JPH0994462A - 水素添加用触媒および水素添加方法 - Google Patents

水素添加用触媒および水素添加方法

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JPH0994462A
JPH0994462A JP27628995A JP27628995A JPH0994462A JP H0994462 A JPH0994462 A JP H0994462A JP 27628995 A JP27628995 A JP 27628995A JP 27628995 A JP27628995 A JP 27628995A JP H0994462 A JPH0994462 A JP H0994462A
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JP
Japan
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compd
catalyst
hydrogenation
compound
reaction
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JP27628995A
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English (en)
Inventor
Eiji Furuno
英司 古野
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Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 特別に金属除去処理を行わなくても容易に無
色の水素添加物を得ることができる、水素添加活性の高
い触媒を提供する。 【解決手段】 (a)遷移金属化合物、(b)還元性有
機金属化合物および(c)有機ケイ素化合物からなる、
不飽和結合を有する有機化合物の水素添加用触媒。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、不飽和結合を有す
る有機化合物の水素添加に用いられる触媒およびこの触
媒を用いる水素添加方法に関し、さらに詳しくは、遷移
金属化合物と還元性有機金属化合物からなる均一系触
媒、および同触媒の存在下に、不飽和結合を有する有機
化合物に水素添加する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機化合物の改質の代表例に水素添加が
ある。特に、主鎖に不飽和結合を有する重合体において
は、徐々に酸化などによる劣化が進行することがある
が、それを防止するために、予め水素添加して、不飽和
結合を飽和結合に変えて改質し、劣化し難くすることが
広く行われている。
【0003】水素添加には反応を促進するために触媒が
用いられる。触媒としては、遷移金属化合物と還元性金
属化合物からなる均一系触媒と、触媒金属を担体に担持
させたものなどの不均一系触媒がある。不均一系触媒の
方が高活性であり、また、触媒の除去も容易である。し
かしながら、不均一系触媒を機能させるためには高温に
する必要があり、エネルギーの消耗が大きいため、一般
には均一系触媒が用いられる。
【0004】均一系触媒は、不均一系触媒と比べると比
較的低温でも機能するが、活性が低い。均一系触媒を多
量に用いて水素添加効率をあげると、反応生成物からの
触媒の除去が困難であり、多量の金属元素が汚染物とし
て水素添加物中に残存するという問題があった。
【0005】例えば、多くの分野で成形材料として用い
られるポリプロピレン類の改質に、1,4−ポリイソプ
レンの水素添加物を添加したり(特公平1−29213
号公報)、イソプレン・ブタジエン・ブロック共重合体
の水素添加物を添加する(特開平1−168743号公
報)ことが知られている。改質のために添加される重合
体水素添加物は、通常、均一系触媒を用いて水素添加し
たものであるが、水素添加触媒残渣などの金属汚染物を
十分に除去しないと着色しており、これを添加したポリ
プロピレン類の組成物も着色することがあった。
【0006】樹脂からの金属汚染物の除去方法として
は、一般に、凝集沈澱法、吸着法、洗浄法および水相抽
出法などが用いられる。凝集沈澱法は、樹脂溶液中に凝
集剤を加え、金属汚染物を凝集させて瀘過などによって
除去する方法である。しかしながら、凝集剤自体が汚染
物となり、樹脂に悪影響を与える場合があり、また、除
去効率が不十分な場合がある。吸着法は、必要に応じて
金属汚染物をキレート剤などで処理した後、吸着材など
に吸着させて分離する方法である。この方法は吸着カラ
ムなどの特別な分離設備が必要であり、吸着材は製造な
どが困難なため再利用が必要であるが、吸着後の再生が
困難であるという問題があった。
【0007】洗浄法は、樹脂の良溶媒溶液を多量の貧溶
媒中に注ぎ込んで樹脂を析出させて回収する洗浄を繰り
返す方法である。この方法は、多量の溶媒が必要であ
り、洗浄後の混合溶媒の処理、再利用が困難である。水
相抽出法は、金属汚染物の金属元素を錯体やイオンなど
の水に可溶な形態で水相中に抽出して重合体から分離す
る方法である。この方法では、一般に酸を用いて金属元
素を水に可溶な形態にする(例えば、米国特許第2,9
53,554号公報、特開昭55−17761号公報、
特開昭61−130304号公報など)ため、設備を耐
酸性のものにし、さらに処理後に中和する工程が必要に
なるなど、大規模な工業的生産には向かないという欠点
があった。
【0008】このような問題の解決策としてメタロセン
系触媒を用いた水素添加方法が提案されている。(特公
昭63−4841号公報、特開平1−275605号公
報、特開平1−275605号公報など)。メタロセン
系触媒は水素添加活性が高く、十分に水素添加するのに
必要な触媒使用量が少なく、そのため、特別に金属除去
処理を行わなくても、無色の水素添加物を容易に得られ
る。しかしながら、メタセロン系触媒は概して調製が困
難であり、大量生産に用いる触媒としては有利でなかっ
た。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、金属汚
染物の含有量の小さい水素添加物を効率よく得る方法の
開発を目的として、鋭意研究の結果、遷移金属化合物と
還元性金属化合物からなる均一触媒に有機ケイ素化合物
を併用して水素添加触媒として用いれば、容易に水素添
加活性を高くでき、十分に水素添加するのに必要な金属
元素量が少なく、そのため、特別に金属除去処理を行わ
なくても、容易に得られた水素添加物が無色になること
を見出し、本発明を完成するにいたった。
【0010】従って、本発明の目的は、不飽和結合を有
する有機化合物の水素添加に際し、特別に金属除去処理
を行わなくても容易に無色の水素添加物を得ることがで
きる水素添加活性の高い触媒を提供することにある。本
発明の他の目的は、水素添加活性の高い触媒系を用い
て、不飽和結合を有する有機化合物の水素添加を行い、
特別に金属処理を行わなくても容易に無色の水素添加物
を得ることができる水素添加方法を提供することにあ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、(a)
遷移金属化合物、(b)還元性有機金属化合物および
(c)有機ケイ素化合物からなることを特徴とする水素
添加用触媒が提供される。さらに、本発明によれば、
(a)遷移金属化合物、(b)還元性有機金属化合物お
よび(c)有機ケイ素化合物の存在下に、不飽和結合を
有する有機化合物を水素と接触させることを特徴とする
水素添加方法が提供される。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の水素添加方法において使
用する触媒は(a)遷移金属化合物、(b)還元性有機
金属化合物および(c)有機ケイ素化合物からなる。遷
移金属化合物としてはデミング周期律表の第1族および
第4族から第8族のいずれかに属する遷移金属の化合
物、例えば、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、コバ
ルト、バナジウム、チタン、クロム、モリブデン、ジル
コニウム、鉄、マンガンなどの遷移金属のアセチルアセ
トネート錯体、ステアレート、オクテート、ナフテー
ト、カルボキシレートなどのカルボキシル系化合物;ス
ルホネートなどの硫黄系化合物;トリフルオロアセター
ルなどのアセタール系化合物;塩化物、臭化物などのハ
ロゲン系化合物;ならびに飽和または不飽和の脂肪族化
合物のアルコーラート錯体などのアルコール系化合物な
どが挙げられる。遷移金属の中ではニッケル、パラジウ
ム、ルテニウム、コバルト、バナジウム、チタン、クロ
ムおよびモリブデンが好ましく、特にニッケル、パラジ
ウム、ルテニウムおよびコバルトが一層好ましい。ま
た、遷移金属化合物の形態としてはアセチルアセトネー
ト錯体、ステアレート、オクテート、ナフテート、カル
ボキシレートなどのカルボキシル系化合物が好ましい。
【0013】遷移金属化合物の具体例としては、テトラ
イソプロポキシチタネート、テトラブトキシチタネー
ト、チタノセンジクロリド、ビス−(シクロペンタジエ
ニル)−チタニウムジクロライドなどのチタン化合物、
ジルコノセンジクロリドなどのジルコニウム化合物、バ
ナドセンジクロリド、トリエチルバナデート、トリブチ
ルバナデートなどのバナジウム化合物、クロム(III)
アセチルアセトネートなどのクロム化合物、マンガン
(III)アセチルアセトネートなどのマンガン化合物、
鉄(III)アセチルアセトネートなどの鉄化合物、コバ
ルト(III)アセチルアセトネートなどのコバルト化合
物、ビス−(トリブチルホスフィン)−ニッケルジクロ
リド、ニッケル(II)アセチルアセトネート、ニッケル
(II)ステアレートなどのニッケル化合物が挙げられ
る。これらの中でもニッケル(II)アセチルアセトネー
ト、ニッケル(II)ステアレートおよびコバルト(II
I)アセチルアセトネートが好ましく、特に前二者が最
良である。
【0014】遷移金属化合物の使用量は、水素添加すべ
き不飽和結合を有する有機化合物100g当り、通常
0.001〜5.0ミリモル、好ましくは0.01〜
1.0ミリモルである。遷移金属化合物の使用量が過少
および過多いずれの場合であっても触媒の活性が低下す
る。
【0015】還元性有機金属化合物としては、デミング
の周期律表第1A、2A、2B、3Aおよび4A族の中
から選ばれた金属を金属成分として含む有機金属化合物
が用いられる。好ましい還元性有機金属化合物は次式
(1)で表わされる。 MRpq-p (1) 式(1)中、Mはデミングの周期律表第1A、2A、2
B、3Aおよび4A族の中から選ばれた金属であり、R
は炭化水素基、好ましくは、炭素数1〜10のアルキル
基およびアルケニル基、炭素数3〜10のシクロアルキ
ル基およびシクロアルケニル基、ならびに炭素数6〜1
0のアリール基、アルカリール基およびアラルキル基の
中から選ばれた炭化水素基であり、Xはフッ素原子、塩
素原子または臭素原子であり、pは1ないしMの原子価
の範囲の数であり、qはMの原子価に相当する数であ
る。
【0016】式(1)で表わされる還元性有機金属化合
物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエ
チルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
フェニルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウ
ムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアル
ミニウムヒドリドなどの有機アルミニウム化合物、メチ
ルリチウム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、
n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、イソブ
チルリチウム、n−ヘキシルリチウム、フェニルリチウ
ム、p−トリルリチウム、キシルリチウムなどの有機リ
チウム化合物、ジエチル亜鉛、ビス(シクロペンタジエ
ニル)亜鉛、ジフェニル亜鉛などの有機亜鉛化合物、お
よびジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、メ
チルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミ
ド、フェニルマグネシウムブロニド、メチルマグネシウ
ムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、フェニルマ
グネシウムクロリドなどの有機マグネシウム化合物が挙
げられる。これらの中では有機アルミニウム化合物が好
ましく、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニ
ウムおよびトリイソブチルアルミニウムが特に好まし
い。
【0017】還元性有機化合物の使用量は、遷移金属化
合物中の遷移金属1モル当り、通常1〜30ミリモル、
好ましくは2〜20ミリモルであり、使用量が過少およ
び過多いずれの場合であっても触媒の活性が低下する。
【0018】有機ケイ素化合物としては次式(2)で表
わされる化合物が好ましく用いられる。 Si1234 (2) 式(2)中、R1、R2、R3およびR4は、同一であって
も相違してもよく、炭素数1〜8のアルキル基および炭
素数1〜8のアルコキシ基、炭素数3〜8のシクロアル
キル基、炭素数6〜8のアリールオキシ基およびアラル
キル基、ならびにカルボキシル基の中から選ばれる基で
あり、好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基または炭
素数6〜8のアリールオキシ基である。
【0019】式(2)で表わされる有機ケイ素化合物の
具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトラプロポキシシラン、テトラ−n−ブト
キシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、メチルト
リメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テト
ラエチルシランなどが挙げられる。有機ケイ素化合物の
使用量は、遷移金属化合物中の遷移金属1モル当り、通
常0.1〜30ミリモル、好ましくは0.1〜10ミリ
モルであり、使用量が過少および過多いずれの場合であ
っても触媒の活性が低下する。
【0020】遷移金属化合物、還元性有機金属化合物お
よび有機ケイ素化合物は、これらを、そのまま水素添加
すべき有機化合物を含む反応液に加えてもよいが、これ
らの各成分を予め混合して触媒を調製することが好まし
い。より高活性の触媒が得られるからである。そのよう
な触媒は、それぞれの成分を溶液状態で混合し、混合液
を120℃以下、好ましくは20〜120℃において水
素ガスまたは窒素ガス雰囲気下に、より好ましくは20
〜60℃において水素ガス雰囲気下に反応させることに
よって調製される。温度が低過ぎると反応が進み難くな
り、逆に、温度が高過ぎるとエネルギー消費が増大する
のみでなく、反応の制御が困難となる。各溶液の調製に
用いる溶媒は、水素添加に用いる後記反応触媒の中から
適宜選ぶことができる。
【0021】水素添加の対象となる不飽和結合を有する
有機化合物は格別限定されないが、本発明の方法は主と
して不飽和結合を有する重合体樹脂の水素添加に適用さ
れる。不飽和結合を有する重合体樹脂としては炭化水素
重合体が挙げられ、その具体例としては、アニオン重合
し得る4〜12個の炭素原子を含む共役ジオレフィン、
例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、ピペリレ
ン、メチルペンタジエン、フェニルブタジエン、3,4
−ジメチル−1,3−ヘキサジエンおよび4,5−ジエ
チル−1,3−オクタジエンなどの重合体;スチレン、
種々のアルキル置換スチレン、アルコキシ置換スチレ
ン、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、ビニル
ナフタレンおよびアルキル置換ビニルナフタレンなどの
ビニルアリール化合物、その他の芳香族モノアルケニル
炭化水素、または芳香族モノアルケニリデン炭化水素の
少なくとも一種のポリマーブロックと少なくとも1種の
脂肪族共役ジエン炭化水素のポリマーブロックとからな
るブロック共重合体;ノルボルネン、ジシクロペンタジ
エン、テトラシクロドデセンおよびこれらのアルキル置
換体、アルケニル置換体などのノルボルネン系単量体の
開環重合体が挙げられる。
【0022】上記のような不飽和結合を有する重合体樹
脂の水素添加は、一般に有機溶媒溶液中で行われる。有
機溶媒としては、ベンゼン、トルエンおよびキシレンな
どの芳香族炭化水素、シクロヘキサンおよびメチルシク
ロヘキサンなどの脂環族炭化水素、n−ヘキサンなどの
直鎖系脂肪族炭化水素、メチレンジクロリド、ジクロル
エタン、ジクロルエチレン、テトラクロルエタン、クロ
ルベンゼン、ジクロルベンゼンおよびトリクロルベンゼ
ンなどのハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランおよびメチルエチルエーテルなどのエー
テル、ならびにアセトンなどのケトンが挙げられる。
【0023】水素添加反応は、温度0〜200℃、好ま
しくは20〜120℃、圧力0.1〜100kg/cm
2、好ましくは2〜40kg/cm2で行われる。温度お
よび圧力が高過ぎると反応の制御が困難となり、また、
温度および圧力が低過ぎると水素添加反応が進行し難
い。本発明によれば、少量の触媒を用いるだけで高い水
素添加活性が得られるので、水素添加反応終了後に特別
に金属処理を行わなくとも無色の水素添加物を得ること
ができる。所望ならば、水素添加反応終了後、水やアル
コールなどの触媒不活性化剤を用いて触媒を析出させ、
瀘過などによって除去したり、活性白土やアルミナなど
の吸着剤を添加して吸着除去することもできる。
【0024】
【実施例】以下、実施例について本発明の水素添加方法
を具体的に説明する。実施例1 (A)シクロヘキサン溶媒中でスチレン・イソプレン・
スチレン(SIS)ブロックコポリマー(分子量5万、
スチレン/イソプレン比3/7、TS30%)を重合
し、アルコールを添加して活性末端を失活したポリマー
を調製し、水素添加すべきベースポリマーとして使用し
た。 (B)30mlアンプルにニッケル(II)アセチルアセ
トネート51.2mg(0.2mmol)を入れ、シク
ロヘキサン20mlを加え、60℃水素雰囲気下にて攪
拌してニッケル(II)アセチルアセトネートを完全に溶
解させた。
【0025】(C)80mlアンプルにシクロヘキサン
溶媒17.4mlを入れ、60℃水素雰囲気下にてトリ
イソブチルアルミニウム(0.8M/シクロヘキサン)
3ml(2.4mmol)を加え攪拌し、次にテトラメ
トキシシラン(1.0M/シクロヘキサン)を1.2m
l(1.2mmol)加えた。 (D)溶液(C)に溶液(B)を加え、60℃水素雰囲
気下にて攪拌して触媒溶液を調製した。
【0026】SISブロックコポリマー溶液(A)64
gを330mlオートクレーブに加え、水素置換後80
℃に昇温した。これに触媒溶液(D)を4ml加え、水
素圧8Kgf/cm2 に上げ水素添加反応を開始した。
反応液の一部を採取して1H−NMRスペクトルを測定
し、(4.6〜5.4ppm付近のイソプレンC=C由
来のプロトンピークを測定)、それに基づいて水素添加
率を測定した。水素添加率は反応開始30分で約52
%、反応開始60分で約78%、反応開始120分で約
87%となった。
【0027】水素添加物のUVスペクトルを測定し、ス
チレン由来のスペクトルの吸収ピークの減少が観測され
ず、水素添加反応が100%選択的に進行した。GPC
測定より、水素添加反応前後のポリマーの分子量分布を
測定、分子量分布に広がりがなく、水素添加反応により
分子鎖の切断が起きていないことが確認された。反応液
をメタノール中に注ぎ、水素添加物を沈澱させたとこ
ろ、水素添加物に着色は認められなかった。
【0028】実施例2〜6、比較例1 触媒調製過程におけるトリイソブチルアルミニウムの使
用量およびテトラメトキシシランの使用量を表1に示す
ように変えた他は実施例1と同様に触媒を調製し、さら
に、実施例1と同様にSISブロックコポリマーの水素
添加を行った。実施例2〜6および比較例1における水
素添加率を実施例1の結果とともに表1に示す。反応液
をメタノール中に注ぎ、水素添加物を沈澱させたとこ
ろ、いずれも、水素添加物に着色は認められなかった。
なお、SISブロックコポリマーでは残存金属元素量が
100ppmを超えると着色が認められる。
【0029】
【表1】
【0030】実施例7〜11 触媒調製過程において使用する有機ケイ素化合物とし
て、テトラメトキシシランに代えて、テトラエトキシシ
ラン(実施例7)、テトラ−n−ブトキシシラン(実施
例8)、ジメチルジメトキシシラン(実施例9)、フェ
ニルトリメトキシシラン(実施例10)、テトラエチル
シラン(実施例11)をそれぞれ用いた他は実施例1と
同様に触媒を調製し、さらに、実施例1と同様にSIS
ブロックコポリマーの水素添加を行った。結果を表2に
示す。反応液をメタノール中に注ぎ、水素添加物を沈澱
させたところ、いずれも、水素添加物に着色は認められ
なかった。
【0031】
【表2】
【0032】実施例12 触媒調製過程において使用する遷移金属化合物としてニ
ッケル(II)アセチルアセトネートに代えて等モル量の
ニッケル(II)ステアレートを用いた他は実施例1と同
様に触媒を調製し、さらに、実施例1と同様にSISブ
ロックコポリマーの水素結果を行った。水素添加率は、
反応開始30分で約46%、反応開始60分で約73
%、反応開始120分で約84%となった。反応液をメ
タノール中に注ぎ、水素添加物を沈澱させたところ、水
素添加物に着色は認められなかった。
【0033】実施例13 (E)シクロヘキサン溶媒中でスチレン・ブタジエン・
スチレン(SBS)ブロックコポリマー(分子量8万、
スチレン/ブタジエン比29/71、TS20%)を重
合し、アルコールを添加して活性末端を失活したポリマ
ーを調製し、水素添加すべきベースポリマーとして使用
した。 (B)30mlアンプルにニッケル(II)アセチルアセ
トネート51.2mg(0.2mmol)を入れ、シク
ロヘキサン20mlを加え、60℃水素雰囲気下にて攪
拌してニッケル(II)アセチルアセトネートを完全に溶
解させた。
【0034】(C)80mlアンプルにシクロヘキサン
溶媒17.4mlを入れ、60℃水素雰囲気下にてトリ
イソブチルアルミニウム(0.8M/シクロヘキサン)
3ml(2.4mmol)を加え攪拌し、次にテトラメ
トキシシラン(1.0M/シクロヘキサン)を1.2m
l(1.2mmol)加えた。 (D)溶液(C)に溶液(B)を加え、60℃水素雰囲
気下にて攪拌して触媒溶液(D)を調製した。
【0035】SBSブロックコポリマー溶液(E)64
gを330mlオートクレーブに加え、水素置換後80
℃に昇温した。これに触媒溶液(D)を2.7ml加
え、水素圧を8Kgf/cm2に上げ水素添加反応を開
始した。反応液の一部を採取して1H−NMRスペクト
ルを測定し、(4.6〜5.4ppm付近のブタジエン
C=C由来のプロトンピークを測定)、それに基づいて
水素添加率を測定したところ、反応開始10分で約29
%、反応開始20分で約52%、反応開始90分で約9
5%となった。また、水素添加物のUVスペクトルを測
定したところ、スチレン由来の吸収ピークの減少が観測
されず、水素添加反応が100%選択的に進行した。
【0036】GPC測定より、水素添加反応前後のポリ
マーの分子量分布を測定、分子量分布に広がりがなく、
水素添加反応により分子鎖の切断が起きていないことが
確認された。反応液をメタノール中に注ぎ、水素添加物
を沈澱させたところ、水素添加物に着色は認められなか
った。
【0037】実施例14 (A)シクロヘキサン溶媒中でSISブロックコポリマ
ー(分子量5万、スチレン/イソプレン比3/7、TS
30%)を重合し、アルコールを添加して活性末端を失
活したポリマーを調製し、水素添加すべきベースポリマ
ーとして使用した。 (F)30mlアンプルにニッケル(II)アセチルアセ
トネート153.6mg(0.59mmol)を入れ、
シクロヘキサン21.6mlを加え、攪拌しながらトリ
イソブチルアルミニウム(0.8M/シクロヘキサン)
3ml(2.4mmol)を添加し、チーグラー触媒
(F)を調製した。
【0038】SISブロックコポリマー溶液(A)64
gを330mlオートクレーブに加え、水素置換後80
℃に昇温した。このSISブロックコポリマー溶液
(A)に攪拌しながら、テトラメトキシシラン(0.0
5M/シクロヘキサン)を1.18ml(0.059m
mol)加え、次にトリイソブチルアルミニウム(0.
0975M/シクロヘキサン)3.08mlを加え、さ
らにテトラメトキシシラン(0.05M/シクロヘキサ
ン)を1.2ml(1.2mmol)加えた。最後にチ
ーグラー触媒(F)を1.54ml加え、水素圧を8K
gf/cm2に上げ水素添加反応を開始した。
【0039】反応液の一部を採取して1H−NMRスペ
クトルを測定し(4.6〜5.4ppm付近のイソプレ
ンC=C由来のプロトンピークを測定)、それに基づい
て水素添加率を測定したところ、反応開始20分で約3
2%、反応開始60分で約68%、反応開始110分で
約81%となった。反応液をメタノール中に注ぎ、水素
添加物を沈澱させたところ、水素添加物に着色は認めら
れなかった。
【0040】実施例15 (A)シクロヘキサン溶媒中でSISブロックコポリマ
ー(分子量5万、スチレン/イソプレン比3/7、TS
30%)を重合し、アルコールを添加して活性末端を失
活したポリマーを調製し、水素添加すべきベースポリマ
ーとして使用した。 (G)30mlアンプルに60℃水素雰囲気下にてトリ
イソブチルアルミニウム(0.0975M/シクロヘキ
サン)1.54ml(0.148mmol)を加え、さ
らにテトラメトキシシラン(0.05M/シクロヘキサ
ン)を2.37ml(0.118mmol)加え、最後
にチーグラー溶媒(F)を0.77ml加え、触媒溶液
(G)を調製した。
【0041】SISブロックコポリマー溶液(A)64
gを330mlオートクレーブに加え、水素置換後80
℃に昇温した。これに触媒溶液(G)を4.68ml加
え、水素圧を8Kgf/cm2に上げ水素添加反応を開
始した。反応液の一部を採取して1H−NMRスペクト
ルを測定し(4.6〜5.4ppm付近のイソプレンC
=C由来のプロトンピークを測定)、それに基づいて水
素添加率を測定したところ、反応開始30分で約47
%、反応開始60分で約69%、反応開始140分で約
84%となった。反応液をメタノール中に注ぎ、水素添
加物を沈澱させたところ、水素添加物に着色は認められ
なかった。
【0042】比較例2 SISブロックコポリマー溶液(A)64gを330m
lオートクレーブに加え、水素置換後80℃に昇温し
た。これにチーグラー触媒(F)を6.14ml加え、
水素圧を8Kgf/cm2に上げ水素添加反応を開始し
た。反応液の一部を採取して1H−NMRスペクトルを
測定し(4.6〜5.4ppm付近のイソプレンC=C
由来のプロトンピークを測定)、それに基づいて水素添
加率を測定したところ、反応開始90分で約59%とな
った。
【0043】比較例3 SBSブロックコポリマー溶液(E)64gを330m
lオートクレーブに加え、水素置換後80℃に昇温し
た。これに、チーグラー触媒(F)を1.67ml加
え、水素圧を8Kgf/cm2に上げ水素添加反応を開
始した。反応液の一部を採取して1H−NMRスペクト
ルを測定し(4.6〜5.4ppm付近のイソプレンC
=C由来のプロトンピークを測定)、それに基づいて水
素添加率を測定したところ、反応開始90分で約72%
となった。反応液をメタノール中に注ぎ、水素添加物を
沈澱させたところ、水素添加物に着色は認められなかっ
た。
【0044】
【発明の効果】本発明の(a)遷移金属化合物、(b)
還元性有機金属化合物および(c)有機ケイ素化合物か
らなる触媒は、水素添加活性が高く、水素添加に必要な
金属元素量が少なく、そのため特別に金属除去処理を行
わなくとも、容易に実質的に無色の水素添加物を得るこ
とができる。
【0045】
【好ましい実施態様】
(a)遷移金属化合物、(b)還元性有機金属化合物お
よび(c)有機ケイ素化合物からなることを特徴とする
本発明の触媒、およびこの触媒の存在下に、不飽和結合
を有する有機化合物を水素と接触させることを特徴とす
る本発明の水素添加方法の好ましい実施態様をまとめる
と以下のとおりである。
【0046】(1)遷移金属化合物が、デミング周期律
表の第1族および第4族から第8族のいずれかに属する
遷移金属の化合物、より好ましくはニッケル、パラジウ
ム、ルテニウム、コバルト、バナジウム、チタン、クロ
ムおよびモリブデンの中から選ばれた遷移金属の化合物
である。 (2)遷移金属化合物がニッケル、パラジウム、ルテニ
ウムおよびコバルトの中から選ばれた遷移金属アセチル
アセトネート錯体またはカルボキシレート系化合物であ
る。
【0047】(3)遷移金属化合物がニッケル(II)ア
セチルアセトネート、ニッケル(II)ステアレートまた
はコバルト(III)アセチルアセトネートである。 (4)遷移金属化合物の使用量は、水素添加すべき不飽
和結合を有する有機化合物100g当り、0.001〜
5.0ミリモル、より好ましくは0.01〜1.0ミリ
モルである。 (5)還元性有機金属化合物が、デミングの周期律表第
1A、2A、2B、3Aおよび4A族の中から選ばれた
金属を金属成分として含む有機金属化合物である。
【0048】(6)還元性有機金属化合物が次式(1)
で表わされる化合物である。 MRpq-p (1) 式(1)中、Mはデミングの周期律表第1A、2A、2
B、3Aおよび4A族の中から選ばれた金属であり、R
は炭化水素基、好ましくは、炭素数1〜10のアルキル
基およびアルケニル基、炭素数3〜10のシクロアルキ
ル基およびシクロアルケニル基、ならびに炭素数6〜1
0のアリール基およびアラルキル基の中から選ばれた炭
化水素基であり、Xはフッ素原子、塩素原子または臭素
原子であり、pは1ないしMの原子価の範囲の数であ
り、qはMの原子価に相当する数である。
【0049】(7)還元性有機金属化合物が有機アルミ
ニウム化合物、より好ましくはトリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウムまたはトリイソブチルアル
ミニウムである。 (8)還元性有機化合物の使用量は、遷移金属化合物中
の遷移金属1モル当り、1〜30ミリモル、より好まし
くは2〜20ミリモルである。
【0050】(9)有機ケイ素化合物が次式(2)で表
わされる化合物である。 Si1234 (2) 式(2)中、R1、R2、R3およびR4は、同一であって
も相違してもよく、炭素数1〜8のアルキル基および炭
素数1〜8のアルコキシ基、炭素数3〜8のシクロアル
キル基、炭素数6〜8のアリールオキシ基およびアラル
キル基、ならびにカルボキシル基の中から選ばれる基で
あり、好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基または炭
素数6〜8のアリールオキシ基である。
【0051】(10)有機ケイ素化合物の使用量は、遷
移金属化合物中の遷移金属1モル当り、0.1〜30ミ
リモル、より好ましくは0.1〜10ミリモルである。 (11)遷移金属化合物、還元性有機金属化合物および
有機ケイ素化合物は、それぞれの成分を溶液状態で混合
し、混合液を120℃以下、より好ましくは20〜12
0℃において、水素ガスまたは窒素ガス雰囲気下に、よ
り好ましくは20〜60℃において水素ガス雰囲気下に
反応させることによって水素添加触媒系調製し、該触媒
系の存在下に有機化合物の水素添加が行われる。 (12)不飽和結合を有する有機化合物が炭化水素重合
体である。
【0052】(13)不飽和結合を有する有機化合物が
4〜12個の炭素原子を含む共役ジオレフィンの重合
体、または芳香族モノアルケニル炭化水素もしくは芳香
族モノアルケニリデン炭化水素の少なくとも一種のポリ
マーブロックと少なくとも1種の脂肪族共役ジエン炭化
水素のポリマーブロックとからなるブロック共重合体で
ある。 (14)水素添加反応は、有機溶媒中において温度0〜
200℃、より好ましくは20〜120℃、圧力0.1
〜100kg/cm2、より好ましくは2〜40kg/
cm2で行われる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)遷移金属化合物、(b)還元性有
    機金属化合物および(c)有機ケイ素化合物からなるこ
    とを特徴とする水素添加用触媒。
  2. 【請求項2】 (a)遷移金属化合物、(b)還元性有
    機金属化合物および(c)有機ケイ素化合物の存在下
    に、不飽和結合を有する有機化合物を水素と接触させる
    ことを特徴とする水素添加方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003509520A (ja) * 1999-07-09 2003-03-11 ザ ダウ ケミカル カンパニー 2価のジエン含有ビスシクロペンタジエニルiv族金属触媒を用いる不飽和ポリマーの水素化
JP2007301449A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Tsrc Corp 共役ジエン重合体の水素化方法
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RU2625452C1 (ru) * 2016-06-24 2017-07-14 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Иркутский государственный университет" (ФГБОУ ВО "ИГУ") Никелевый катализатор гидрирования аренов

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