JPH09858A - ガスタービンと統合された固形電解質膜を用いて酸素を生成し、パワーを創生する方法 - Google Patents
ガスタービンと統合された固形電解質膜を用いて酸素を生成し、パワーを創生する方法Info
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- JPH09858A JPH09858A JP8172826A JP17282696A JPH09858A JP H09858 A JPH09858 A JP H09858A JP 8172826 A JP8172826 A JP 8172826A JP 17282696 A JP17282696 A JP 17282696A JP H09858 A JPH09858 A JP H09858A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガスタービンと統合された固形電解質膜を用
いて酸素を生成し、パワーを創生する方法を提供するこ
と。 【解決手段】 圧縮された酸素含有ガス流を燃焼させ、
次いで、それを固形電解質膜に接触させて該ガス流から
圧縮酸素減耗膜不透過ガス流と膜透過生成物酸素流とを
生成する。好ましくは、その酸素減耗膜不透過ガス流を
燃焼させ、蒸気を創生するのに使用し、及び、又は、酸
素含有ガス流を予備加熱するのに使用する。次いで、そ
の酸素減耗ガス流をガスタービン内で膨脹させる。
いて酸素を生成し、パワーを創生する方法を提供するこ
と。 【解決手段】 圧縮された酸素含有ガス流を燃焼させ、
次いで、それを固形電解質膜に接触させて該ガス流から
圧縮酸素減耗膜不透過ガス流と膜透過生成物酸素流とを
生成する。好ましくは、その酸素減耗膜不透過ガス流を
燃焼させ、蒸気を創生するのに使用し、及び、又は、酸
素含有ガス流を予備加熱するのに使用する。次いで、そ
の酸素減耗ガス流をガスタービン内で膨脹させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスタービンと統
合された(一体的に組合わされた)固形電解質膜(メン
ブレン)を用いて酸素を生成し、パワーを創生する方法
に関する。ここで、「パワー」とは、動力又は電力のこ
とをいう。固形電解質膜は、固形電解質イオン伝導体膜
(solid electrolyte ionic )又は混合型伝導体膜( m
ixed conductormembrane) を意味する「セリック」(S
ELIC)膜とも称される。
合された(一体的に組合わされた)固形電解質膜(メン
ブレン)を用いて酸素を生成し、パワーを創生する方法
に関する。ここで、「パワー」とは、動力又は電力のこ
とをいう。固形電解質膜は、固形電解質イオン伝導体膜
(solid electrolyte ionic )又は混合型伝導体膜( m
ixed conductormembrane) を意味する「セリック」(S
ELIC)膜とも称される。
【0002】
【従来の技術】パワーを創生するためのガスタービン系
統においては、供給空気(酸素含有ガス)を圧縮し、圧
縮された空気を加熱し、その加熱された圧縮ガスを燃料
とともに燃焼させてガスの温度を更に上昇させ、次い
で、そのガスをタービンに通して膨脹させパワーを創生
する。パワー創生コストに僅かなコストの増大を伴うだ
けで酸素をも生成するためにこのようなガスタービン系
統に酸素生成装置を組み合わせることは、既に知られて
いる。又、追加のパワーを創生するために蒸気パワー発
生系統にガスタービンパワー発生系統を組み合わせるこ
とも周知である。その場合、膨脹した加熱ガスを、蒸気
発生のためにも用いることができる。
統においては、供給空気(酸素含有ガス)を圧縮し、圧
縮された空気を加熱し、その加熱された圧縮ガスを燃料
とともに燃焼させてガスの温度を更に上昇させ、次い
で、そのガスをタービンに通して膨脹させパワーを創生
する。パワー創生コストに僅かなコストの増大を伴うだ
けで酸素をも生成するためにこのようなガスタービン系
統に酸素生成装置を組み合わせることは、既に知られて
いる。又、追加のパワーを創生するために蒸気パワー発
生系統にガスタービンパワー発生系統を組み合わせるこ
とも周知である。その場合、膨脹した加熱ガスを、蒸気
発生のためにも用いることができる。
【0003】約500〜1000°Cの範囲の温度のガ
スから酸素を抽出するためにセリック膜(固形電解質イ
オン伝導体膜又は混合型伝導体膜) を用いることが知ら
れている。ガスから酸素を抽出することに関連していえ
ば、セリック膜(以下、単に「膜」とも称する)にとっ
ての最適作動温度は、セリック膜自体、特にそれが作ら
れている素材の関数である。そして、セリック膜のイオ
ン伝導性は、作動温度の関数であり、作動温度が高くな
るにつれて増大する。
スから酸素を抽出するためにセリック膜(固形電解質イ
オン伝導体膜又は混合型伝導体膜) を用いることが知ら
れている。ガスから酸素を抽出することに関連していえ
ば、セリック膜(以下、単に「膜」とも称する)にとっ
ての最適作動温度は、セリック膜自体、特にそれが作ら
れている素材の関数である。そして、セリック膜のイオ
ン伝導性は、作動温度の関数であり、作動温度が高くな
るにつれて増大する。
【0004】約500〜600°Cより低い作動温度で
は、セリック膜のイオン伝導性が低くなるばかりでな
く、セリック膜の表面の運動制限作用が、酸素フラック
ス(即ち、単位時間当り単位面積当りの酸素の透過量)
を制限する作用もする。このような運動制限は、セリッ
ク膜の供給物側即ち不透過ガス側(面)で気相酸素分子
が移動性酸素イオンに変換し、セリック膜の透過ガス側
(面)で酸素イオンが酸素分子に変換することによって
起る。
は、セリック膜のイオン伝導性が低くなるばかりでな
く、セリック膜の表面の運動制限作用が、酸素フラック
ス(即ち、単位時間当り単位面積当りの酸素の透過量)
を制限する作用もする。このような運動制限は、セリッ
ク膜の供給物側即ち不透過ガス側(面)で気相酸素分子
が移動性酸素イオンに変換し、セリック膜の透過ガス側
(面)で酸素イオンが酸素分子に変換することによって
起る。
【0005】セリック膜の作動温度を約850〜900
°Cより高くすることも、膜の素材や構造上の制限(例
えば、密封、マニホールディング、熱応力等の問題)を
惹起することになるので望ましくない。従って、ガスタ
ービンにおいて通常用いられる作動温度(一般に、10
00〜1200°C)では、そのような制限が一層厳し
くなる。
°Cより高くすることも、膜の素材や構造上の制限(例
えば、密封、マニホールディング、熱応力等の問題)を
惹起することになるので望ましくない。従って、ガスタ
ービンにおいて通常用いられる作動温度(一般に、10
00〜1200°C)では、そのような制限が一層厳し
くなる。
【0006】例えば米国特許第4,545,787号、
5,035,727号及び5,174,866号に記載
されているような、ガスタービンと統合されたセリック
膜(固形電解質膜)を用いて酸素を生成し、パワーを創
生する方法は、ガスタービンによるパワー発生段と、セ
リック膜による酸素生成段のその作動温度を最適化する
ことができないという欠点を有する。
5,035,727号及び5,174,866号に記載
されているような、ガスタービンと統合されたセリック
膜(固形電解質膜)を用いて酸素を生成し、パワーを創
生する方法は、ガスタービンによるパワー発生段と、セ
リック膜による酸素生成段のその作動温度を最適化する
ことができないという欠点を有する。
【0007】実際、単一のシステムにおいてセリック膜
とガスタービンを用いて酸素を生成し、パワーを創生す
る試みは、現在までのところ許容しうる最低限の成功を
収めているにすぎない。このような平凡な性能しか達成
し得ない理由の1つは、工程全体を通して用いられる作
動温度にある。例えば、圧縮機から吐出される酸素含有
流れの温度で、あるいは、タービンからの排ガスの温度
で膜を作動させた場合、前者の温度は、セリック膜から
最適の性能を引き出すのに望ましい温度より低く、反対
に、後者の温度は、セリック膜の最適の作動温度より高
い。
とガスタービンを用いて酸素を生成し、パワーを創生す
る試みは、現在までのところ許容しうる最低限の成功を
収めているにすぎない。このような平凡な性能しか達成
し得ない理由の1つは、工程全体を通して用いられる作
動温度にある。例えば、圧縮機から吐出される酸素含有
流れの温度で、あるいは、タービンからの排ガスの温度
で膜を作動させた場合、前者の温度は、セリック膜から
最適の性能を引き出すのに望ましい温度より低く、反対
に、後者の温度は、セリック膜の最適の作動温度より高
い。
【0008】米国特許第5,035,727号では、加
熱されから膜を通して酸素を分離する温度が、酸素を除
去された高温圧縮空気(非透過ガス)を膨脹させること
によりパワーを創生するガスタービンのそれと同じ温度
とされる。そのような構成では、(パワーの創生が望ま
しい温度より低い温度で行われるので)タービンの効率
が低下するか、あるいは、セリック膜の作動温度が、最
適の化学的及び機械的統合性を得るのに望ましい温度よ
り高い温度となる。
熱されから膜を通して酸素を分離する温度が、酸素を除
去された高温圧縮空気(非透過ガス)を膨脹させること
によりパワーを創生するガスタービンのそれと同じ温度
とされる。そのような構成では、(パワーの創生が望ま
しい温度より低い温度で行われるので)タービンの効率
が低下するか、あるいは、セリック膜の作動温度が、最
適の化学的及び機械的統合性を得るのに望ましい温度よ
り高い温度となる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、パワー発生系統によって得られる高い燃焼器温度を
利用して酸素生成系統とパワー発生系統のいずれにとっ
ても許容し得る作動温度で酸素生成系統を駆動するよう
にした酸素生成及びパワー発生方法を提供することであ
る。本発明の他の目的は、生成物として酸素とパワーを
能率的に創生する酸素生成及びパワー発生方法を提供す
ることである。
は、パワー発生系統によって得られる高い燃焼器温度を
利用して酸素生成系統とパワー発生系統のいずれにとっ
ても許容し得る作動温度で酸素生成系統を駆動するよう
にした酸素生成及びパワー発生方法を提供することであ
る。本発明の他の目的は、生成物として酸素とパワーを
能率的に創生する酸素生成及びパワー発生方法を提供す
ることである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、圧縮された酸素含有ガス流を燃焼器内で
燃焼させ、その燃焼された圧縮ガス流を固形電解質膜に
接触させて燃焼圧縮ガス流から膜透過生成物酸素流と圧
縮酸素減耗膜不透過ガス流とを生成し、固形電解質膜か
ら回収された前記圧縮酸素減耗ガス流をガスタービン内
で膨脹させることから成る酸素生成及びパワー発生方法
を提供する。パワーは、ガスタービン内で前記ガス流を
膨脹させることによって、及び、又は、熱を用いて蒸気
を発生させることによって創生される。前記圧縮酸素減
耗ガス流を膨脹させる前に第2燃焼器を用いて燃焼させ
ることが好ましい。ここでは、便宜上、圧縮されたガス
流を「圧縮ガス流」と称し、加熱のために燃焼せしめら
れた圧縮ガス流を「燃焼圧縮ガス流」と称することとす
る。本発明で用いられる固形電解質膜には、固形電解質
イオン伝導体膜と混合型伝導体膜があり、それらを総称
して、「固形電解質膜」又は「セリック膜」と称する。
膜透過ガスとは、セリック膜を透過したガス、即ち、
「篩下」のことであり、従って、膜透過生成物酸素流と
は、膜を透過することによってガス流から分離された生
成物(製品)としての酸素流のことをいう。膜不透過ガ
ス流とは、膜を透過せずに保持されたガス、即ち、「篩
上」のことであり、酸素減耗ガスとは、酸素を減少又は
除去されたガスのことである。従って、圧縮酸素減耗膜
不透過ガス流とは、膜を透過せずに保持され、酸素を減
少又は除去された圧縮ガス流のことをいう。
決するために、圧縮された酸素含有ガス流を燃焼器内で
燃焼させ、その燃焼された圧縮ガス流を固形電解質膜に
接触させて燃焼圧縮ガス流から膜透過生成物酸素流と圧
縮酸素減耗膜不透過ガス流とを生成し、固形電解質膜か
ら回収された前記圧縮酸素減耗ガス流をガスタービン内
で膨脹させることから成る酸素生成及びパワー発生方法
を提供する。パワーは、ガスタービン内で前記ガス流を
膨脹させることによって、及び、又は、熱を用いて蒸気
を発生させることによって創生される。前記圧縮酸素減
耗ガス流を膨脹させる前に第2燃焼器を用いて燃焼させ
ることが好ましい。ここでは、便宜上、圧縮されたガス
流を「圧縮ガス流」と称し、加熱のために燃焼せしめら
れた圧縮ガス流を「燃焼圧縮ガス流」と称することとす
る。本発明で用いられる固形電解質膜には、固形電解質
イオン伝導体膜と混合型伝導体膜があり、それらを総称
して、「固形電解質膜」又は「セリック膜」と称する。
膜透過ガスとは、セリック膜を透過したガス、即ち、
「篩下」のことであり、従って、膜透過生成物酸素流と
は、膜を透過することによってガス流から分離された生
成物(製品)としての酸素流のことをいう。膜不透過ガ
ス流とは、膜を透過せずに保持されたガス、即ち、「篩
上」のことであり、酸素減耗ガスとは、酸素を減少又は
除去されたガスのことである。従って、圧縮酸素減耗膜
不透過ガス流とは、膜を透過せずに保持され、酸素を減
少又は除去された圧縮ガス流のことをいう。
【0011】変型実施形態として、ガスの流量、酸素含
有量及び温度等の可変パラメータに応じて調節すること
が望ましい場合は、ガス流の一部を主経路をバイパスさ
せて通す代替経路(選択経路)を設けることができる。
有量及び温度等の可変パラメータに応じて調節すること
が望ましい場合は、ガス流の一部を主経路をバイパスさ
せて通す代替経路(選択経路)を設けることができる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の方法は、セリック膜酸素
生成系統(単に「セリック膜系統」又は「酸素生成系
統」とも称する)をガスタービンパワー発生系統(単に
「ガスタービン系統」又は「パワー発生系統」とも称す
る)と統合(一体的に組み合わせる)することによって
酸素を生成するとともに、パワーを創生する。セリック
膜酸素生成系統及びガスタービンパワー発生系統は、そ
れぞれの性能を最適にする温度で作動させる。1つ又は
それ以上の燃焼器を能率的に用いてガス流を所望の温度
に加熱する。本発明に従って使用することができるセリ
ック膜については、後述する。
生成系統(単に「セリック膜系統」又は「酸素生成系
統」とも称する)をガスタービンパワー発生系統(単に
「ガスタービン系統」又は「パワー発生系統」とも称す
る)と統合(一体的に組み合わせる)することによって
酸素を生成するとともに、パワーを創生する。セリック
膜酸素生成系統及びガスタービンパワー発生系統は、そ
れぞれの性能を最適にする温度で作動させる。1つ又は
それ以上の燃焼器を能率的に用いてガス流を所望の温度
に加熱する。本発明に従って使用することができるセリ
ック膜については、後述する。
【0013】本発明は、一般に、任意の酸素含有ガスか
ら酸素を生成し、パワーを創生する技術に適用すること
ができるが、空気から酸素を生成し、パワーを創生する
技術に関連して実施することが好ましい。ここでいう生
成物酸素とは、少くとも約90%、好ましくは少くとも
約95%、より好ましくは少くとも約98%の純度を有
する酸素のことをいう。
ら酸素を生成し、パワーを創生する技術に適用すること
ができるが、空気から酸素を生成し、パワーを創生する
技術に関連して実施することが好ましい。ここでいう生
成物酸素とは、少くとも約90%、好ましくは少くとも
約95%、より好ましくは少くとも約98%の純度を有
する酸素のことをいう。
【0014】添付図において、実線は、特定の実施形態
の主経路を表し、鎖線又は1点鎖線は、それぞれの実施
形態の特定の利点を達成するために従うことができる、
主経路の一部をバイパスする代替経路(選択経路)を表
す。後に詳述するように、一般に、流れのほぼ10%〜
90%を代替経路の少くとも1つを通して通流させるこ
とができる。(ここでは、説明の便宜上、流体の流れ
と、その流体を通す経路又は導管を同じ参照番号で表す
こととする。)
の主経路を表し、鎖線又は1点鎖線は、それぞれの実施
形態の特定の利点を達成するために従うことができる、
主経路の一部をバイパスする代替経路(選択経路)を表
す。後に詳述するように、一般に、流れのほぼ10%〜
90%を代替経路の少くとも1つを通して通流させるこ
とができる。(ここでは、説明の便宜上、流体の流れ
と、その流体を通す経路又は導管を同じ参照番号で表す
こととする。)
【0015】本発明の方法は、ガスタービンパワー発生
サイクルのいろいろな変型に適用することができる。図
1に示される本発明の一実施形態による酸素生及びパワ
ー発生装置10は、本発明に従って酸素生及びパワー発
生を達成するためにガスタービンと統合されたセリック
膜式分離器ユニット(以下、単に「セリック分離器」と
も称する)13を有する。この実施形態においては、ラ
ンキンパワー発生サイクルへ導管を通して送る蒸気流1
25を生成するための熱をセリック膜の透過生成物(膜
を透過した「篩下」生成物、ここでは酸素)及び、又は
ガスタービンの排ガスから回収することができる。
サイクルのいろいろな変型に適用することができる。図
1に示される本発明の一実施形態による酸素生及びパワ
ー発生装置10は、本発明に従って酸素生及びパワー発
生を達成するためにガスタービンと統合されたセリック
膜式分離器ユニット(以下、単に「セリック分離器」と
も称する)13を有する。この実施形態においては、ラ
ンキンパワー発生サイクルへ導管を通して送る蒸気流1
25を生成するための熱をセリック膜の透過生成物(膜
を透過した「篩下」生成物、ここでは酸素)及び、又は
ガスタービンの排ガスから回収することができる。
【0016】本発明の方法によれば、供給ガスである酸
素含有ガス流111をガス圧縮機(以下、単に「圧縮
機」とも称する)11内で圧縮し、約7.03〜約3
5.15Kg/cm2 (絶対圧)(約100〜約500
psia)、好ましくは約14.06〜約28.12K
g/cm2 (絶対圧)(約200〜約400psia)
の範囲の圧力を有する圧縮供給ガス流(単に「供給流」
とも称する)112を生成する。
素含有ガス流111をガス圧縮機(以下、単に「圧縮
機」とも称する)11内で圧縮し、約7.03〜約3
5.15Kg/cm2 (絶対圧)(約100〜約500
psia)、好ましくは約14.06〜約28.12K
g/cm2 (絶対圧)(約200〜約400psia)
の範囲の圧力を有する圧縮供給ガス流(単に「供給流」
とも称する)112を生成する。
【0017】圧縮機11から出た圧縮ガス流112を燃
焼器14へ通し、燃焼器内でセリック膜式分離器ユニッ
ト13のセリック膜の作動温度にまで燃焼させる。この
作動温度は、約400〜約1200°Cの範囲、好まし
くは約500〜約850°Cの範囲の温度である。
焼器14へ通し、燃焼器内でセリック膜式分離器ユニッ
ト13のセリック膜の作動温度にまで燃焼させる。この
作動温度は、約400〜約1200°Cの範囲、好まし
くは約500〜約850°Cの範囲の温度である。
【0018】このセリック膜作動温度を得るために、燃
焼器14内でそれに供給される燃料113を燃焼させ
る。供給する燃料113は、天然ガス、燃料油又は石炭
から得られた燃料ガス等の炭化水素燃料を含む任意の適
当な燃料であってよい。このようにして得られた燃焼圧
縮ガス流114を燃焼器14からセリック膜式分離器ユ
ニット13へ送る。セリック膜への燃焼、圧縮ガス流1
14の供給流量は、セリック膜の透過生成物流(膜を透
過した生成物、ここでは酸素の流れ)115の所望の流
量に直接対応する(比例する)ように定める。
焼器14内でそれに供給される燃料113を燃焼させ
る。供給する燃料113は、天然ガス、燃料油又は石炭
から得られた燃料ガス等の炭化水素燃料を含む任意の適
当な燃料であってよい。このようにして得られた燃焼圧
縮ガス流114を燃焼器14からセリック膜式分離器ユ
ニット13へ送る。セリック膜への燃焼、圧縮ガス流1
14の供給流量は、セリック膜の透過生成物流(膜を透
過した生成物、ここでは酸素の流れ)115の所望の流
量に直接対応する(比例する)ように定める。
【0019】セリック膜式分離器ユニット13におい
て、燃焼、圧縮ガス流114をセリック膜に通すことに
よって燃焼、圧縮ガス流114から膜透過生成物(「篩
下」)として酸素が分離除去される。除去される酸素の
量は、通常、酸素含有ガス(燃焼圧縮ガス流114)の
酸素含有量の約5%〜約50%の範囲である。酸素流、
即ち膜透過生成物流115は、セリック膜式分離器ユニ
ット13から抽出して熱交換器16及び17を順次に通
して通流させ、順次により低温の生成物酸素流121及
び122を得る。
て、燃焼、圧縮ガス流114をセリック膜に通すことに
よって燃焼、圧縮ガス流114から膜透過生成物(「篩
下」)として酸素が分離除去される。除去される酸素の
量は、通常、酸素含有ガス(燃焼圧縮ガス流114)の
酸素含有量の約5%〜約50%の範囲である。酸素流、
即ち膜透過生成物流115は、セリック膜式分離器ユニ
ット13から抽出して熱交換器16及び17を順次に通
して通流させ、順次により低温の生成物酸素流121及
び122を得る。
【0020】一方、圧縮された酸素減耗(酸素を減少又
は除去された)膜不透過(「篩上」)排ガス流116
(以下、単に「膜排ガス」とも称する)は、セリック膜
式分離器ユニット13から燃焼器15へ送る。燃焼器1
5内において、追加の燃料113aを供給して圧縮酸素
減耗膜不透過排ガス流116の温度をガスタービン12
の入口温度にまで昇温させる。燃焼器15を使用するこ
とにより、セリック分離器13の作動温度をタービン1
2の作動温度から隔絶することができる。燃焼器15か
ら燃焼せしめられた圧縮酸素減耗ガス流117をタービ
ン12へ送り、正味パワー131(タービン12の総出
力パワーから圧縮機11の駆動に消費されるパワーを除
いたパワー)を創生する。タービン12の最適性能を得
るための作動温度は、通常、約900°C〜約2000
°C、好ましくは約1000°C〜約1700°Cの範
囲である。
は除去された)膜不透過(「篩上」)排ガス流116
(以下、単に「膜排ガス」とも称する)は、セリック膜
式分離器ユニット13から燃焼器15へ送る。燃焼器1
5内において、追加の燃料113aを供給して圧縮酸素
減耗膜不透過排ガス流116の温度をガスタービン12
の入口温度にまで昇温させる。燃焼器15を使用するこ
とにより、セリック分離器13の作動温度をタービン1
2の作動温度から隔絶することができる。燃焼器15か
ら燃焼せしめられた圧縮酸素減耗ガス流117をタービ
ン12へ送り、正味パワー131(タービン12の総出
力パワーから圧縮機11の駆動に消費されるパワーを除
いたパワー)を創生する。タービン12の最適性能を得
るための作動温度は、通常、約900°C〜約2000
°C、好ましくは約1000°C〜約1700°Cの範
囲である。
【0021】ガスタービン12内において、燃焼圧縮酸
素減耗ガス流117を膨脹させてパワーを創生する。ガ
スタービン12は、軸110によって圧縮機11に連結
することができ、それによって圧縮機11を駆動するこ
とができる。軸以外に、歯車列や電気的接続手段等の他
の慣用の連動機構を用いることもできる。ガスタービン
12は、圧縮機11を駆動するための所要パワーのみな
らず、ここに述べられた他のパワー消費機器にパワーを
供給するのにも十分なパワーを創生する。
素減耗ガス流117を膨脹させてパワーを創生する。ガ
スタービン12は、軸110によって圧縮機11に連結
することができ、それによって圧縮機11を駆動するこ
とができる。軸以外に、歯車列や電気的接続手段等の他
の慣用の連動機構を用いることもできる。ガスタービン
12は、圧縮機11を駆動するための所要パワーのみな
らず、ここに述べられた他のパワー消費機器にパワーを
供給するのにも十分なパワーを創生する。
【0022】セリック膜式分離器ユニット13から流出
した酸素流115と同様に、膨脹した、酸素減耗ガス流
即ちガスタービン排ガス118を熱交換器16及び17
に順次に通すことができ、それによって、順次により低
温の排ガス流119及び120を得ることができる。
した酸素流115と同様に、膨脹した、酸素減耗ガス流
即ちガスタービン排ガス118を熱交換器16及び17
に順次に通すことができ、それによって、順次により低
温の排ガス流119及び120を得ることができる。
【0023】水流123を熱交換器16に導入して加熱
された水流124を生成し、それを熱交換器17に通し
て実質的に蒸気の流れ125を生成することができる。
上述したように、この蒸気流125は、ランキンパワー
発生サイクルへ通すのに用いることができる。
された水流124を生成し、それを熱交換器17に通し
て実質的に蒸気の流れ125を生成することができる。
上述したように、この蒸気流125は、ランキンパワー
発生サイクルへ通すのに用いることができる。
【0024】実際の実施において、燃焼器14及び、又
は15及び、又はセリック膜式分離器ユニット13への
供給流の一部、通常10%〜90%をバイパスさせるこ
とが望ましい場合がある。そのための代替経路即ち選択
経路が、図1に鎖線と1点鎖線によって示されている。
例えば、ガス圧縮機から燃焼器へ導入される圧縮ガス流
が多過ぎると、燃焼器内での燃焼が燃料希薄状態での燃
焼となる。燃焼器の主帯域が燃料希薄状態となると、火
炎が不安定になる。その場合は、燃焼器へ供給される圧
縮供給ガス流の一部分をバイパスさせることによって燃
焼器内の条件を好適な燃焼のための燃料/ガス比を得る
ように調節することができる。あるいは又、第1燃焼器
14へ導入される圧縮ガス流の流量が高過ぎる場合は、
そのガス流の一部分を分流して第1燃焼器14の下流の
第2燃焼器15及びセリック分離器13へ導入すること
ができる。
は15及び、又はセリック膜式分離器ユニット13への
供給流の一部、通常10%〜90%をバイパスさせるこ
とが望ましい場合がある。そのための代替経路即ち選択
経路が、図1に鎖線と1点鎖線によって示されている。
例えば、ガス圧縮機から燃焼器へ導入される圧縮ガス流
が多過ぎると、燃焼器内での燃焼が燃料希薄状態での燃
焼となる。燃焼器の主帯域が燃料希薄状態となると、火
炎が不安定になる。その場合は、燃焼器へ供給される圧
縮供給ガス流の一部分をバイパスさせることによって燃
焼器内の条件を好適な燃焼のための燃料/ガス比を得る
ように調節することができる。あるいは又、第1燃焼器
14へ導入される圧縮ガス流の流量が高過ぎる場合は、
そのガス流の一部分を分流して第1燃焼器14の下流の
第2燃焼器15及びセリック分離器13へ導入すること
ができる。
【0025】第2燃焼器15内の酸素レベルが該燃焼器
内へ流入してくるガス流の適正な燃焼を維持するのに十
分でない場合は、圧縮機11から流出する圧縮ガス流の
一部分を第1燃焼器14並びにセリック分離器13の両
方をバイパスさせて第2燃焼器15へ導入することがで
きる。そうすることによって、第2燃焼器15へ流入し
てくるガス流の酸素含有量を適正なレベルに維持するこ
とができる。以上の説明から分かるように、これらの代
替経路は、本発明の方法及び装置全体に亙って、望まし
い温度、酸素含有量及びガス流の流量を得ることを可能
にする。
内へ流入してくるガス流の適正な燃焼を維持するのに十
分でない場合は、圧縮機11から流出する圧縮ガス流の
一部分を第1燃焼器14並びにセリック分離器13の両
方をバイパスさせて第2燃焼器15へ導入することがで
きる。そうすることによって、第2燃焼器15へ流入し
てくるガス流の酸素含有量を適正なレベルに維持するこ
とができる。以上の説明から分かるように、これらの代
替経路は、本発明の方法及び装置全体に亙って、望まし
い温度、酸素含有量及びガス流の流量を得ることを可能
にする。
【0026】例えば、圧縮供給ガス流112の一部分を
燃焼器14をバイパスさせて代替又は選択経路130を
通して搬送し、供給流112の残部を燃焼器14に通す
ことができる。それによって、燃焼器14の出口温度を
高くすることができ、従って、燃焼器14内での燃焼を
より安定した効率的な燃焼とすることができる。燃焼器
14の下流において、供給流112のバイパスさせた一
部分130と、供給流112の燃焼せしめられた残部と
を丸で囲まれた地点Aで弁を介して合流させ、それによ
って比較的冷却された合流ガス流の全部をセリック分離
器13へ送ることができる。あるいは、丸で囲まれた地
点Aで合流ガス流の一部分128を分流し、丸で囲まれ
た地点Dで供給流112のバイパスさせた一部分126
と合流させるようにしてもよい。そのようにして合流さ
れた流れ127を丸で囲まれた地点Eで圧縮酸素減耗ガ
ス流116と合流させ、その合流流れを燃焼器25へ送
ることができる。更に別の構成として、圧縮された酸素
減耗「篩上」ガス流116を丸で囲まれた地点Cで分流
し、その一部分のガス流129を第2燃焼器15をバイ
パスさせて通し、丸で囲まれた地点Bで第2燃焼器15
からの燃焼圧縮酸素減耗ガス流117と合流させるよう
にすることもできる。
燃焼器14をバイパスさせて代替又は選択経路130を
通して搬送し、供給流112の残部を燃焼器14に通す
ことができる。それによって、燃焼器14の出口温度を
高くすることができ、従って、燃焼器14内での燃焼を
より安定した効率的な燃焼とすることができる。燃焼器
14の下流において、供給流112のバイパスさせた一
部分130と、供給流112の燃焼せしめられた残部と
を丸で囲まれた地点Aで弁を介して合流させ、それによ
って比較的冷却された合流ガス流の全部をセリック分離
器13へ送ることができる。あるいは、丸で囲まれた地
点Aで合流ガス流の一部分128を分流し、丸で囲まれ
た地点Dで供給流112のバイパスさせた一部分126
と合流させるようにしてもよい。そのようにして合流さ
れた流れ127を丸で囲まれた地点Eで圧縮酸素減耗ガ
ス流116と合流させ、その合流流れを燃焼器25へ送
ることができる。更に別の構成として、圧縮された酸素
減耗「篩上」ガス流116を丸で囲まれた地点Cで分流
し、その一部分のガス流129を第2燃焼器15をバイ
パスさせて通し、丸で囲まれた地点Bで第2燃焼器15
からの燃焼圧縮酸素減耗ガス流117と合流させるよう
にすることもできる。
【0027】このように、供給ガス流の一部分を燃焼器
14又は15又はその両方をバイパスさせて通すことに
よって、燃焼器内の燃料/オキシダント比を高くするこ
とができ、それによって、燃焼器のより安定した作動を
維持することができる。それによって、燃焼器14,1
5の一方又は両方をセリック膜式分離器ユニットの作動
温度より高い温度で作動させることができる。
14又は15又はその両方をバイパスさせて通すことに
よって、燃焼器内の燃料/オキシダント比を高くするこ
とができ、それによって、燃焼器のより安定した作動を
維持することができる。それによって、燃焼器14,1
5の一方又は両方をセリック膜式分離器ユニットの作動
温度より高い温度で作動させることができる。
【0028】流れ116に流れ127を合流させるか、
あるいは、流れ116に代えて流れ127を第2燃焼器
15へ送給するのは、第2燃焼器15への供給流の酸素
含有量を増大させることが望ましい場合に有利である。
なぜなら、流れ127は、セリック分離器13へ導入さ
れないので、セリック分離器13からの流れ116より
高い酸素含有量を有しているからである。このような代
替経路を選択することによって、燃焼器14のサイズを
小さくすることができ、しかも最適な作動条件を維持す
ることができる。
あるいは、流れ116に代えて流れ127を第2燃焼器
15へ送給するのは、第2燃焼器15への供給流の酸素
含有量を増大させることが望ましい場合に有利である。
なぜなら、流れ127は、セリック分離器13へ導入さ
れないので、セリック分離器13からの流れ116より
高い酸素含有量を有しているからである。このような代
替経路を選択することによって、燃焼器14のサイズを
小さくすることができ、しかも最適な作動条件を維持す
ることができる。
【0029】流れ112(主流れ)に対する流れ127
(バイパス流れ)の比率は、第2燃焼器15内の燃料/
オキシダント比を改良することの必要性など、上述した
ようないろいろな要因に応じて決定することができる。
この比率の変更は、圧縮酸素減耗ガス流116に第1燃
焼器14への供給流112の一部分を補充するか、ある
いは、圧縮ガス流116を供給流112の一部分に置き
換えることによって達成することができる。この補充、
又は置き換えガス流は、供給流112から流れ126と
して、又は、第1燃焼器14の下流において流れ128
として分流することができる。流れ126は、第1燃焼
器14をバイパスしたものであるのに対して、流れ12
8は、第1燃焼器14から流出したものであるから、燃
焼によって高い温度に加熱されている。いずれにして
も、流れ126及び128は、セリック分離器13から
の圧縮酸素減耗ガス流116より高い酸素濃度を有す
る。
(バイパス流れ)の比率は、第2燃焼器15内の燃料/
オキシダント比を改良することの必要性など、上述した
ようないろいろな要因に応じて決定することができる。
この比率の変更は、圧縮酸素減耗ガス流116に第1燃
焼器14への供給流112の一部分を補充するか、ある
いは、圧縮ガス流116を供給流112の一部分に置き
換えることによって達成することができる。この補充、
又は置き換えガス流は、供給流112から流れ126と
して、又は、第1燃焼器14の下流において流れ128
として分流することができる。流れ126は、第1燃焼
器14をバイパスしたものであるのに対して、流れ12
8は、第1燃焼器14から流出したものであるから、燃
焼によって高い温度に加熱されている。いずれにして
も、流れ126及び128は、セリック分離器13から
の圧縮酸素減耗ガス流116より高い酸素濃度を有す
る。
【0030】図2に示される本発明の第2実施形態によ
る酸素生及びパワー発生装置209においては、本発明
に従って酸素生及びパワー発生を達成するためにセリッ
ク膜式分離器ユニット23がガスタービン22と統合さ
れている。この実施形態においては、圧縮供給ガス流を
予備加熱するためにセリック膜式分離器ユニット23及
び、又はガスタービン22、好ましくは両方からの排ガ
スと向流関係をなすようにして熱交換器に通す。一方、
排ガスは、熱交換器に通されると冷却されるが、その冷
却された排ガスを回収して、ブレイトンパワー発生サイ
クルへ送る蒸気を生成するための熱を得ることができ
る。
る酸素生及びパワー発生装置209においては、本発明
に従って酸素生及びパワー発生を達成するためにセリッ
ク膜式分離器ユニット23がガスタービン22と統合さ
れている。この実施形態においては、圧縮供給ガス流を
予備加熱するためにセリック膜式分離器ユニット23及
び、又はガスタービン22、好ましくは両方からの排ガ
スと向流関係をなすようにして熱交換器に通す。一方、
排ガスは、熱交換器に通されると冷却されるが、その冷
却された排ガスを回収して、ブレイトンパワー発生サイ
クルへ送る蒸気を生成するための熱を得ることができ
る。
【0031】詳述すれば、この実施形態においては、供
給ガスであるガス流211を上述した範囲内の圧力にま
でガス圧縮機21内で圧縮する。次いで、その圧縮され
た供給ガス流212を圧縮機21から熱交換器26に通
し、ガスタービンからの排ガス流220及びセリック膜
式分離器ユニット23からの酸素流216によって予備
加熱する。
給ガスであるガス流211を上述した範囲内の圧力にま
でガス圧縮機21内で圧縮する。次いで、その圧縮され
た供給ガス流212を圧縮機21から熱交換器26に通
し、ガスタービンからの排ガス流220及びセリック膜
式分離器ユニット23からの酸素流216によって予備
加熱する。
【0032】熱交換器26から出てきた、予備加熱され
た圧縮ガス流213は、約300〜約800°Cの範
囲、好ましくは約400〜約650°Cの範囲の温度を
有しており、それを燃焼器24へ通す。燃焼器24内で
圧縮ガス流213を燃料214でセリック膜式分離器ユ
ニット23のセリック膜の上述した作動温度にまで燃焼
させる。このセリック膜作動温度を得るために、燃焼器
24内でそれに供給される燃料214を燃焼させる。
た圧縮ガス流213は、約300〜約800°Cの範
囲、好ましくは約400〜約650°Cの範囲の温度を
有しており、それを燃焼器24へ通す。燃焼器24内で
圧縮ガス流213を燃料214でセリック膜式分離器ユ
ニット23のセリック膜の上述した作動温度にまで燃焼
させる。このセリック膜作動温度を得るために、燃焼器
24内でそれに供給される燃料214を燃焼させる。
【0033】このようにして燃焼圧縮ガス流215を燃
焼器24からセリック膜式分離器ユニット23へ送る。
セリック膜式分離器ユニット23において、通常、圧縮
ガス流215からそれに含有される酸素の約5%〜約5
0%を除去する。セリック膜式分離器ユニット23への
燃焼、圧縮ガス流215の供給流量は、ガスタービン2
2への供給流の上述した比率(%)の範囲内とすべきで
ある。
焼器24からセリック膜式分離器ユニット23へ送る。
セリック膜式分離器ユニット23において、通常、圧縮
ガス流215からそれに含有される酸素の約5%〜約5
0%を除去する。セリック膜式分離器ユニット23への
燃焼、圧縮ガス流215の供給流量は、ガスタービン2
2への供給流の上述した比率(%)の範囲内とすべきで
ある。
【0034】セリック膜式分離器ユニット23から流出
した酸素流216は、熱交換器26へ通す。熱交換器2
6においてこの酸素流216から圧縮ガス流212へ熱
が与えられ、酸素流216は、冷却された生成物酸素流
217として熱交換器から流出する。あるいは別法とし
て、酸素流216を別の熱交換器27に通して、圧縮供
給ガス流212の一部分212aと熱交換させ、該一部
分を予備加熱するとともに、冷却された生成物酸素流2
17aを得るようにすることもできる。この方法は、あ
る種の物質と望ましくない反応を起すおそれのある高温
で高純度の酸素流216を取扱う熱交換器のサイズを小
さくしたい場合に有利である。
した酸素流216は、熱交換器26へ通す。熱交換器2
6においてこの酸素流216から圧縮ガス流212へ熱
が与えられ、酸素流216は、冷却された生成物酸素流
217として熱交換器から流出する。あるいは別法とし
て、酸素流216を別の熱交換器27に通して、圧縮供
給ガス流212の一部分212aと熱交換させ、該一部
分を予備加熱するとともに、冷却された生成物酸素流2
17aを得るようにすることもできる。この方法は、あ
る種の物質と望ましくない反応を起すおそれのある高温
で高純度の酸素流216を取扱う熱交換器のサイズを小
さくしたい場合に有利である。
【0035】一方、圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流21
6は、セリック膜式分離器ユニット23から燃焼器25
へ送る。燃焼器25内において、追加の燃料214aを
供給して圧縮酸素減耗ガス流216の温度をガスタービ
ン22の入口温度にまで昇温させる。タービン22の作
動温度は、約900°C〜約2000°C、好ましくは
約1000°C〜約1700°Cの範囲である。燃焼器
25から燃焼圧縮酸素減耗ガス流219をタービン22
へ送る。
6は、セリック膜式分離器ユニット23から燃焼器25
へ送る。燃焼器25内において、追加の燃料214aを
供給して圧縮酸素減耗ガス流216の温度をガスタービ
ン22の入口温度にまで昇温させる。タービン22の作
動温度は、約900°C〜約2000°C、好ましくは
約1000°C〜約1700°Cの範囲である。燃焼器
25から燃焼圧縮酸素減耗ガス流219をタービン22
へ送る。
【0036】タービン22内において、燃焼圧縮酸素減
耗ガス流219を膨脹させて正味パワー231を創生す
る。図1の実施形態の場合と同様に、ガスタービン22
は、軸210によって圧縮機21に連結することがで
き、それによって圧縮機21を駆動することができる。
耗ガス流219を膨脹させて正味パワー231を創生す
る。図1の実施形態の場合と同様に、ガスタービン22
は、軸210によって圧縮機21に連結することがで
き、それによって圧縮機21を駆動することができる。
【0037】セリック膜式分離器ユニット23から流出
した酸素流216と同様に、膨脹した、酸素減耗ガス流
即ちタービン排ガス(排ガス)220を熱交換器26に
通し、低温の排ガス流221を生成する。排ガス流22
1は、ランキンパワー発生サイクルへ通すための蒸気を
創生するのに用いることができる。
した酸素流216と同様に、膨脹した、酸素減耗ガス流
即ちタービン排ガス(排ガス)220を熱交換器26に
通し、低温の排ガス流221を生成する。排ガス流22
1は、ランキンパワー発生サイクルへ通すための蒸気を
創生するのに用いることができる。
【0038】図1の装置10の場合のように、図2の装
置においても、予備加熱された圧縮ガス流213の全部
を燃焼器24へ送り、得られた燃焼圧縮ガス流215を
セリック膜式分離器ユニット23へ通すことができる。
別法として、予備加熱された圧縮ガス流即ち供給流21
3の一部分224を燃焼器24をバイパスさせて通し、
供給流213の残部を燃焼器24に通して燃焼ガス流2
15として流出させることができる。燃焼器24の下流
において、供給流213のバイパスさせた一部分224
と、供給流213の燃焼せしめられた残部とを丸で囲ま
れた地点A2で合流させる。この合流した流れの全部を
セリック分離器23へ送ってもよく、あるいは、丸で囲
まれた地点A2で合流ガス流れの一部分を分流し、丸で
囲まれた地点D2で供給流213のバイパスさせた一部
分222と合流させて合流流れ223を形成するように
してもよい。バイパス流れ222及び224は、燃焼器
24をバイパスするので、燃焼されず、従って、熱交換
器26内で加熱されて昇温された温度以上には達しな
い。合流流れ223は、セリック膜式分離器ユニット2
3をバイパスするので、セリック膜式分離器ユニット2
3からの圧縮酸素減耗ガス流218より高い酸素含有量
を有する。合流流れ223は、丸で囲まれた地点E2で
圧縮酸素減耗ガス流218と合流させ、その合流流れを
燃焼器25へ送ることができる。
置においても、予備加熱された圧縮ガス流213の全部
を燃焼器24へ送り、得られた燃焼圧縮ガス流215を
セリック膜式分離器ユニット23へ通すことができる。
別法として、予備加熱された圧縮ガス流即ち供給流21
3の一部分224を燃焼器24をバイパスさせて通し、
供給流213の残部を燃焼器24に通して燃焼ガス流2
15として流出させることができる。燃焼器24の下流
において、供給流213のバイパスさせた一部分224
と、供給流213の燃焼せしめられた残部とを丸で囲ま
れた地点A2で合流させる。この合流した流れの全部を
セリック分離器23へ送ってもよく、あるいは、丸で囲
まれた地点A2で合流ガス流れの一部分を分流し、丸で
囲まれた地点D2で供給流213のバイパスさせた一部
分222と合流させて合流流れ223を形成するように
してもよい。バイパス流れ222及び224は、燃焼器
24をバイパスするので、燃焼されず、従って、熱交換
器26内で加熱されて昇温された温度以上には達しな
い。合流流れ223は、セリック膜式分離器ユニット2
3をバイパスするので、セリック膜式分離器ユニット2
3からの圧縮酸素減耗ガス流218より高い酸素含有量
を有する。合流流れ223は、丸で囲まれた地点E2で
圧縮酸素減耗ガス流218と合流させ、その合流流れを
燃焼器25へ送ることができる。
【0039】又、圧縮酸素減耗ガス流218を丸で囲ま
れた地点C2で分流し、その一部分のガス流225を第
2燃焼器25をバイパスさせて通し、丸で囲まれた地点
B2で第2燃焼器25からの燃焼圧縮酸素減耗ガス流2
19と合流させるようにすることもできる。その合流流
れをガスタービン22へ送る。
れた地点C2で分流し、その一部分のガス流225を第
2燃焼器25をバイパスさせて通し、丸で囲まれた地点
B2で第2燃焼器25からの燃焼圧縮酸素減耗ガス流2
19と合流させるようにすることもできる。その合流流
れをガスタービン22へ送る。
【0040】第1実施形態の場合と同様に、供給ガス流
の一部分を燃焼器24又は25又はその両方をバイパス
させて通すことによって、燃焼器内の燃料/オキシダン
ト比を高くすることができ、それによって、燃焼器のよ
り安定した作動を維持することができる。それによっ
て、セリック膜式分離器ユニット又はガスタービンの入
口の温度を望ましい温度に制御することができる。
の一部分を燃焼器24又は25又はその両方をバイパス
させて通すことによって、燃焼器内の燃料/オキシダン
ト比を高くすることができ、それによって、燃焼器のよ
り安定した作動を維持することができる。それによっ
て、セリック膜式分離器ユニット又はガスタービンの入
口の温度を望ましい温度に制御することができる。
【0041】表1は、図2に示された装置及び方法から
28,316m3 /時(1,000,000NCFH)
の酸素を生成する場合の生産パラメータを示す。ここ
で、「NCFH」は、Normal Cubic Feet per Hourの略
であり、常態におけるft3 /時を表す。この例では、
セリック膜は、約800°C(約1470°F)の好ま
しい温度で作動する。この温度は、回収熱交換器26か
ら流出した供給ガス流213の温度より高いが、ガスタ
ービン22の入口温度(約1094°C)より低い。圧
縮ガス流212の温度は、燃焼器24に通されることに
よってセリック膜式分離器ユニット23の作動温度にま
で高められる。
28,316m3 /時(1,000,000NCFH)
の酸素を生成する場合の生産パラメータを示す。ここ
で、「NCFH」は、Normal Cubic Feet per Hourの略
であり、常態におけるft3 /時を表す。この例では、
セリック膜は、約800°C(約1470°F)の好ま
しい温度で作動する。この温度は、回収熱交換器26か
ら流出した供給ガス流213の温度より高いが、ガスタ
ービン22の入口温度(約1094°C)より低い。圧
縮ガス流212の温度は、燃焼器24に通されることに
よってセリック膜式分離器ユニット23の作動温度にま
で高められる。
【0042】
【表1】 供給ガス流211 の流量 :11.2 x 106NCFH 燃料の種類 :天然ガス 燃焼器24への燃料流214 の流量 :1.56 x 105NCFH 燃焼器25への燃料流214aの流量 :1.4 x 105NCFH セリック膜からの酸素流216 の流量 :1 x 106NCFH 熱交換器26を通した後の排ガス流221 の温度 :730 °F (388°C ) 圧縮機21への供給ガス流211 の温度 :70°F (21 °C ) 熱交換器26を通した後の供給ガス流213 の温度:880 °F (471°C ) 燃焼器24を通した後の圧縮ガス流215 の温度 :1470°F (800°C ) 燃焼器25を通した後の圧縮ガス流219 の温度 :2000°F (1094 °C ) タービン22の排ガス流220 の温度 :900 °F (483°C ) 圧縮機21を通した後の供給ガス流212 の圧力 :12 atm 酸素生成物流216 の圧力 :1 atm タービン22の排ガス流220 の圧力 :1 atm 圧縮機21の等エントロピーにおける効率 :86% タービン22の等エントロピーにおける効率 :88% 熱交換器26の効率 :90% 燃料の発熱量(下限) :900 BTU/NCFH タービン22の出力パワー :73.3 Mw 圧縮機21の消費パワー :40.9 Mw 酸素の生成に消費されるパワー :3.7 Mw タービン22の正味パワー231 :32.4 Mw
【0043】図3に示される本発明の第3実施形態によ
る酸素生成及びパワー発生装置309においては、本発
明に従って酸素生成及びパワー発生を達成するためにセ
リック膜式分離器ユニット33がガスタービン32と統
合されている。この実施形態においては、圧縮供給ガス
流を予備加熱するためにセリック膜式分離器ユニット3
3からの排ガスをガスタービンに通して膨脹させる前に
熱交換器に通して排ガスから熱を回収する。この回収さ
れた熱を用いてランキンパワー発生サイクル又は他のパ
ワー発生サイクルへ送る蒸気を生成する。
る酸素生成及びパワー発生装置309においては、本発
明に従って酸素生成及びパワー発生を達成するためにセ
リック膜式分離器ユニット33がガスタービン32と統
合されている。この実施形態においては、圧縮供給ガス
流を予備加熱するためにセリック膜式分離器ユニット3
3からの排ガスをガスタービンに通して膨脹させる前に
熱交換器に通して排ガスから熱を回収する。この回収さ
れた熱を用いてランキンパワー発生サイクル又は他のパ
ワー発生サイクルへ送る蒸気を生成する。
【0044】この実施形態においては、装置309は、
セリック膜式分離器ユニット33の下流に設けられる第
2燃焼器を備えていない。供給ガスであるガス流311
をガス圧縮機31によって約7.03〜約35.15K
g/cm2 (絶対圧)(約100〜約500psi
a)、好ましくは約14.06〜約28.12Kg/c
m2 (絶対圧)(約200〜約400psia)の範囲
の圧力にまで圧縮する。圧縮機31から流出した圧縮供
給ガス流312を燃焼器34へ通し、燃焼器内でそれに
供給される燃料321を燃焼させることによって圧縮供
給ガス流312の温度をセリック膜式分離器ユニット3
3のセリック膜の上述した作動温度にまで上昇させる。
セリック膜式分離器ユニット33の下流に設けられる第
2燃焼器を備えていない。供給ガスであるガス流311
をガス圧縮機31によって約7.03〜約35.15K
g/cm2 (絶対圧)(約100〜約500psi
a)、好ましくは約14.06〜約28.12Kg/c
m2 (絶対圧)(約200〜約400psia)の範囲
の圧力にまで圧縮する。圧縮機31から流出した圧縮供
給ガス流312を燃焼器34へ通し、燃焼器内でそれに
供給される燃料321を燃焼させることによって圧縮供
給ガス流312の温度をセリック膜式分離器ユニット3
3のセリック膜の上述した作動温度にまで上昇させる。
【0045】このようにして得られた燃焼圧縮ガス流3
13を燃焼器34からセリック膜式分離器ユニット33
へ送り、セリック膜式分離器ユニットにおいてガス流3
13中の酸素の通常10%〜80%を除去する。除去さ
れ回収される酸素の量は、酸素含有ガス(燃焼圧縮ガス
流313)の酸素含有量に依存する。
13を燃焼器34からセリック膜式分離器ユニット33
へ送り、セリック膜式分離器ユニットにおいてガス流3
13中の酸素の通常10%〜80%を除去する。除去さ
れ回収される酸素の量は、酸素含有ガス(燃焼圧縮ガス
流313)の酸素含有量に依存する。
【0046】セリック膜式分離器ユニット33からの酸
素流、即ち膜透過生成物流316は、熱交換器35に通
し、低温の生成物酸素流317を得る。一方、セリック
膜式分離器ユニット33からの圧縮酸素減耗膜不透過排
ガス流314も、やはり熱交換器35に通す。
素流、即ち膜透過生成物流316は、熱交換器35に通
し、低温の生成物酸素流317を得る。一方、セリック
膜式分離器ユニット33からの圧縮酸素減耗膜不透過排
ガス流314も、やはり熱交換器35に通す。
【0047】水流318を熱交換器35に導入し、排ガ
ス流314及び酸素流316からの熱の一部分により蒸
気流319を生成する。この回収された熱、即ち、蒸気
流319は、ランキンパワー発生サイクル又はその他の
パワー発生サイクルへ通してパワーを創生するのに用い
ることができる。変型実施例として、熱交換器35を2
つ以上とし、排ガス流314と酸素流316をそれぞれ
異なる熱交換器に通すようにすることができる。
ス流314及び酸素流316からの熱の一部分により蒸
気流319を生成する。この回収された熱、即ち、蒸気
流319は、ランキンパワー発生サイクル又はその他の
パワー発生サイクルへ通してパワーを創生するのに用い
ることができる。変型実施例として、熱交換器35を2
つ以上とし、排ガス流314と酸素流316をそれぞれ
異なる熱交換器に通すようにすることができる。
【0048】熱交換器35から流出した低温の圧縮酸素
減耗ガス流315をガスタービン32に導入し、主とし
て空気圧縮機31を駆動するためのパワーを創生するた
めに圧縮酸素減耗ガス流315を膨脹させる。ガスター
ビン32は、軸310によって圧縮機31に連結するこ
とができ、それによって圧縮機31を駆動することがで
きる。
減耗ガス流315をガスタービン32に導入し、主とし
て空気圧縮機31を駆動するためのパワーを創生するた
めに圧縮酸素減耗ガス流315を膨脹させる。ガスター
ビン32は、軸310によって圧縮機31に連結するこ
とができ、それによって圧縮機31を駆動することがで
きる。
【0049】圧縮供給ガス流312中の酸素の一部は燃
焼器34内で消費されるので、実際の実施において、セ
リック膜式分離器ユニット33への供給流中の一酸素の
量を増大させることが望ましい場合がある。その場合
は、丸で囲まれた地点A3で燃焼圧縮ガス流313に圧
縮供給ガス流312の燃焼器34をバイパスして送られ
た一部分320を補充するか、あるいは、燃焼圧縮ガス
流313に代えて圧縮供給ガス流312のバイパスされ
た一部分320を用いることによってその目的を達成す
ることができる。流れ320は燃焼器34をバイパスす
るので、その酸素含有量は、燃焼器34から流出する流
れ313より高い。
焼器34内で消費されるので、実際の実施において、セ
リック膜式分離器ユニット33への供給流中の一酸素の
量を増大させることが望ましい場合がある。その場合
は、丸で囲まれた地点A3で燃焼圧縮ガス流313に圧
縮供給ガス流312の燃焼器34をバイパスして送られ
た一部分320を補充するか、あるいは、燃焼圧縮ガス
流313に代えて圧縮供給ガス流312のバイパスされ
た一部分320を用いることによってその目的を達成す
ることができる。流れ320は燃焼器34をバイパスす
るので、その酸素含有量は、燃焼器34から流出する流
れ313より高い。
【0050】装置309は、所与の供給流311に対し
て酸素の生成を最大限にし、かつ、爾後の使用のための
蒸気流319を生成し、蒸気流319の生成ほどは重要
ではないが、正味タービンパワー331を創生すること
が好ましい。タービン32は、圧縮機31を駆動するこ
とを主たる目的とする安価なターボ膨脹機である。別法
として、タービン32の入口温度を高め、正味パワー3
31を増大させるために、セリック膜式分離器ユニット
33からの圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流314の一部
又は全部を熱交換器35をバイパスして直接タービン3
2へ送ることもできる。更に別の変型例として、随意選
択の第2燃焼器340及びそれに供給する追加の燃料を
用いて追加の蒸気を生成し、第2燃焼器による質量流量
の増大によってタービン32の仕事量を増大させること
ができる。又、第2燃焼器340は、圧縮酸素減耗膜不
透過排ガス流314中に残留している酸素を利用するこ
とができる。
て酸素の生成を最大限にし、かつ、爾後の使用のための
蒸気流319を生成し、蒸気流319の生成ほどは重要
ではないが、正味タービンパワー331を創生すること
が好ましい。タービン32は、圧縮機31を駆動するこ
とを主たる目的とする安価なターボ膨脹機である。別法
として、タービン32の入口温度を高め、正味パワー3
31を増大させるために、セリック膜式分離器ユニット
33からの圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流314の一部
又は全部を熱交換器35をバイパスして直接タービン3
2へ送ることもできる。更に別の変型例として、随意選
択の第2燃焼器340及びそれに供給する追加の燃料を
用いて追加の蒸気を生成し、第2燃焼器による質量流量
の増大によってタービン32の仕事量を増大させること
ができる。又、第2燃焼器340は、圧縮酸素減耗膜不
透過排ガス流314中に残留している酸素を利用するこ
とができる。
【0051】図4〜6に示された酸素生成及びパワー発
生装置409,509及び609は、本発明に従って既
存の従来型ガスタービンパワー発生系統にセリック膜式
分離系統を後付けすることによって得られたものであ
る。このセリック膜式分離系統は、セリック膜に対して
いえば、第1燃焼器と称することができ、パワー発生系
統内の燃焼器に対していえば、第2燃焼器と称すること
ができる追加の燃焼器を含む。
生装置409,509及び609は、本発明に従って既
存の従来型ガスタービンパワー発生系統にセリック膜式
分離系統を後付けすることによって得られたものであ
る。このセリック膜式分離系統は、セリック膜に対して
いえば、第1燃焼器と称することができ、パワー発生系
統内の燃焼器に対していえば、第2燃焼器と称すること
ができる追加の燃焼器を含む。
【0052】図4の第4実施形態においては、圧縮器4
1、燃焼器47、タービン48及び軸410を含む既存
のガスタービンパワー発生系統に、セリック膜の膜不透
過排ガスをガスタービン内で膨脹させるのに適する適当
な圧力にまで圧縮する追加の圧縮機46を備えたセリッ
ク膜式分離系統が後付けされている。この圧縮されたセ
リック膜不透過排ガスは、燃焼器47内で適当な温度に
まで燃焼させた後、タービン内で膨脹させてパワーを創
生させる。
1、燃焼器47、タービン48及び軸410を含む既存
のガスタービンパワー発生系統に、セリック膜の膜不透
過排ガスをガスタービン内で膨脹させるのに適する適当
な圧力にまで圧縮する追加の圧縮機46を備えたセリッ
ク膜式分離系統が後付けされている。この圧縮されたセ
リック膜不透過排ガスは、燃焼器47内で適当な温度に
まで燃焼させた後、タービン内で膨脹させてパワーを創
生させる。
【0053】供給ガス流411は、まず、圧縮機41内
で圧縮させる。この実施形態においても、セリック膜式
分離器ユニット44のセリック膜の作動圧力は、上述し
た範囲内である。圧縮されたガス流412の一部分は、
弁433の制御により回収熱交換器42に通して約30
0°C〜約800°Cの範囲の温度に予備加熱する。圧
縮された供給ガス流412の残部422は、燃焼器47
へ通す。
で圧縮させる。この実施形態においても、セリック膜式
分離器ユニット44のセリック膜の作動圧力は、上述し
た範囲内である。圧縮されたガス流412の一部分は、
弁433の制御により回収熱交換器42に通して約30
0°C〜約800°Cの範囲の温度に予備加熱する。圧
縮された供給ガス流412の残部422は、燃焼器47
へ通す。
【0054】熱交換器42から出てきた、加熱された圧
縮ガス流413は、燃焼器43へ通す。燃焼器43内で
圧縮ガス流413を燃料420と共に燃焼させる。燃焼
器43から流出する燃焼圧縮ガス流414は、セリック
膜式分離器ユニット44のセリック膜の上述した作動温
度に匹敵する温度を有する。この温度を得るために、燃
焼器43内でそれに供給される燃料420を燃焼させ
る。燃焼器43からの燃焼圧縮ガス流414は、セリッ
ク膜式分離器ユニット44へ送る。
縮ガス流413は、燃焼器43へ通す。燃焼器43内で
圧縮ガス流413を燃料420と共に燃焼させる。燃焼
器43から流出する燃焼圧縮ガス流414は、セリック
膜式分離器ユニット44のセリック膜の上述した作動温
度に匹敵する温度を有する。この温度を得るために、燃
焼器43内でそれに供給される燃料420を燃焼させ
る。燃焼器43からの燃焼圧縮ガス流414は、セリッ
ク膜式分離器ユニット44へ送る。
【0055】このようにして得られた燃焼圧縮ガス流4
14を燃焼器43からセリック膜式分離器ユニット44
へ送る。セリック膜式分離器ユニット44において燃焼
圧縮ガス流414をセリック膜に接触させることによっ
てそのガス流から酸素を除去し、その除去された酸素を
酸素流415としてセリック膜式分離器ユニットから抽
出する。一方、圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流416
は、セリック膜式分離器ユニット44から冷却のために
熱交換器42へ通す。次いで、熱交換器42から出てき
た酸素減耗ガス流418を更に冷却するために熱交換器
45へ通す。熱交換器45は、追加の圧縮機又はブース
ター46に受け入れられる最高許容温度に適合するよう
に酸素減耗ガス流418の圧縮機又はブースター46へ
の導入温度を低下させる。
14を燃焼器43からセリック膜式分離器ユニット44
へ送る。セリック膜式分離器ユニット44において燃焼
圧縮ガス流414をセリック膜に接触させることによっ
てそのガス流から酸素を除去し、その除去された酸素を
酸素流415としてセリック膜式分離器ユニットから抽
出する。一方、圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流416
は、セリック膜式分離器ユニット44から冷却のために
熱交換器42へ通す。次いで、熱交換器42から出てき
た酸素減耗ガス流418を更に冷却するために熱交換器
45へ通す。熱交換器45は、追加の圧縮機又はブース
ター46に受け入れられる最高許容温度に適合するよう
に酸素減耗ガス流418の圧縮機又はブースター46へ
の導入温度を低下させる。
【0056】熱交換器45からの低温(ほぼ周囲温度)
の排ガス流419をブースター46へ通し、上述した流
れ422の圧力に整合する圧力にまで圧縮する。ブース
ター46は、熱交換器42及びセリック膜式分離系統内
のその他の機器を通ることによって生じた圧力降下を補
償することによって逆流を防止する低圧縮比の圧縮機又
はブロアである。このブースター46のサイズ(能力)
が、望ましい流れを提供するように適正に定められてい
る場合は、制御弁433を省除することができる。
の排ガス流419をブースター46へ通し、上述した流
れ422の圧力に整合する圧力にまで圧縮する。ブース
ター46は、熱交換器42及びセリック膜式分離系統内
のその他の機器を通ることによって生じた圧力降下を補
償することによって逆流を防止する低圧縮比の圧縮機又
はブロアである。このブースター46のサイズ(能力)
が、望ましい流れを提供するように適正に定められてい
る場合は、制御弁433を省除することができる。
【0057】次いで、ブースター46からの低温の圧縮
排ガス421を丸で囲まれた地点A4で燃料420aと
合流させることができ、その合流した流れを燃焼器47
へ通して燃焼させ、その流れの温度をガスタービン48
の作動温度(約900°C〜約200°Cの範囲の温
度)にまで上昇させる。先に述べたように供給ガス流4
12の残部422も、燃焼器47へ通し、ガスタービン
48の作動温度(約900〜約200°Cの範囲の温
度)にまで昇温させる。燃焼器47からの燃焼ガス流4
23をガスタービン48へ通す。
排ガス421を丸で囲まれた地点A4で燃料420aと
合流させることができ、その合流した流れを燃焼器47
へ通して燃焼させ、その流れの温度をガスタービン48
の作動温度(約900°C〜約200°Cの範囲の温
度)にまで上昇させる。先に述べたように供給ガス流4
12の残部422も、燃焼器47へ通し、ガスタービン
48の作動温度(約900〜約200°Cの範囲の温
度)にまで昇温させる。燃焼器47からの燃焼ガス流4
23をガスタービン48へ通す。
【0058】ガスタービン48において、燃焼ガス流4
23を膨脹させ、それによってパワーを創生する。ガス
タービン排ガス流427を用いて追加のエネルギーを回
収することもできる。この実施形態においてもやはり、
ガスタービン48を軸410を介して圧縮機41に連結
することができ、それによって圧縮機41を駆動するこ
とができる。
23を膨脹させ、それによってパワーを創生する。ガス
タービン排ガス流427を用いて追加のエネルギーを回
収することもできる。この実施形態においてもやはり、
ガスタービン48を軸410を介して圧縮機41に連結
することができ、それによって圧縮機41を駆動するこ
とができる。
【0059】酸素流415は、回収熱交換器42に通し
て冷却し、冷却された酸素流417として流出させるこ
とができる。その冷却された酸素流417を熱交換器4
9によって更に冷却し、ほぼ周囲温度の生成物酸素42
4として回収する。
て冷却し、冷却された酸素流417として流出させるこ
とができる。その冷却された酸素流417を熱交換器4
9によって更に冷却し、ほぼ周囲温度の生成物酸素42
4として回収する。
【0060】別法として、ブースター46からの低温の
圧縮排ガス421は、燃料420aと合流させることな
く、流れ426としてガスノズルを通して直接燃焼器4
7へ導入しもよい。更に別の変型例として、圧縮機41
からの供給ガス流の一部分425をセリック膜式分離系
統をバイパスさせて直接タービン48へ送り、タービン
48へのガス流を増大させて燃焼器47の過負荷を防止
し、タービンの入口温度を低下させることができる。
圧縮排ガス421は、燃料420aと合流させることな
く、流れ426としてガスノズルを通して直接燃焼器4
7へ導入しもよい。更に別の変型例として、圧縮機41
からの供給ガス流の一部分425をセリック膜式分離系
統をバイパスさせて直接タービン48へ送り、タービン
48へのガス流を増大させて燃焼器47の過負荷を防止
し、タービンの入口温度を低下させることができる。
【0061】図5の第5実施形態の酸素生成及びパワー
発生装置509は、酸素を生成するとともにパワーを創
生するために、本発明に従って在来型のパワー発生系統
に後付けによって統合されたセリック膜式分離系統を含
むものである。ただし、この実施形態では、装置409
とは異なり、セリック膜式分離系統からの排ガスを圧縮
する燃焼器は設けられていない。
発生装置509は、酸素を生成するとともにパワーを創
生するために、本発明に従って在来型のパワー発生系統
に後付けによって統合されたセリック膜式分離系統を含
むものである。ただし、この実施形態では、装置409
とは異なり、セリック膜式分離系統からの排ガスを圧縮
する燃焼器は設けられていない。
【0062】供給ガス流511は、まず、圧縮機51内
で圧縮させる。この実施形態においても、第1実施形態
の場合と同様に、セリック膜式分離器ユニット54のセ
リック膜の作動圧力は、上述した約7.03〜約35.
15Kg/cm2 (絶対圧)(約100〜約500ps
ia)、好ましくは約14.06〜約28.12Kg/
cm2 (絶対圧)(約200〜約400psia)の範
囲内である。圧縮された供給ガス流512の一部分(最
高約50%まで)は、弁533の制御により回収熱交換
器52に通して約300°C〜約800°Cの範囲の温
度に予備加熱する。
で圧縮させる。この実施形態においても、第1実施形態
の場合と同様に、セリック膜式分離器ユニット54のセ
リック膜の作動圧力は、上述した約7.03〜約35.
15Kg/cm2 (絶対圧)(約100〜約500ps
ia)、好ましくは約14.06〜約28.12Kg/
cm2 (絶対圧)(約200〜約400psia)の範
囲内である。圧縮された供給ガス流512の一部分(最
高約50%まで)は、弁533の制御により回収熱交換
器52に通して約300°C〜約800°Cの範囲の温
度に予備加熱する。
【0063】熱交換器52から出てきた、加熱された圧
縮ガス流513は、燃焼器53へ通す。燃焼器53内で
圧縮ガス流513を燃料520と共に燃焼させる。かく
して、燃焼器53から流出する燃焼圧縮ガス流514
は、セリック膜式分離器ユニット54のセリック膜の上
述した作動温度にまで昇温されている。別法として、燃
焼器53の作動を最適化させるために、圧縮ガス流51
3の一部分535を燃焼器53をバイパスさせることが
できる。
縮ガス流513は、燃焼器53へ通す。燃焼器53内で
圧縮ガス流513を燃料520と共に燃焼させる。かく
して、燃焼器53から流出する燃焼圧縮ガス流514
は、セリック膜式分離器ユニット54のセリック膜の上
述した作動温度にまで昇温されている。別法として、燃
焼器53の作動を最適化させるために、圧縮ガス流51
3の一部分535を燃焼器53をバイパスさせることが
できる。
【0064】燃焼器53からの燃焼圧縮ガス流514
は、セリック膜式分離器ユニット54へ送る。セリック
膜式分離器ユニット54において、燃焼圧縮ガス流51
4をセリック膜に接触させることによってそのガス流中
に含有されている酸素の10〜80%を除去し、その除
去された酸素を酸素流515としてセリック膜式分離器
ユニットから抽出する。
は、セリック膜式分離器ユニット54へ送る。セリック
膜式分離器ユニット54において、燃焼圧縮ガス流51
4をセリック膜に接触させることによってそのガス流中
に含有されている酸素の10〜80%を除去し、その除
去された酸素を酸素流515としてセリック膜式分離器
ユニットから抽出する。
【0065】一方、圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流51
6は、セリック膜式分離器ユニット54から冷却のため
に回収熱交換器52へ通す。熱交換器52内で、ガス流
516の熱が供給ガス流512の一部分と熱交換され、
それによって上述したように後者が予備加熱される。次
いで、熱交換器52から出てきた酸素減耗ガス流517
は、丸で囲まれた地点A5で第2燃焼器56からの燃焼
圧縮ガス流521と合流させることができる。
6は、セリック膜式分離器ユニット54から冷却のため
に回収熱交換器52へ通す。熱交換器52内で、ガス流
516の熱が供給ガス流512の一部分と熱交換され、
それによって上述したように後者が予備加熱される。次
いで、熱交換器52から出てきた酸素減耗ガス流517
は、丸で囲まれた地点A5で第2燃焼器56からの燃焼
圧縮ガス流521と合流させることができる。
【0066】別法として、酸素減耗ガス流517は、丸
で囲まれた地点B5で圧縮供給ガス流512の残部52
2と合流させることができる。この変型例の選択経路に
おいては、ガスタービン57へ送るガス流(522と5
17の合流流れ)の全部を第2燃焼器56へ通して燃焼
させ、燃焼器56から燃焼圧縮ガス流521として流出
させる。この変型例は、燃焼器56への供給ガス流の圧
力を流れ制御器58を通すなどして制御することが望ま
しい場合に、有利である。このように燃焼器56への供
給ガス流の流れを制御することによって、追加の熱交換
器(例えば、図4の熱交換器45)及び圧力調節のため
のガス圧縮機を設ける必要性が回避される。
で囲まれた地点B5で圧縮供給ガス流512の残部52
2と合流させることができる。この変型例の選択経路に
おいては、ガスタービン57へ送るガス流(522と5
17の合流流れ)の全部を第2燃焼器56へ通して燃焼
させ、燃焼器56から燃焼圧縮ガス流521として流出
させる。この変型例は、燃焼器56への供給ガス流の圧
力を流れ制御器58を通すなどして制御することが望ま
しい場合に、有利である。このように燃焼器56への供
給ガス流の流れを制御することによって、追加の熱交換
器(例えば、図4の熱交換器45)及び圧力調節のため
のガス圧縮機を設ける必要性が回避される。
【0067】主経路又は選択経路からの合流流れは、ガ
スタービン57へ送る。ガスタービン57内でガス流を
膨脹させてパワーを創生する。ガスタービン排ガス流5
23を用いて追加のエネルギーを回収することもでき
る。この後付け実施形態においてもやはり、ガスタービ
ン57を軸510を介して圧縮機51に連結することが
でき、それによって圧縮機51を駆動することができ
る。
スタービン57へ送る。ガスタービン57内でガス流を
膨脹させてパワーを創生する。ガスタービン排ガス流5
23を用いて追加のエネルギーを回収することもでき
る。この後付け実施形態においてもやはり、ガスタービ
ン57を軸510を介して圧縮機51に連結することが
でき、それによって圧縮機51を駆動することができ
る。
【0068】セリック膜式分離器ユニット54からの酸
素流515は、回収熱交換器52に通して冷却し、冷却
された酸素流518として流出させることができる。そ
の冷却された酸素流518を熱交換器55によって更に
冷却し、生成物酸素519として回収する。
素流515は、回収熱交換器52に通して冷却し、冷却
された酸素流518として流出させることができる。そ
の冷却された酸素流518を熱交換器55によって更に
冷却し、生成物酸素519として回収する。
【0069】第5実施形態の酸素生成及びパワー発生装
置509においても、圧縮ガス流を膨脹させるためにガ
スタービンへ導く選択経路においては、第4実施形態の
酸素生成及びパワー発生装置409の場合と同様に、圧
縮機51からの圧縮供給ガス流512の残部522を燃
焼器56内で燃焼させて、燃焼器56からの燃焼圧縮ガ
ス流の温度を約900°C〜約2000°Cの範囲にま
で昇温させる。ただし、この実施例では、燃焼器56の
前に流れ制御器58を挿入することができる。先に述べ
たように、セリック膜式分離器ユニット54へ分流され
る圧縮供給ガスの量は、ガス流522の圧力降下を制御
する流れ制御器58を用いて流れ制御器58の上流で調
節することができる。従って、圧縮供給ガス流512の
残部522を流れ制御器58の下流の丸で囲まれた地点
B5でセリック膜からの排出流れ517と合流させるこ
とができる。
置509においても、圧縮ガス流を膨脹させるためにガ
スタービンへ導く選択経路においては、第4実施形態の
酸素生成及びパワー発生装置409の場合と同様に、圧
縮機51からの圧縮供給ガス流512の残部522を燃
焼器56内で燃焼させて、燃焼器56からの燃焼圧縮ガ
ス流の温度を約900°C〜約2000°Cの範囲にま
で昇温させる。ただし、この実施例では、燃焼器56の
前に流れ制御器58を挿入することができる。先に述べ
たように、セリック膜式分離器ユニット54へ分流され
る圧縮供給ガスの量は、ガス流522の圧力降下を制御
する流れ制御器58を用いて流れ制御器58の上流で調
節することができる。従って、圧縮供給ガス流512の
残部522を流れ制御器58の下流の丸で囲まれた地点
B5でセリック膜からの排出流れ517と合流させるこ
とができる。
【0070】図6の第6実施形態の酸素生成及びパワー
発生装置609においては、供給ガス流611を圧縮機
61内で約7.03〜約35.15Kg/cm2 (絶対
圧)(約100〜約500psia)の範囲の圧力にま
で圧縮する。圧縮機61から流出した圧縮ガス流612
を燃焼器62へ送る。
発生装置609においては、供給ガス流611を圧縮機
61内で約7.03〜約35.15Kg/cm2 (絶対
圧)(約100〜約500psia)の範囲の圧力にま
で圧縮する。圧縮機61から流出した圧縮ガス流612
を燃焼器62へ送る。
【0071】燃焼器62内でそれに供給される燃料61
3を燃焼させることによって圧縮供給ガス流612の温
度をガスタービン63の作動温度にまで上昇させる。こ
の実施形態においては、その温度は、約900°C〜約
200°Cの範囲である。燃焼器62から燃焼圧縮ガス
流615をガスタービン63へ送り、ガスタービン63
内で膨脹させてパワーを創生する。ガスタービン63
は、軸610によって圧縮機61に連結することがで
き、それによって圧縮機61を駆動することができる。
ガスタービン63からの排ガス616は、追加のエネル
ギーを回収するために熱回収蒸気発生器へ通すことがで
きる。
3を燃焼させることによって圧縮供給ガス流612の温
度をガスタービン63の作動温度にまで上昇させる。こ
の実施形態においては、その温度は、約900°C〜約
200°Cの範囲である。燃焼器62から燃焼圧縮ガス
流615をガスタービン63へ送り、ガスタービン63
内で膨脹させてパワーを創生する。ガスタービン63
は、軸610によって圧縮機61に連結することがで
き、それによって圧縮機61を駆動することができる。
ガスタービン63からの排ガス616は、追加のエネル
ギーを回収するために熱回収蒸気発生器へ通すことがで
きる。
【0072】第2供給ガス流618をセリック膜式分離
器ユニット67へ導入する前に、第2圧縮機64に通し
て圧縮する。圧縮機64からの圧縮された供給ガス流6
19を回収熱交換器65に通し、熱交換器65から加熱
された圧縮ガス流620を燃焼器66に導入してセリッ
ク膜式分離器ユニット67のセリック膜の作動温度にま
で更に加熱する。この実施形態では、その温度は、通
例、400°C以上であり、より一般的には、600°
C以上である。圧縮ガス流620を燃焼圧縮ガス流62
1の温度にまで昇温するのを助成するために燃焼器66
へ燃料614を供給する。燃焼圧縮ガス流621の流量
は、タービン63に流入するガス流615の5%〜25
%とすることが好ましい。
器ユニット67へ導入する前に、第2圧縮機64に通し
て圧縮する。圧縮機64からの圧縮された供給ガス流6
19を回収熱交換器65に通し、熱交換器65から加熱
された圧縮ガス流620を燃焼器66に導入してセリッ
ク膜式分離器ユニット67のセリック膜の作動温度にま
で更に加熱する。この実施形態では、その温度は、通
例、400°C以上であり、より一般的には、600°
C以上である。圧縮ガス流620を燃焼圧縮ガス流62
1の温度にまで昇温するのを助成するために燃焼器66
へ燃料614を供給する。燃焼圧縮ガス流621の流量
は、タービン63に流入するガス流615の5%〜25
%とすることが好ましい。
【0073】燃焼器66から流出した燃焼圧縮ガス流6
21をセリック膜式分離器ユニット67へ通す。セリッ
ク膜式分離器ユニット67において、燃焼圧縮ガス流6
21をセリック膜に接触させることによってそのガス流
中に含有されている酸素の通常10〜80%を除去し、
その除去された酸素を酸素流622としてセリック膜式
分離器ユニットから抽出する。セリック膜式分離器ユニ
ットからの酸素流622は、回収熱交換器65に通して
冷却し、得られた低温の酸素流623を熱交換器65に
よって更に冷却し、生成物酸素624として回収する。
21をセリック膜式分離器ユニット67へ通す。セリッ
ク膜式分離器ユニット67において、燃焼圧縮ガス流6
21をセリック膜に接触させることによってそのガス流
中に含有されている酸素の通常10〜80%を除去し、
その除去された酸素を酸素流622としてセリック膜式
分離器ユニットから抽出する。セリック膜式分離器ユニ
ットからの酸素流622は、回収熱交換器65に通して
冷却し、得られた低温の酸素流623を熱交換器65に
よって更に冷却し、生成物酸素624として回収する。
【0074】一方、セリック膜式分離器ユニット67か
ら流出した圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流625は、丸
で囲まれた地点A6で燃料流613と合流させて燃焼器
62へ導入する。燃焼器62内で、この合流ガスと、上
記圧縮ガス流612とを一緒に燃焼させ、燃焼器62か
らのガス流を上述したようにガスタービン63へ送る。
ガスタービンは、標準的な条件下で作動する。
ら流出した圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流625は、丸
で囲まれた地点A6で燃料流613と合流させて燃焼器
62へ導入する。燃焼器62内で、この合流ガスと、上
記圧縮ガス流612とを一緒に燃焼させ、燃焼器62か
らのガス流を上述したようにガスタービン63へ送る。
ガスタービンは、標準的な条件下で作動する。
【0075】第6実施形態の酸素生成及びパワー発生装
置609においても、第5実施形態の酸素生成及びパワ
ー発生装置509の場合と同様に、セリック膜式分離器
ユニットがガスタービンとこのような態様に統合されて
いる場合、ガスタービン63によって創生されるパワー
を用いてガス圧縮機61を駆動するために、ガスタービ
ン63とガス圧縮機61を軸610によって連結するこ
とができる。一実施例においては、ガスタービン63を
第2圧縮機64にも機械的に連結することができる。ガ
スタービン63によって創生される正味パワーは、符号
631で示されている。
置609においても、第5実施形態の酸素生成及びパワ
ー発生装置509の場合と同様に、セリック膜式分離器
ユニットがガスタービンとこのような態様に統合されて
いる場合、ガスタービン63によって創生されるパワー
を用いてガス圧縮機61を駆動するために、ガスタービ
ン63とガス圧縮機61を軸610によって連結するこ
とができる。一実施例においては、ガスタービン63を
第2圧縮機64にも機械的に連結することができる。ガ
スタービン63によって創生される正味パワーは、符号
631で示されている。
【0076】随意選択として、圧縮酸素減耗膜不透過排
ガス流625の一部分626を燃焼器62へ導入する前
の圧縮供給ガス流612と合流させる(丸で囲まれた地
点B6参照)か、あるいは、圧縮酸素減耗膜不透過排ガ
ス流625の一部分を燃焼器62から流出した燃焼圧縮
ガス流と合流させる(丸で囲まれた地点C6参照)こと
ができる。これは、燃焼器62の前又は後における系内
の温度、稀釈ガスの割合及び酸素濃度を制御するための
追加の融通性が与えられるという点で有利である。又、
必要ならば、熱交換器65からの圧縮ガス流620の一
部分を燃焼器66をバイパスさせて通すこともできる。
ガス流625の一部分626を燃焼器62へ導入する前
の圧縮供給ガス流612と合流させる(丸で囲まれた地
点B6参照)か、あるいは、圧縮酸素減耗膜不透過排ガ
ス流625の一部分を燃焼器62から流出した燃焼圧縮
ガス流と合流させる(丸で囲まれた地点C6参照)こと
ができる。これは、燃焼器62の前又は後における系内
の温度、稀釈ガスの割合及び酸素濃度を制御するための
追加の融通性が与えられるという点で有利である。又、
必要ならば、熱交換器65からの圧縮ガス流620の一
部分を燃焼器66をバイパスさせて通すこともできる。
【0077】一実施例として、圧力制御器634によっ
て圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流625の圧力を制御す
ることによりセリック膜式分離器ユニット67をタービ
ン63の作動圧力とは異なる圧力で作動させることがで
きる。圧力制御器634を流れ制御板とした場合、セリ
ック膜式分離器ユニット67は、タービン63の作動圧
力より高い圧力で作動される。反対に、圧力制御器63
4を圧縮機又はブロアとした場合は、セリック膜式分離
器ユニット67をタービン63の作動圧力より低い圧力
で作動させることができる。
て圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流625の圧力を制御す
ることによりセリック膜式分離器ユニット67をタービ
ン63の作動圧力とは異なる圧力で作動させることがで
きる。圧力制御器634を流れ制御板とした場合、セリ
ック膜式分離器ユニット67は、タービン63の作動圧
力より高い圧力で作動される。反対に、圧力制御器63
4を圧縮機又はブロアとした場合は、セリック膜式分離
器ユニット67をタービン63の作動圧力より低い圧力
で作動させることができる。
【0078】本発明に従ってセリック膜式分離系統を後
付けすることができる既存のガスタービンパワー発生系
統としては、米国のジェネラルエレクトリック、ドイツ
のシーメンス、スエーデンのABB等の会社から販売さ
れているガスタービンパワー発生系統が挙げられる。そ
れらのガスタービンパワー発生系統に対して施さなけれ
ばならない改変は、セリック膜式分離ユニットへのガス
流の供給を追加することと、ガスを膨脹させるガスター
ビンへ燃焼ガスを供給する燃焼器へのセリック膜排ガス
の供給を追加することなど、ごく僅かである。
付けすることができる既存のガスタービンパワー発生系
統としては、米国のジェネラルエレクトリック、ドイツ
のシーメンス、スエーデンのABB等の会社から販売さ
れているガスタービンパワー発生系統が挙げられる。そ
れらのガスタービンパワー発生系統に対して施さなけれ
ばならない改変は、セリック膜式分離ユニットへのガス
流の供給を追加することと、ガスを膨脹させるガスター
ビンへ燃焼ガスを供給する燃焼器へのセリック膜排ガス
の供給を追加することなど、ごく僅かである。
【0079】一般に、ガスタービンをその容量を越えて
作動させることは望ましくないが、そのような事態を防
止するためにガスタービンへガスの流量を調節すること
ができる。例えば、セリック膜式分離ユニットから流出
する圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流625の流量の増大
を補償するために圧縮機61からの圧縮ガス流612の
流量を減少させることができる。圧縮ガス流612の流
量を十分に減少させることができない場合は、セリック
膜式分離ユニットから流出する圧縮酸素減耗膜不透過排
ガス流の一部分を大気へ放出するか、あるいは、セリッ
ク膜式分離ユニットへの圧縮ガス流の供給量を減少させ
ればよい。セリック膜式分離ユニットへの圧縮ガス流の
供給量の最大限度は、セリック膜式分離ユニットへ供給
するためのガスを圧縮するのに用いられるパワーの大き
さによって決定される。本発明の装置は、正味パワー発
生装置であるから、セリック膜式分離系統に要するパワ
ー所要量は、当該装置によって創生されるパワーより少
なくしなければならない。
作動させることは望ましくないが、そのような事態を防
止するためにガスタービンへガスの流量を調節すること
ができる。例えば、セリック膜式分離ユニットから流出
する圧縮酸素減耗膜不透過排ガス流625の流量の増大
を補償するために圧縮機61からの圧縮ガス流612の
流量を減少させることができる。圧縮ガス流612の流
量を十分に減少させることができない場合は、セリック
膜式分離ユニットから流出する圧縮酸素減耗膜不透過排
ガス流の一部分を大気へ放出するか、あるいは、セリッ
ク膜式分離ユニットへの圧縮ガス流の供給量を減少させ
ればよい。セリック膜式分離ユニットへの圧縮ガス流の
供給量の最大限度は、セリック膜式分離ユニットへ供給
するためのガスを圧縮するのに用いられるパワーの大き
さによって決定される。本発明の装置は、正味パワー発
生装置であるから、セリック膜式分離系統に要するパワ
ー所要量は、当該装置によって創生されるパワーより少
なくしなければならない。
【0080】本発明のセラミック式分離器ユニットに用
いられるセリック膜は、欠陥やドーパント(Y,Sr,
Ba,Ca等)の添加によって惹起された結晶格子中の
酸素空位(空格子点)の存在によって特徴づけられる、
稠密なセラミック酸化物又はセラミック酸化物の混合物
で形成される。結晶格子中の酸素空位は、酸素イオンを
結晶格子を通して搬送する手段によって拡散される。一
般に、空位の高い移動性を達成するには、作動中400
°C〜1200°C、好ましくは500°C〜1000
°C、より好ましくは600°C〜800°Cの高めら
れた温度を維持すべきである。空位の高い密度と高い移
動性とが相俟って、セリック膜の素材物質を通しての急
速な酸素イオン搬送のための基礎を構成する。酸素イオ
ンだけが結晶格子の空位を占有することができるので、
理想的なセリック膜は、無限の酸素選択度を有するもの
である。そのための好適なセリック膜の素材は、例えば
米国特許第5,306,411号に記載されている。
いられるセリック膜は、欠陥やドーパント(Y,Sr,
Ba,Ca等)の添加によって惹起された結晶格子中の
酸素空位(空格子点)の存在によって特徴づけられる、
稠密なセラミック酸化物又はセラミック酸化物の混合物
で形成される。結晶格子中の酸素空位は、酸素イオンを
結晶格子を通して搬送する手段によって拡散される。一
般に、空位の高い移動性を達成するには、作動中400
°C〜1200°C、好ましくは500°C〜1000
°C、より好ましくは600°C〜800°Cの高めら
れた温度を維持すべきである。空位の高い密度と高い移
動性とが相俟って、セリック膜の素材物質を通しての急
速な酸素イオン搬送のための基礎を構成する。酸素イオ
ンだけが結晶格子の空位を占有することができるので、
理想的なセリック膜は、無限の酸素選択度を有するもの
である。そのための好適なセリック膜の素材は、例えば
米国特許第5,306,411号に記載されている。
【0081】特定の応用例において選択されたセリック
膜のサイズは、通常、その膜を透過する酸素のフラック
ス(即ち、単位時間当り単位面積当りの酸素透過量)に
関連して決定される。セリック膜分離器ユニットに流入
してくる圧縮ガスから効率的に酸素を除去するために、
より小面積のセリック膜を使用することができるように
酸素フラックス値の高いセリック膜が望ましい。小面積
のセリック膜は、初期設備コストを削減する。
膜のサイズは、通常、その膜を透過する酸素のフラック
ス(即ち、単位時間当り単位面積当りの酸素透過量)に
関連して決定される。セリック膜分離器ユニットに流入
してくる圧縮ガスから効率的に酸素を除去するために、
より小面積のセリック膜を使用することができるように
酸素フラックス値の高いセリック膜が望ましい。小面積
のセリック膜は、初期設備コストを削減する。
【0082】セリック膜上の任意の部位での酸素フラッ
クスは、そのセリック膜即ち電解質膜のイオン伝導率、
膜の厚さ、及び、酸素の化学ポテンシャルの差等を含む
多数の因子によって左右される。セリック膜のイオン伝
導率を約0.01S/cm(ジーメンス/cm)、好ま
しくは約0.1S/cm、より好ましくは約1.0S/
cm以上の高いレベルとすることが、セリック膜の性能
の最適化を可能にする。セリック膜は高い温度下では高
いイオン伝導率をを有し、そのイオン伝導率は温度の上
昇とともに増大するので、セリック膜を十分に高い温度
(通常、約400°C以上、好ましくは600°C以
上)に維持することが、本発明の方法装置の性能の最適
化に寄与する。高い温度は、又、セリック膜の表面での
イオン交換過程の運動力学を向上させる働きもする。
クスは、そのセリック膜即ち電解質膜のイオン伝導率、
膜の厚さ、及び、酸素の化学ポテンシャルの差等を含む
多数の因子によって左右される。セリック膜のイオン伝
導率を約0.01S/cm(ジーメンス/cm)、好ま
しくは約0.1S/cm、より好ましくは約1.0S/
cm以上の高いレベルとすることが、セリック膜の性能
の最適化を可能にする。セリック膜は高い温度下では高
いイオン伝導率をを有し、そのイオン伝導率は温度の上
昇とともに増大するので、セリック膜を十分に高い温度
(通常、約400°C以上、好ましくは600°C以
上)に維持することが、本発明の方法装置の性能の最適
化に寄与する。高い温度は、又、セリック膜の表面での
イオン交換過程の運動力学を向上させる働きもする。
【0083】以上、本発明を実施形態に関連して説明し
たが、本発明は、ここに例示した実施形態の構造及び形
状に限定されるものではなく、本発明の精神及び範囲か
ら逸脱することなく、いろいろな実施形態が可能であ
り、いろいろな変更及び改変を加えることができること
を理解されたい。
たが、本発明は、ここに例示した実施形態の構造及び形
状に限定されるものではなく、本発明の精神及び範囲か
ら逸脱することなく、いろいろな実施形態が可能であ
り、いろいろな変更及び改変を加えることができること
を理解されたい。
【図1】図1は、セリック膜の透過生成物及び、又はガ
スタービンの排気ガスから熱を回収して爾後の使用のた
めの蒸気を生成するようにした、本発明の酸素生成及び
パワー発生装置の概略図である。
スタービンの排気ガスから熱を回収して爾後の使用のた
めの蒸気を生成するようにした、本発明の酸素生成及び
パワー発生装置の概略図である。
【図2】図2は、セリック膜の透過生成物及び、又はガ
スタービンの排気ガスを通す熱交換器に圧縮ガスを通す
ことによって圧縮ガスを予備加熱するようにした本発明
の変型実施形態の概略図である。
スタービンの排気ガスを通す熱交換器に圧縮ガスを通す
ことによって圧縮ガスを予備加熱するようにした本発明
の変型実施形態の概略図である。
【図3】図3は、セリック膜の透過生成物及び保持ガス
(膜を透過せずに保持された非透過ガス)をガスタービ
ンに通す前に熱交換器に通して熱を回収し、爾後の使用
のための蒸気を生成するとともに、タービンの入口温度
を低下させるようにした、単一の燃焼器を有する本発明
の第3実施形態の概略図である。
(膜を透過せずに保持された非透過ガス)をガスタービ
ンに通す前に熱交換器に通して熱を回収し、爾後の使用
のための蒸気を生成するとともに、タービンの入口温度
を低下させるようにした、単一の燃焼器を有する本発明
の第3実施形態の概略図である。
【図4】図4は、既存のパワー発生系統に、セリック膜
の保持排気ガスの圧力を圧縮空気の圧力に整合するよう
に昇圧させるための圧縮機を備えたセリック膜系統を後
付けした本発明の第4実施形態の概略図である。
の保持排気ガスの圧力を圧縮空気の圧力に整合するよう
に昇圧させるための圧縮機を備えたセリック膜系統を後
付けした本発明の第4実施形態の概略図である。
【図5】図5は、既存のパワー発生系統に、セリック膜
の保持排気ガスの圧力を圧縮空気の圧力に整合するよう
に減圧させるための減圧部材を備えたセリック膜系統を
後付けした本発明の第5実施形態の概略図である。
の保持排気ガスの圧力を圧縮空気の圧力に整合するよう
に減圧させるための減圧部材を備えたセリック膜系統を
後付けした本発明の第5実施形態の概略図である。
【図6】図6は、既存のパワー発生系統にセリック膜系
統を後付けし、パワー発生系統のガスタービンに機械的
に連結された第2圧縮機を用いて追加の空気を圧縮し、
それを酸素生成のためにセリック膜系統へ導入し、セリ
ック膜の保持排気ガスをガスタービンへ戻すようにした
本発明の第6実施形態の概略図である。
統を後付けし、パワー発生系統のガスタービンに機械的
に連結された第2圧縮機を用いて追加の空気を圧縮し、
それを酸素生成のためにセリック膜系統へ導入し、セリ
ック膜の保持排気ガスをガスタービンへ戻すようにした
本発明の第6実施形態の概略図である。
10:酸素生成及びパワー発生装置 11:ガス圧縮機 12:ガスタービン 13:セリック膜式分離器ユニット 14,15:燃焼器 16,17:熱交換器 110:軸 209:酸素生成及びパワー発生装置 21:ガス圧縮機 22:ガスタービン 23:セリック膜式分離器ユニット 24,25:燃焼器 26,27:熱交換器 210:軸 309:酸素生成及びパワー発生装置 31:ガス圧縮機 32:ガスタービン 33:セリック膜式分離器ユニット 34:燃焼器 35:熱交換器 310:軸 409:酸素生成及びパワー発生装置 41:ガス圧縮機 42:熱交換器 43:燃焼器 44:セリック膜式分離器ユニット 45:熱交換器 46:圧縮機 47:燃焼器 48:ガスタービン 49:熱交換器 410:軸 433:制御弁 509:酸素生成及びパワー発生装置 51:ガス圧縮機 52:熱交換器 53:燃焼器 54:セリック膜式分離器ユニット 55:熱交換器 56:燃焼器 57:ガスタービン 58:流れ制御器 510:軸 533:制御弁 609:酸素生成及びパワー発生装置 61:ガス圧縮機 62:燃焼器 63:ガスタービン 64:第2燃焼器 65:熱交換器 66:燃焼器 67:セリック膜式分離器ユニット 68:熱交換器 610:軸 634:圧力制御器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリスチャン・フリードリック・ゴッツマ ン アメリカ合衆国ニューヨーク州クラレン ス、トンプソン・ロード5308 (72)発明者 レイモンド・フランシス・ドルネビッチ アメリカ合衆国ニューヨーク州クラレン ス・センター、クリークビュー・ドライブ 5850
Claims (3)
- 【請求項1】 酸素を生成し、パワーを創生する方法で
あって、 (a) 圧縮された酸素含有ガス流を、その温度を上昇させ
るために第1燃焼器内で燃焼させ、 (b) 該燃焼圧縮酸素含有ガス流を固形電解質膜に接触さ
せて該ガス流から圧縮酸素減耗膜不透過ガス流と膜透過
生成物酸素流とを生成し、 (c) 前記圧縮酸素減耗膜不透過ガス流を、その温度を上
昇させるために第2燃焼器内で燃焼させ、 (d) 前記固形電解質膜及び第2燃焼器から回収された前
記燃焼圧縮酸素減耗膜不透過ガス流をガスタービン内で
膨脹させ、それによってパワーを創生することから成る
酸素生成及びパワー発生方法。 - 【請求項2】 前記工程(d) の前に、前記燃焼圧縮酸素
減耗膜不透過ガス流から熱を回収することを特徴とする
請求項1に記載の酸素生成及びパワー発生方法。 - 【請求項3】 酸素を生成し、パワーを創生する方法で
あって、 圧縮された酸素含有ガス流を第1燃焼器内で燃焼させ、 該燃焼圧縮酸素含有ガス流を固形電解質膜に接触させて
該ガス流から圧縮酸素減耗膜不透過ガス流と膜透過生成
物酸素流とを生成し、 前記生成物酸素流の少くとも一部分を熱交換器に通して
蒸気を創生し、 前記固形電解質膜から回収された前記圧縮酸素減耗ガス
流を、前記酸素含有ガス流を圧縮する圧縮機を駆動する
ためのタービン内で膨脹させることから成る酸素生成及
びパワー発生方法。
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