JPH0989213A - 流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置 - Google Patents

流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置

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JPH0989213A
JPH0989213A JP7244332A JP24433295A JPH0989213A JP H0989213 A JPH0989213 A JP H0989213A JP 7244332 A JP7244332 A JP 7244332A JP 24433295 A JP24433295 A JP 24433295A JP H0989213 A JPH0989213 A JP H0989213A
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JP
Japan
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fluidized bed
bed boiler
injection nozzle
exhaust gas
temperature gas
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JP7244332A
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Yasuo Yoshii
泰雄 吉井
Tomohiko Miyamoto
知彦 宮本
Jinichi Tomuro
仁一 戸室
Toru Inada
徹 稲田
Nobuyuki Hokari
信幸 穂刈
Katsuya Oki
勝弥 大木
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Hitachi Ltd
Mitsubishi Power Ltd
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Babcock Hitachi KK
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 流動層ボイラ装置の燃焼器から発生する
NOX を低減するためのNH3 注入による無触媒脱硝装
置において、NH3 注入時のNH3 酸化反応によるNO
X の生成を抑制して効果的にNOX を無害な窒素に変換
する。また、NH 3 供給ノズルの摩耗やNH3 噴出孔の
飛散灰による目詰まりを防止する。 【効果】 流動層ボイラ8、該流動層ボイラの排ガス流
路8a側に配置した排ガス中の灰を捕集する脱塵装置1
5、16、該脱塵装置からの排気ガスをガスタービン1
8へ導く高温ガス配管14とを具備した流動層ボイラ装
置において、前記高温ガス配管14の位置にNH3 注入
ノズル1を設置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は流動層ボイラ装置の
無触媒脱硝装置に関し、特に、流動層ボイラの燃焼器か
ら発生する窒素酸化物(以下NOX と略する)を低減す
るために燃焼排ガス中にNH3 注入するようにした形式
の無触媒脱硝装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】石炭燃料を用いるいわゆる流動層ボイラ
は、燃焼排ガスでガスタービンを駆動して発電を行う発
電プラント等に有効に用いられている。流動層ボイラは
比較的低温での燃焼のためにNOX の発生量が他の燃焼
装置と比較して少ないものであるが、なおクリーンな燃
焼を得べく、種々の低NOx 対策が講じられている。そ
の一つとして、燃焼排ガス中へのNH3 注入による無触
媒脱硝方法が知られており、例えは、特開平5−773
1号公報には、流動層ボイラの排ガス通路に排ガス中の
ダストを分離する集塵装置を設け、除塵された排ガスで
ガスタービンを駆動すると共にガスタービンに直結され
た圧縮機から流動層ボイラへ燃焼用空気を供給して燃焼
させ、排ガス通路内にはNH3 注入ノズルを配置して流
動層ボイラの排ガスを脱硝するものにおいて、排ガス通
路におけるNH3 注入ノズルの配置位置をNH3 注入ノ
ズルからサイクロン等の脱塵装置までの距離がガス滞留
時間で0.5秒以下の前流側に配置することが提案され
ている。
【0003】また、EP0502088B1公報には、
排ガス中のNOX と注入するNH3との混合を促進する
目的で、NH3 注入ノズルをサイクロンに設置してい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記の
流動層ボイラの排ガスにNH3 を注入することによる無
触媒脱硝方法について実験と研究を継続して行ってきて
いるが、その過程において、燃焼装置から飛散する石炭
灰中にCaOが含有されている場合、このCaOはNH
3 を酸化し、窒素酸化物(NOX )の生成を促進する触
媒作用(NH3 +O2 →NOX )を有する事実を知っ
た。図9は反応管にCaOを充填した場合とブランクの
場合とでのNH3 のNOx への転化率を示すグラフであ
り、CaOがNH3 をNOx に酸化する能力を持つこと
が判る。
【0005】そこで、流動層ボイラでの燃焼装置につい
て考察すると、流動層ボイラでの燃焼装置では、炉内で
脱硫するために炉内に炭酸カルシウム(CaCO3 )な
どの脱硫剤が充填されており、このCaCO3 は高温下
で脱炭酸されCaOを生成する。すなわち、流動層ボイ
ラでの燃焼装置から飛散する石炭灰中には、通常、約1
0%〜20%のCaOが含有されており、前記のように
CaOはNH3 を酸化して窒素酸化物(NOX )の生成
を促進する触媒作用(NH3 +O2 →NOX )があるこ
とから、排ガス中の飛散灰を充分に除去せずに脱硝の目
的でNH3 を注入すると、NH3 酸化反応によるNOX
の生成反応がある程度進行してしまい、無触媒脱硝反応
の効率が低下する。従って、上記提案のようにNH3
入ノズルを脱塵装置の上流位置あるいは脱塵装置中に配
置する形式の無触媒脱硝装置では、供給したNH3 がN
X 還元反応に有効に使用されないという問題を有して
いる。
【0006】また、排ガス中の飛散粒子濃度が高い位置
にNH3 注入ノズルが設置されることから、ノズルが摩
耗したり、NH3 噴出孔が飛散灰によって目詰まりする
という問題があった。さらに、2個のサイクロンを直列
に配置して粒径の大小に応じた2段の集塵を行うように
した脱塵装置を排ガス流路に配置した流動層ボイラでの
燃焼装置において、1次と2次のサイクロンの間にNH
3 注入ノズルを配置する場合には、脱硝効率の低下はあ
る程度回避可能であると考えられるが、なお完全とはい
えず、さらに、石炭灰粒子はその平均粒子径が小さくな
るほど圧壊強度(固着性)は大きくなり石炭灰同志の固
着性は強くなるが、一次サイクロン出口の石炭灰(2次
サイクロン捕集灰)粒径は通常3〜4μmと小さく固着
性が強いことから、1次と2次のサイクロンの間にNH
3 注入ノズルを配置する場合には、NH3 注入ノズルへ
の石炭灰付着は大きくなり、NH3 噴出孔の目詰まりが
発生し易いという問題があった。
【0007】従って、本発明の目的は、NH3 注入時の
NH3 酸化反応によるNOX の生成を抑制し、効果的に
NOX を無害な窒素に変換することのできる流動層ボイ
ラ装置の無触媒脱硝装置を得ることにある。本発明の他
の目的は、飛散灰によるNH3 注入ノズルの摩耗を防止
し、かつ、NH3 噴出孔の飛散灰による目詰まりを防止
することのできる流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置を
得ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するために、流動層ボイラ、該流動層ボイラの排ガス
出口側に配置した排ガス中の灰を捕集する脱塵装置、該
脱塵装置からの排気ガスをガスタービンへ導く高温ガス
配管とを具備した流動層ボイラ装置において、前記高温
ガス配管の位置にNH3 注入ノズルを設置したことを特
徴とする。
【0009】脱塵装置は1個でもよく、複数個が直列に
配置されていてもよい。いずれであっても、脱塵装置は
前記高温ガス配管の位置に、すなわち、最後流側に位置
する脱塵装置よりも下流側の位置に配置される。また、
好ましくは、NH3 注入ノズルと該NH3 注入ノズルが
貫通する高温ガス配管との間にはセラミックスペーパの
ような高温ガスシール材が配置される。
【0010】
【作用】このような構成とすることにより、飛散灰中の
CaOによるNH3 酸化反応を抑制して無触媒脱硝反応
の効率を向上し、また飛散灰によるNH3 注入ノズルの
摩耗は防止され、NH3 噴出孔の飛散灰による目詰まり
も防止される。
【0011】
【実施例】以下、本発明による流動層ボイラ装置の無触
媒脱硝装置を図面を参照した実施例の説明によりより詳
しく説明する。図1は流動層ボイラ装置を用いた発電プ
ラントの概要を示す図であり、流動層ボイラ8の底部に
は空気分散板11を配置し、この空気分散板11の上に
は石炭、石灰石、燃焼灰等の固体粒子によって流動層9
が形成され、流動層9内には伝熱管10が配置されてい
る。この流動層ボイラ8への流動化用及び燃焼用空気
は、圧縮機17、空気ダクト13より空気分散板11の
下のウインドボックス12へ供給され、空気分散板11
を経て流動層9へ供給される。そして、流動層3で燃焼
した燃焼熱は流動層9の伝熱管10で熱吸収され水蒸気
を発生する。この水蒸気は図示しないスチームタービン
等へ送られる。
【0012】他方、流動層ボイラ8から排ガス通路8a
へ飛散した粒径の大きい脱硫剤及び捕集灰は一次脱塵装
置である一次サイクロン15で捕集され、一次サイクロ
ン15で捕集されなかった粒径の小さい脱硫剤及び捕集
灰は二次脱塵装置である二次サイクロン16に入り、こ
の二次サイクロン16で捕集される。そして、排ガスは
高温ガス配管14を経てガスタービン18に入り、発電
機19で発電を行うと共に、圧縮機17の駆動源とな
る。なお、ガスタービン18からの排ガスは給水ヒータ
20でその排熱が熱回収され、煙突17から大気へ放出
される。
【0013】上記の流動層ボイラ装置を用いた発電プラ
ントは従来知られたものであり、本発明においては、排
ガス中にNH3 を注入するためのNH3 注入ノズル1
が、二次サイクロン16からの排気ガスをガスタービン
18へ導く高温ガス配管14内(好ましくは、二次サイ
クロン16の直後流位置での高温ガス配管14内)に設
置されていることを特徴とする。該NH3 注入ノズル1
は管路2及びそこに接続する管路3を介してNH3 貯蔵
タンク5に接続しており、該管路3にはNH3 供給用調
整弁4が配置される。また、管路2の他端側は前記圧縮
機17からの空気ダクト13から分岐した希釈空気用供
給管6に接続しており、該希釈空気用供給管6には希釈
空気供給用調整弁7が配置される。
【0014】この装置は、流動層ボイラを持つ通常のプ
ラントと同様にして稼働される。そして、稼働中に、N
3 供給用調整弁4及び希釈空気供給用調整弁7の開度
を適宜調節してNH3 と空気の混合気(通常、NH3
5容量%程度の混合気)をNH3 注入ノズル1から高温
ガス配管14内へ供給する。NH3 の供給が必要とされ
ない場合にはNH3 供給用調整弁4は閉じられるが、そ
の際にも、NH3 注入ノズル1の噴出孔が目づまりしな
いように希釈空気用供給管6からは絶えず空気を供給す
ることが望ましい。
【0015】上記のように、この装置において、NH3
注入ノズル1は2次サンクロン16の後流位置である高
温ガス配管14内に設置している。一次サイクロン15
及び二次サイクロン16において流動層ボイラ8からの
飛散粒子の90%以上を捕集できるので、NH3 注入位
置での排ガス中のCaO量はきわめて少なく、NH3
化反応の抑制は可能となる。また飛散灰によるNH3
入ノズル1の摩耗やNH3 噴出孔の目詰まりを防止する
こともできる。
【0016】しかし、この装置においては、噴出された
NH3 が高温領域を維持するガスタービン18に至るま
での排ガスと共存する滞留時間が従来のものより短くな
ることから、NH3 と排ガス中のNOX とをできるだけ
短い時間で混合できるようなノズル構造とすることが望
まれる。そのために、図2に示すように、ノズル管25
を高温ガス配管14に貫通させ、そこに多数のノズル孔
24を排ガスの流れに直交する方向にNH3 混合気が噴
出されるように配置したノズル構造とすることが望まれ
る。通常、燃焼負荷100%の高負荷時では高温ガス配
管14内の排ガス温度は850℃程度と高く、NH3
入位置からガスタービン18の入り口までの滞留時間を
数秒程度となるように設計することにより、目標のNO
X 値まで低減することは十分に可能である。
【0017】図3は図1に示す本発明による装置を用い
た場合と、従来のようにNH3 注入ノズルを脱塵装置の
上流側に配置した場合でのNOx 脱硝率の比較を示すも
のであり、広い反応温度にわたって本発明による流動層
ボイラ装置の無触媒脱硝装置が高い脱硝率を示している
ことが判る。図4は本発明による流動層ボイラ装置の無
触媒脱硝装置の他の実施例であり、ここでは、NH3
入ノズル1に接続する管路2に分岐管路6aを設け、該
分岐管路6aを流量調節弁7aを介して酸素を含まない
不活性ガスを貯蔵した希釈ガス貯蔵タンク22に接続し
ている。この実施例では、NH3 供給用調整弁4と不活
性ガスの流量調節弁7aの開度を調節して、例えば、酸
素を含まない不活性ガス95%、NH3 5%程度の混合
ガスとしてNH3 注入ノズル1から排ガス中に供給する
ので、酸素とNH3 の反応によるNOX の生成を確実に
抑制することができる。
【0018】図5は本発明による流動層ボイラ装置の無
触媒脱硝装置のさらに他の実施例であり、ここでは、N
3 注入ノズル1に接続する管路2に分岐管路6bを設
け、該分岐管路6bを流量調節弁7b及びコンプレッサ
ー23を介して、NH3 注入ノズル1の設置個所よりも
下流側での高温ガス配管14に接続している。この例に
おいては、分岐管路6bに導入される排ガスは酸素濃度
が5%以下と低いので、希釈ガスとして図1の実施例の
ように圧縮機からの空気を用いた場合と比較して、NH
3 酸化反応によるNOX の生成を抑制することができ
る。
【0019】次に、この装置に用いるNH3 注入ノズル
1の装着の態様について説明する。図6a、bはNH3
注入ノズル1の高温ガス配管14への装着態様の一実施
例を示している(図6bは図6aのA−A" 線での部分
断面図である)。この例において、高温ガス配管14
は、外筒29と内筒であるライナ28との間に断熱材2
6を充填した構成であり、それにより、高温ガス配管1
4の表面(外筒29の表面側)への熱の伝導を防止して
いる。該高温ガス配管14を貫通してNH3 注入ノズル
1のノズル管25が挿入されるが、前記ライナ28とN
3 ノズル25本体とのすき間から排ガスが高温ガス配
管14の内部(断熱材26方向)に漏れないように、セ
ラミックペーパホルダー31に介装したセラミックペー
パ27により密封している。セラミックペーパ27は高
温ガス配管14に対し平行方向に、ノズル管25の外周
に締め付けられる。ライナ28は高温ガスに触れている
ため、熱的に伸縮することがあるが、この伸縮は該セラ
ミックペーパ27により吸収される。
【0020】図7a、bはNH3 注入ノズル1の高温ガ
ス配管14への装着態様の他の実施例を示している(図
7bは図7aのA−A" 線での部分断面図である)。こ
の例では、密封材としてのセラミックペーパ27は高温
ガス配管14に対し垂直方向に締め付けられる。すなわ
ち、NH3 注入ノズル1のノズル管25には径方向にセ
ラミックペーパホルダー31が固定され、該セラミック
ペーパホルダー31とライナ28との間にセラミックペ
ーパ27が配置され、NH3 注入ノズル1は外筒29に
形成したフランジ29aに対してシートパッキン30を
介して前記セラミックペーパ27を押圧した状態でネジ
止めされる。ライナ28の熱による伸縮は、ライナ28
とNH3 ノズル管25との間のすき間Sにより吸収され
る。
【0021】図8はNH3注入ノズル1の高温ガス配管
14への装着態様のさらに他の実施例を示している。こ
の例では、NH3 ノズル管25の外周部はSiO2 、A
23 、MgCO3 のような成分からなる耐火材32
で覆われている。この例でも、ライナ28の伸縮はライ
ナ28と耐火材32との間のすき間Sにより吸収可能で
ある。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、流動層ボイラ装置にお
いてその排ガス中の飛散粒子濃度が低い位置(すなわ
ち、脱塵装置からの排気ガスをガスタービンへ導く高温
ガス配管の位置)にNH3 注入ノズルを設置したので、
飛散粒子中のCaOによるNH3酸化反応を抑制するこ
とができ、かつ、ノズル管の摩耗やNH3 噴出孔の飛散
灰による目詰まりを防止できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による流動層ボイラ装置の無触媒脱硝
装置の一実施例の概略系統図。
【図2】 NH3 注入ノズルの取り付け態様の概要を説
明する図。
【図3】 本発明による流動層ボイラ装置の無触媒脱硝
装置と従来装置とでの脱硝率の違いを示すグラフ。
【図4】 本発明による流動層ボイラ装置の無触媒脱硝
装置の他の実施例の概略系統図。
【図5】 本発明による流動層ボイラ装置の無触媒脱硝
装置のさらに他の実施例の概略系統図。
【図6】 NH3 注入ノズルの取り付け態様の一実施例
を説明する図。
【図7】 NH3 注入ノズルの取り付け態様の他の実施
例を説明する図。
【図8】 NH3 注入ノズルの取り付け態様のさらに他
の実施例を説明する図。
【図9】 CaOによるNH3 酸化反応促進程度を示す
グラフ。
【符号の説明】
1…NH3 注入ノズル、2…希釈NH3 供給のための管
路、3…NH3 供給のための管路、4…NH3 供給用調
整弁、5…NH3 貯蔵タンク、6…希釈空気供給のため
の管路、7…希釈空気供給用調整弁、8…流動層ボイ
ラ、8a…排ガス流路、9…流動層、10…伝熱管、1
1…分散板、12…燃焼空気用ウインドボックス、13
…燃焼空気用ダクト、14…高温ガス配管、15…1次
サイクロン、16…2次サイクロン、17…圧縮機、1
8…ガスタービン、19…発電機、20…排熱回収器、
21…煙突、22…希釈ガス貯蔵タンク、23…コンプ
レッサー、24…アンモニア噴出孔、25…NH3 ノズ
ル管、26…断熱材、27…セラミックペーパ、28…
ライナ、29…外筒、30…シートパッキン、31…セ
ラミックペーパホルダー、32…耐火材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸室 仁一 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 稲田 徹 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 穂刈 信幸 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 大木 勝弥 広島県呉市宝町6番9号 バブコック日立 株式会社呉工場内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流動層ボイラ、該流動層ボイラの排ガス
    出口側に配置した排ガス中の灰を捕集する脱塵装置、該
    脱塵装置からの排気ガスをガスタービンへ導く高温ガス
    配管とを具備した流動層ボイラ装置において、前記高温
    ガス配管の位置にNH3 注入ノズルを設置したことを特
    徴とする流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置。
  2. 【請求項2】 該流動層ボイラの排ガス出口側と該高温
    ガス配管との間に複数の脱塵装置が直列に配置されてい
    ることを特徴とする請求項1記載の流動層ボイラ装置の
    無触媒脱硝装置。
  3. 【請求項3】 前記高温ガス配管内に設置されたNH3
    注入ノズルに空気又は酸素を含まない不活性ガスを供給
    する手段をさらに有することを特徴とする請求項1又は
    2に記載の流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置。
  4. 【請求項4】 前記高温ガス配管におけるNH3 注入ノ
    ズルの配置位置よりも下流側に分岐管を設け、該分岐管
    からの排気ガスをコンプレッサーを介してNH3 注入ノ
    ズルに供給するようにしたことを特徴とする請求項1又
    は2に記載の流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置。
  5. 【請求項5】 前記NH3 注入ノズルと該NH3 注入ノ
    ズルが貫通する高温ガス配管との間に高温ガスシール材
    を配置したことを特徴とする請求項1ないし4いずれか
    記載の流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置。
JP7244332A 1995-09-22 1995-09-22 流動層ボイラ装置の無触媒脱硝装置 Pending JPH0989213A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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