JPH0995763A - 耐摩耗性皮膜形成方法 - Google Patents
耐摩耗性皮膜形成方法Info
- Publication number
- JPH0995763A JPH0995763A JP25733995A JP25733995A JPH0995763A JP H0995763 A JPH0995763 A JP H0995763A JP 25733995 A JP25733995 A JP 25733995A JP 25733995 A JP25733995 A JP 25733995A JP H0995763 A JPH0995763 A JP H0995763A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- hob
- target
- wear
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐酸化性及び耐摩耗性の優れた皮膜を形成す
る。 【解決手段】 マルチアークイオンプレーティング装置
１のホルダー７に、ホブ（基材）１０を取り付けると共
に、ターゲット３の材質をＴｉ0.4 Ａｌ0.6 とする。ま
ずケーシング内をＡｒガス雰囲気としＴｉボンガードに
よりホブ１０を４００℃に昇温する。その後は、Ｎ2 ガ
スを供給しつつホブ１０にＤＣ−１００Ｖのバイアスを
印加してターゲット３上にアークを生じさせ、ホブ１０
の表面に成膜をする。
る。 【解決手段】 マルチアークイオンプレーティング装置
１のホルダー７に、ホブ（基材）１０を取り付けると共
に、ターゲット３の材質をＴｉ0.4 Ａｌ0.6 とする。ま
ずケーシング内をＡｒガス雰囲気としＴｉボンガードに
よりホブ１０を４００℃に昇温する。その後は、Ｎ2 ガ
スを供給しつつホブ１０にＤＣ−１００Ｖのバイアスを
印加してターゲット３上にアークを生じさせ、ホブ１０
の表面に成膜をする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、切削工具等の表面
に密着性の優れた耐摩耗皮膜を効率良く形成する耐摩耗
性皮膜形成方法に関するものである。
に密着性の優れた耐摩耗皮膜を効率良く形成する耐摩耗
性皮膜形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】高速度工具鋼等を製作する場合は、耐摩
耗性等の性能をより優れたものとすることを目的とし
て、工具の表面にＴｉ等の窒化物や炭化物よりなる耐摩
耗性皮膜を形成することが行なわれている。
耗性等の性能をより優れたものとすることを目的とし
て、工具の表面にＴｉ等の窒化物や炭化物よりなる耐摩
耗性皮膜を形成することが行なわれている。
【０００３】基材表面に耐摩耗性皮膜を形成する方法と
しては、従来よりＣＶＤ法（化学的蒸着法）及びＰＶＤ
法（物理的蒸着法）が知られている。しかし前者の方法
では母材が高温処理に浸されるため、母材特性が劣化す
るおそれがある。母材特性も適正視される工具の場合に
は、後者の方法が好まれ、例えばＰＶＤ法によるＴｉＮ
皮膜等が汎用されていた。このＴｉＮ皮膜は耐熱性が良
好であって、切削等の加工熱や摩擦熱による工具すくい
面のクレータ摩耗を抑制する機能を発揮する。
しては、従来よりＣＶＤ法（化学的蒸着法）及びＰＶＤ
法（物理的蒸着法）が知られている。しかし前者の方法
では母材が高温処理に浸されるため、母材特性が劣化す
るおそれがある。母材特性も適正視される工具の場合に
は、後者の方法が好まれ、例えばＰＶＤ法によるＴｉＮ
皮膜等が汎用されていた。このＴｉＮ皮膜は耐熱性が良
好であって、切削等の加工熱や摩擦熱による工具すくい
面のクレータ摩耗を抑制する機能を発揮する。
【０００４】しかしながら、近年切削速度の高速化が要
望されており、切削条件がより過酷化する傾向にあるた
め、上記した様な従来のＴｉＮ皮膜程度ではこの要請に
応えきれなくなっている。
望されており、切削条件がより過酷化する傾向にあるた
め、上記した様な従来のＴｉＮ皮膜程度ではこの要請に
応えきれなくなっている。
【０００５】そこで耐熱性や硬度が更に優れた皮膜とし
てイオンプレーティング法やスパッタ法によるＴｉＡｌ
Ｎ，ＴｉＡｌＣ，又はＴｉＡｌＣＮ等の皮膜が提案され
た（特開昭６２−５６５６５号，特開平２−１９４１５
９号）。
てイオンプレーティング法やスパッタ法によるＴｉＡｌ
Ｎ，ＴｉＡｌＣ，又はＴｉＡｌＣＮ等の皮膜が提案され
た（特開昭６２−５６５６５号，特開平２−１９４１５
９号）。
【０００６】特開昭６２−５６５６５号に示された発明
の要旨は次の通りである。基体部材の表面に、ＴｉとＡ
ｌの炭化物、窒化物、および炭窒化物のうちの１種の単
層または２種以上の複層からなる硬質被覆層を、０．５
〜１０μｍの層厚で形成してなる耐摩耗性のすぐれた表
面被覆硬質部材。
の要旨は次の通りである。基体部材の表面に、ＴｉとＡ
ｌの炭化物、窒化物、および炭窒化物のうちの１種の単
層または２種以上の複層からなる硬質被覆層を、０．５
〜１０μｍの層厚で形成してなる耐摩耗性のすぐれた表
面被覆硬質部材。
【０００７】特開平２−１９４１５９号に示された発明
の要旨は次の通りである。基材表面に耐摩耗性皮膜を形
成するに当たり、 （Ａｌ x Ｔｉ 1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ） 但し ０．５６≦ｘ≦０．７５ ０．６ ≦ｙ≦１ で示される化学組成からなり、膜厚が０．８〜１０μｍ
の耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアー
ク放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性
皮膜形成方法。
の要旨は次の通りである。基材表面に耐摩耗性皮膜を形
成するに当たり、 （Ａｌ x Ｔｉ 1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ） 但し ０．５６≦ｘ≦０．７５ ０．６ ≦ｙ≦１ で示される化学組成からなり、膜厚が０．８〜１０μｍ
の耐摩耗性皮膜を、蒸発源としてカソードを用いるアー
ク放電方式によって形成することを特徴とする耐摩耗性
皮膜形成方法。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来方法による皮膜の形成には次のような問題があ
った。
うな従来方法による皮膜の形成には次のような問題があ
った。
【０００９】まずイオンプレーティング法の場合の問題
について述べる。従来のイオンプレーティング法は、蒸
着るつぼ内で溶融・蒸発する方式であるため、蒸発源の
設置位置が制約される。このため、複雑な形状の基材を
皮膜する場合は生産性が悪い。また複数の金属を蒸発さ
せて基材表面上で合金化させたい場合が多いにもかかわ
らず、個々の蒸発金属には蒸気圧差があり、皮膜の合金
組成を安定的にコントロールすることが困難であった。
について述べる。従来のイオンプレーティング法は、蒸
着るつぼ内で溶融・蒸発する方式であるため、蒸発源の
設置位置が制約される。このため、複雑な形状の基材を
皮膜する場合は生産性が悪い。また複数の金属を蒸発さ
せて基材表面上で合金化させたい場合が多いにもかかわ
らず、個々の蒸発金属には蒸気圧差があり、皮膜の合金
組成を安定的にコントロールすることが困難であった。
【００１０】次にスパッタリング法の場合の問題につい
て述べる。従来のスパッタリング法では、複雑な形状の
基材を皮膜する場合の生産性が低い。更にターゲットと
してＴｉx Ａｌ1-x や（Ｔｉx Ａｌ1-x ）Ｎ等を使用す
る場合は、スパッタ率が経時的に変化し易いため、この
変化を見込んだ組成のターゲットを要する。またスパッ
タ粒子のイオン化率が低いため、基材に突入するイオン
量が少なく、従って十分な密着性が得られないという欠
点があった。しかも成膜速度が遅く量産化が困難であ
る。
て述べる。従来のスパッタリング法では、複雑な形状の
基材を皮膜する場合の生産性が低い。更にターゲットと
してＴｉx Ａｌ1-x や（Ｔｉx Ａｌ1-x ）Ｎ等を使用す
る場合は、スパッタ率が経時的に変化し易いため、この
変化を見込んだ組成のターゲットを要する。またスパッ
タ粒子のイオン化率が低いため、基材に突入するイオン
量が少なく、従って十分な密着性が得られないという欠
点があった。しかも成膜速度が遅く量産化が困難であ
る。
【００１１】次に組成に関する問題点について述べる。
特開昭６２−５６５６５号には、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ，
（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎおよび（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮと記述され
ているにとどまり、ＴｉとＡｌの比率またはＣとＮの比
率について明確な記述がなく、すべての組成を適用でき
るものではない。
特開昭６２−５６５６５号には、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ，
（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎおよび（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮと記述され
ているにとどまり、ＴｉとＡｌの比率またはＣとＮの比
率について明確な記述がなく、すべての組成を適用でき
るものではない。
【００１２】特開平２−１９４１５９号には、ＡｌＮ−
ＴｉＮ系全組成域について記述してあり、ＡｌＮを基本
組成としている。
ＴｉＮ系全組成域について記述してあり、ＡｌＮを基本
組成としている。
【００１３】本発明は、ＴｉＮ−ＡｌＮ系全組成域につ
いて詳細に調べ、ＴｉＮを基本組成としＴｉＮ単組成の
弱点をＡｌを添加し改善し、その組成域を特定したもの
であって、耐摩耗性及び密着性に優れた皮膜を効率よく
形成することのできるような耐摩耗性皮膜形成方法を提
供しようとするものである。
いて詳細に調べ、ＴｉＮを基本組成としＴｉＮ単組成の
弱点をＡｌを添加し改善し、その組成域を特定したもの
であって、耐摩耗性及び密着性に優れた皮膜を効率よく
形成することのできるような耐摩耗性皮膜形成方法を提
供しようとするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明は、基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、 （Ｔｉ x Ａｌ 1-x ）Ｎ 但し ０．４５≦ｘ≦０．８ で表わされる化学組成からなり、基材に加えるバイアス
電圧を−１００〜−６００［Ｖ］の直流電圧とし、膜厚
が２〜１５０［μｍ］の耐摩耗性皮膜を、蒸発源として
ターゲット上でアーク放電させるマルチアークイオンプ
レーティング方式によって形成することを特徴とする。
明は、基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当たり、 （Ｔｉ x Ａｌ 1-x ）Ｎ 但し ０．４５≦ｘ≦０．８ で表わされる化学組成からなり、基材に加えるバイアス
電圧を−１００〜−６００［Ｖ］の直流電圧とし、膜厚
が２〜１５０［μｍ］の耐摩耗性皮膜を、蒸発源として
ターゲット上でアーク放電させるマルチアークイオンプ
レーティング方式によって形成することを特徴とする。
【００１５】本発明においてはターゲット上でアーク放
電させるマルチアークイオンプレーティングにより成膜
を行う。その時には基板にバイアス電圧を印加すること
によって密着性の優れた皮膜が得られる。この様に得ら
れた皮膜の組成は、 （Ｔｉ x Ａｌ 1-x ）Ｎ 但し０．４５≦ｘ≦
０．８ であることが必要であり、この範囲に限定した理由を以
下に述べる。
電させるマルチアークイオンプレーティングにより成膜
を行う。その時には基板にバイアス電圧を印加すること
によって密着性の優れた皮膜が得られる。この様に得ら
れた皮膜の組成は、 （Ｔｉ x Ａｌ 1-x ）Ｎ 但し０．４５≦ｘ≦
０．８ であることが必要であり、この範囲に限定した理由を以
下に述べる。
【００１６】Ａｌ量（1-x ）が０．７５を超える場合
は、皮膜組成がＡｌＮに近似してくる結果、皮膜の軟質
化を招き、十分な硬度が得られずフランク摩耗を容易に
引き起す。一方（1-x ）が０．７５以下になると皮膜は
高硬度化しフランク摩耗量は減少する。高耐酸化特性を
有効に発揮する下限として以下の様に決めた。即ち（Ｔ
ｉ x Ａｌ 1-x ）Ｎ〔但しｘ＝０ ，０．４ ，
０．５ ，０．７５）を大中、昇温温度５℃／分で昇温
し酸化した場合の温度変化に対する酸化量の変化を測定
したところ、図３に示す結果が得られた。図３よりＴｉ
量が減少するにつれて酸化開始温度が上昇することがわ
かる。一方、工具切削中の刃先温度の上昇による皮膜の
酸化を十分に抑制するために、切削熱によるクレータ摩
耗量を低下させる必要があるためｘ＝０．４５と決め
た。
は、皮膜組成がＡｌＮに近似してくる結果、皮膜の軟質
化を招き、十分な硬度が得られずフランク摩耗を容易に
引き起す。一方（1-x ）が０．７５以下になると皮膜は
高硬度化しフランク摩耗量は減少する。高耐酸化特性を
有効に発揮する下限として以下の様に決めた。即ち（Ｔ
ｉ x Ａｌ 1-x ）Ｎ〔但しｘ＝０ ，０．４ ，
０．５ ，０．７５）を大中、昇温温度５℃／分で昇温
し酸化した場合の温度変化に対する酸化量の変化を測定
したところ、図３に示す結果が得られた。図３よりＴｉ
量が減少するにつれて酸化開始温度が上昇することがわ
かる。一方、工具切削中の刃先温度の上昇による皮膜の
酸化を十分に抑制するために、切削熱によるクレータ摩
耗量を低下させる必要があるためｘ＝０．４５と決め
た。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の各種実施例を説明
する。
する。
【００１８】まず第１実施例について説明する。第１実
施例では、図１に示すマルチアークイオンプレーティン
グ装置１を用いた。この装置１のケーシング２には、Ｔ
ｉ 0.4 Ａｌ0.6 でなる複数のターゲット３が備えられる
と共に、真空ポンプ４，Ａｒガス源５及びＮ2 ガス源６
が連通している。またケーシング２内には、ホルダー７
が配置されており、モータ８により回転する回転軸９上
にホルダー７が配置されている。本例では基材としての
ホブ１０がホルダー７に取り付けられている。そして電
源１１により、ホブ１０にマイナス直流電圧が印加さ
れ、各ターゲット３にプラス直流電圧が印加される。
施例では、図１に示すマルチアークイオンプレーティン
グ装置１を用いた。この装置１のケーシング２には、Ｔ
ｉ 0.4 Ａｌ0.6 でなる複数のターゲット３が備えられる
と共に、真空ポンプ４，Ａｒガス源５及びＮ2 ガス源６
が連通している。またケーシング２内には、ホルダー７
が配置されており、モータ８により回転する回転軸９上
にホルダー７が配置されている。本例では基材としての
ホブ１０がホルダー７に取り付けられている。そして電
源１１により、ホブ１０にマイナス直流電圧が印加さ
れ、各ターゲット３にプラス直流電圧が印加される。
【００１９】上記装置１を用いてホブ（基材）１０に成
膜を行うには、ケーシング２内を真空ポンプ４にて真空
引きすると共に、Ａｒガス源５からＡｒガスを供給し
て、ケーシング２内をＡｒガス雰囲気にする。更にモー
タ８を駆動してホルダ７及びホブ１０を回転させる。
膜を行うには、ケーシング２内を真空ポンプ４にて真空
引きすると共に、Ａｒガス源５からＡｒガスを供給し
て、ケーシング２内をＡｒガス雰囲気にする。更にモー
タ８を駆動してホルダ７及びホブ１０を回転させる。
【００２０】上記状態にしたところで、電源１１により
ホブ１０に対して−１０００Ｖの電圧を印加してプラズ
マを発生させる。これによりＴｉボンバードが誘起され
る。Ｔｉボンバードとはプラズマ中のＴｉプラス粒子が
ホブ（基材）１０に衝突することをいう。このＴｉボン
バードが発生すると、Ｔｉプラス粒子が持っている運動
エネルギーと熱により、ホブ１０の温度が上昇する。
ホブ１０に対して−１０００Ｖの電圧を印加してプラズ
マを発生させる。これによりＴｉボンバードが誘起され
る。Ｔｉボンバードとはプラズマ中のＴｉプラス粒子が
ホブ（基材）１０に衝突することをいう。このＴｉボン
バードが発生すると、Ｔｉプラス粒子が持っている運動
エネルギーと熱により、ホブ１０の温度が上昇する。
【００２１】上述したＴｉボンバードによりホブ１０の
温度を４００℃まで昇温させた後は、Ｎ2 ガス源６から
高純度のＮ2 ガスを３００ｃｃ／ｍｉｎづつケーシング
２内に供給する。更にホブ１０に−１００Ｖの直流バイ
アス電圧を印加してターゲット３上にアーク放電を生じ
させる。これによりホブ１０の表面に成膜をさせ、２．
５μｍになるまで耐摩耗性皮膜を形成した。なお成膜中
においてホブ１０を回しているので均一な成膜が得られ
る。
温度を４００℃まで昇温させた後は、Ｎ2 ガス源６から
高純度のＮ2 ガスを３００ｃｃ／ｍｉｎづつケーシング
２内に供給する。更にホブ１０に−１００Ｖの直流バイ
アス電圧を印加してターゲット３上にアーク放電を生じ
させる。これによりホブ１０の表面に成膜をさせ、２．
５μｍになるまで耐摩耗性皮膜を形成した。なお成膜中
においてホブ１０を回しているので均一な成膜が得られ
る。
【００２２】次に第２実施例について説明する。第２実
施例では、第１実施例と同じターゲット３を使用し、直
流バイアス電圧を−３００［Ｖ］印加し、第１実施例と
同様に２．５μｍまで成膜した。
施例では、第１実施例と同じターゲット３を使用し、直
流バイアス電圧を−３００［Ｖ］印加し、第１実施例と
同様に２．５μｍまで成膜した。
【００２３】次に第３実施例について説明する。第３実
施例では、マルチアーク式イオンプレーティング装置１
により、まずＴｉターゲットを使用しＴｉＮを１μｍ成
膜し、その後ＴｉＮ上に第１実施例と同条件で１．５μ
ｍ成膜した。
施例では、マルチアーク式イオンプレーティング装置１
により、まずＴｉターゲットを使用しＴｉＮを１μｍ成
膜し、その後ＴｉＮ上に第１実施例と同条件で１．５μ
ｍ成膜した。
【００２４】ここで比較例について説明する。比較例で
は、マルチアークイオンプレーティング装置により、Ｔ
ｉターゲットを使用しＴｉＮを２．５μｍ成膜した。昇
温方法及びコーティング条件は上記実施例と同様にし
た。
は、マルチアークイオンプレーティング装置により、Ｔ
ｉターゲットを使用しＴｉＮを２．５μｍ成膜した。昇
温方法及びコーティング条件は上記実施例と同様にし
た。
【００２５】上記第１〜第３実施例及び比較例により成
膜したホブにより切削テストを実施した。図２はテスト
結果を示し、次に示す表１は切削条件を示し、表２は被
削歯車諸元の条件を示す。
膜したホブにより切削テストを実施した。図２はテスト
結果を示し、次に示す表１は切削条件を示し、表２は被
削歯車諸元の条件を示す。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】切削テストの実施結果を示す図２からもわ
かるように、第１〜第３の各実施例は、比較例よりも耐
摩耗性が向上したことが判明した。
かるように、第１〜第３の各実施例は、比較例よりも耐
摩耗性が向上したことが判明した。
【００２９】
【発明の効果】以上実施例と共に具体的に説明したよう
に本発明によれば、化学組成を（Ｔｉx Ａｌ1-x ）Ｎ
但し０．４５≦ｘ≦０．８とし、バイアス電圧をＤＣ−
１００〜−６００［Ｖ］とし、マルチアークイオンプレ
ーティング方式により２〜１５０［μｍ］の耐摩耗性皮
膜を形成したため、ＴｉＮ皮膜よりも耐酸化性の優れた
皮膜が形成でき、耐摩耗性も向上する。
に本発明によれば、化学組成を（Ｔｉx Ａｌ1-x ）Ｎ
但し０．４５≦ｘ≦０．８とし、バイアス電圧をＤＣ−
１００〜−６００［Ｖ］とし、マルチアークイオンプレ
ーティング方式により２〜１５０［μｍ］の耐摩耗性皮
膜を形成したため、ＴｉＮ皮膜よりも耐酸化性の優れた
皮膜が形成でき、耐摩耗性も向上する。
【図１】本発明方法に用いるマルチアークイオンプレー
ティング装置を示す構成図。
ティング装置を示す構成図。
【図２】実施例と比較例の摩耗特性を示す特性図。
【図３】Ｔｉ量と酸化量の関係を示す特性図。
１ マルチアークイオンプレーティング装置 ２ ケーシング ３ ターゲット ４ 真空ポンプ ５ Ａｒガス源 ６ Ｎ2 ガス源 ７ ホルダー ８ モータ ９ 回転軸 １０ ホブ １１ 電源
Claims (1)
- 【請求項１】 基材表面に耐摩耗性皮膜を形成するに当
たり、 （Ｔｉ x Ａｌ 1-x ）Ｎ 但し ０．４５≦ｘ≦０．８ で表わされる化学組成からなり、 基材に加えるバイアス電圧を−１００〜−６００［Ｖ］
の直流電圧とし、 膜厚が２〜１５０［μｍ］の耐摩耗性皮膜を、蒸発源と
してターゲット上でアーク放電させるマルチアークイオ
ンプレーティング方式によって形成することを特徴とす
る耐摩耗性皮膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25733995A JPH0995763A (ja) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | 耐摩耗性皮膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25733995A JPH0995763A (ja) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | 耐摩耗性皮膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0995763A true JPH0995763A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17304998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25733995A Withdrawn JPH0995763A (ja) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | 耐摩耗性皮膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0995763A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006041367A1 (en) * | 2004-09-10 | 2006-04-20 | Sandvik Intellectual Property Ab | Pvd-coated cutting tool insert |
| CN105185498A (zh) * | 2015-08-28 | 2015-12-23 | 包头天和磁材技术有限责任公司 | 稀土永磁材料及其制造方法 |
| US10204724B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-02-12 | Yantai Shougang Magnetic Materials Inc. | Method of preparing a hard aluminum film on the surface of a Nd-Fe-B magnet |
-
1995
- 1995-10-04 JP JP25733995A patent/JPH0995763A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006041367A1 (en) * | 2004-09-10 | 2006-04-20 | Sandvik Intellectual Property Ab | Pvd-coated cutting tool insert |
| US7838132B2 (en) | 2004-09-10 | 2010-11-23 | Sandvik Intellectual Property Ab | PVD-coated cutting tool insert |
| US10204724B2 (en) | 2014-11-04 | 2019-02-12 | Yantai Shougang Magnetic Materials Inc. | Method of preparing a hard aluminum film on the surface of a Nd-Fe-B magnet |
| CN105185498A (zh) * | 2015-08-28 | 2015-12-23 | 包头天和磁材技术有限责任公司 | 稀土永磁材料及其制造方法 |
| CN105185498B (zh) * | 2015-08-28 | 2017-09-01 | 包头天和磁材技术有限责任公司 | 稀土永磁材料及其制造方法 |
| US10867727B2 (en) | 2015-08-28 | 2020-12-15 | Baotou Tianhe Magnetics Technology Co., Ltd. | Rare earth permanent magnet material and manufacturing method thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Sproul | Physical vapor deposition tool coatings | |
| JP5336476B2 (ja) | Ｐｖｄ被膜形成方法 | |
| US20200255953A1 (en) | Cutting tool with a multiple-ply pvd coating | |
| Alami et al. | High power pulsed magnetron sputtering: Fundamentals and applications | |
| US6033734A (en) | Method of coating metallic and ceramic substrates | |
| Matthews | Titanium nitride PVD coating technology | |
| Randhawa | Review of plasma-assisted deposition processes | |
| US5549975A (en) | Coated tool and cutting process | |
| CN107278177B (zh) | 具有TiAlN-ZrN涂层的整体硬质合金端铣刀 | |
| JPH0588310B2 (ja) | ||
| US20060016914A1 (en) | Coated nozzle for laser cutting | |
| Spalvins | Survey of ion plating sources | |
| JP6789503B2 (ja) | 硬質皮膜の成膜方法 | |
| CN113564539A (zh) | 氮化物涂层制备方法、氮化物涂层及其应用 | |
| JPH0995763A (ja) | 耐摩耗性皮膜形成方法 | |
| JP6397906B2 (ja) | 安定した反応性スパッタリング処理を行うためのターゲットエイジの補償方法 | |
| WO2002070776A1 (en) | Deposition process | |
| Pulker | Ion plating as an industrial manufacturing method | |
| GB2385062A (en) | Method of Applying Hard Coatings | |
| KR20120129445A (ko) | 내산화성 내마모성의 복합 다층 코팅층 제조. | |
| JP2590349B2 (ja) | 耐摩耗性膜被覆方法 | |
| Takahara et al. | Current and future PVD systems and coating technologies | |
| CN106967977A (zh) | 工模具表面复合氮化物涂层制备工艺 | |
| KR101054298B1 (ko) | 확산박막 증착 방법 | |
| JPH05106022A (ja) | 耐摩耗性硬質被膜の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030107 |