JPH0739720A - 流動層ボイラの無触媒脱硝方法 - Google Patents
流動層ボイラの無触媒脱硝方法Info
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- JPH0739720A JPH0739720A JP5189606A JP18960693A JPH0739720A JP H0739720 A JPH0739720 A JP H0739720A JP 5189606 A JP5189606 A JP 5189606A JP 18960693 A JP18960693 A JP 18960693A JP H0739720 A JPH0739720 A JP H0739720A
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- Japan
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- fluidized bed
- exhaust gas
- gas
- boiler
- bed boiler
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明の目的は、燃焼器排ガス中のＮＯｘを効
率よく低減する。ボイラ全負荷範囲においてＮＨ3 注入
時のＮＨ3 酸化反応によるＮＯｘの生成を抑制する。 【構成】流動層及びフリーボード部を有する流動層ボイ
ラの燃焼排ガスに、燃焼ガス或いは／または酸素を含有
しない不活性ガスで希釈したＮＨ3 を供給する。 【効果】本発明によれば、燃焼器排ガス中のＮＯｘを効
率よく低減でき、ＮＨ3 酸化反応によるＮＯｘの生成、
かつＣＯ生成を抑制することができる。
率よく低減する。ボイラ全負荷範囲においてＮＨ3 注入
時のＮＨ3 酸化反応によるＮＯｘの生成を抑制する。 【構成】流動層及びフリーボード部を有する流動層ボイ
ラの燃焼排ガスに、燃焼ガス或いは／または酸素を含有
しない不活性ガスで希釈したＮＨ3 を供給する。 【効果】本発明によれば、燃焼器排ガス中のＮＯｘを効
率よく低減でき、ＮＨ3 酸化反応によるＮＯｘの生成、
かつＣＯ生成を抑制することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は燃焼器から発生する窒素
酸化物（以下ＮＯｘと略する）を低減するための方法に
係り、特に流動層ボイラのＮＨ3 注入による無触媒脱硝
方法に関する。
酸化物（以下ＮＯｘと略する）を低減するための方法に
係り、特に流動層ボイラのＮＨ3 注入による無触媒脱硝
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のＮＨ3 注入による無触媒脱硝装置
では、たとえば特公昭62−169917号公報に記載のよう
に、流動層炉のフリーボード部に可燃ガス燃焼用二次空
気と共にＮＨ3 を供給していた。
では、たとえば特公昭62−169917号公報に記載のよう
に、流動層炉のフリーボード部に可燃ガス燃焼用二次空
気と共にＮＨ3 を供給していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来方法では、二次空
気によりＮＨ3が希釈され、ＮＨ3酸化反応によるＮＯｘ
の生成が促進され、供給したＮＨ3 がＮＯｘ還元反応に
有効に使用されない。また特に未燃のカーボンが多く存
在するフリーボード部等では、二次空気中の酸素により
カーボンが不完全燃焼してＣＯを発生する恐れがある。
また、室温の二次空気と共にＮＨ3 を燃焼排ガスに注入
すると、ＣＯが増大する傾向が見られ、特にＮＨ3 を注
入する前の未燃分が多い時に、ＮＨ3 注入時のＣＯ増加
量が多くなる傾向がある。
気によりＮＨ3が希釈され、ＮＨ3酸化反応によるＮＯｘ
の生成が促進され、供給したＮＨ3 がＮＯｘ還元反応に
有効に使用されない。また特に未燃のカーボンが多く存
在するフリーボード部等では、二次空気中の酸素により
カーボンが不完全燃焼してＣＯを発生する恐れがある。
また、室温の二次空気と共にＮＨ3 を燃焼排ガスに注入
すると、ＣＯが増大する傾向が見られ、特にＮＨ3 を注
入する前の未燃分が多い時に、ＮＨ3 注入時のＣＯ増加
量が多くなる傾向がある。
【０００４】本発明の目的は、ＮＨ3 注入時のＮＨ3 酸
化反応によるＮＯｘの生成を抑制し、効果的に排ガス中
のＮＯｘを低減する方法を提供することにある。
化反応によるＮＯｘの生成を抑制し、効果的に排ガス中
のＮＯｘを低減する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、流動層及びフ
リーボード部を有する流動層ボイラにＮＨ3 を注入し燃
焼排ガス中のＮＯｘを低減する方法において、前記ＮＨ
3 を酸素濃度が空気中より低いガスで希釈して供給する
ことを特徴とする。
リーボード部を有する流動層ボイラにＮＨ3 を注入し燃
焼排ガス中のＮＯｘを低減する方法において、前記ＮＨ
3 を酸素濃度が空気中より低いガスで希釈して供給する
ことを特徴とする。
【０００６】前記ＮＨ3 を希釈するガスとしては、ガス
中の酸素濃度が通常の空気中の酸素濃度（約２０％）よ
り低いと効果は表れるが、流動層ボイラの燃焼排ガスの
酸素濃度以下である方が効果が大きく好ましい。できれ
ば、酸素濃度が４或いは５％以下であることが望まし
い。
中の酸素濃度が通常の空気中の酸素濃度（約２０％）よ
り低いと効果は表れるが、流動層ボイラの燃焼排ガスの
酸素濃度以下である方が効果が大きく好ましい。できれ
ば、酸素濃度が４或いは５％以下であることが望まし
い。
【０００７】ＮＨ3 を希釈するために下記のガスの一部
を利用することができる。
を利用することができる。
【０００８】例えば、前記流動層ボイラから発生する燃
焼排ガス，流動層上部またはフリーボード部のガス，他
の燃焼装置等からの燃焼排ガス，酸素を含有しない不活
性ガス。
焼排ガス，流動層上部またはフリーボード部のガス，他
の燃焼装置等からの燃焼排ガス，酸素を含有しない不活
性ガス。
【０００９】本発明では、流動層ボイラの燃焼排ガスま
たは酸素を含まない不活性ガスによりＮＨ3 を予め希釈
し、希釈したＮＨ3 を注入ノズルから供給する構成にす
ることができる。
たは酸素を含まない不活性ガスによりＮＨ3 を予め希釈
し、希釈したＮＨ3 を注入ノズルから供給する構成にす
ることができる。
【００１０】前記ガスにより希釈されたＮＨ3 を、排気
ガスダクト内または前記流動層ボイラ内に設置した１以
上のＮＨ3 注入ノズルから供給することができる。
ガスダクト内または前記流動層ボイラ内に設置した１以
上のＮＨ3 注入ノズルから供給することができる。
【００１１】前記流動層ボイラ及び排気ガスダクトに２
以上のＮＨ3 注入ノズルを備え、前記流動層ボイラ内或
いは前記排気ガスダクトで前記燃焼排ガス温度を測定
し、前記ノズルの中から選択したノズルからＮＨ3 を注
入することもできる。
以上のＮＨ3 注入ノズルを備え、前記流動層ボイラ内或
いは前記排気ガスダクトで前記燃焼排ガス温度を測定
し、前記ノズルの中から選択したノズルからＮＨ3 を注
入することもできる。
【００１２】ボイラ負荷が低い時に、ＮＨ3 注入領域の
前記燃焼排ガス温度を所定の温度に昇温する設備を設置
してもよい。例えば、高温ガス発生装置により空気中よ
り酸素濃度の低い高温ガスを供給したり、補助燃焼ボイ
ラ等により燃焼排ガスを昇温する加熱手段を備えること
ができる。
前記燃焼排ガス温度を所定の温度に昇温する設備を設置
してもよい。例えば、高温ガス発生装置により空気中よ
り酸素濃度の低い高温ガスを供給したり、補助燃焼ボイ
ラ等により燃焼排ガスを昇温する加熱手段を備えること
ができる。
【００１３】燃料とＮＨ3 との混合物及び空気を排気ガ
スダクト内に供給し、前記排気ガスダクト内で燃料を燃
焼させることもできる。
スダクト内に供給し、前記排気ガスダクト内で燃料を燃
焼させることもできる。
【００１４】
【作用】本発明では、ＮＨ3 希釈用ガスとして流動層ボ
イラからの燃焼排ガスのように空気中より酸素濃度が低
いガスまたは酸素を含まない不活性ガスを使用する。
イラからの燃焼排ガスのように空気中より酸素濃度が低
いガスまたは酸素を含まない不活性ガスを使用する。
【００１５】このため、希釈されたＮＨ3 を前記ボイラ
の燃焼排ガス中に添加した場合、ＮＨ3 の酸化反応によ
りＮＯｘが生成することを抑制でき、かつ、燃焼排ガス
中に含まれる飛散チャーと酸素の反応によりＣＯが生成
することを抑制できる。このため、前記排ガスの効率良
い脱硝ができる。
の燃焼排ガス中に添加した場合、ＮＨ3 の酸化反応によ
りＮＯｘが生成することを抑制でき、かつ、燃焼排ガス
中に含まれる飛散チャーと酸素の反応によりＣＯが生成
することを抑制できる。このため、前記排ガスの効率良
い脱硝ができる。
【００１６】また、流動層ボイラでは負荷が低いと排ガ
ス温度が低くなり、脱硝効果が低下するという問題があ
った。
ス温度が低くなり、脱硝効果が低下するという問題があ
った。
【００１７】本発明により、加熱手段で排ガス温度を上
昇させることにより、ＮＨ3 注入領域の燃焼排ガスの温
度を高温に保つことができるので、低負荷時でも効率良
く脱硝反応を進行させることができる。また、前記流動
層発電プラントからの燃焼排ガスにより作動するガスタ
ービンを配置した場合、より高温のガスをタービンに導
入できるため、高効率発電に寄与することができる。
昇させることにより、ＮＨ3 注入領域の燃焼排ガスの温
度を高温に保つことができるので、低負荷時でも効率良
く脱硝反応を進行させることができる。また、前記流動
層発電プラントからの燃焼排ガスにより作動するガスタ
ービンを配置した場合、より高温のガスをタービンに導
入できるため、高効率発電に寄与することができる。
【００１８】
（実施例１）図１は本発明の一実施例の流動層発電プラ
ントの概要図である。燃焼負荷100％の高負荷時では流
動層ボイラ１４の火炉出口からガスタービン２５の入口
までの排気ガスダクト２０，ガスタービン入口ダクト２
３での排ガス温度は８５０℃程度と高いので、ＮＨ3 注
入ノズル１は目標のＮＯｘ値まで低減するのに必要な反
応時間が確保できる位置に設置する。ＮＨ3 供給用調整
弁４，希釈ガス供給用調整弁７を開き、弁１１，１３を
閉じることでＮＨ3 注入ノズル１からＮＨ3 と空気の混
合気を排気ガスダクト２０内へ供給する。ＮＨ3 注入ノ
ズル１の噴出孔が目づまりしないように希釈ガス用供給
管６，１２は集塵装置の後流位置から分岐することが望
ましい。希釈ガス用供給管には供給圧力を高めるための
コンプレッサー２９が設置してある。希釈ガス用供給管
６，１２に導入される排ガスは酸素濃度が５％以下と低
いので、ＮＨ3 酸化反応によるＮＯｘの生成を抑制する
ことができ、かつ飛散チャーと酸素の反応によるＣＯ生
成を抑制することができる。低負荷時は排ガス温度が６
００℃と低くなるので、ＮＨ3 供給用調整弁１１，希釈
ガス供給用調整弁１３を開き、弁４，７を閉じることで
流動層ボイラ１４のフリーボード内に設置されたＮＨ3
注入ノズル８からＮＨ3 と排ガスの混合気をフリーボー
ド内へ供給することで、ＮＨ3 注入ノズル１から供給す
るより滞留時間を長くし低温でも反応が進行するように
する。
ントの概要図である。燃焼負荷100％の高負荷時では流
動層ボイラ１４の火炉出口からガスタービン２５の入口
までの排気ガスダクト２０，ガスタービン入口ダクト２
３での排ガス温度は８５０℃程度と高いので、ＮＨ3 注
入ノズル１は目標のＮＯｘ値まで低減するのに必要な反
応時間が確保できる位置に設置する。ＮＨ3 供給用調整
弁４，希釈ガス供給用調整弁７を開き、弁１１，１３を
閉じることでＮＨ3 注入ノズル１からＮＨ3 と空気の混
合気を排気ガスダクト２０内へ供給する。ＮＨ3 注入ノ
ズル１の噴出孔が目づまりしないように希釈ガス用供給
管６，１２は集塵装置の後流位置から分岐することが望
ましい。希釈ガス用供給管には供給圧力を高めるための
コンプレッサー２９が設置してある。希釈ガス用供給管
６，１２に導入される排ガスは酸素濃度が５％以下と低
いので、ＮＨ3 酸化反応によるＮＯｘの生成を抑制する
ことができ、かつ飛散チャーと酸素の反応によるＣＯ生
成を抑制することができる。低負荷時は排ガス温度が６
００℃と低くなるので、ＮＨ3 供給用調整弁１１，希釈
ガス供給用調整弁１３を開き、弁４，７を閉じることで
流動層ボイラ１４のフリーボード内に設置されたＮＨ3
注入ノズル８からＮＨ3 と排ガスの混合気をフリーボー
ド内へ供給することで、ＮＨ3 注入ノズル１から供給す
るより滞留時間を長くし低温でも反応が進行するように
する。
【００１９】排気ガスが排気ガスダクトから大気中へ排
出されるまで間に、ガス中のＮＨ3やＮＯｘを検出する
センサと、該センサの信号によりＮＨ3 の注入場所，量
等を選択する制御部を設けて、排気ガスダクトの下流に
設けたガスタービンのブレード等の腐食や大気へＮＨ3
やＮＯｘの排出量を制御することもできる。流動層ボイ
ラの出力を基に、前記制御を行うこともできる。
出されるまで間に、ガス中のＮＨ3やＮＯｘを検出する
センサと、該センサの信号によりＮＨ3 の注入場所，量
等を選択する制御部を設けて、排気ガスダクトの下流に
設けたガスタービンのブレード等の腐食や大気へＮＨ3
やＮＯｘの排出量を制御することもできる。流動層ボイ
ラの出力を基に、前記制御を行うこともできる。
【００２０】また、前記ノズルは、前記流動層ボイラの
壁面や排気ガスダクトに複数個所設けることが好まし
い。
壁面や排気ガスダクトに複数個所設けることが好まし
い。
【００２１】（実施例２）図２は本発明の一実施例の流
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 希釈ガス用供
給管６，１２はガスタービンの排ガス流路から分岐され
ている。燃焼負荷１００％の高負荷時には排気ガスダク
ト２０内に設置されたＮＨ3 注入ノズル１からＮＨ3 と
排ガスの混合ガスを供給し、低負荷時は流動層ボイラ１
４のフリーボード内に設置されたＮＨ3 注入ノズル８か
らＮＨ3 と排ガスの混合気をフリーボード内へ供給す
る。
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 希釈ガス用供
給管６，１２はガスタービンの排ガス流路から分岐され
ている。燃焼負荷１００％の高負荷時には排気ガスダク
ト２０内に設置されたＮＨ3 注入ノズル１からＮＨ3 と
排ガスの混合ガスを供給し、低負荷時は流動層ボイラ１
４のフリーボード内に設置されたＮＨ3 注入ノズル８か
らＮＨ3 と排ガスの混合気をフリーボード内へ供給す
る。
【００２２】前記流動層ボイラ及び排気ガスダクトに２
個以上のＮＨ3 注入ノズルを備え、所定の位置で前記燃
焼排ガス温度を測定し、前記ノズルの内から選択したノ
ズルからＮＨ3 を注入し高い浄化効率を得ることができ
る。
個以上のＮＨ3 注入ノズルを備え、所定の位置で前記燃
焼排ガス温度を測定し、前記ノズルの内から選択したノ
ズルからＮＨ3 を注入し高い浄化効率を得ることができ
る。
【００２３】（実施例３）図３は本発明の一実施例の流
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 希釈ガス用供
給管６，１２は流動層ボイラ１４のフリーボード内から
導入されている。燃焼負荷１００％の高負荷時には排気
ガスダクト２０内に設置されたＮＨ3 注入ノズル１から
ＮＨ3 と排ガスの混合ガスを供給し、低負荷時は流動層
ボイラ１４のフリーボード内に設置されたＮＨ3 注入ノ
ズル８からＮＨ3 と排ガスの混合気をフリーボード内へ
供給する。フリーボード内に設置されたＮＨ3 希釈ガス
用供給管６，１２の導入口の圧力はＮＨ3 注入ノズル
１，８の圧力よりも高いので、この場合、ＮＨ3 希釈ガ
ス用供給管６，１２にはコンプレッサーは設置しなくて
よい。
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 希釈ガス用供
給管６，１２は流動層ボイラ１４のフリーボード内から
導入されている。燃焼負荷１００％の高負荷時には排気
ガスダクト２０内に設置されたＮＨ3 注入ノズル１から
ＮＨ3 と排ガスの混合ガスを供給し、低負荷時は流動層
ボイラ１４のフリーボード内に設置されたＮＨ3 注入ノ
ズル８からＮＨ3 と排ガスの混合気をフリーボード内へ
供給する。フリーボード内に設置されたＮＨ3 希釈ガス
用供給管６，１２の導入口の圧力はＮＨ3 注入ノズル
１，８の圧力よりも高いので、この場合、ＮＨ3 希釈ガ
ス用供給管６，１２にはコンプレッサーは設置しなくて
よい。
【００２４】（実施例４）図４は本発明の一実施例の流
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 希釈ガスとし
て酸素を含まない不活性ガス３０を使用しているので、
ＮＨ3 の酸化反応によるＮＯｘの生成，飛散チャーの酸
化反応によるＣＯの生成を抑制できる。
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 希釈ガスとし
て酸素を含まない不活性ガス３０を使用しているので、
ＮＨ3 の酸化反応によるＮＯｘの生成，飛散チャーの酸
化反応によるＣＯの生成を抑制できる。
【００２５】（実施例５）図５は本発明の一実施例の流
動層発電プラント概要図である。ＮＨ3 注入ノズル１の
上流部には高温ガスノズル３３が設置してある。空気中
より酸素濃度が低い高温ガスを高温発生装置から高温ガ
スノズル３３を経て供給し、流動層ボイラからの排ガス
温度を高める。高温発生装置は、例えばヒータや燃焼器
を用いる。ボイラ負荷が低くなると流動層からの排ガス
温度が低くなり、ＮＨ3 によるＮＯ還元反応の活性も低
くなるので、ＮＨ3 をフリーボードへ供給するなどして
反応時間を長くする必要があった。そこでＮＨ3 注入ノ
ズル１の上流部には高温ガスノズル３３を設置して、こ
こから高温の低酸素ガスを供給すればＮＯ−ＮＨ3 反応
場の温度は高くなり、ボイラ負荷が低い時でもＮＨ3 に
よるＮＯ還元反応を効果的に進行させることができる。
動層発電プラント概要図である。ＮＨ3 注入ノズル１の
上流部には高温ガスノズル３３が設置してある。空気中
より酸素濃度が低い高温ガスを高温発生装置から高温ガ
スノズル３３を経て供給し、流動層ボイラからの排ガス
温度を高める。高温発生装置は、例えばヒータや燃焼器
を用いる。ボイラ負荷が低くなると流動層からの排ガス
温度が低くなり、ＮＨ3 によるＮＯ還元反応の活性も低
くなるので、ＮＨ3 をフリーボードへ供給するなどして
反応時間を長くする必要があった。そこでＮＨ3 注入ノ
ズル１の上流部には高温ガスノズル３３を設置して、こ
こから高温の低酸素ガスを供給すればＮＯ−ＮＨ3 反応
場の温度は高くなり、ボイラ負荷が低い時でもＮＨ3 に
よるＮＯ還元反応を効果的に進行させることができる。
【００２６】（実施例６）図６は本発明の一実施例の流
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 注入ノズル１
の上流部には燃料ノズル３４，空気ノズル３８が設置し
てある。これらは燃料ノズル３４から供給される燃料の
燃焼により高温の低酸素ガスを形成し、ＮＯ−ＮＨ3 反
応場の温度を高くし、ボイラ負荷が低い時でもＮＨ3 に
よるＮＯ還元反応を効果的に進行できる。空気ノズル３
８は必要であれば設置する。
動層発電プラントの概要図である。ＮＨ3 注入ノズル１
の上流部には燃料ノズル３４，空気ノズル３８が設置し
てある。これらは燃料ノズル３４から供給される燃料の
燃焼により高温の低酸素ガスを形成し、ＮＯ−ＮＨ3 反
応場の温度を高くし、ボイラ負荷が低い時でもＮＨ3 に
よるＮＯ還元反応を効果的に進行できる。空気ノズル３
８は必要であれば設置する。
【００２７】（実施例７）図７はＮＨ3 注入時のＣＯ排
出量を示したものである。ＮＨ3 希釈ガスに空気を用い
ているため各炭種においてＮＨ3 を注入するとＣＯが増
大する傾向がある。これは飛散チャーがＮＨ3 希釈空気
により低温で不完全燃焼したためと考えられる。特にＮ
Ｈ3 注入する前の未燃分が多い時は、ＮＨ3 注入時のＣ
Ｏ増加量は多くなる傾向がある。破線で示すようにＮＨ
3 を空気で希釈した場合に対し、実線のＮＨ3 を燃焼排
ガスで希釈した場合はＣＯ排出量を減少させることがで
きる。
出量を示したものである。ＮＨ3 希釈ガスに空気を用い
ているため各炭種においてＮＨ3 を注入するとＣＯが増
大する傾向がある。これは飛散チャーがＮＨ3 希釈空気
により低温で不完全燃焼したためと考えられる。特にＮ
Ｈ3 注入する前の未燃分が多い時は、ＮＨ3 注入時のＣ
Ｏ増加量は多くなる傾向がある。破線で示すようにＮＨ
3 を空気で希釈した場合に対し、実線のＮＨ3 を燃焼排
ガスで希釈した場合はＣＯ排出量を減少させることがで
きる。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、ＮＨ3 酸化反応による
ＮＯｘの生成を抑制することができ、排ガス中のＮＯ
ｘ，ＣＯを低減できる効果がある。またボイラ負荷が低
い時でもＮＨ3 注入領域の温度を高温に保つことができ
るので、低負荷時でも効率良く脱硝反応を進行させるこ
とができる。
ＮＯｘの生成を抑制することができ、排ガス中のＮＯ
ｘ，ＣＯを低減できる効果がある。またボイラ負荷が低
い時でもＮＨ3 注入領域の温度を高温に保つことができ
るので、低負荷時でも効率良く脱硝反応を進行させるこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例の流動層発電プラント概要
図。
図。
【図２】本発明の一実施例の流動層発電プラント概要
図。
図。
【図３】本発明の一実施例の流動層発電プラント概要
図。
図。
【図４】本発明の一実施例の流動層発電プラント概要
図。
図。
【図５】本発明の一実施例の流動層発電プラント概要
図。
図。
【図６】本発明の一実施例の流動層発電プラント概要
図。
図。
【図７】ＮＨ3 注入時のＣＯ排出量を示したグラフ。
１，８…ＮＨ3 注入ノズル、２，９…希釈ＮＨ3 供給
管、３，１０…ＮＨ3 供給管、４，１１…ＮＨ3 供給用
調整弁、５…ＮＨ3 貯蔵タンク、６，１２…希釈ガス用
供給管、７，１３…希釈ガス供給用調整弁、１４…流動
層ボイラ、１５…流動層、１６…伝熱管、１７…分散
板、１８…燃焼空気用ウインドボックス、１９…燃焼空
気用ダクト、２０…排気ガスダクト、２１…１次サイク
ロン、２２…２次サイクロン、２３…ガスタービン入口
ダクト、２４…圧縮機、２５…ガスタービン、２６…発
電機、２７…排熱回収器、２８…煙突、２９…コンプレ
ッサー、３０…不活性ガスの貯蔵タンク、３１…高温ガ
ス発生装置、３２…排気ガス供給管、３３…高温ガスノ
ズル、３４…燃料ノズル、３５…燃料供給管、３６…燃
料供給用調整弁、３７…燃料貯蔵タンク、３８…空気ノ
ズル、３９…空気供給用調整弁、４０…空気供給管。
管、３，１０…ＮＨ3 供給管、４，１１…ＮＨ3 供給用
調整弁、５…ＮＨ3 貯蔵タンク、６，１２…希釈ガス用
供給管、７，１３…希釈ガス供給用調整弁、１４…流動
層ボイラ、１５…流動層、１６…伝熱管、１７…分散
板、１８…燃焼空気用ウインドボックス、１９…燃焼空
気用ダクト、２０…排気ガスダクト、２１…１次サイク
ロン、２２…２次サイクロン、２３…ガスタービン入口
ダクト、２４…圧縮機、２５…ガスタービン、２６…発
電機、２７…排熱回収器、２８…煙突、２９…コンプレ
ッサー、３０…不活性ガスの貯蔵タンク、３１…高温ガ
ス発生装置、３２…排気ガス供給管、３３…高温ガスノ
ズル、３４…燃料ノズル、３５…燃料供給管、３６…燃
料供給用調整弁、３７…燃料貯蔵タンク、３８…空気ノ
ズル、３９…空気供給用調整弁、４０…空気供給管。
フロントページの続き (72)発明者 戸室 仁一 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 稲田 徹 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 穂刈 信幸 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 大木 勝弥 広島県呉市宝町６番９号 バブコック日立 株式会社呉工場内
Claims (10)
- 【請求項１】流動層及びフリーボード部を有する流動層
ボイラにＮＨ3 を注入し、燃焼排ガス中のＮＯｘを低減
する方法において、前記ＮＨ3 を酸素濃度が空気中より
低いガスで希釈して供給することを特徴とする。 - 【請求項２】請求項１において、前記ＮＨ3 を燃焼ガス
或いは酸素を含有しない不活性ガスで希釈して注入する
ことを特徴とする流動層ボイラの無触媒脱硝方法。 - 【請求項３】請求項１において、前記流動層ボイラから
発生する燃焼排ガスの一部で希釈したＮＨ3 を供給する
ことを特徴とする流動層ボイラの無触媒脱硝方法。 - 【請求項４】請求項１において、流動層上部またはフリ
ーボード部のガスの一部で希釈したＮＨ3 を供給するこ
とを特徴とする流動層ボイラの無触媒脱硝方法。 - 【請求項５】流動層及びフリーボード部を有する流動層
ボイラ内で発生した燃焼排ガスを排気ガスダクトを経て
外部へ排出するまでの過程で、ＮＨ3 を注入して該排ガ
ス中のＮＯｘを低減する方法において、前記ＮＨ3 を燃
焼ガス或いは酸素を含有しない不活性ガスで希釈した上
で前記排気ガスダクト内または前記流動層ボイラのフリ
ーボード内に設置した１以上のＮＨ3 注入ノズルから供
給することを特徴とする流動層ボイラの無触媒脱硝方
法。 - 【請求項６】流動層及びフリーボード部を有する流動層
ボイラ内で発生した燃焼排ガスを排気ガスダクトを経て
外部へ排出するまでの過程で、ＮＨ3 を注入して該排ガ
ス中のＮＯｘを低減する方法において、前記ＮＨ3 と燃
料との混合物及び空気を前記排気ガスダクト内に供給す
ることを特徴とする流動層ボイラの無触媒脱硝方法。 - 【請求項７】流動層及びフリーボード部を有する流動層
ボイラ，該流動層ボイラ内の燃焼排ガスを外部へ排出す
る排気ガスダクト、及びＮＨ3 希釈手段により希釈され
たＮＨ3 が供給される注入ノズルとを備えた流動層発電
プラントにおいて、前記燃焼排ガスの一部が希釈手段を
経て、前記流動層ボイラ壁面及び／或いは前記排気ガス
ダクトに備えた前記注入ノズルへ導かれる流路を有する
ことを特徴とする流動層発電プラント。 - 【請求項８】請求項７において、前記燃焼排ガスを加熱
する手段を有することを特徴とする流動層発電プラン
ト。 - 【請求項９】請求項７或いは８において、酸素濃度が空
気中より低いガスを発生する高温ガス発生装置から出た
ガスを前記排気ガスダクト内またはボイラ内に供給する
手段を有することを特徴とする流動層発電プラント。 - 【請求項１０】請求項７〜９において、前記排気ガスダ
クト内またはボイラ内に補助燃焼用バーナを有すること
を特徴とする流動層発電プラント。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5189606A JPH0739720A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 流動層ボイラの無触媒脱硝方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5189606A JPH0739720A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 流動層ボイラの無触媒脱硝方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0739720A true JPH0739720A (ja) | 1995-02-10 |
Family
ID=16244126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5189606A Pending JPH0739720A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 流動層ボイラの無触媒脱硝方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0739720A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102233232A (zh) * | 2011-07-01 | 2011-11-09 | 清华大学 | 一种中温烟气脱硝反应器及其脱硝的方法 |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP5189606A patent/JPH0739720A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102233232A (zh) * | 2011-07-01 | 2011-11-09 | 清华大学 | 一种中温烟气脱硝反应器及其脱硝的方法 |
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