JPH0986655A - Sample conveyer - Google Patents

Sample conveyer

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JPH0986655A
JPH0986655A JP24152995A JP24152995A JPH0986655A JP H0986655 A JPH0986655 A JP H0986655A JP 24152995 A JP24152995 A JP 24152995A JP 24152995 A JP24152995 A JP 24152995A JP H0986655 A JPH0986655 A JP H0986655A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
arm
semiconductor wafer
inspection
sample
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP24152995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Tsuchisaka
新一 土坂
Hidefumi Ibaraki
秀文 茨木
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP24152995A priority Critical patent/JPH0986655A/en
Publication of JPH0986655A publication Critical patent/JPH0986655A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive constitution in small size, and facilitate control of conveying action, so that a cycle time required for conveyance of a sample between a cassette and a loading base can be shortened, by arranging the first/second arms with a fixed space apart, and making the cassette and the loading base respectively vertically movable. SOLUTION: After ending inspection relating to a semiconductor wafer 22 of an inspection bed 23, the inspection bed 23 stops absorption to be lowered down. A waiting unloader arm 27 receives the semiconductor wafer 22 from the inspection bed 23 attracted. Thereafter, the wafer is conveyed to a work cassette 21, attraction is stopped, also the work cassette 21 is a little lifted by an elevator unit, and the semiconductor wafer 22 ending the inspection is stored. During this time, a loader arm 25 conveys the next semiconductor wafer 22 left as taken out to the inspection bed 23, the wafer is loaded on the inspection bed 23 stopping attraction to come rising. In this way, action of the unloader arm 27 and the loader arm 25 is partly duplicated, and treating is performed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カセットに収納さ
れている半導体ウエハや液晶表示パネル等の試料を搬送
する試料搬送装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sample transfer device for transferring a sample such as a semiconductor wafer or a liquid crystal display panel contained in a cassette.

【0002】[0002]

【従来の技術】複数の薄板状試料、例えば半導体ウエハ
や液晶表示パネルを一定間隔に段状に収納したカセット
から該試料を取出して載置台まで搬送し、検査等の作業
実行後に上記載置台から再び上記カセットまで搬送する
搬送装置として、従来はアーム先端に試料の吸着機構を
有する搬送アームを1本設けたものが一般に用いられて
いた。
2. Description of the Related Art A plurality of thin plate-shaped samples, for example, semiconductor wafers and liquid crystal display panels are taken out from a cassette that is stored in a stepped manner at regular intervals and are transported to a mounting table. As a transfer device for transferring to the cassette again, a transfer device provided with one transfer arm having a sample suction mechanism at the end of the arm has been generally used.

【0003】図7は載置台上の半導体ウエハをカセット
に搬送して戻し、同カセットから次の半導体ウエハを取
出して載置台まで搬送する場合に要するタクトタイムの
概念を示すものである。
FIG. 7 shows the concept of the tact time required when a semiconductor wafer on the mounting table is conveyed back to the cassette, the next semiconductor wafer is taken out from the cassette and conveyed to the mounting table.

【0004】同図では1が複数の半導体ウエハを収納し
た、エレベータユニットにより全体が上下動するカセッ
ト、2が半導体ウエハの検査を行なうための載置台、3
が半導体ウエハをカセット1から取出して載置台2まで
搬送し、検査終了後に同半導体ウエハを載置台2からカ
セット1まで搬送して収納させるという動作を繰返し実
行するアームを有した搬送装置である。
In FIG. 1, reference numeral 1 is a cassette in which a plurality of semiconductor wafers are stored, which is vertically moved by an elevator unit, 2 is a mounting table for inspecting semiconductor wafers, 3
Is a transfer device having an arm that repeatedly executes the operation of taking out a semiconductor wafer from the cassette 1 and transferring it to the mounting table 2, and transferring the semiconductor wafer from the mounting table 2 to the cassette 1 for storage after the inspection is completed.

【0005】時間Twを要する検査の終了後、アームが
半導体ウエハを載置台2から受取って吸着し(t1 )、
カセット1まで搬送し(t2 )、吸着を停止すると共に
エレベータユニットによりカセット1が若干上昇されて
該半導体ウエハを収納させた(t3 )後、次の半導体ウ
エハを受取るために一旦カセット1の位置から出て退避
する(t4 )。
After completion of the inspection requiring time Tw, the arm receives the semiconductor wafer from the mounting table 2 and sucks it (t1),
After carrying to the cassette 1 (t2), stopping the suction and raising the cassette 1 slightly by the elevator unit to store the semiconductor wafer (t3), the cassette 1 is once moved from the position of the cassette 1 to receive the next semiconductor wafer. Exit and evacuate (t4).

【0006】その後、次の半導体ウエハの該当位置まで
エレベータユニットによりカセット1を昇降させ(t5
)、あらためて次の半導体ウエハを受取るべくアーム
をカセット1に侵入させ(t6 )、吸着を開始すると共
にエレベータユニットによりカセット1を若干下降させ
て該次の半導体ウエハを取出した(t7 )後、載置台2
まで搬送し(t8 )、吸着を停止して該半導体ウエハを
載置させる(t9 )。
After that, the cassette 1 is moved up and down by the elevator unit to the corresponding position of the next semiconductor wafer (t5
), The arm is again inserted into the cassette 1 to receive the next semiconductor wafer (t6), suction is started, and the cassette 1 is slightly lowered by the elevator unit to take out the next semiconductor wafer (t7). Table 2
It is conveyed to (t8), adsorption is stopped and the semiconductor wafer is placed (t9).

【0007】上記のような搬送の方法にあっては、半導
体ウエハはカセット1と載置台2との間を図中に示す如
く直線的に往復搬送されることになる。以上の時間「t
1 +t2 +‥‥+t9 」をTL とすると、1枚の半導体
ウエハの検査に要する時間T1は T1=Tw+Tu+TL …(1) (但し、Tu:載置台上でのウエハの中心位置やオリエ
ンテーションフラットの位置等のアライメントに要する
時間。)となり、検査を行なう者にとっては、上記時間
T1中の空き時間である「Tu+TL 」をでき得る限り
減少させることが生産性の点からも望ましい。
In the above-described transfer method, the semiconductor wafer is linearly reciprocally transferred between the cassette 1 and the mounting table 2 as shown in the figure. The above time "t
"1 + t2 + ... + t9" is TL, the time T1 required to inspect one semiconductor wafer is T1 = Tw + Tu + TL (1) (where Tu is the center position of the wafer on the mounting table or the position of the orientation flat). Etc.), and it is desirable for the person performing the inspection to reduce the free time "Tu + TL" in the time T1 as much as possible from the viewpoint of productivity.

【0008】そこで、カセット1と載置台2との間で半
導体ウエハを搬送する2本のアームを設け、その一方で
載置台2上の半導体ウエハを搬送してカセット1に収納
させ、他方で次に検査を行なう半導体ウエハをカセット
1から取出して載置台2まで搬送するというように、2
つの動作を一部時間的に重複して行なわせることによ
り、1枚当たりの半導体ウエハの検査に要する時間を短
縮させることが考えられる。
Therefore, two arms for transferring semiconductor wafers are provided between the cassette 1 and the mounting table 2, while the semiconductor wafers on the mounting table 2 are transferred and stored in the cassette 1, and on the other hand, The semiconductor wafer to be inspected is taken out from the cassette 1 and transferred to the mounting table 2.
It is possible to shorten the time required for inspecting one semiconductor wafer by causing one operation to partially overlap in time.

【0009】図8は上記のような2本のアームを設けた
ロボットの構成を例示するものである。同図で11がカ
セット、12が載置台、13がカセット11内に収納さ
れた半導体ウエハであり、カセット11と載置台12と
の間に、ロボット14を配置する。
FIG. 8 exemplifies the structure of a robot provided with two arms as described above. In the figure, 11 is a cassette, 12 is a mounting table, and 13 is a semiconductor wafer housed in the cassette 11. A robot 14 is arranged between the cassette 11 and the mounting table 12.

【0010】このロボット14は、胴部14aがエレべ
ーション機構により昇降可能となると共に、その胴部1
4a上面に2本のアーム14b,14cが配設されてお
り、これらアーム14b,14cによりそれぞれカセッ
ト11と載置台12との間で半導体ウエハ13を搬送す
るものである。
The body 14a of the robot 14 can be moved up and down by an elevation mechanism, and the body 1
Two arms 14b and 14c are arranged on the upper surface of 4a, and the semiconductor wafer 13 is transferred between the cassette 11 and the mounting table 12 by these arms 14b and 14c, respectively.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
8で示したようにカセット11と載置台12との間に2
本のアーム14b,14cを有するロボット14を配し
て半導体ウエハ13の搬送を行なわせる場合、ロボット
14のアーム14b,14cそれぞれがカセット11と
載置台12の間を胴部14aのエレべーション機構によ
り昇降動作しながらタイミングを合わせて互いに干渉す
ることなく搬送動作する必要があり、その動作のための
ファームウエアのプログラムが非常に複雑なものとなっ
てしまうという不具合がある。
However, as shown in FIG. 8, there is a gap between the cassette 11 and the mounting table 12.
When the robot 14 having the book arms 14b and 14c is arranged to transfer the semiconductor wafer 13, the arms 14b and 14c of the robot 14 respectively move the space between the cassette 11 and the mounting table 12 to the elevation mechanism of the body portion 14a. Therefore, it is necessary to carry out the conveying operation without interfering with each other while adjusting the timing while moving up and down, and the firmware program for the operation becomes very complicated.

【0012】また、カセット11と載置台12との間に
ロボット14を配設することで、装置全体の構成が大型
で複雑となり、高価なものとなってしまうという問題も
生じることとなる。
Further, by disposing the robot 14 between the cassette 11 and the mounting table 12, there arises a problem that the whole structure of the apparatus becomes large and complicated and becomes expensive.

【0013】本発明は上記実情に鑑みてなされたもの
で、小型で安価な構成とし、且つ搬送動作の制御が容易
でカセットと載置台との間での試料の搬送に要するタク
トタイムをでき得る限り短縮することが可能な試料搬送
装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, has a small and inexpensive structure, can easily control the transfer operation, and can provide the tact time required for transferring the sample between the cassette and the mounting table. It is an object of the present invention to provide a sample transfer device that can be shortened as much as possible.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
複数の薄板状試料を一定間隔に段状に収納したカセット
を上下動させるエレベーション手段と、上記カセットか
ら離れた位置で上記試料を載置する、少なくとも上下動
可能な載置台と、上記カセットから上記試料を吸着して
上記載置台まで搬送する第1のアームと、この第1のア
ームから上下いずれかの方向に上記一定間隔をあけて配
設され、上記載置台から上記試料を吸着して上記カセッ
トまで搬送する第2のアームとを具備するようにしてい
る。
According to the first aspect of the present invention,
Elevation means for moving up and down a cassette containing a plurality of thin plate-shaped samples in a stepwise manner at regular intervals, at least a vertically movable mounting table for mounting the sample at a position apart from the cassette, and from the cassette A first arm for adsorbing the sample and transporting the sample to the mounting table, and a first arm arranged in the upper or lower direction at a predetermined interval, and adsorbing the sample from the mounting table. And a second arm for carrying to the cassette.

【0015】この結果、請求項1記載の発明によれば、
第1のアームと第2のアームとがカセットに収納されて
いる薄板状試料と同様に一定間隔を空けて配設されてお
り、カセットと載置台とがそれぞれ上下動可能であるた
め、第2のアームが載置台に上記試料を吸着して上記カ
セットまで搬送する動作と第1のアームが上記カセット
から次の試料を吸着して上記載置台まで搬送する動作と
を一部重複させて同時に処理することができ、小型で安
価な構成により搬送動作の制御を容易としながらもカセ
ットと載置台との間での試料の搬送に要するタクトタイ
ムを大幅に短縮することが可能となる。
As a result, according to the first aspect of the present invention,
Since the first arm and the second arm are arranged at a constant interval like the thin plate sample stored in the cassette, and the cassette and the mounting table can be moved up and down, respectively. Arm simultaneously adsorbs the sample to the mounting table and conveys it to the cassette, and the first arm simultaneously adsorbs the next sample from the cassette and conveys it to the mounting table, partially overlapping and simultaneously processing. In addition, the tact time required for transporting the sample between the cassette and the mounting table can be significantly reduced while the transport operation is easily controlled by the small and inexpensive structure.

【0016】請求項2記載の発明では、上記請求項1に
おいて、上記第1のアームは上記カセットに収納された
試料の中心軸位置と上記載置台の中心軸位置とを結ぶ直
線に平行に敷設された第1のガイドレールに沿って移動
し、上記第2のアームは上記第1のカードレールに平行
に敷設された第2のガイドレールに沿って移動するよう
にしている。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the first arm is laid parallel to a straight line connecting the central axis position of the sample stored in the cassette and the central axis position of the mounting table. The second arm is moved along a first guide rail, and the second arm is moved along a second guide rail laid parallel to the first card rail.

【0017】この結果、請求項2記載の発明によれば、
請求項1記載の発明の作用に加えて、第1のアームが第
1のガイドレールに沿って、第2のアームが第2のガイ
ドレールに沿ってそれぞれ直線的にカセットと載置台と
の間を移動するので、カセットと載置台との間での試料
の搬送に要するタクトタイムをより大幅に短縮すること
が可能となる。
As a result, according to the invention of claim 2,
In addition to the operation of the invention described in claim 1, the first arm linearly extends along the first guide rail and the second arm linearly extends along the second guide rail between the cassette and the mounting table. Since it is moved, the takt time required for transporting the sample between the cassette and the mounting table can be significantly reduced.

【0018】請求項3記載の発明では、上記請求項1に
おいて、上記第1及び第2のアームの試料を吸着する先
端部分は、上記カセットから載置台への移動方向に沿っ
てその両端を載置台に向けた半円弧状の形状を有するよ
うにしたものである。
According to a third aspect of the present invention, in the first aspect, the tip portions of the first and second arms for adsorbing the sample are mounted at both ends thereof along the moving direction from the cassette to the mounting table. It has a semi-arcuate shape toward the table.

【0019】この結果、請求項3記載の発明によれば、
請求項1記載の発明の作用に加えて、各アームがその試
料を吸着する先端部分の形状により載置台位置まで移動
しても載置台と干渉しないために、載置台を不要に上下
動させる必要がなく、搬送動作の制御が容易となると共
に、カセットと載置台との間での試料の搬送に要するタ
クトタイムをより大幅に短縮することが可能となる。
As a result, according to the invention of claim 3,
In addition to the action of the invention described in claim 1, even if each arm moves to the mounting table position due to the shape of the tip portion that adsorbs the sample, it does not interfere with the mounting table, and therefore the mounting table needs to be moved up and down unnecessarily. Therefore, the control of the transfer operation is facilitated, and the tact time required to transfer the sample between the cassette and the mounting table can be significantly reduced.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(第1の実施の形態)以下本発明を半導体ウエハを収納
されているワークカセットから載置台である検査台まで
搬送し、検査終了後にワークカセットに戻して収納させ
る検査装置に適用した場合の第1の実施の形態について
図面を参照して説明する。
(First Embodiment) In the following, the present invention is applied to an inspection apparatus in which a semiconductor wafer is transferred from a work cassette in which it is stored to an inspection table which is a mounting table, and is returned to the work cassette for storage after the inspection is completed. One embodiment will be described with reference to the drawings.

【0021】図1はその外観構成を示すもので、図1
(A)が上面図、図1(B)が同図(A)の主要部分を
抜出して示す側面図である。同図で21がワークカセッ
トであり、このワークカセット21には相対向する1組
の内側面に櫛歯状の突起が設けられ、これら突起に載架
するようにして複数、例えば20枚程度の半導体ウエハ
22を一定間隔Pで段状に収納している。このワークカ
セット21は、図示しないエレベーション機構により上
下動制御され、任意の位置に停止できるようになってい
る。
FIG. 1 shows its external appearance.
FIG. 1A is a top view, and FIG. 1B is a side view showing a main part of FIG. In the figure, reference numeral 21 denotes a work cassette, and this work cassette 21 is provided with comb-shaped projections on a pair of inner surfaces facing each other, and a plurality of, for example, about 20 sheets are mounted on these projections. The semiconductor wafers 22 are housed in a stepwise manner at regular intervals P. The work cassette 21 is vertically moved by an elevation mechanism (not shown) and can be stopped at any position.

【0022】また、23は載置台としての検査台であ
り、その上端面には半導体ウエハ22を載置固定するた
めの吸着機構が構成され、上下動のみならず、回転、傾
斜動作も可能となっている。
Further, 23 is an inspection table as a mounting table, and a suction mechanism for mounting and fixing the semiconductor wafer 22 is constructed on the upper end surface thereof, and not only vertical movement but also rotation and tilting operation are possible. Has become.

【0023】しかして、ワークカセット21に収納され
ている半導体ウエハ22の中心位置と上記検査台23の
中心位置とを結ぶ直線に平行するようにして第1のガイ
ドレール24が配設され、この第1のガイドレール24
に沿って移動する第1のアームとしてのローダアーム2
5が設けられる。
Thus, the first guide rail 24 is arranged so as to be parallel to the straight line connecting the central position of the semiconductor wafer 22 housed in the work cassette 21 and the central position of the inspection table 23. First guide rail 24
Loader arm 2 as a first arm that moves along
5 are provided.

【0024】このローダアーム25は、ワークカセット
21に収納されている半導体ウエハ22を検査台23ま
で搬送するためのものであり、その先端は図示する如く
ワークカセット21側に寄った半円弧状の形状となって
おり、この部分に半導体ウエハ22を吸着固定するため
の吸着機構が設けられている。
The loader arm 25 is for carrying the semiconductor wafer 22 housed in the work cassette 21 to the inspection table 23, and the tip thereof is in the shape of a semi-circle near the work cassette 21 side as shown in the figure. It has a shape, and a suction mechanism for suction-fixing the semiconductor wafer 22 is provided in this portion.

【0025】また、上記第1のガイドレール24と平行
するようにして第2のガイドレール26が配設され、こ
の第2のガイドレール26に沿って移動する第2のアー
ムとしてのアンローダアーム27が設けられる。
A second guide rail 26 is provided so as to be parallel to the first guide rail 24, and an unloader arm 27 as a second arm that moves along the second guide rail 26. Is provided.

【0026】このアンローダアーム27は、検査台23
に載置されている半導体ウエハ22をワークカセット2
1まで搬送して収納させるためのものであり、上記ロー
ダアーム25と同様に、その先端は図示する如くワーク
カセット21側に寄った半円弧状の形状となっており、
この部分に半導体ウエハ22を吸着固定するための吸着
機構が設けられている。
The unloader arm 27 is used as an inspection table 23.
The semiconductor wafer 22 placed on the work cassette 2
It is for carrying and storing it up to 1, and like the loader arm 25, its tip has a semi-arcuate shape which is close to the work cassette 21 side as shown in the drawing.
A suction mechanism for suction-fixing the semiconductor wafer 22 is provided in this portion.

【0027】しかるに、同図(B)に示す如くアンロー
ダアーム27はローダアーム25から下方向に上記半導
体ウエハ22の収納間隔と同じ一定間隔Pだけ空けて配
設され、これらローダアーム25,27がそれぞれ移動
しても互いに干渉しないようになっている。
However, as shown in FIG. 3B, the unloader arm 27 is arranged downward from the loader arm 25 at a constant interval P which is the same as the storage interval of the semiconductor wafers 22. Even if they move, they do not interfere with each other.

【0028】検査台23は、上述した如くその上端面に
半導体ウエハ22を吸着固定するための吸着機構を有
し、アンローダアーム27の上面より下方の位置からロ
ーダアーム25の上面より上方の位置までを少なくとも
上下動可能な範囲とするもので、半導体ウエハ22を載
置しての検査実行時にはローダアーム25の上面より上
方の位置にある。このとき、アンローダアーム27は検
査を実行している半導体ウエハ22の直下方にあって検
査の終了を待機している。
The inspection table 23 has a suction mechanism for sucking and fixing the semiconductor wafer 22 on the upper end surface thereof as described above, and extends from a position below the upper surface of the unloader arm 27 to a position above the upper surface of the loader arm 25. Is at least in a vertically movable range, and is located above the upper surface of the loader arm 25 when an inspection is performed with the semiconductor wafer 22 placed. At this time, the unloader arm 27 is immediately below the semiconductor wafer 22 that is performing the inspection and is waiting for the end of the inspection.

【0029】そして、検査終了時には検査台23が半導
体ウエハ22を載置したままアンローダアーム27の上
面より下方の位置まで下降し、このとき半導体ウエハ2
2の吸着を停止すると、検査台23に載置されていた検
査済みの半導体ウエハ22がアンローダアーム27に受
け渡されるものである。
At the end of the inspection, the inspection table 23 descends to a position below the upper surface of the unloader arm 27 while the semiconductor wafer 22 is placed on the inspection table 23.
When the suction of No. 2 is stopped, the inspected semiconductor wafer 22 placed on the inspection table 23 is delivered to the unloader arm 27.

【0030】その後、検査台23は次のウエハ22をロ
ーダアーム25から受取るべく、ローダアーム25が次
に検査を行なう半導体ウエハ22を搬送してくると、ロ
ーダアーム25の上面よりさらに上方の位置に上昇し
て、該半導体ウエハ22を受取るものである。
After that, when the loader arm 25 carries the semiconductor wafer 22 to be inspected next in order to receive the next wafer 22 from the loader arm 25, the inspection table 23 moves to a position higher than the upper surface of the loader arm 25. To receive the semiconductor wafer 22.

【0031】また、検査台23上に載置された半導体ウ
エハ22の正確な位置決めを行なうものとして、一対の
芯出しブロック28a,28bとオリフラセンサ29と
が設けられる。
A pair of centering blocks 28a and 28b and an orientation flat sensor 29 are provided to accurately position the semiconductor wafer 22 placed on the inspection table 23.

【0032】芯出しブロック28a,28bは、検査台
23による半導体ウエハ22の吸着固定が一時的に停止
された状態で共に下方から突出してきた後に、検査台2
3上に載置された半導体ウエハ22の中心位置が正しく
検査台23の中心位置と合致するように、ウエハ22を
挟んで180°対向して配置し、半導体ウエハ22を挟
み込んでそれぞれ規定の位置まで検査台23の中心位置
方向に移動する。
The centering blocks 28a and 28b both protrude from the lower side in a state where the suction fixing of the semiconductor wafer 22 by the inspection table 23 is temporarily stopped, and then the inspection table 2 is formed.
3 so that the center position of the semiconductor wafer 22 placed on the wafer 3 is correctly aligned with the center position of the inspection table 23, the wafers 22 are arranged 180 ° opposite to each other, and the semiconductor wafer 22 is sandwiched between the respective predetermined positions. To the center position of the inspection table 23.

【0033】オリフラセンサ29は、例えばLEDと受
光素子とを組合わせた反射型のフォトセンサにより構成
され、検査台23上に載置された半導体ウエハ22のオ
リエンテーションフラットやノッチの位置を検出するこ
とで半導体ウエハ22を予め設定された角度で停止させ
るためのものである。
The orientation flat sensor 29 is composed of, for example, a reflection type photo sensor in which an LED and a light receiving element are combined and detects the position of the orientation flat or notch of the semiconductor wafer 22 placed on the inspection table 23. Is for stopping the semiconductor wafer 22 at a preset angle.

【0034】また、検査台23に載置された半導体ウエ
ハ22の表面に上方より光を照射してマクロ(肉眼)に
よる外観検査を行なうための照明装置も必要であるが、
ここではその図示を省略するものとする。
Further, an illuminating device for irradiating the surface of the semiconductor wafer 22 mounted on the inspection table 23 with light from above to perform a visual inspection with a macro (visual eye) is also required.
Here, the illustration is omitted.

【0035】上記のような構成にあって、検査台23上
の半導体ウエハ22をワークカセット21に搬送して戻
す一方、同カセット21から次の半導体ウエハ22を取
出して検査台23まで搬送して載置する場合の動作に要
するタクトタイムについて図2の概念図を用いて考え
る。
In the above structure, the semiconductor wafer 22 on the inspection table 23 is conveyed back to the work cassette 21, while the next semiconductor wafer 22 is taken out from the cassette 21 and conveyed to the inspection table 23. The tact time required for the operation when the device is placed will be considered with reference to the conceptual diagram of FIG.

【0036】時間Twを要する検査を実行している間、
アンローダアーム27が検査されている半導体ウエハ2
2の下方で適宜間隔を空けて検査の終了を待機する一
方、ローダアーム25が次の半導体ウエハ22を受取る
べくワークカセット21内に侵入し(t6 )、吸着を開
始すると共にエレベータユニットによりワークカセット
21を若干下降させて該次の半導体ウエハ22を吸着固
定して取出しておく(t7 )。
While performing the inspection requiring the time Tw,
Semiconductor wafer 2 in which unloader arm 27 is inspected
While waiting for the end of the inspection at an appropriate interval below 2, the loader arm 25 enters the work cassette 21 to receive the next semiconductor wafer 22 (t6), starts suction, and the elevator unit works the work cassette. 21 is slightly lowered to adsorb and fix the next semiconductor wafer 22 (t7).

【0037】検査台23上の半導体ウエハ22に対する
検査が終了した後、検査台23が吸着を停止すると共に
下降し、待機していたアンローダアーム27が当該半導
体ウエハ22を検査台23から受取って吸着し(t1
)、ワークカセット21まで搬送し(t2 )、吸着を
停止すると共にエレベータユニットによりワークカセッ
ト21が若干上昇されて該検査を終えた半導体ウエハ2
2を収納させる(t)。
After the inspection of the semiconductor wafer 22 on the inspection table 23 is completed, the inspection table 23 stops adsorbing and descends, and the unloader arm 27 waiting stands to receive the semiconductor wafer 22 from the inspection table 23 and adsorb it. (T1
), It is conveyed to the work cassette 21 (t2), the suction is stopped, and the work cassette 21 is slightly lifted by the elevator unit to complete the inspection.
2 is stored (t).

【0038】この間に上記ローダアーム25は、取出し
ておいた次の半導体ウエハ22を検査台23まで搬送し
(t8 )、吸着を停止して、上昇してきた検査台23上
に載置させる(t9 )。
During this time, the loader arm 25 conveys the next semiconductor wafer 22 that has been taken out to the inspection table 23 (t8), stops the suction, and places it on the ascended inspection table 23 (t9). ).

【0039】上記のような搬送の方法にあっては、半導
体ウエハ22はワークカセット21と検査台23との間
を図中に示す如く閉ループ搬送されることになる。この
ようにアンローダアーム27とローダアーム25で検査
を終えた半導体ウエハ22の搬送及びワークカセット2
1への収納と次の半導体ウエハ22の搬送及び検査台2
3への載置とを同時に行なうことにより、1枚の半導体
ウエハの検査に要する時間T2は T2=Tw+Th+Tu …(2) となる。この(2)式中のThを分解すると、アンロー
ダアーム27が検査を終えた半導体ウエハ22を検査台
23から受取る時間t1 、アンローダアーム27が半導
体ウエハ22をワークカセット21まで搬送する時間t
2 、及びローダアーム25が次の半導体ウエハ22を検
査台23上に載置する時間t9 の和「t1+t2 +t9
」となる。(t2 とt8 は同時に行なわれ、t3 ,t7
はTw中に行なわれる。) ここで、上記(1)式で示した搬送用のアームを1本の
み使用した場合の1枚の半導体ウエハの検査に要する時
間T1と上記時間T2との差を求めると、 T1−T2=Tw+Tu+TL −(Tw+Th+Tu) =Tw+t1 +t2 +‥‥+t9 −(Tw+t1 +t2
+t9 ) =t3 +t4 +t5 +t6 +t7 +t8 となる。
In the above-described transfer method, the semiconductor wafer 22 is transferred between the work cassette 21 and the inspection table 23 in a closed loop as shown in the figure. In this way, the semiconductor wafer 22 that has been inspected by the unloader arm 27 and the loader arm 25 is transferred and the work cassette 2 is transferred.
1 and storage of next semiconductor wafer 22 and inspection table 2
By simultaneously performing the mounting on the semiconductor wafer 3, the time T2 required to inspect one semiconductor wafer is T2 = Tw + Th + Tu (2) When Th in the equation (2) is disassembled, the time t1 for the unloader arm 27 to receive the inspected semiconductor wafer 22 from the inspection table 23, and the time t for the unloader arm 27 to transfer the semiconductor wafer 22 to the work cassette 21.
2 and the sum of time t9 when the loader arm 25 places the next semiconductor wafer 22 on the inspection table 23, "t1 + t2 + t9".
It will be. (T2 and t8 are performed simultaneously, and t3, t7
Is performed during Tw. ) Here, the difference between the time T1 required to inspect one semiconductor wafer and the time T2 when only one transfer arm shown in the equation (1) is used is calculated as follows: T1-T2 = Tw + Tu + TL- (Tw + Th + Tu) = Tw + t1 + t2 + ... + t9- (Tw + t1 + t2
+ T9) = t3 + t4 + t5 + t6 + t7 + t8.

【0040】これはすなわち、従来の1本のアームによ
る搬送装置における、半導体ウエハをカセットから受取
る時間「t4 +t5 +t6 +t7 」、半導体ウエハをカ
セットに収納する時間「t3 」、及び搬送時間「t8
(またはt2 )」を合計した分だけ時間を短縮できるこ
とを示している。
That is, in the conventional one-arm transfer device, the time "t4 + t5 + t6 + t7" for receiving the semiconductor wafer from the cassette, the time "t3" for storing the semiconductor wafer in the cassette, and the transfer time "t8".
(Or t2) "is shown as the total time can be shortened.

【0041】本実施の形態では、上述した如くローダア
ーム25をアンローダアーム27とを上下方向にワーク
カセット21に収納されている半導体ウエハ22の一定
間隔P分だけ離して配置した。このことにより、無駄に
ワークカセット21をエレベーション機構により上下動
させることなく、アンローダアーム27が検査済みの半
導体ウエハ22をワークカセット21に収納する動作と
ローダアーム25がローダアーム25に収納されている
次に検査すべき半導体ウエハ22を取出す動作とを同時
に実行することができる。
In the present embodiment, as described above, the loader arm 25 and the unloader arm 27 are arranged vertically apart from each other by a predetermined distance P between the semiconductor wafers 22 housed in the work cassette 21. As a result, the unloader arm 27 stores the inspected semiconductor wafer 22 in the work cassette 21 and the loader arm 25 is stored in the loader arm 25 without wastefully moving the work cassette 21 up and down by the elevation mechanism. The operation of taking out the semiconductor wafer 22 to be inspected next can be simultaneously executed.

【0042】しかして本実施の形態では、ローダアーム
25を第2のガイドレール26の上方に位置するものと
し、ワークカセット21に収納されている半導体ウエハ
22を最下位置のものから順番に連続して検査するもの
としたが、逆にアンローダアーム27をローダアーム2
5より一定間隔だけ上方に位置させ、ワークカセット2
1に収納されている半導体ウエハ22を最上位置のもの
から順番に連続して検査することとしてもよい。
In the present embodiment, however, the loader arm 25 is located above the second guide rail 26, and the semiconductor wafers 22 housed in the work cassette 21 are successively arranged in order from the lowest position. Then, the unloader arm 27 is replaced by the loader arm 2
Work cassette 2
The semiconductor wafers 22 stored in 1 may be continuously inspected in order from the topmost one.

【0043】また、ローダアーム25及びアンローダア
ーム27は共に図示する如くその先端の半導体ウエハ2
2を吸着する部分をワークカセット21の側に寄った半
円弧状とし、円弧の両端を検査台23の側に向けた形状
としたので、ローダアーム25が検査台23に半導体ウ
エハ22を載置する際及び半導体ウエハ22に載置され
ている半導体ウエハ22をアンローダアーム27が受取
る際のいずれでもローダアーム25、アンローダアーム
27が検査台23と干渉することなく、したがってロー
ダアーム25、アンローダアーム27が一時的に検査台
23を通り越すために検査台23を一旦下降させる等の
無駄な動作を行なうことなく、検査台23の位置まで速
やかに移動することができる。
Further, the loader arm 25 and the unloader arm 27 are both at the tip of the semiconductor wafer 2 as shown in the figure.
The portion for adsorbing 2 has a semi-circular shape that is closer to the work cassette 21 side, and both ends of the circular arc are directed to the inspection table 23 side. Therefore, the loader arm 25 mounts the semiconductor wafer 22 on the inspection table 23. The loader arm 25 and the unloader arm 27 do not interfere with the inspection table 23 both when the semiconductor wafer 22 mounted on the semiconductor wafer 22 is received by the unloader arm 27. It is possible to quickly move to the position of the inspection table 23 without performing unnecessary operations such as temporarily lowering the inspection table 23 to temporarily pass the inspection table 23.

【0044】(第2の実施の形態)次いで、上記図1に
示した検査装置を発展させた装置を本発明の第2の実施
の形態として説明する。
(Second Embodiment) Next, an apparatus obtained by developing the inspection apparatus shown in FIG. 1 will be described as a second embodiment of the present invention.

【0045】図3はワークカセット31とリワークカセ
ット32の2つのカセットを用いた検査装置の構成を示
すものである。ワークカセット31に収納されている半
導体ウエハ33は、ガイドレール34に沿って移動する
ローダアーム35により、上下動及び回転可能な載置台
である段取台36まで搬送された後、エレベーション機
構に取付けられた上下動可能なローダ回転アーム37に
よって検査台38までさらに搬送される。検査台上では
図示しない照明光によりウエハ表面の検査が行なわれ
る。
FIG. 3 shows the structure of an inspection apparatus using two cassettes, a work cassette 31 and a rework cassette 32. The semiconductor wafer 33 housed in the work cassette 31 is transferred to a setup table 36 which is a vertically movable and rotatable mounting table by a loader arm 35 which moves along a guide rail 34, and then is transferred to an elevation mechanism. It is further conveyed to the inspection table 38 by the attached loader rotating arm 37 which can be moved up and down. On the inspection table, the wafer surface is inspected by illumination light (not shown).

【0046】検査台38と上記段取台36の間にはウエ
ハ反転アーム39が配設され、検査台38に載置された
検査後の半導体ウエハ33を裏返して裏面が検査できる
ようになっている。
A wafer reversing arm 39 is provided between the inspection table 38 and the setup table 36 so that the semiconductor wafer 33 after the inspection mounted on the inspection table 38 can be turned over to inspect the back surface. There is.

【0047】そしてウエハ33は、その検査結果により
上記ワークカセット31またはリワークカセット32の
いずれかに搬送される。すなわち、検査の結果、合格と
なった半導体ウエハ33は、上記ローダ回転アーム37
と同軸的に配設されたアンローダ回転アーム40によっ
て段取台36まで搬送された後、この段取台36から上
記ガイドレール34と平行に配設されたガイドレール4
1に沿って移動するアンローダアーム42によってワー
クカセット31まで搬送され、収納される。
Then, the wafer 33 is transferred to either the work cassette 31 or the rework cassette 32 depending on the inspection result. That is, as a result of the inspection, the semiconductor wafer 33 that has passed the inspection is the loader rotating arm 37.
After being conveyed to the setup table 36 by the unloader rotating arm 40 arranged coaxially with the guide rail 4 arranged parallel to the guide rail 34 from the setup table 36.
It is conveyed to the work cassette 31 and stored by the unloader arm 42 which moves along 1.

【0048】一方、検査の結果、不合格となった半導体
ウエハ33は、検査台38からガイドレール43に沿っ
て移動するアンローダアーム44によって直接リワーク
カセット32まで搬送され、回収される。
On the other hand, the semiconductor wafer 33 which has failed as a result of the inspection is directly conveyed from the inspection table 38 to the rework cassette 32 by the unloader arm 44 which moves along the guide rail 43, and is collected.

【0049】なお、上記段取台36上に載置された半導
体ウエハ33の正確な位置決めを行なうものとして、一
対の芯出しブロック45a,45bとオリフラセンサ4
6とが設けられる。
The pair of centering blocks 45a and 45b and the orientation flat sensor 4 are used to accurately position the semiconductor wafer 33 placed on the setup table 36.
And 6 are provided.

【0050】また、検査台38に載置された半導体ウエ
ハ33の表面に上方より光を照射してマクロ(肉眼)に
よる外観検査を行なうための照明装置も必要であるが、
ここではその図示を省略するものとする。
Further, an illuminating device for irradiating the surface of the semiconductor wafer 33 mounted on the inspection table 38 with light from above to perform a visual inspection with a macro (the naked eye) is also required.
Here, the illustration is omitted.

【0051】図4は上記ローダ回転アーム37及びアン
ローダ回転アーム40の駆動機構を示す側面図であり、
固定設置されたステー51に対してモータ(M3 )52
に回転駆動されるボールねじ53により、エレベータ上
下台54が上下動され、この上下台54に対して同軸的
に上記ローダ回転アーム37及びアンローダ回転アーム
40が取付けられる。
FIG. 4 is a side view showing a drive mechanism for the loader rotating arm 37 and the unloader rotating arm 40.
Motor (M3) 52 for stay 51 fixedly installed
The elevator upper / lower base 54 is moved up and down by the ball screw 53 driven to rotate, and the loader rotary arm 37 and the unloader rotary arm 40 are coaxially attached to the upper / lower base 54.

【0052】これらローダ回転アーム37及びアンロー
ダ回転アーム40は、それぞれ半導体ウエハ33を搬送
する先端の各アーム部分が、ワークカセット31に収納
される半導体ウエハ33の間隔と同様の間隔だけ上下方
向に間隙を空けて設けられ、各軸部分にプーリ55,5
6を介してモータ(M1 ,M2 )57,58の回転が与
えられることで個別に回転するもので、上述した如く先
端の各アーム部分が上下方向に間隙を設けられているた
めに、干渉しないようになっている。
In the loader rotating arm 37 and the unloader rotating arm 40, the respective arm portions at the tips for transferring the semiconductor wafers 33 are vertically spaced by the same distance as the distance between the semiconductor wafers 33 accommodated in the work cassette 31. With the pulleys 55, 5 on each shaft.
The motors (M1, M2) 57, 58 are individually rotated by the rotation of the motors 6, and as described above, since the respective arm portions at the tips are vertically spaced, they do not interfere with each other. It is like this.

【0053】ローダ回転アーム37及びアンローダ回転
アーム40の半導体ウエハ33を載置する部分には半導
体ウエハ33を吸着するための真空チャックが設けられ
る。2つのアーム37,40は、半導体ウエハ33を段
取台36から検査台38へ、反対に検査台38から段取
台36へ交互に搬送することができるが、上記図1で示
したローダアーム25及びアンローダアーム27と同様
の理由で、ワークカセット31に収納されている半導体
ウエハ33の検査の順序に従って、例えば下側に位置す
る半導体ウエハ33から順番に検査を行なう場合にはロ
ーダ回転アーム37がアンローダ回転アーム40の上方
に位置するものとする。
A vacuum chuck for sucking the semiconductor wafer 33 is provided at the portions of the loader rotating arm 37 and the unloader rotating arm 40 on which the semiconductor wafer 33 is placed. The two arms 37 and 40 can alternately transfer the semiconductor wafer 33 from the setup table 36 to the inspection table 38 and conversely from the inspection table 38 to the setup table 36. The loader arms shown in FIG. 25 and the unloader arm 27, the loader rotation arm 37 is used when the semiconductor wafers 33 housed in the work cassette 31 are inspected in order, for example, in the order from the semiconductor wafer 33 located on the lower side. Is located above the unloader rotation arm 40.

【0054】上記のような構成にあっては、検査台38
上に載置されている半導体ウエハ33の検査を行なって
いる時間内に、段取台36に載置している次に検査を行
なう半導体ウエハ33のアライメント調整、具体的には
芯出しとオリエンテーションフラット等の位置合わせを
芯出しブロック45a,45bとオリフラセンサ46に
より実行しておく。
In the above structure, the inspection table 38
Within the time for inspecting the semiconductor wafer 33 placed on the upper side, alignment adjustment of the semiconductor wafer 33 placed on the setup table 36 to be inspected next, specifically, centering and orientation. Positioning of a flat or the like is performed by the centering blocks 45a and 45b and the orientation flat sensor 46 in advance.

【0055】したがって、検査台38に載置されている
半導体ウエハ33の検査が終了すると共に、この検査を
終えた半導体ウエハ33をアンローダ回転アーム40及
びアンローダアーム42、またはアンローダアーム44
によってワークカセット31またはリワークカセット3
2に搬送するものであるが、これと同時に段取台36に
載置されているすでにアライメント調整を終えた半導体
ウエハ33をローダ回転アーム37により検査台38に
搬送する。
Therefore, when the inspection of the semiconductor wafer 33 placed on the inspection table 38 is completed, the semiconductor wafer 33 which has been inspected is unloader rotating arm 40 and unloader arm 42 or unloader arm 44.
Depending on the work cassette 31 or the rework cassette 3
At the same time, the semiconductor wafer 33, which has already been subjected to alignment adjustment and is placed on the setup table 36, is carried to the inspection table 38 by the loader rotation arm 37.

【0056】こうすることにより、1枚の半導体ウエハ
33の検査に要するタクトタイムから実質的にアライメ
ント調整を行なう時間を排除し、大幅に該タクトタイム
を短縮することができるものである。
By doing so, it is possible to substantially eliminate the time required for alignment adjustment from the tact time required for inspecting one semiconductor wafer 33, and to shorten the tact time significantly.

【0057】また、上述した如くこの図3による検査装
置では、検査後の半導体ウエハ33を元のワークカセッ
ト31に返すリターン搬送と、他のリワークカセット3
2に移し替えるカセット・トゥ・カセット搬送が可能で
あり、且つ、閉ループ搬送となるため、タクトタイムの
無駄を大幅に削減することができるものである。
Further, as described above, in the inspection apparatus according to FIG. 3, the return transportation of the semiconductor wafer 33 after the inspection to the original work cassette 31 and the other rework cassette 3 are performed.
The cassette-to-cassette transfer that can be transferred to 2 is possible, and since the closed-loop transfer is performed, waste of tact time can be significantly reduced.

【0058】次いで、上記検査時におけるローダ回転ア
ーム37及びアンローダ回転アーム40の動作について
説明する。検査台38上に載置された半導体ウエハ33
の検査が終了した時点で、ローダアーム35の搬送によ
り次に検査を行なうべき半導体ウエハ33がすでにワー
クカセット31から取出され、段取台36上に載置され
ている。
Next, the operation of the loader rotating arm 37 and the unloader rotating arm 40 during the above inspection will be described. Semiconductor wafer 33 mounted on inspection table 38
When the inspection of 1 is completed, the semiconductor wafer 33 to be inspected next by the transport of the loader arm 35 has already been taken out from the work cassette 31 and placed on the setup table 36.

【0059】このとき段取台36と検査台38に共に半
導体ウエハ33が載置されていることとなるので、検査
を行なう者が検査台38に載置されている半導体ウエハ
33を検査の結果、合格と見做し、次の半導体ウエハ3
3の検査を要求する指示操作を行なうと、これに対応し
て上記エレベータ上下台54が上昇し、段取台36、検
査台38の下方に位置していた2つのアーム40,37
も上昇して、載置されている半導体ウエハ33を受取
る。
At this time, since the semiconductor wafer 33 is placed on both the setup table 36 and the inspection table 38, the person who inspects the semiconductor wafer 33 placed on the inspection table 38 as a result of the inspection. The next semiconductor wafer 3
When the instruction operation for requesting the inspection of No. 3 is performed, the elevator upper / lower table 54 rises correspondingly, and the two arms 40, 37 located below the setup table 36 and the inspection table 38 are correspondingly moved.
Also rises to receive the mounted semiconductor wafer 33.

【0060】その後、ローダ回転アーム37は検査台3
8の位置まで、アンローダ回転アーム40は段取台36
の位置までそれぞれ干渉せずに回転して、段取台36に
あった半導体ウエハ33を検査台38の位置に、ウエハ
反転アーム39にあった半導体ウエハ33を段取台36
の位置に搬送する。
Thereafter, the loader rotation arm 37 is attached to the inspection table 3
The unloader rotary arm 40 reaches the setup table 36 up to the position 8
To the position of the inspection table 38, and the semiconductor wafer 33 on the wafer reversing arm 39 is rotated to the position of the setup table 36 without interfering with each other.
To the position.

【0061】そして、上記エレベータ上下台54が下降
し、検査台38、段取台36の上方に位置していた2つ
のアーム37,40も下降して、搬送している半導体ウ
エハ33を検査台38、段取台36に載置する。
Then, the elevator upper / lower table 54 is lowered, and the two arms 37, 40 located above the inspection table 38 and the setup table 36 are also lowered, so that the semiconductor wafer 33 being conveyed is inspected. 38, and mount it on the setup table 36.

【0062】この後、2つのアーム37,40はさらに
下降を続けて停止した後に、ローダ回転アーム37は段
取台36へ、アンローダ回転アーム40は検査台38へ
向かって回転する。このようにして搬送の1行程が終了
する。
After that, the two arms 37 and 40 further continue to descend and stop, and then the loader rotation arm 37 rotates toward the setup table 36 and the unloader rotation arm 40 rotates toward the inspection table 38. In this way, one carrying process is completed.

【0063】また、上記図4に示したローダ回転アーム
37及びアンローダ回転アーム40の構成に代えて、図
5に示すような両端部にそれぞれ半導体ウエハ33を載
置するT字状アーム61を用いたものとしてもよい。こ
の場合、アーム61は半導体ウエハ33の搬送のために
180°回転する必要があるため、装置全体が大きなも
のとなってしまうが、閉ループ搬送が可能であり、タク
トタイムを充分短縮できるものである。
Further, instead of the configurations of the loader rotating arm 37 and the unloader rotating arm 40 shown in FIG. 4, T-shaped arms 61 for mounting the semiconductor wafer 33 on both ends as shown in FIG. 5 are used. It may be what you had. In this case, since the arm 61 needs to rotate 180 ° for the transfer of the semiconductor wafer 33, the whole apparatus becomes large, but closed-loop transfer is possible and the takt time can be sufficiently shortened. .

【0064】なお、上記アンローダアーム44は上記リ
ワークカセット32、アンローダアーム42と平行に移
動して検査台38上の半導体ウエハ33をリワークカセ
ット32に搬送するものであり、リワークカセット32
も上記ワークカセット31とは別のエベレーション機構
により上下方向に駆動されているので、任意の指定位置
に停止して半導体ウエハ33を収納することができる。
The unloader arm 44 moves in parallel with the rework cassette 32 and the unloader arm 42 to convey the semiconductor wafer 33 on the inspection table 38 to the rework cassette 32.
Also, since it is driven in the vertical direction by an elevation mechanism different from the work cassette 31, the semiconductor wafer 33 can be accommodated by stopping at any designated position.

【0065】アンローダアーム44とリワークカセット
32は、一般的に検査で不合格となった不良の半導体ウ
エハ33を回収するべく用いられるものであり、このよ
うな分類機能を用いることで、良品と判断した半導体ウ
エハ33は元のワークカセット31に収納する一方、不
良品と判断した半導体ウエハ33はリワークカセット3
2に回収することができる。
The unloader arm 44 and the rework cassette 32 are generally used to collect defective semiconductor wafers 33 that have failed the inspection, and by using such a classification function, they are judged to be non-defective. The processed semiconductor wafer 33 is stored in the original work cassette 31, while the semiconductor wafer 33 judged to be defective is reworked in the rework cassette 3.
2 can be collected.

【0066】また、図6は上記図3の検査装置を電動ス
テージを有する顕微鏡ブロック71と組合わせたもの
で、上記ローダ回転アーム37が図示する如く顕微鏡ブ
ロック71と半導体ウエハ33の受け渡しを行なうよう
になる。
FIG. 6 shows the inspection apparatus of FIG. 3 combined with a microscope block 71 having an electric stage. The loader rotating arm 37 transfers the microscope block 71 and the semiconductor wafer 33 as shown. become.

【0067】なお、上記各実施の形態では、半導体ウエ
ハを搬送する試料として用いたが、これに限ることな
く、他にも液晶表示パネル等、薄板状の試料であれば同
様に適用可能であることは勿論である。
In each of the above-described embodiments, the semiconductor wafer is used as a sample to be transferred, but the present invention is not limited to this, and other thin plate samples such as a liquid crystal display panel can be similarly applied. Of course.

【0068】[0068]

【発明の効果】以上詳記した如く本発明によれば、小型
で安価な構成とし、且つ搬送動作の制御が容易でカセッ
トと載置台との間での試料の搬送に要するタクトタイム
をでき得る限り短縮することが可能な試料搬送装置を提
供することができる。
As described in detail above, according to the present invention, the tact time required for carrying a sample between a cassette and a mounting table can be made with a compact and inexpensive structure, easy control of the carrying operation. It is possible to provide a sample transfer device that can be shortened as much as possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態の外観構成を示す
図。
FIG. 1 is a diagram showing an external configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態に係るタクトタイムの概念図。FIG. 2 is a conceptual diagram of tact time according to the same embodiment.

【図3】本発明の第2の実施の形態に係る外観構成を示
す図。
FIG. 3 is a diagram showing an external configuration according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3の回転アームの駆動機構を例示する側面
図。
FIG. 4 is a side view illustrating a drive mechanism of the rotating arm of FIG.

【図5】図3の回転アームの他の駆動機構を例示する側
面図。
5 is a side view illustrating another drive mechanism of the rotating arm of FIG.

【図6】同実施の形態に係る顕微鏡と組合わせた場合の
外観構成を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing an external configuration when combined with the microscope according to the same embodiment.

【図7】一般的な1本アームによる試料搬送のタクトタ
イムの概念図。
FIG. 7 is a conceptual diagram of a tact time of a general sample transfer by one arm.

【図8】2本アームを有するロボットを用いた搬送装置
の外観構成を例示する図。
FIG. 8 is a diagram illustrating an external configuration of a transfer device using a robot having two arms.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11…カセット 2,12…載置台 3…搬送装置 13,22,33…半導体ウエハ 14…ロボット 21,31…ワークカセット 23,38…検査台 24,26,34,41,43…ガイドレール 25,35…ローダアーム 27,42,44…アンローダアーム 28a,28b,45a,45b…芯出しブロック 29,46…オリフラセンサ 32…リワークカセット 36…段取台 37…ローダ回転アーム 39…ウエハ反転アーム 40…アンローダ回転アーム 51…ステー 52,57,58…モータ 53…ボールねじ 54…エレベータ上下台 55,56…プーリ 61…(T字状)アーム 71…顕微鏡ブロック 1, 11 ... Cassette 2, 12 ... Mounting table 3 ... Transfer device 13, 22, 33 ... Semiconductor wafer 14 ... Robot 21, 31 ... Work cassette 23, 38 ... Inspection table 24, 26, 34, 41, 43 ... Guide rail 25, 35 ... Loader arm 27, 42, 44 ... Unloader arm 28a, 28b, 45a, 45b ... Centering block 29, 46 ... Orientation flat sensor 32 ... Rework cassette 36 ... Setup table 37 ... Loader rotation arm 39 ... Wafer reversing arm 40 ... Unloader rotating arm 51 ... Stay 52, 57, 58 ... Motor 53 ... Ball screw 54 ... Elevator upper / lower stand 55, 56 ... Pulley 61 ... (T-shaped) arm 71 ... Microscope block

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の薄板状試料を一定間隔に段状に収
納したカセットを上下動させるエレベーション手段と、 上記カセットから離れた位置で上記試料を載置する、少
なくとも上下動可能な載置台と、 上記カセットから上記試料を吸着して上記載置台まで搬
送する第1のアームと、 この第1のアームから上下いずれかの方向に上記一定間
隔をあけて配設され、上記載置台から上記試料を吸着し
て上記カセットまで搬送する第2のアームとを具備した
ことを特徴とする試料搬送装置。
1. An elevation means for vertically moving a cassette containing a plurality of thin plate-shaped samples stored in a stepwise manner, and at least a vertically movable mounting table for mounting the sample at a position apart from the cassette. A first arm for adsorbing the sample from the cassette and transporting the sample to the mounting table; and a first arm arranged in the up or down direction at a predetermined interval from the first arm. And a second arm for adsorbing a sample and transferring the sample to the cassette.
【請求項2】 上記第1のアームは上記カセットに収納
された試料の中心軸位置と上記載置台の中心軸位置とを
結ぶ直線に平行に敷設された第1のガイドレールに沿っ
て移動し、 上記第2のアームは上記第1のカードレールに平行に敷
設された第2のガイドレールに沿って移動することを特
徴とする請求項1記載の試料搬送装置。
2. The first arm moves along a first guide rail laid parallel to a straight line connecting the central axis position of the sample stored in the cassette and the central axis position of the mounting table. 2. The sample transfer device according to claim 1, wherein the second arm moves along a second guide rail laid parallel to the first card rail.
【請求項3】 上記第1及び第2のアームの試料を吸着
する先端部分は、上記カセットから載置台への移動方向
に沿ってその両端を載置台に向けた半円弧状の形状を有
することを特徴とする請求項1記載の試料搬送装置。
3. The tip portions of the first and second arms for adsorbing the sample have a semi-arcuate shape with both ends thereof facing the mounting table along the moving direction from the cassette to the mounting table. The sample transport apparatus according to claim 1, wherein
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