JPH0996840A - 全固体型エレクトロクロミック素子 - Google Patents
全固体型エレクトロクロミック素子Info
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- JPH0996840A JPH0996840A JP7275054A JP27505495A JPH0996840A JP H0996840 A JPH0996840 A JP H0996840A JP 7275054 A JP7275054 A JP 7275054A JP 27505495 A JP27505495 A JP 27505495A JP H0996840 A JPH0996840 A JP H0996840A
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- JP
- Japan
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- ecd
- porous layer
- base material
- sealing
- electrochromic element
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外界の温度・湿度の影響を受けず、特に高温
環境下に放置しても着色濃度及び応答速度の面で良好に
機能する全固体型エレクトロクロミック素子を得る。 【解決手段】 透明な基材１上に設けた全固体型エレク
トロクロミック素子８を封止材９を介在させ封止基材１
０にて封止した構成において、封止基材１０のエレクト
ロクロミック素子８と対向する面上に、膜厚０．５〜４
μｍの多孔質層１１を設けたことを特徴とする。
環境下に放置しても着色濃度及び応答速度の面で良好に
機能する全固体型エレクトロクロミック素子を得る。 【解決手段】 透明な基材１上に設けた全固体型エレク
トロクロミック素子８を封止材９を介在させ封止基材１
０にて封止した構成において、封止基材１０のエレクト
ロクロミック素子８と対向する面上に、膜厚０．５〜４
μｍの多孔質層１１を設けたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子や透過率
可変フィルターとして応用される封止構造を有する全固
体型エレクトロクロミック素子に関する。
可変フィルターとして応用される封止構造を有する全固
体型エレクトロクロミック素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、全固体型エレクトロクロミック素
子（以下、「ＥＣＤ」と記す。）として、例えば米国特
許第３５２１９４１号明細書に記載されているように、
ネサガラス（ＳｎＯ2 透明電極）上にａ−ＷＯ3 膜、Ｓ
ｉＯ2 又はＣａＦ2 などの絶縁層、Ａｕ電極を順次形成
した４層構造のものが知られている。また、特公昭６０
−３１３５５号公報に記載されているように、ガラス等
の透明基板上に、順次、三酸化インジウム透明電極、水
酸化イリジュームからなる酸化発色性薄膜、五酸化タン
タルからなる絶縁性薄膜、酸化タングステンからなる還
元発色性薄膜、三酸化インジウム透明電極を形成した５
層構造により、素子応答速度、繰り返し駆動時の光量変
化等を改善したものが知られている。
子（以下、「ＥＣＤ」と記す。）として、例えば米国特
許第３５２１９４１号明細書に記載されているように、
ネサガラス（ＳｎＯ2 透明電極）上にａ−ＷＯ3 膜、Ｓ
ｉＯ2 又はＣａＦ2 などの絶縁層、Ａｕ電極を順次形成
した４層構造のものが知られている。また、特公昭６０
−３１３５５号公報に記載されているように、ガラス等
の透明基板上に、順次、三酸化インジウム透明電極、水
酸化イリジュームからなる酸化発色性薄膜、五酸化タン
タルからなる絶縁性薄膜、酸化タングステンからなる還
元発色性薄膜、三酸化インジウム透明電極を形成した５
層構造により、素子応答速度、繰り返し駆動時の光量変
化等を改善したものが知られている。
【０００３】これらのＥＣＤは、Ｓ．Ｋ．Ｄｅｂ：Ｐｈ
ｉｌ．Ｍａｇ．２７（１９７３）８０１．，松久・増
田：真空 第１１巻（１９８０）５０３〜５１４頁，及
び特公平４−３５７３５号公報等に記載されているよう
に、外界の湿度の影響を受けやすく、特に真空中では全
く着消色を示さないことが知られている。
ｉｌ．Ｍａｇ．２７（１９７３）８０１．，松久・増
田：真空 第１１巻（１９８０）５０３〜５１４頁，及
び特公平４−３５７３５号公報等に記載されているよう
に、外界の湿度の影響を受けやすく、特に真空中では全
く着消色を示さないことが知られている。
【０００４】このような外界の湿度の影響を受けずにＥ
ＣＤの耐久性を高める為に、例えば特公平４−３５７３
５号公報では、エレクトロクロミック材料中に水分を含
有させエポキシ樹脂等で封止している。特開昭５８−２
１１１２３号公報では、ＥＣＤを含水層と封水層で封止
している。実開昭６１−１１９１３４号公報では、ＥＣ
Ｄを覆う気密空間部内に含水部材を配置し封止してい
る。特開昭６０−１２１４２１号公報では、ＥＣＤをシ
ランカップラーを添加したエポキシ樹脂で封止してい
る。特開昭６３−２９４５３６号公報では、ＥＣＤを高
温下で軟化しにくいエポキシ樹脂にて封止することが開
示されている。
ＣＤの耐久性を高める為に、例えば特公平４−３５７３
５号公報では、エレクトロクロミック材料中に水分を含
有させエポキシ樹脂等で封止している。特開昭５８−２
１１１２３号公報では、ＥＣＤを含水層と封水層で封止
している。実開昭６１−１１９１３４号公報では、ＥＣ
Ｄを覆う気密空間部内に含水部材を配置し封止してい
る。特開昭６０−１２１４２１号公報では、ＥＣＤをシ
ランカップラーを添加したエポキシ樹脂で封止してい
る。特開昭６３−２９４５３６号公報では、ＥＣＤを高
温下で軟化しにくいエポキシ樹脂にて封止することが開
示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公平
４−３５７３５号公報では、ＥＣＤ内部にのみ水分を含
む封止構成である為、高温環境下に放置すると着色濃度
及び応答速度が大きく低下する欠点があった。また、特
開昭５８−２１１１２３号公報及び実開昭６１−１１９
１３４号公報では、ＥＣＤと封止容器とで作る気密空間
内に含水部材を配置し封止した構成であるが故に、高温
環境下に放置すると当該気密空間内が高温多湿雰囲気と
なり、ＥＣＤの膜自体が劣化しＥＣ機能が喪失する欠点
があった。また、特開昭６０−１２１４２１号公報及び
特開昭６３−２９４５３６号公報等では、封止構成上そ
の工程中に高温硬化するが故に、ＥＣ機能が大きく低下
してしまう場合もあった。
４−３５７３５号公報では、ＥＣＤ内部にのみ水分を含
む封止構成である為、高温環境下に放置すると着色濃度
及び応答速度が大きく低下する欠点があった。また、特
開昭５８−２１１１２３号公報及び実開昭６１−１１９
１３４号公報では、ＥＣＤと封止容器とで作る気密空間
内に含水部材を配置し封止した構成であるが故に、高温
環境下に放置すると当該気密空間内が高温多湿雰囲気と
なり、ＥＣＤの膜自体が劣化しＥＣ機能が喪失する欠点
があった。また、特開昭６０−１２１４２１号公報及び
特開昭６３−２９４５３６号公報等では、封止構成上そ
の工程中に高温硬化するが故に、ＥＣ機能が大きく低下
してしまう場合もあった。
【０００６】本発明は、上記事情に鑑み、外界の温度・
湿度の影響を受けず、特に高温環境下に放置しても着色
濃度及び応答速度の面で良好に機能するＥＣＤを得るこ
とを目的とする。
湿度の影響を受けず、特に高温環境下に放置しても着色
濃度及び応答速度の面で良好に機能するＥＣＤを得るこ
とを目的とする。
【０００７】本発明の更なる目的は、封止工程によって
ＥＣ機能が低下することのないＥＣＤを得ることにあ
る。
ＥＣ機能が低下することのないＥＣＤを得ることにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく成
された本発明は、透明な基材上に設けた全固体型エレク
トロクロミック素子を封止材を介在させ封止基材にて封
止した構成において、前記封止基材の前記エレクトロク
ロミック素子と対向する面上に、膜厚が０．５〜４μｍ
の範囲の多孔質層を設けたことを特徴とする全固体型エ
レクトロクロミック素子にある。
された本発明は、透明な基材上に設けた全固体型エレク
トロクロミック素子を封止材を介在させ封止基材にて封
止した構成において、前記封止基材の前記エレクトロク
ロミック素子と対向する面上に、膜厚が０．５〜４μｍ
の範囲の多孔質層を設けたことを特徴とする全固体型エ
レクトロクロミック素子にある。
【０００９】本発明に係る多孔質層は、ＥＣＤを覆う気
密空間内の水分を調整するように機能するものである。
すなわち、本発明の全固体型エレクトロクロミック素子
を高温環境下に放置した場合、ＥＣＤ内の水分は徐々に
封止材へと移行しようとするが、その一方で多孔質層内
の水分が封止材へと移行し、ＥＣＤを覆う気密空間内の
水分調整がなされる。その為、高温環境下に長時間放置
した場合でも、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度の低下を
防止することができる。
密空間内の水分を調整するように機能するものである。
すなわち、本発明の全固体型エレクトロクロミック素子
を高温環境下に放置した場合、ＥＣＤ内の水分は徐々に
封止材へと移行しようとするが、その一方で多孔質層内
の水分が封止材へと移行し、ＥＣＤを覆う気密空間内の
水分調整がなされる。その為、高温環境下に長時間放置
した場合でも、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度の低下を
防止することができる。
【００１０】また、ＥＣＤと多孔質層の間に封止材が介
在されて封止されているため、ＥＣＤを覆う気密空間内
に含水部材が配置された前記従来のＥＣＤが抱える欠
点、すなわち高温環境下に放置した際に当該気密空間内
が高温多湿雰囲気となり、ＥＣＤの膜自体が劣化しＥＣ
機能が喪失されるといった欠点も解消される。
在されて封止されているため、ＥＣＤを覆う気密空間内
に含水部材が配置された前記従来のＥＣＤが抱える欠
点、すなわち高温環境下に放置した際に当該気密空間内
が高温多湿雰囲気となり、ＥＣＤの膜自体が劣化しＥＣ
機能が喪失されるといった欠点も解消される。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明に係る多孔質層は、膜厚が
０．５〜４μｍの範囲であることが必要である。多孔質
層の膜厚が０．５μｍより小さいと、高温環境下に長時
間放置した際に十分な水分供給がなされず、ＥＣＤを覆
う気密空間内の水分調整を満足に行うことができない。
更には、封止の際に膜割れしてＥＣ機能が喪失してしま
う場合がある。一方、多孔質層の膜厚が４μｍより大き
いと、高温環境下に長時間放置した際に封止基材との間
で膜剥離を起こし易く、ＥＣＤとしての光学機能が失わ
れ易い。
０．５〜４μｍの範囲であることが必要である。多孔質
層の膜厚が０．５μｍより小さいと、高温環境下に長時
間放置した際に十分な水分供給がなされず、ＥＣＤを覆
う気密空間内の水分調整を満足に行うことができない。
更には、封止の際に膜割れしてＥＣ機能が喪失してしま
う場合がある。一方、多孔質層の膜厚が４μｍより大き
いと、高温環境下に長時間放置した際に封止基材との間
で膜剥離を起こし易く、ＥＣＤとしての光学機能が失わ
れ易い。
【００１２】多孔質層は誘電体からなるものが好まし
く、その材料としては例えば五酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ
5 ），酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ），酸化珪素（Ｓｉ
Ｏ2 ），酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ），酸化バナジウム
（Ｖ2 Ｏ5 ），酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）やこれらの混
合物を挙げることができる。
く、その材料としては例えば五酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ
5 ），酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ），酸化珪素（Ｓｉ
Ｏ2 ），酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ），酸化バナジウム
（Ｖ2 Ｏ5 ），酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）やこれらの混
合物を挙げることができる。
【００１３】多孔質層の充填密度は、０．５〜０．７ｇ
／ｃｍ3 の範囲であることが好ましい。多孔質層の充填
密度が０．５ｇ／ｃｍ3 より小さいと、膜強度が弱くな
り封止時に割れてしまう恐れがある。一方、多孔質層の
充填密度が０．７ｇ／ｃｍ3より大きいと、高温環境下
に放置した際にＥＣＤ内の水分が優先的に封止材に移行
し易くなり、十分な水分調整機能が得られない場合があ
る。
／ｃｍ3 の範囲であることが好ましい。多孔質層の充填
密度が０．５ｇ／ｃｍ3 より小さいと、膜強度が弱くな
り封止時に割れてしまう恐れがある。一方、多孔質層の
充填密度が０．７ｇ／ｃｍ3より大きいと、高温環境下
に放置した際にＥＣＤ内の水分が優先的に封止材に移行
し易くなり、十分な水分調整機能が得られない場合があ
る。
【００１４】本発明に係る封止材としては、紫外線硬化
型の接着剤を用いるのが好ましい。これにより、封止材
として熱硬化性のエポキシ樹脂を用いて高温硬化させる
ことによって生じていたＥＣ機能の低下を防止すること
ができる。なお、この紫外線硬化型の接着剤の主成分と
しては、例えば変性ウレタンアクリレートやシリコーン
等を挙げることができる。
型の接着剤を用いるのが好ましい。これにより、封止材
として熱硬化性のエポキシ樹脂を用いて高温硬化させる
ことによって生じていたＥＣ機能の低下を防止すること
ができる。なお、この紫外線硬化型の接着剤の主成分と
しては、例えば変性ウレタンアクリレートやシリコーン
等を挙げることができる。
【００１５】封止材の厚みは、５〜２０μｍの範囲であ
ることが好ましい。封止材の厚みが５μｍ未満の場合に
は、封止時にＥＣＤ内の水分が抜けたり、膜割れを起こ
し易く、ＥＣ機能が喪失してしまう場合がある。一方、
封止材の厚みが２０μｍを超える場合には、高温環境下
にて封止材の壁面部分よりＥＣＤ内の水分が抜け出易く
なる為、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が低下し易くな
る。
ることが好ましい。封止材の厚みが５μｍ未満の場合に
は、封止時にＥＣＤ内の水分が抜けたり、膜割れを起こ
し易く、ＥＣ機能が喪失してしまう場合がある。一方、
封止材の厚みが２０μｍを超える場合には、高温環境下
にて封止材の壁面部分よりＥＣＤ内の水分が抜け出易く
なる為、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が低下し易くな
る。
【００１６】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明を詳細に説明す
る。
る。
【００１７】［実施例１］図１は本実施例のＥＣＤの模
式的断面図である。同図中、１は透明ガラス基板であ
る。また、２，７は電極であるところの透明導電膜、３
はエレクトロクロミック層であるところの酸化発色性薄
膜、４はイオン透過ブロッキング層、５は固体電解質層
であるところの絶縁性薄膜、６はエレクトロクロミック
層であるところの還元発色性薄膜であり、基本的にはこ
れらの６層構造により全固体型エレクトロクロミック素
子８が構成されている。また、９は封止材、１０は封止
基材であるところの透明ガラス基板、１１は固体電解質
膜からなる多孔質層ある。
式的断面図である。同図中、１は透明ガラス基板であ
る。また、２，７は電極であるところの透明導電膜、３
はエレクトロクロミック層であるところの酸化発色性薄
膜、４はイオン透過ブロッキング層、５は固体電解質層
であるところの絶縁性薄膜、６はエレクトロクロミック
層であるところの還元発色性薄膜であり、基本的にはこ
れらの６層構造により全固体型エレクトロクロミック素
子８が構成されている。また、９は封止材、１０は封止
基材であるところの透明ガラス基板、１１は固体電解質
膜からなる多孔質層ある。
【００１８】電極２，７としては、一般的な透明導電膜
材料である酸化スズ（ＳｎＯ2 ）、酸化インジウム（Ｉ
ｎ2 Ｏ3 ）、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）等を用い
ることができ、本実施例ではＩＴＯを用いた。
材料である酸化スズ（ＳｎＯ2 ）、酸化インジウム（Ｉ
ｎ2 Ｏ3 ）、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）等を用い
ることができ、本実施例ではＩＴＯを用いた。
【００１９】酸化発色性薄膜３としては、水酸化イリジ
ューム（Ｉｒ（ＯＨ）x ）、水酸化ニッケル（Ｎｉ（Ｏ
Ｈ）x ）、水酸化コバルト（Ｃｏ（ＯＨ）x ）等からな
る薄膜を用いることができ、本実施例では水酸化イリジ
ューム（Ｉｒ（ＯＨ）x ）を用いた。
ューム（Ｉｒ（ＯＨ）x ）、水酸化ニッケル（Ｎｉ（Ｏ
Ｈ）x ）、水酸化コバルト（Ｃｏ（ＯＨ）x ）等からな
る薄膜を用いることができ、本実施例では水酸化イリジ
ューム（Ｉｒ（ＯＨ）x ）を用いた。
【００２０】イオン透過ブロッキング層４としては、水
酸化イリジューム（Ｉｒ（ＯＨ）x）若しくは、酸化イ
リジューム（ＩｒＯx ）と酸化スズ（ＳｎＯ2 ）との混
合物からなる。
酸化イリジューム（Ｉｒ（ＯＨ）x）若しくは、酸化イ
リジューム（ＩｒＯx ）と酸化スズ（ＳｎＯ2 ）との混
合物からなる。
【００２１】固体電解質層５としては、五酸化タンタル
（Ｔａ2 Ｏ5 ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、酸化
珪素（ＳｉＯ2 ）、酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、酸化バ
ナジウム（Ｖ2 Ｏ5 ）、酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）等、
若しくはこれらの混合物からなる絶縁性薄膜を用いるこ
とができ、本実施例では五酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5）
を用いた。
（Ｔａ2 Ｏ5 ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、酸化
珪素（ＳｉＯ2 ）、酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、酸化バ
ナジウム（Ｖ2 Ｏ5 ）、酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）等、
若しくはこれらの混合物からなる絶縁性薄膜を用いるこ
とができ、本実施例では五酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5）
を用いた。
【００２２】エレクトロクロミック層６としては、酸化
タングステン（ＷＯ3 ）、酸化モリブデン（ＭｏＯ3 ）
等からなる還元発色性薄膜を用いることができ、本実施
例では酸化タングステン（ＷＯ3 ）を用いた。
タングステン（ＷＯ3 ）、酸化モリブデン（ＭｏＯ3 ）
等からなる還元発色性薄膜を用いることができ、本実施
例では酸化タングステン（ＷＯ3 ）を用いた。
【００２３】また、本実施例では、封止材９として変性
ウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬化型接着
剤を用い、多孔質層１１として五酸化タンタル（Ｔａ2
Ｏ5）からなる固体電解質膜を用いた。
ウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬化型接着
剤を用い、多孔質層１１として五酸化タンタル（Ｔａ2
Ｏ5）からなる固体電解質膜を用いた。
【００２４】上記６層構成のＥＣＤ８と多孔質層１１
は、公知の薄膜形成装置である真空蒸着装置、スパッタ
装置等を用いて形成した。各層の膜厚は、電極２が１５
０ｎｍ、酸化発色性薄膜３が５ｎｍ、イオン透過ブロッ
キング層４が４０ｎｍ、固体電解質層５が３００ｎｍ、
還元発色性薄膜６が１０００ｎｍ、電極７が３００ｎｍ
である。多孔質層１１の厚みは２０００ｎｍで、充填密
度は０．５である。接着剤（封止材）９は公知の紫外線
照射装置にて紫外線を照射して硬化させ、厚みを１０μ
ｍとした。
は、公知の薄膜形成装置である真空蒸着装置、スパッタ
装置等を用いて形成した。各層の膜厚は、電極２が１５
０ｎｍ、酸化発色性薄膜３が５ｎｍ、イオン透過ブロッ
キング層４が４０ｎｍ、固体電解質層５が３００ｎｍ、
還元発色性薄膜６が１０００ｎｍ、電極７が３００ｎｍ
である。多孔質層１１の厚みは２０００ｎｍで、充填密
度は０．５である。接着剤（封止材）９は公知の紫外線
照射装置にて紫外線を照射して硬化させ、厚みを１０μ
ｍとした。
【００２５】上記構成のＥＣＤにおいて、不図示の電源
より電極２，７間に電極７が負になるように電圧を印加
すると、酸化還元反応が起き着色する。逆に電極２，７
間に電極７が正になるように電圧を印加すると、酸化還
元反応が起き消色する。
より電極２，７間に電極７が負になるように電圧を印加
すると、酸化還元反応が起き着色する。逆に電極２，７
間に電極７が正になるように電圧を印加すると、酸化還
元反応が起き消色する。
【００２６】本実施例のＥＣＤに、室温雰囲気にて電極
２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、１．２秒にて光
学濃度変化△ＯＤが１．３となった。この素子を７０℃
の高温環境下に１０００時間放置した後、室温雰囲気に
て同様に電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．５秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となり、ＥＣ
Ｄの着色濃度及び応答速度が殆ど低下しなかった。ま
た、エレクトロクロミック素子としての光学機能を十分
に兼ね備えていた。
２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、１．２秒にて光
学濃度変化△ＯＤが１．３となった。この素子を７０℃
の高温環境下に１０００時間放置した後、室温雰囲気に
て同様に電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．５秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となり、ＥＣ
Ｄの着色濃度及び応答速度が殆ど低下しなかった。ま
た、エレクトロクロミック素子としての光学機能を十分
に兼ね備えていた。
【００２７】［実施例２］図１の構成において、封止材
９をシリコーンを主成分とする紫外線硬化型の接着剤と
し、この厚みを２０μｍとした。また、多孔質層１１の
充填密度は０．５で膜厚が４０００ｎｍとなるようにし
た。上記以外は実施例１と同様にして本発明のＥＣＤを
作製した。
９をシリコーンを主成分とする紫外線硬化型の接着剤と
し、この厚みを２０μｍとした。また、多孔質層１１の
充填密度は０．５で膜厚が４０００ｎｍとなるようにし
た。上記以外は実施例１と同様にして本発明のＥＣＤを
作製した。
【００２８】本実施例のＥＣＤに、実施例１と同様に室
温雰囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したとこ
ろ、１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となっ
た。この素子を７０℃の高温環境下に１０００時間放置
した後、室温雰囲気にて同様に電極２，７間に電圧３Ｖ
を印加したところ、２．３秒にて光学濃度変化△ＯＤが
１．３となり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が殆ど低
下しなかった。また、エレクトロクロミック素子として
の光学機能を十分に兼ね備えていた。
温雰囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したとこ
ろ、１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となっ
た。この素子を７０℃の高温環境下に１０００時間放置
した後、室温雰囲気にて同様に電極２，７間に電圧３Ｖ
を印加したところ、２．３秒にて光学濃度変化△ＯＤが
１．３となり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が殆ど低
下しなかった。また、エレクトロクロミック素子として
の光学機能を十分に兼ね備えていた。
【００２９】［実施例３］図１の構成において、封止材
９の接着剤の厚みを５μｍとした。また、多孔質層１１
の充填密度は０．７で膜厚が５００ｎｍとなるようにし
た。上記以外は実施例１と同様にして本発明のＥＣＤを
作製した。
９の接着剤の厚みを５μｍとした。また、多孔質層１１
の充填密度は０．７で膜厚が５００ｎｍとなるようにし
た。上記以外は実施例１と同様にして本発明のＥＣＤを
作製した。
【００３０】本実施例のＥＣＤに、実施例１と同様に室
温雰囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したとこ
ろ、１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となっ
た。この素子を７０℃の高温環境下に１０００時間放置
した後、室温雰囲気にて同様に電極２，７間に電圧３Ｖ
を印加したところ、１．５秒にて光学濃度変化△ＯＤが
１．３となり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が殆ど低
下しなかった。また、エレクトロクロミック素子として
の光学機能を十分に兼ね備えていた。
温雰囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したとこ
ろ、１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となっ
た。この素子を７０℃の高温環境下に１０００時間放置
した後、室温雰囲気にて同様に電極２，７間に電圧３Ｖ
を印加したところ、１．５秒にて光学濃度変化△ＯＤが
１．３となり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が殆ど低
下しなかった。また、エレクトロクロミック素子として
の光学機能を十分に兼ね備えていた。
【００３１】［比較例１］図１の構成において、多孔質
層１１を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にし
てＥＣＤを作製した。
層１１を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にし
てＥＣＤを作製した。
【００３２】かかるＥＣＤに、実施例１と同様に室温雰
囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となった。こ
の素子を７０℃の高温環境下に５００時間放置した後、
室温雰囲気にて同様に電極２，７間に電圧３Ｖを印加し
たところ、１．５秒にて光学濃度変化△ＯＤが０．４と
なり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が大幅に低下し
た。
囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となった。こ
の素子を７０℃の高温環境下に５００時間放置した後、
室温雰囲気にて同様に電極２，７間に電圧３Ｖを印加し
たところ、１．５秒にて光学濃度変化△ＯＤが０．４と
なり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が大幅に低下し
た。
【００３３】［比較例２］図１の構成において、多孔質
層１１の膜厚を５０００ｎｍとした以外は実施例１と同
様にしてＥＣＤを作製した。
層１１の膜厚を５０００ｎｍとした以外は実施例１と同
様にしてＥＣＤを作製した。
【００３４】かかるＥＣＤに、実施例１と同様に室温雰
囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となった。し
かし、この素子を７０℃の高温環境下に５００時間放置
したところ、封止基材１０と多孔質層１１との間で膜剥
離を起こしエレクトロクロミック素子としての光学機能
を十分に発揮できない状態に至った。
囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となった。し
かし、この素子を７０℃の高温環境下に５００時間放置
したところ、封止基材１０と多孔質層１１との間で膜剥
離を起こしエレクトロクロミック素子としての光学機能
を十分に発揮できない状態に至った。
【００３５】［比較例３］図１の構成において、多孔質
層１１の膜厚を３００ｎｍとした以外は実施例１と同様
にしてＥＣＤを作製した。
層１１の膜厚を３００ｎｍとした以外は実施例１と同様
にしてＥＣＤを作製した。
【００３６】かかるＥＣＤに、実施例１と同様に室温雰
囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となった。し
かし、この素子を７０℃の高温環境下に１０００時間放
置したところ、２．３秒にて光学濃度変化△ＯＤが０．
６となり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が大幅に低下
した。
囲気にて電極２，７間に電圧３Ｖを印加したところ、
１．２秒にて光学濃度変化△ＯＤが１．３となった。し
かし、この素子を７０℃の高温環境下に１０００時間放
置したところ、２．３秒にて光学濃度変化△ＯＤが０．
６となり、ＥＣＤの着色濃度及び応答速度が大幅に低下
した。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の全固体型
エレクトロクロミック素子は、特に高温環境下に放置し
ても着色濃度及び応答速度が低下せず、環境に左右され
ることなく良好に機能する。また、膜割れや膜剥離を起
こすこともなく、エレクトロクロミック素子としての光
学機能を十分に兼ね備えたものとなる。
エレクトロクロミック素子は、特に高温環境下に放置し
ても着色濃度及び応答速度が低下せず、環境に左右され
ることなく良好に機能する。また、膜割れや膜剥離を起
こすこともなく、エレクトロクロミック素子としての光
学機能を十分に兼ね備えたものとなる。
【図１】本発明の一実施例に係る全固体型エレクトロク
ロミック素子の模式的断面図である。
ロミック素子の模式的断面図である。
１ 透明ガラス基板 ２ 電極（透明導電膜） ３ 酸化発色性エレクトロクロミック層 ４ イオン透過ブロッキング層 ５ 固体電解質層 ６ 還元発色性エレクトロクロミック層 ７ 電極（透明導電膜） ８ 全固体型エレクトロクロミック素子 ９ 封止材 １０ 封止基材 １１ 多孔質層
Claims (4)
- 【請求項１】 透明な基材上に設けた全固体型エレクト
ロクロミック素子を封止材を介在させ封止基材にて封止
した構成において、前記封止基材の前記エレクトロクロ
ミック素子と対向する面上に、膜厚が０．５〜４μｍの
範囲の多孔質層を設けたことを特徴とする全固体型エレ
クトロクロミック素子。 - 【請求項２】 前記多孔質層の充填密度が、０．５〜
０．７ｇ／ｃｍ3 の範囲であることを特徴とする請求項
１に記載の全固体型エレクトロクロミック素子。 - 【請求項３】 前記封止材の厚みが、５〜２０μｍの範
囲であることを特徴とする請求項１または２に記載の全
固体型エレクトロクロミック素子。 - 【請求項４】 前記封止材が、紫外線硬化型の接着剤で
あることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の
全固体型エレクトロクロミック素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7275054A JPH0996840A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 全固体型エレクトロクロミック素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7275054A JPH0996840A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 全固体型エレクトロクロミック素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0996840A true JPH0996840A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17550208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7275054A Withdrawn JPH0996840A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 全固体型エレクトロクロミック素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0996840A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012220740A (ja) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 波長選択性を付与した全固体型反射調光エレクトロクロミック素子及びそれを用いた調光部材 |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP7275054A patent/JPH0996840A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012220740A (ja) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 波長選択性を付与した全固体型反射調光エレクトロクロミック素子及びそれを用いた調光部材 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021203 |