流の流入側の傾斜したテーパ面７と、
空気流出端の側面であるスライダ側端面８と、これら面
以外で磁気ディスクと対向する媒体対向面１０と、該ス
ライダ側端面８に磁気ディスクへのデータ記録再生を行
う磁気変換素子（図示せず、以下の例では説明を省略す
る）を搭載し、前記テーパ面７から流入した空気流を平
行スライダレール面６が空気力学的に保持することによ
って磁気ディスク上を浮上する様に構成されている。こ
のスライダレール面６の材質はアルミナチタンカーバイ
ド（Al２O３-TiC）であり、後端の磁気変換素子はアル
ミナ保護膜によって保護している。

【００２８】更に本磁気ヘッドスライダは、フッ化シラ
ン化合物を全面にわたって施した表面処理１１を行って
いる。

【００２９】この表面処理材料と処理方法、膜厚及びそ
のときの表面エネルギー値は、表１の比較例１として示
すごとく、０.０５%の溶液に浸漬させた後、膜を硬化さ
せるために１２０℃で２.５時間の加熱を行い、膜厚が
５nm且つ表面エネルギーが２３dyn/cm（×１０^-2N/m）
の特性が得られた。この表面エネルギーは、ヘッドと同
じ材料に同じ処理を行い、この処理面に液滴を滴下した
ときの接触角より、ジスマンプロットにより求めた臨界
表面エネルギーを示す。また、膜厚の測定はエリプソメ
ーターを用いて行った。

【００３０】＜比較例２＞上記比較例１と同じ形状のヘ
ッドを用い、表面処理１１を行わないときの表面エネル
ギーは、表１の比較例２として示した如く５０dyn/cm
（×１０^-2N/m）の特性であった。

【００３１】＜比較例３＞図４に２レールのヘッドスラ
イダの他の形状を示す。この磁気ヘッドスライダは、２
本の平行スライダレール面６と、該レール面６の空気流
の流入側の傾斜したテーパ面７と、該レール面６の空気
流出端側にも傾斜したテーパ面１２と、空気流出端の側
面であるスライダ側端面８と、これら面以外で磁気ディ
スクと対向する媒体対向面１０とを備える。このスライ
ダレール部６の材質はチタン酸カルシウム（CaOTiO₂）
であり、表面処理を行わないときの表面エネルギーは、
表１の比較例２として示す如く５０dyn/cm（×１０-２N
/m）であった。

【００３２】＜比較例４＞図５に負圧を発生させるヘッ
ドスライダの形状を示す。この負圧式の磁気ヘッドスラ
イダは、空気流の流入側を傾斜したテーパ面７と、該テ
ーパ７面と連続して空気流を後方に３分岐して導く正圧
スライダレール面１３と、負圧を発生するための前記正
圧スライダレール面１３を取り囲む溝部１４とを備え、
前記溝部１４により発生する負圧（及び磁気ヘッドスラ
イダを押圧するジンバルの押しつけ力）とスライダレー
ル面１３から発生する正圧とのバランスによって磁気デ
ィスク上に浮上する様に構成されている。このスライダ
レール面１３の材質はアルミナチタンカーバイド（Al２
O３-TiC）であり、その上にカーボン保護膜を形成して
いる。表面処理１１を行わないときの表面エネルギー
は、表１の比較例４の如く５０dyn/cm（×１０^-2N/m）
であった。

【００３３】

【実施例１】図６に比較例１（図３）と同じ形状のヘッ
ドで一般的に使用されている２レールヘッドスライダの
形状を示す。このヘッドに、表面エネルギーの制御を行
うためにフッ化炭素化合物でスライダレール面６以外の
箇所に表面処理１１を行った。このサンプルNo.１は、
フッ化炭素化合物０.０５%の溶液に浸漬させた後、膜を
硬化させるため１４０℃で４０minの加熱を行い、表１
のサンプル１として記載した如く膜厚が２４nmで表面エ
ネルギーが１８dyn/cm（×１０^-2N/m）の特性が得られ
た。また表１のサンプルNo.２〜６として示す如く、フ
ッ化炭素化合物溶液の濃度（０．０５％〜０．０１％）
あるいは膜を硬化させる加熱条件（温度１４０°〜１２
０°，時間４０min〜２．５hr）を変化させることによ
り、膜厚が１８nm〜２nmと変化し、それに伴って表面エ
ネルギーが各々１８，２０，２３，２５，３０dyn/cm
（×１０^-2N/m）の特性を得ることができた。以下の実
施例に示すサンプルは、スライダ面の処理膜の除去にラ
ビングテープを用いて作成した。

【００３４】

【実施例２】この実施例は、サンプルNo.７として記載
した如く、比較例１と同じ形状のヘッドスライダをフッ
化炭素化合物１%の溶液に浸漬させ、膜を硬化させるた
め紫外線照射処理を３０sec行った。その結果、膜厚が
６nm、表面エネルギーが２３dyn/cm（×１０^-2N/m）の
特性が得られた。

【００３５】

【実施例３】この実施例は、表１にサンプルNo.８とし
て記載した如く、比較例２と同じ形状のヘッドスライダ
をフッ化炭素化合物０.１５%の溶液に浸漬させ、１２０
℃で２.５時間の加熱を行った。その結果、膜厚が１０n
m、表面エネルギーが２０dyn/cm（×１０^-2N/m）の特性
が得られた。

【００３６】

【実施例４】表１のサンプルNo.９として記載した如
く、本実施例は比較例３と同じ形状のヘッドスライダを
フッ化炭素化合物０.１５%の溶液に浸漬させ、１２０℃
で２.５時間の加熱を行った。その結果、膜厚が１０n
m、表面エネルギーが２０dyn/cm（×１０²N/m）の特性
が得られた。

【００３７】

【実施例５】表１にサンプルNo.１０として示す如く、
本実施例は比較例１と同じ形状のヘッドスライダをフッ
化炭素化合物の溶液でスプレー塗布を行った。その結
果、膜厚が２０nm、表面エネルギーが１８dyn/cm（×１
０^-2N/m）の特性が得られた。

【００３８】

【実施例６】本実施例は、サンプルNo.１１とし記載し
た如く、比較例１と同じ形状のヘッドスライダに炭化水
素の蒸着を行った。その結果、膜厚が３００nm、表面エ
ネルギーが２３dyn/cm（×１０^-2N/m）の特性の磁気ヘ
ッドスライダが得られた。

【００３９】

【実施例７】この例は、サンプルNo.１２の如く、比較
例１と同じ形状のヘッドスライダに炭化水素０．０５％
溶液のスプレー塗布を行った。その結果、膜厚が２０n
m、表面エネルギーが２３dyn/cm（×１０^-2N/m）の特性
が得られた。

【００４０】

【実施例８】本実施例は、表１にサンプルNo.１３とし
て記載した如く、比較例１と同じ形状のヘッドスライダ
をフッ化シラン化合物０．０５％溶液に３分浸漬させ、
膜を硬化させるために１２０℃で２.５時間の加熱を行
った。その結果、膜厚が５nm、表面エネルギーが２３dy
n/cm（×１０^-2N/m）の特性の磁気ヘッドスライダが得
られた。

【００４１】さて、発明者らは、上述の例による磁気ヘ
ッドスライダの有効性を調べるため比較例１〜３、実施
例１〜８にて作成した磁気ヘッドスライダを実際の磁気
ディスク装置に組み込み、以下に述べるシーク試験を行
った。

【００４２】このシーク試験は、磁気記録媒体の潤滑膜
厚を２０nmとしたものを用い、磁気ヘッドスライダを磁
気ディスク内周から外周までシークさせる動作（１sec/
シーク）を１２時間行い、その後潤滑膜厚を６nmとした
磁気ディスク上に静止した状態で１２時間放置する条件
で行った。このシーク試験後に磁気ディスクを回転させ
る際の静止摩擦力すなわち吸着力を測定し、図７に示す
ヘッド種類（サンプル）対応の吸着力を表を実験結果と
して得、次のことが判明した。

【００４３】比較例１（サンプルNo.１４：スライダ
面を含む全面処理を行ったもの）の磁気ヘッドスライダ
は、起動時の吸着力が２０gfと測定された。この吸着力
は起動不可能になるレベルであり、表面処理の効果はみ
られないことが判明した。

【００４４】比較例２〜４（サンプルNo.１５〜１
７）の磁気ヘッドスライダは、吸着力が１５〜３０gfと
なり、未処理品では起動不可能になる吸着力であった。

【００４５】しかし、実施例１〜８（サンプルNo.１
〜３、７〜１３）の磁気ヘッドスライダでは吸着力が５
gf以下となり、表面処理を行うことにより放置後の吸着
力が低減され、なおかつヘッドの形状に関わらず表面エ
ネルギーを２３dyn/cm（×１０^-2N/m）以下であれば非
常に良い特性を示すことが判明した。

【００４６】また実施例１で表面エネルギーを変化させ
た結果を図８に示す。未処理の磁気ヘッドスライダの表
面エネルギーが５０dyn/cm（×１０^-2N/m），吸着力が
１５〜３０gfの特性を示すのに対し、表面エネルギーを
２５dyn/cm（×１０^-2N/m）とすると吸着力が１０gfに
下がり、２３dyn/cm（×１０^-2N/m）以下の表面エネル
ギーでは吸着力が５gf以下となり、表面エネルギーを減
少させることにより吸着力を更に低減することが判明し
た。

【００４７】これら実施例から明かな様に本発明による
磁気ヘッドスライダ及びその製造方法によれば、磁気デ
ィスクと磁気ヘッドスライダの吸着現象を回避すること
が可能であることが実験結果によって得られた。またそ
の磁気ヘッドスライダを組み込んだ磁気ディスク装置
は、磁気ヘッドスライダによる磁気ディスク上の潤滑剤
のかき集めを減少させ、再起動後にも低い吸着力を示す
ことも判明し、信頼性のを高くすることができることも
判明した。また本発明は、ニアコンタクト式又はコンタ
クト式といった磁気ディスク装置にも適用することがで
きる。

【００４８】また本発明は次に述べる実施形態としても
表すことができる。 ＜他の実施形態１＞記録再生を行う磁気ヘッドと信号を
記録する磁気ディスクとが対向して配列されている磁気
ディスク装置において、狭浮上量で浮上または間接的に
接触した状態で信号の記録再生を行う磁気ヘッドのスラ
イダレール面と交わる他の面の一部分（望ましくは、少
なくともレール後方（後流側）に位置する部分）あるい
は全面の表面エネルギーを２３dyn/cm（×1０^-2N/m）以
下としたことを特徴とする磁気ヘッドを用いた磁気ディ
スク装置。

【００４９】＜他の実施形態２＞磁気ヘッドのスライダ
レールの浮上流出端後方にテーパ部を有しており、少な
くともそのテーパ部の一部、または全面の表面エネルギ
ーを２３dyn/cm（×１０^-2N/m） 以下としたことを特
徴とする磁気ヘッドを用いた他の実施形態１に記載の磁
気ディスク装置。

【００５０】＜他の実施形態３＞薄膜で形成された記録
再生素子を有する磁気ヘッドで、少なくとも負圧を発生
させるスライダレール後方にあるスライダ面と続く面の
一部、又は全面の表面エネルギーを２３dyn/cm（×１０
^-2N/m）以下としたことを特徴ヘッドを用いた他の実施
形態１に記載の磁気ディスク装置。

【００５１】＜他の実施形態４＞他の実施形態１、２、
３に記載の磁気ヘッドにおいて、表面エネルギーを２３
dyn/cm（×１０^-2N/m）以下とするためにその領域に、
炭化水素またはフッ化炭素化合物またはフッ化シラン化
合物のうち少なくとも１つ以上の材料よりなる膜を形成
したことを特徴とする磁気ヘッドを用いた他の実施形態
１に記載の磁気ディスク装置。

【００５２】＜他の実施形態５＞他の実施形態４に記載
の磁気ヘッドにおいて、表面エネルギーを低下させるた
めに形成した膜の厚さが５nm以上であることを特徴とす
る磁気ヘッドを用いた磁気ディスク装置。

【００５３】＜他の実施形態６＞他の実施形態１、２、
３、４、５ に記載の磁気ヘッドにおいて、少なくとも
磁気ヘッドの磁気ディスク対向面前面に、浸漬または蒸
着またはスプレー等により炭化水素またはフッ化炭素化
合物またはフッ化シラン化合物のうち少なくとも１つ以
上の材料よりなる膜を形成した後加熱または紫外線によ
り硬化させ、その後にスライダ面についた膜をラビング
テープ等で削り落とす磁気ヘッド製造方法。

【００５４】＜他の実施形態７＞浮上力を発生するスラ
イダレール面と、該スライダレール面を除くテーパ面、
側面及び溝部を持ち、磁気ディスク上にスライダレール
面により発生する浮上力を用いて浮上する磁気ヘッドス
ライダにおいて、スライダレール面以外のテーパ面、側
面及び溝部の少なくとも一つの表面エネルギーを磁気デ
ィスク表面の表面エネルギーより小さく０dyn/cm（×1
０^-2N/m）以上としたことを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ。

【００５５】＜他の実施形態８＞スライダレール面以外
のテーパ面、側面及び溝部の少なくとも一つの表面エネ
ルギーＳＥを、２３dyn/cm（×１０^-2N/m）≧ＳＥ＞０
としたことを特徴とする他の実施形態８記載の磁気ヘッ
ドスライダ及び磁気ヘッドスライダの製造方法。

【００５６】

【発明の効果】以上述べた如く本発明による磁気ヘッド
スライダは、る磁気ヘッドスライダの浮上力を発生すス
ライダレール面以外のテーパ面、側面及び溝部の少なく
とも一つの表面エネルギーを２３dyn/cm（×1０^-2N/m）
乃至０dyn/cm（×1０^-2N/m）以上としたことによって、
磁気ヘッドスライダに潤滑剤が付着することを防止する
と共に潤滑剤による潤滑作用も確保することができる。

【００５７】更に本発明により磁気ヘッドスライダの製
造方法は、少なくとも磁気ヘッドスライダの磁気ディス
ク対向面に、浸漬又は蒸着又はスプレー等により炭化水
素又はフッ化炭素化合物又はフッ化シラン化合物のうち
少なくとも１つ以上の材料よりなる膜を形成し、該膜を
加熱又は紫外線により硬化させ、その後にスライダレー
ル面についた膜を削り落とすことにより、スライダレー
ル面以外のテーパ面、側面及び溝部の少なくとも一つの
表面エネルギーを２３dyn/cm（×1０^-2N/m）乃至０dyn/
cm（×1０^-2N/m）以上とすることによって、潤滑剤の付
着を防止すると共に潤滑剤による潤滑作用も確保する磁
気ヘッドスライダを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用される磁気ディスク装置の概略構
成を示す図。

【図２】磁気ヘッドスライダの表面エネルギーと膜厚の
関係を示す図。

【図３】比較例１による磁気ヘッドスライダの模式図。

【図４】比較例２による磁気ヘッドスライダの模式図。

【図５】比較例３による磁気ヘッドスライダの模式図。

【図６】実施例１による磁気ヘッドスライダの模式図。

【図７】本発明によるヘッドスライダによる吸着力測定
結果を示す図。

【図８】実施例１で表面エネルギーを変化させたときの
吸着力測定結果を示す図。

【符号の説明】

１…磁気ディスク、２…磁気ヘッドスライダ、３…スピ
ンドル、４…磁気ヘッド位置決め機構、５…処理回路、
６…スライダレール面、７…テーパ面、８…流出端でス
ライダ面と交わる面、９…スライダ面と交わる他の面、
１０…媒体対向面、１１…表面処理部、１２…流出端テ
ーパ面、１３…正圧スライダ面、１４…正圧スライダ面
を取り囲む溝部。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 浮上力を発生するスライダレール面と、
   該スライダレール面を除くテーパ面、側面及び溝部を持
   ち、潤滑剤が塗布された磁気ディスク上に前記スライダ
   レール面により発生する浮上力を用いて浮上する磁気ヘ
   ッドスライダにおいて、該スライダレール面以外のテー
   パ面、側面及び溝部の少なくとも一つの表面エネルギー
   を２３dyn/cm（×1０^-2N/m）乃至０dyn/cm（×1０^-2N/
   m）以上としたことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
2. 【請求項２】 浮上力を発生するスライダレール面と、
   該スライダレール面を除くテーパ面、側面及び溝部を持
   ち、潤滑剤が塗布された磁気ディスク上に前記スライダ
   レール面により発生する浮上力を用いて浮上する磁気ヘ
   ッドスライダの製造方法であって、少なくとも磁気ヘッ
   ドスライダの磁気ディスク対向面に、浸漬又は蒸着又は
   スプレー等により炭化水素又はフッ化炭素化合物又はフ
   ッ化シラン化合物のうち少なくとも１つ以上の材料より
   なる膜を形成し、該膜を加熱又は紫外線により硬化さ
   せ、その後にスライダレール面についた膜を削り落とす
   ことにより、スライダレール面以外のテーパ面、側面及
   び溝部の少なくとも一つの表面エネルギーを２３dyn/cm
   （×1０^-2N/m）乃至０dyn/cm（×1０^-2N/m）以上とした
   ことを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。