JPH0980417A

JPH0980417A - 液晶表示素子の製造方法

Info

Publication number: JPH0980417A
Application number: JP23667095A
Authority: JP
Inventors: Shoichi Kurauchi; 内昭一倉; Yasuharu Tanaka; 中康晴田; Hitoshi Hado; 藤仁羽
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1995-09-14
Filing date: 1995-09-14
Publication date: 1997-03-28

Abstract

(57)【要約】【課題】結果として得られるカラー型液晶表示素子
を、表示性能を向上させ、かつ、安価に提供することが
可能な、インクジェット法を用いたカラーフィルタ基板
の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板１０上に形成されたＩＴＯ電
極２１のうち、着色対象となるＩＴＯ電極２１に電圧を
印加しつつ、インクジェット装置４０から当該電極に着
色材料を噴射する。さらに、着色対象外のＩＴＯ電極２
１には、逆極性の電圧を印加すると良い。これにより、
着色材料の滲みが防止されて、着色層が当該電極上に精
度良く形成され、かつ、カラーフィルタ基板の製造工程
を簡略化が可能となる。また、ＩＴＯ電極２１への電圧
の印加のタイミングとインクジェット装置４０から着色
材料を噴射するタイミングとを同期させると、自動化に
より製造効率が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子の製造
方法に係り、特にカラー型液晶表示素子を構成するカラ
ーフィルタ基板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、用いられている液晶表示素子は、
通常、以下のように構成されている。すなわち、それぞ
れ電極を有する一方側の面が所定の間隔（約５〜７μｍ
程度）を設けて相互にほぼ並行に対向した２枚のガラス
基板の周縁部の液晶封入口以外の部分が接着剤で接合さ
れ、液晶封入口から注入された液晶がこれら２枚のガラ
ス基板間に挟持された状態で液晶封入口が封止されてい
る。封止剤には、例えば、熱硬化型または紫外線硬化型
のアクリル系またはエポキシ系の接着剤が用いられる。

【０００３】液晶表示素子の表示方式としては、例え
ば、ＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴ
Ｎ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）
型、ＧＨ（ＧｕｅｓｔＨｏｓｔ）型、ＥＣＢ（Ｅｌｅ
ｃｔｒｉｃａｌｌｙＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅ
ｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）型等があり、その他強誘電性液晶
等も用いられている。

【０００４】液晶表示素子のうちカラー表示用の液晶表
示素子は、２枚のガラス基板のうち１枚のガラス基板の
面上に３色の着色部からなるＲＧＢ（Ｒ：赤、Ｇ：緑、
Ｂ：青）着色層を有するカラーフィルタが形成されてい
る。

【０００５】図６は、単純マトリクス駆動方式のカラー
型ドットマトリクス液晶表示素子の構成の概略を示す斜
視図である。縦方向（Ｘ方向）に帯状に形成されたＸ電
極１ａとの間に着色層を有するＸ基板１と、横方向（Ｙ
方向）に帯状に形成されたＹ電極２ａを有するＹ基板２
とを、Ｘ電極１ａのＸ方向とＹ電極２ａのＹ方向とがほ
ぼ直交するように対向させて、これらの電極間に液晶組
成物（図示せず）が挟持された構成となっている。Ｘ基
板１のＸ電極１ａとＹ基板のＹ電極２ａとには、それぞ
れ液晶表示素子駆動用ＩＣ３が接続されている。

【０００６】図７は、アクティブマトリクス駆動方式の
カラー型アクティブマトリクス液晶表示素子の構成の概
略を示す説明図である。アクティブマトリクス駆動方式
のカラー型アクティブマトリクス液晶表示素子は、例え
ば、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）を半導体層とし
た薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；ＴｈｉｎＦｉｌｍＴ
ｒａｎｓｉｓｔｏｒ）５、及びこの薄膜トランジスタ５
に接続された表示電極６、信号線電極７、ゲート電極８
が形成されたＴＦＴアレイ基板４と、このＴＦＴアレイ
基板４にほぼ並行に対向して配設され対向電極９ａを有
する対向基板９とを備え、ＲＧＢカラーフィルタが対向
電極９ａまたは表示電極６の部分に形成され、ＴＦＴア
レイ基板４と対向基板９との間に液晶組成物（図示せ
ず）が挟持された構成となっている。

【０００７】図６の単純マトリクス駆動方式、図７のア
クティブマトリクス駆動方式、いずれの方式の液晶表示
素子も、２枚のガラス基板の外側の面上にそれぞれ、一
方向に振動する光のみを通過させる偏光板を載置して光
シャッタとしており、以上の構成によってカラー画像を
表示し得るようになっている。

【０００８】上述したように、これらのカラー型液晶表
示素子にはカラーフィルタ基板が用いられているが、カ
ラーフィルタ基板の製造方法には、フォトリソグラフィ
・プロセスを用いるものと、近年用いられるようになっ
てきた電着法によるものとがある。以下、電着法による
カラーフィルタ基板の製造方法について、図面を参照し
ながら説明する。

【０００９】図８は、電着法によるカラーフィルタ基板
の第１の製造方法の製造工程の概略を示す説明図であ
る。最初に、ガラス基板１０上全面に電着用の透明電極
としてＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ；酸
化錫を不純物として混合（ドープ）した酸化インジウ
ム）２０を約２００〜３０００オングストロームの範囲
の膜厚でスパッタ成膜する（図８（ａ））。ＩＴＯ２０
の膜厚としては、１５００オングストローム程度が最適
である。次いで、スパッタ成膜したＩＴＯ２０上全面に
ポジ型レジスト３０を形成し（図８（ｂ））、着色する
部分３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄ以外の部分を露光
し、露光されたポジ型レジストを現像により除去する
（図８（ｃ））。このガラス基板１０を、容器（バイン
ダー、図示せず）中の、黒の顔料または染料を分散させ
たアクリル樹脂等を含有する電着液に浸漬し、電着液に
通電して電圧を印加することにより、ポジ型レジスト３
４ａ、３４ｂ、３４ｃ、３４ｄが形成されている部分以
外の部分に黒色を電着して着色し、黒色を電着した部分
が遮光層１９０となる（図８（ｄ））。

【００１０】遮光層１９０を形成後、赤、緑、青を順次
着色していく。まず、赤を着色する部分のポジ型レジス
ト３４ａ，３４ｄを露光・現像して除去し（図８
（ｅ））、ガラス基板１０を、バインダー中の、赤の顔
料または染料を分散させたアクリル樹脂等を含有する電
着液に浸漬し、電着液に通電して電圧を印加することに
より、該当部分を赤色に着色し、赤色部Ｒ４１，Ｒ４２
を形成する（図８（ｆ））。同様の手順を繰り返して、
緑色部Ｇ４１、青色部Ｂ４１も形成する（図８
（ｇ））。

【００１１】これらの着色部を形成した面上の全面にア
クリル樹脂、エポキシ樹脂、またはポリイミド樹脂等を
０．５〜３．０μｍの厚さに塗布して２００〜２６０℃
の温度で約１時間焼成し、トップコート層２００を形成
する。アクリル樹脂の塗布の厚さは１．５μｍ程度、焼
成時の温度は２３０℃程度が最適である。トップコート
層２００上に表示用電極としてＩＴＯ６２を２００〜３
０００オングストローム、最適値としては１５００オン
グストロームの膜厚にスパッタ成膜する。さらにその上
から、ポリイミド等の配向膜材料を全面に塗布し、ラビ
ング処理を行って配向膜７３を形成すると、カラー型液
晶表示素子を構成する２枚のガラス基板のうちのカラー
フィルタ基板が完成する（図８（ｈ））。

【００１２】図９は、電着法によるカラーフィルタ基板
の第２の製造方法の製造工程の概略を示す説明図であ
る。最初に、ガラス基板１０上全面にポジ型レジスト２
１０を形成し（図９（ａ））、黒色を着色して遮光層を
形成する部分を露光し、露光されたポジ型レジストを現
像により除去する（図９（ｂ））。次に、ガラス基板１
０を、バインダー（図示せず）中の、黒の顔料または染
料を分散させたアクリル樹脂等を含有する電着液に浸漬
し、電着液に通電して電圧を印加することにより、ポジ
型レジスト２１１が形成されている部分以外の部分に黒
色を電着して着色し、黒色を電着した部分が遮光層５１
となる（図９（ｃ））。遮光層５１形成後、ガラス基板
１０上に残っているポジ型レジスト２１１をすべて露光
・現像して除去する（図９（ｄ））。

【００１３】遮光層５１が形成されたガラス基板１０上
全面に、アクリル樹脂中に赤色顔料または染料を分散さ
せたネガ型レジスト２２０を、スピンコートにより塗布
する（図９（ｅ））。ネガ型レジスト２２０の乾燥後、
赤色の画素を形成する部分２２１ａ、２２１ｂを露光し
て硬化させる（図９（ｆ））。硬化部２２１ａ、２２１
ｂ以外の部分を現像により除去した後、２００〜２６０
℃の温度で約１時間焼成し、赤色画素Ｒ５１、Ｒ５２を
形成する（図９（ｇ））。焼成時の温度は２３０℃程度
が最適である。同様の手順を繰り返して、緑色画素Ｇ５
１、青色画素Ｂ５１も形成する（図９（ｈ））。遮光層
５１、赤色画素Ｒ５１、Ｒ５２、緑色画素Ｇ５１、青色
画素Ｂ５１を形成後、これらの上に、表示用電極として
ＩＴＯ２４を２００〜３０００オングストローム、最適
値としては１５００オングストロームの膜厚にスパッタ
成膜する。さらにその上から、ポリイミド等の配向膜材
料を全面に塗布し、ラビング処理を行って配向膜７４を
形成すると、カラー型液晶表示素子を構成する２枚のガ
ラス基板のうちのカラーフィルタ基板が完成する（図９
（ｉ））。

【００１４】図１０は、従来のインクジェット法による
カラーフィルタ基板の第３の製造方法の製造工程の概略
を示す説明図である。

【００１５】インクジェット装置４０を順次移動させて
行き、赤色、緑色、青色の着色層を形成する（図１０
（ａ））。

【００１６】このようにインクジェット装置４０から着
色材料を順次噴射し、次いで２２０℃で１時間の焼成を
行ない、赤色の着色層Ｒ１１，Ｒ１２、緑色の着色層Ｇ
１１、青色の着色層Ｂ１１を形成する（図１０
（ｂ））。

【００１７】各着色層形成後、遮光層５０を、通常用い
られている適当な方法によって形成する（図１０
（ｃ））。遮光層５０の形成後、遮光層５０及び各着色
層Ｒ１１，Ｇ１１，Ｂ１１，Ｒ１２を形成した面上の全
面に表示用電極としてＩＴＯ６０を２００〜３０００オ
ングストローム、最適値としては１５００オングストロ
ームの膜厚にスパッタ成膜する。さらにその上から、ポ
リイミド等の配向膜材料を全面に塗布し、ラビング処理
を行って配向膜７０を形成すると、カラー型液晶表示素
子を構成する２枚のガラス基板のうちの一方であるカラ
ーフィルタ基板１０が完成する（図１０（ｄ））。な
お、図１０の例においては、着色層の下に透明電極を形
成しているが、当該透明電極を形成していない構造のも
のもある。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ように、カラー型液晶表示素子においてはカラーフィル
タ基板を用いる必要があり、通常のカラーフィルタの製
造工程では、３〜４回程度以上のフォトリソグラフィ・
プロセスが含まれるため、カラーフィルタの製造コスト
が高価になり、その結果、カラーフィルタを用いるカラ
ー型液晶表示素子が高価になってしまうという問題があ
った。

【００１９】また、上述した電着法によるカラーフィル
タ基板においては、遮光層を樹脂等により形成していた
ため、十分な光学濃度が得られず、精度の面でも不十分
であり、加えて電着液等の管理が困難なため製造コスト
の低減にも限界がある。

【００２０】さらに、上述したインクジェット法を用い
るカラーフィルタ基板の製造方法も提案されているが、
インクの滲みやインクを噴射する際の精度が不十分であ
るという問題があった。

【００２１】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、結果として得られるカラー型液晶表示
素子を、表示性能を向上させ、かつ、安価に提供するこ
とが可能な、インクジェット法を用いたカラーフィルタ
基板の製造方法を提供することである。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示素
子の製造方法によれば、基板上の所定位置に１以上の電
極を形成する第１の工程と、電極のうち着色する電極に
電圧を印加しつつ、着色する電極上に、着色材料を噴射
して着色層を形成する第２の工程とを備えたことを特徴
とし、着色対象となる電極に電圧を印加しつつ、着色材
料を噴射することとしたので、インクジェット法を用い
たカラーフィルタ基板の製造方法におけるカラーフィル
タ基板上の着色層の形成時の滲みを防止して精度を向上
させ、かつ、カラーフィルタ基板の製造工程を簡略化し
て、カラー型液晶表示素子の製造工程におけるフォトリ
ソグラフィ・プロセスの回数を最低限のものとし、カラ
ー型液晶表示素子を安価に提供することができる。

【００２３】基板上の所定位置に１以上の電極を形成す
る第１の工程と、電極のうち着色する電極には所定極性
の電圧を印加し、かつ、着色する電極以外の電極には所
定極性と逆極性の電圧を印加しつつ、着色する電極上
に、着色材料を噴射して着色層を形成する第２の工程と
を備えたことを特徴とし、着色対象となる電極には所定
極性の電圧を印加し、かつ、それ以外の電極には逆極性
の電圧を印加しつつ、着色材料を噴射することとしたの
で、インクジェット法を用いたカラーフィルタ基板の製
造方法におけるカラーフィルタ基板上の着色層の形成時
の滲みを防止して精度をさらに向上させ、かつ、カラー
フィルタ基板の製造工程を簡略化して、カラー型液晶表
示素子の製造工程におけるフォトリソグラフィ・プロセ
スの回数を最低限のものとし、カラー型液晶表示素子を
安価に提供することができる。

【００２４】基板上の所定位置に１以上の電極を形成す
る第１の工程と、電極上、及び基板上の電極が形成され
た部分以外の部分に、着色材料を受容し得る受容層を形
成する第２の工程と、電極のうち、その電極上に受容層
の着色する部分が形成された電極に電圧を印加しつつ、
受容層の着色する部分上に、着色材料を噴射して着色層
を形成する第３の工程とを備えたことを特徴とし、電極
及び基板上に着色材料を受容し得る受容層を形成した上
で、着色対象となる電極に電圧を印加しつつ、着色材料
を噴射することとしたので、インクジェット法を用いた
カラーフィルタ基板の製造方法におけるカラーフィルタ
基板上の着色層の形成を滲みを防止して精度を向上させ
ながら安定に行い、かつ、カラーフィルタ基板の製造工
程を簡略化して、カラー型液晶表示素子の製造工程にお
けるフォトリソグラフィ・プロセスの回数を最低限のも
のとし、また、着色材料の選択の幅が広がり、カラー型
液晶表示素子を安価に提供することができる。

【００２５】基板上の所定位置に１以上の電極を形成す
る第１の工程と、電極上、及び基板上の電極が形成され
た部分以外の部分に、着色材料を受容し得る受容層を形
成する第２の工程と、電極のうち、その電極上に受容層
の着色する部分が形成された電極には所定極性の電圧を
印加し、かつ、受容層の着色する部分が形成された電極
以外の電極には所定極性と逆極性の電圧を印加しつつ、
受容層の着色する部分上に、着色材料を噴射して着色層
を形成する第３の工程とを備えたことを特徴とし、電極
及び基板上に着色材料を受容し得る受容層を形成した上
で、着色対象となる電極には所定極性の電圧を印加し、
かつ、それ以外の電極には逆極性の電圧を印加しつつ、
着色材料を噴射することとしたので、インクジェット法
を用いたカラーフィルタ基板の製造方法におけるカラー
フィルタ基板上の着色層の形成を滲みを防止して精度を
さらに向上させながら安定に行い、かつ、カラーフィル
タ基板の製造工程を簡略化して、カラー型液晶表示素子
の製造工程におけるフォトリソグラフィ・プロセスの回
数を最低限のものとし、また、着色材料の選択の幅が広
がり、カラー型液晶表示素子を安価に提供することがで
きる。

【００２６】基板は、ＴＦＴアレイ基板であるものとし
たので、液晶表示素子の組立の際における対向基板との
位置決めの誤差を考慮する必要がなくなり、画素の開口
率が高く、表示性能の高いカラー型液晶表示素子を安価
に提供することができる。

【００２７】電圧を印加する電極と、着色材料を噴射す
る位置とを経時的に変更して、着色層を形成するものと
したので、カラーフィルタ基板の製造効率を向上させる
ことができる。

【００２８】電極に印加する電圧と、着色材料を噴射す
る装置に印加する信号とを同期させて、電圧を印加する
電極と、着色材料を噴射する位置とを経時的に変更し、
着色層を順次形成するものとしたので、カラーフィルタ
基板の製造工程の自動化が可能となり、製造効率を向上
させることができる。

【００２９】噴射される着色材料は複数種類であり、か
つ、着色材料の種類も経時的に変更するものとしたの
で、カラーフィルタ基板の製造工程の自動化が可能とな
り、製造効率をさらに向上させることができる。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示素子
の製造方法の実施の形態について、図面を参照しながら
説明する。

【００３１】図１は、本発明に係る液晶表示素子の製造
方法の第１の実施の形態についての説明図であり、液晶
表示素子を構成するカラーフィルタ基板の製造工程の概
略を示している。

【００３２】最初に、ガラス基板１０上全面に透明電極
となるＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ；酸
化錫を不純物として混合（ドープ）した酸化インジウ
ム）２０を約２００〜３０００オングストロームの範囲
の膜厚でスパッタ成膜する。ＩＴＯ２０の膜厚として
は、１５００オングストローム程度が最適である。スパ
ッタ成膜したＩＴＯ２０上全面にポジ型レジスト３０を
塗布し（図１（ａ））、ＩＴＯ２０のＩＴＯ電極を形成
する部分上のポジ型レジスト３１以外の部分のポジ型レ
ジストを露光して除去し、ＩＴＯ２０上にはポジ型レジ
スト３１を残す（図１（ｂ））。次いで、選択的エッチ
ングにより、ガラス基板１０上にＩＴＯ電極２１（３Ｎ
＋１）、２１（３Ｎ＋２）、２１（３Ｎ）を形成する
（図１（ｃ））。ここで、ＩＴＯ電極２１（３Ｎ＋
１）、２１（３Ｎ＋２）、２１（３Ｎ）とは、いずれか
特定の最端部のＩＴＯ電極から数えた番数を３で割った
ときの余りが、それぞれ１、２、０となるＩＴＯ電極の
呼称とする。これらを総称するときは、単にＩＴＯ電極
２１ということとする。

【００３３】ＩＴＯ電極２１形成後、まず、ＩＴＯ電極
２１（３Ｎ＋１）のみに＋５Ｖの電圧を印加しつつ、当
該電極のほぼ真上の位置でインクジェット装置４０から
赤色の着色材料を噴射し、ＩＴＯ電極２１（３Ｎ＋１）
上に赤色の着色層Ｒ１１を形成する。インクジェット装
置４０を順次移動させて行き、すべてのＩＴＯ電極２１
（３Ｎ＋１）上に赤色の着色層を形成する（図１
（ｄ））。印加する電圧の極性、大きさは、着色材料の
性質その他の条件により、適当に設定する。続いて、Ｉ
ＴＯ電極２１（３Ｎ＋２）のみに＋５Ｖの電圧を印加し
つつ、当該電極のほぼ真上の位置でインクジェット装置
４０から緑色の着色材料を噴射し、ＩＴＯ電極２１（３
Ｎ＋２）上に緑色の着色層Ｇ１１を形成する。インクジ
ェット装置４０を順次移動させ、すべてのＩＴＯ電極２
１（３Ｎ＋２）上に緑色の着色層を形成する。さらに、
ＩＴＯ電極２１（３Ｎ）のみに＋５Ｖの電圧を印加しつ
つ、当該電極のほぼ真上の位置でインクジェット装置４
０から青色の着色材料を噴射し、ＩＴＯ電極２１（３
Ｎ）上に青色の着色層Ｂ１１を形成する。インクジェッ
ト装置４０を順次移動させて行き、すべてのＩＴＯ電極
２１（３Ｎ）上に青色の着色層を形成する。このように
ＩＴＯ電極２１のうち着色対象となるもののみに電圧を
印加しつつ、インクジェット装置４０から着色材料を順
次噴射し、赤色の着色層Ｒ１１，Ｒ１２、緑色の着色層
Ｇ１１、青色の着色層Ｂ１１を形成する（図１
（ｅ））。

【００３４】また、着色対象となるＩＴＯ電極２１に所
定極性の電圧（例えば、＋５Ｖ）を印加するとともに、
着色対象となるＩＴＯ電極２１以外のＩＴＯ電極２１に
逆極性の電圧（例えば、−５Ｖ）を印加しつつ着色を行
うと、着色材料の滲みをさらに効果的に防止し、着色層
形成の精度をより向上させることができる。

【００３５】さらに、着色対象となるＩＴＯ電極２１の
みに電圧を印加する場合、及び着色対象となるＩＴＯ電
極２１に所定極性の電圧を印加するとともに、着色対象
となるＩＴＯ電極２１以外のＩＴＯ電極２１に逆極性の
電圧を印加場合において、電圧の印加のタイミングとイ
ンクジェット装置４０から着色材料を噴射するタイミン
グとを同期させることにより、この着色層形成工程の自
動化が可能となる。すなわち、電圧の印加のタイミング
と、インクジェット装置４０から着色材料を噴射するた
めにインクジェット装置４０のノズル制御部に印加する
信号のタイミングとを同期させることにより、各着色層
を順次形成することができる。

【００３６】加えて、赤色、緑色、青色の着色材料を順
次変更する動作を連続的に行い、この場合において、着
色対象となるＩＴＯ電極２１（及びそれ以外のＩＴＯ電
極２１）への電圧印加のタイミングと、インクジェット
装置４０から着色材料を噴射するタイミングと、着色材
料変更のタイミングとを同期させることにより、赤色、
緑色、青色、赤色、緑色、青色、．．．という順序で、
各色の着色層を連続的に形成することができ、着色層形
成の効率をさらに高めることができる。

【００３７】各着色層形成後、遮光層５０を、通常用い
られている適当な方法によって形成する（図１
（ｆ））。遮光層５０の形成後、遮光層５０及び各着色
層Ｒ１１，Ｇ１１，Ｂ１１，Ｒ１２を形成した面上の全
面に表示用電極としてＩＴＯ６０を２００〜３０００オ
ングストローム、最適値としては１５００オングストロ
ームの膜厚にスパッタ成膜する。さらにその上から、ポ
リイミド等の配向膜材料を全面に塗布し、ラビング処理
を行って配向膜７０を形成すると、カラー型液晶表示素
子を構成する２枚のガラス基板のうちの一方であるカラ
ーフィルタ基板１０が完成する（図１（ｇ））。

【００３８】図１（ｇ）のカラーフィルタ基板１０を、
カラー型液晶表示素子を構成する一方の基板とした場
合、他方の基板は、通常のＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ
Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ；薄膜トランジスタ）アレイ基
板の製造方法によって作製する。すなわち、成膜とパタ
ーニングを繰り返すことにより、薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ）、電極配線、画素が形成された、縦横１００画素
合計１００００画素を有するアモルファスシリコンＴＦ
Ｔアレイ基板が得られる。

【００３９】図２は、アモルファスシリコンＴＦＴアレ
イ基板１００と図１（ｈ）のカラーフィルタ基板１０と
を用いて作製したカラー型液晶表示素子の構造の概略の
説明図である。ＴＦＴアレイ基板１００上には、薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ）１２０、画素１３０、配向膜１４
０が形成されている。

【００４０】このカラー型液晶表示素子の作製は、以下
のように行う。すなわち、カラーフィルタ基板１０上の
配向膜７０の周縁部に沿って、液晶注入口（図示せず）
以外の部分に接着剤８０を印刷し、カラーフィルタ基板
１０上に間隙剤として粒径６μｍのミクロパール（積水
ファインケミカル社製）９０を散布する。

【００４１】次に、カラーフィルタ基板１０上の配向膜
７０のラビング方向と、ＴＦＴアレイ基板１００上の配
向膜１４０のラビング方向とのなす角度が９０度となる
ように、配向膜７０と配向膜１４０とを対向させ、加熱
して接着剤８０を硬化させることにより、カラーフィル
タ基板１０とＴＦＴアレイ基板１００とを張り合わせ
る。

【００４２】最後に、通常の方法により液晶材料を注入
する。ここでは液晶材料は、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メ
ルク社製）に液晶組成物１１０としてネマティック液晶
であるＳ８１１を０．１ｗｔ％添加したものを用い、液
晶材料注入後、液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止し
て、図２に示す構造を有するカラー型液晶表示素子が得
られる。

【００４３】図３は、本発明に係る液晶表示素子の製造
方法の第２の実施の形態についての説明図であり、液晶
表示素子を構成するカラーフィルタ基板の製造工程の概
略を示している。

【００４４】最初に、ガラス基板１０上全面に透明電極
となるＩＴＯ２０を約２００〜３０００オングストロー
ムの範囲の膜厚でスパッタ成膜する。ＩＴＯ２０の膜厚
としては、第１の実施の形態と同様に１５００オングス
トローム程度が最適である。スパッタ成膜したＩＴＯ２
０上全面にポジ型レジスト３０を塗布し（図１
（ａ））、ＩＴＯ２０のＩＴＯ電極を形成する部分上の
ポジ型レジスト３２以外の部分のポジ型レジストを露光
して除去し、ＩＴＯ２０上にはポジ型レジスト３２を残
す（図１（ｂ））。次いで、選択的エッチングにより、
ガラス基板１０上にＩＴＯ電極２２（３Ｎ＋１）、２２
（３Ｎ＋２）、２２（３Ｎ）を形成する（図１
（ｃ））。ここで、ＩＴＯ電極２２（３Ｎ＋１）、２２
（３Ｎ＋２）、２２（３Ｎ）の各呼称と、ＩＴＯ電極２
２という総称は、第１の実施の形態の説明におけるもの
と同様のものとする。

【００４５】ＩＴＯ電極２２形成後、ＩＴＯ電極２２
上、及びガラス基板１０上のＩＴＯ電極２２が形成され
た部分以外の部分全面に、アクリル樹脂またはポリシラ
ン等により受容層１５０を形成する（図１（ｄ））。受
容層１５０は、着色材料を受容し得るものであり、それ
自体は透明な材料によって形成する。

【００４６】受容層１５０形成後、まず、ＩＴＯ電極２
２（３Ｎ＋１）のみに＋５Ｖの電圧を印加しつつ、当該
電極のほぼ真上の位置でインクジェット装置４０から赤
色の着色材料を噴射し、ＩＴＯ電極２２（３Ｎ＋１）上
の受容層１５０に赤色の着色材料を浸透させ、赤色の着
色層Ｒ２１を形成する。赤色の着色層Ｒ２１が形成され
た部分以外の部分は、受容層１５１として残る。インク
ジェット装置４０を順次移動させて行き、すべてのＩＴ
Ｏ電極２２（３Ｎ＋１）上の受容層１５１に赤色の着色
材料を浸透させ、赤色の着色層を形成する（図１
（ｅ））。印加する電圧の極性、大きさは、着色材料の
性質、受容層の材料の性質その他の条件により、適当に
設定する。続いて、ＩＴＯ電極２２（３Ｎ＋２）のみに
＋５Ｖの電圧を印加しつつ、当該電極のほぼ真上の位置
でインクジェット装置４０から緑色の着色材料を噴射
し、ＩＴＯ電極２２（３Ｎ＋２）上の受容層１５１に緑
色の着色材料を浸透させ、緑色の着色層Ｇ２１を形成す
る。インクジェット装置４０を順次移動させ、すべての
ＩＴＯ電極２２（３Ｎ＋２）上の受容層１５１に緑色の
着色材料を浸透させ、緑色の着色層を形成する。さら
に、ＩＴＯ電極２２（３Ｎ）のみに＋５Ｖの電圧を印加
しつつ、当該電極のほぼ真上の位置でインクジェット装
置４０から青色の着色材料を噴射し、ＩＴＯ電極２２
（３Ｎ）上の受容層１５１に青色の着色材料を浸透さ
せ、青色の着色層Ｂ２１を形成する。インクジェット装
置４０を順次移動させて行き、すべてのＩＴＯ電極２２
（３Ｎ）上の受容層１５１に青色の着色材料を浸透さ
せ、青色の着色層を形成する。このようにＩＴＯ電極２
２のうち着色対象となるもののみに電圧を印加しつつ、
インクジェット装置４０から着色材料を順次噴射し、着
色材料を受容層に浸透させて、赤色の着色層Ｒ２１，Ｒ
２２、緑色の着色層Ｇ２１、青色の着色層Ｂ２１を形成
する（図１（ｆ））。着色層が形成された部分以外の部
分は、受容層１５２として残る。

【００４７】また、第１の実施の形態における応用例
は、第２の実施の形態においても同様に適用することが
できる。すなわち、着色対象となるＩＴＯ電極２２に所
定極性の電圧（例えば、＋５Ｖ）を印加するとともに、
着色対象となるＩＴＯ電極２２以外のＩＴＯ電極２２に
逆極性の電圧（例えば、−５Ｖ）を印加しつつ着色を行
うと、着色材料の滲みをさらに効果的に防止し、着色層
形成の精度をより向上させることができる。

【００４８】さらに、着色対象となるＩＴＯ電極２２の
みに電圧を印加する場合、及び着色対象となるＩＴＯ電
極２２に所定極性の電圧を印加するとともに、着色対象
となるＩＴＯ電極２２以外のＩＴＯ電極２２に逆極性の
電圧を印加場合において、電圧の印加のタイミングとイ
ンクジェット装置４０から着色材料を噴射するタイミン
グとを同期させることにより、この着色層形成工程の自
動化が可能となる。すなわち、電圧の印加のタイミング
と、インクジェット装置４０から着色材料を噴射するた
めにインクジェット装置４０のノズル制御部に印加する
信号のタイミングとを同期させることにより、各着色層
を順次形成することができる。

【００４９】加えて、赤色、緑色、青色の着色材料を順
次変更する動作を連続的に行い、この場合において、着
色対象となるＩＴＯ電極２２（及びそれ以外のＩＴＯ電
極２２）への電圧印加のタイミングと、インクジェット
装置４０から着色材料を噴射するタイミングと、着色材
料変更のタイミングとを同期させることにより、赤色、
緑色、青色、赤色、緑色、青色、．．．という順序で、
各色の着色層を連続的に形成することができ、着色層形
成の効率をさらに高めることができる。

【００５０】各着色層形成後、遮光層１５３を、通常用
いられている適当な方法によって形成する（図１
（ｆ））。遮光層１５３の形成後、遮光層１５３及び各
着色層Ｒ２１，Ｇ２１，Ｂ２１，Ｒ２２を形成した面上
の全面に表示用電極としてＩＴＯ６１を２００〜３００
０オングストローム、最適値としては１５００オングス
トロームの膜厚にスパッタ成膜する。さらにその上か
ら、ポリイミド等の配向膜材料を全面に塗布し、ラビン
グ処理を行って配向膜７１を形成すると、カラー型液晶
表示素子を構成する２枚のガラス基板のうちの一方であ
るカラーフィルタ基板１０が完成する（図１（ｈ））。

【００５１】図３（ｈ）のカラーフィルタ基板１０を、
カラー型液晶表示素子を構成する一方の基板とした場
合、第１の実施の形態と同様の手順によって、図２に示
す構造を有するカラー型液晶表示素子が得られる。

【００５２】図４は、本発明に係る液晶表示素子の製造
方法の第３の実施の形態についての説明図であり、液晶
表示素子を構成するカラーフィルタ基板の製造工程の概
略を示している。この第３の実施の形態は、カラーフィ
ルタ基板となる基板がＴＦＴアレイ基板である点を除く
と、第１の実施の形態とほぼ同様である。

【００５３】最初に、ＴＦＴアレイ基板を、通常の製造
方法によって作製する。まず、成膜とパターニングを繰
り返すことにより、ガラス基板１０上に、ゲート電極及
びゲート配線、ゲート絶縁膜等を形成し（図示せず）、
これらを形成したガラス基板１０上全面に画素となるＩ
ＴＯ２０を約２００〜３０００オングストロームの範囲
の膜厚でスパッタ成膜する。ＩＴＯ２０の膜厚として
は、前述の実施の形態と同様に、１５００オングストロ
ーム程度が最適である。スパッタ成膜したＩＴＯ２０上
全面にポジ型レジスト３０を塗布し（図４（ａ））、Ｉ
ＴＯ２０の画素を形成する部分上のポジ型レジスト３３
以外の部分のポジ型レジストを露光して除去し、ＩＴＯ
２０上にはポジ型レジスト３３を残す（図４（ｂ））。
次いで、選択的エッチングにより、ガラス基板１０上に
画素２３（３Ｎ＋１）、２３（３Ｎ＋２）、２３（３
Ｎ）を形成する。ここで、画素２３（３Ｎ＋１）、２３
（３Ｎ＋２）、２３（３Ｎ）の各呼称と、画素２３とい
う総称は、第１の実施の形態の説明におけるものと同様
のものとする。さらに、成膜とパターニングを繰り返す
ことにより、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１６０、ＴＦ
Ｔ１６０に接続された電極配線、画素２３が形成され
た、縦横１００画素合計１００００画素を有するアモル
ファスシリコンＴＦＴアレイ基板１０が得られる（図４
（ｃ））。

【００５４】画素２３形成後、まず、画素２３（３Ｎ＋
１）のみに＋５Ｖの電圧を印加しつつ、当該電極のほぼ
真上の位置でインクジェット装置４０から赤色の着色材
料を噴射し、画素２３（３Ｎ＋１）上に赤色の着色層Ｒ
３１を形成する。インクジェット装置４０を順次移動さ
せて行き、すべての画素２３（３Ｎ＋１）上に赤色の着
色層を形成する（図４（ｄ））。印加する電圧の極性、
大きさは、着色材料の性質その他の条件により、適当に
設定する。続いて、画素２３（３Ｎ＋２）のみに＋５Ｖ
の電圧を印加しつつ、当該電極のほぼ真上の位置でイン
クジェット装置４０から緑色の着色材料を噴射し、画素
２３（３Ｎ＋２）上に緑色の着色層Ｇ３１を形成する。
インクジェット装置４０を順次移動させ、すべての画素
２３（３Ｎ＋２）上に緑色の着色層を形成する。さら
に、画素２３（３Ｎ）のみに＋５Ｖの電圧を印加しつ
つ、当該電極のほぼ真上の位置でインクジェット装置４
０から青色の着色材料を噴射し、画素２３（３Ｎ）上に
青色の着色層Ｂ３１を形成する。インクジェット装置４
０を順次移動させて行き、すべての画素２３（３Ｎ）上
に青色の着色層を形成する。このように画素２３のうち
着色対象となるもののみに電圧を印加しつつ、インクジ
ェット装置４０から着色材料を順次噴射し、赤色の着色
層Ｒ３１，Ｒ３２、緑色の着色層Ｇ３１、青色の着色層
Ｂ３１を形成する（図４（ｅ））。

【００５５】また、第１及び第２の実施の形態における
応用例は、第３の実施の形態においても同様に適用する
ことができる。すなわち、着色対象となる画素２３に所
定極性の電圧（例えば、＋５Ｖ）を印加するとともに、
着色対象となる画素２３以外の画素２３に逆極性の電圧
（例えば、−５Ｖ）を印加しつつ着色を行うと、着色材
料の滲みをさらに効果的に防止し、着色層形成の精度を
より向上させることができる。

【００５６】さらに、着色対象となる画素２３のみに電
圧を印加する場合、及び着色対象となる画素２３に所定
極性の電圧を印加するとともに、着色対象となる画素２
３以外の画素２３に逆極性の電圧を印加場合において、
電圧の印加のタイミングとインクジェット装置４０から
着色材料を噴射するタイミングとを同期させることによ
り、この着色層形成工程の自動化が可能となる。すなわ
ち、電圧の印加のタイミングと、インクジェット装置４
０から着色材料を噴射するためにインクジェット装置４
０のノズル制御部に印加する信号のタイミングとを同期
させることにより、各着色層を順次形成することができ
る。

【００５７】加えて、赤色、緑色、青色の着色材料を順
次変更する動作を連続的に行い、この場合において、着
色対象となる画素２３（及びそれ以外の画素２３）への
電圧印加のタイミングと、インクジェット装置４０から
着色材料を噴射するタイミングと、着色材料変更のタイ
ミングとを同期させることにより、赤色、緑色、青色、
赤色、緑色、青色、．．．という順序で、各色の着色層
を連続的に形成することができ、着色層形成の効率をさ
らに高めることができる。

【００５８】各着色層形成後、各着色層Ｒ３１，Ｇ３
１，Ｂ３１，Ｒ３２を形成したＴＦＴアレイ基板１０上
の全面に、ポリイミド等の配向膜材料を全面に塗布し、
ラビング処理を行って配向膜７２を形成すると、カラー
型液晶表示素子を構成する２枚のガラス基板のうちの一
方であるＴＦＴアレイカラーフィルタ基板１０が完成す
る（図４（ｆ））。

【００５９】図４（ｆ）のカラーフィルタ基板１０を、
カラー型液晶表示素子を構成する一方の基板とした場
合、他方の基板は、通常のＴＦＴ方式液晶表示素子の構
成における対向基板を用いる。すなわち、対向基板とな
るガラス基板上全面に、透明電極となる透明導電膜とし
てＩＴＯを２００〜３０００オングストローム、最適値
としては１５００オングストロームの膜厚にスパッタ成
膜し、このＩＴＯ電極上にポリイミド等の配向膜材料を
全面に塗布し、ラビング処理を行って配向膜を形成する
と、カラー型液晶表示素子を構成する２枚のガラス基板
のうちカラーフィルタ基板に対向することとなる対向基
板が完成する。

【００６０】図５は、図４（ｆ）のＴＦＴアレイカラー
フィルタ基板１０と対向基板１００とを用いて作製した
カラー型液晶表示素子の構造の概略の説明図である。対
向基板１００上には、ＩＴＯ電極１７０、配向膜１８０
が形成されている。

【００６１】このカラー型液晶表示素子の作製は、以下
のように行う。すなわち、ＴＦＴアレイカラーフィルタ
基板１０上の配向膜７２の周縁部に沿って、液晶注入口
（図示せず）以外の部分に接着剤８１を印刷し、ＴＦＴ
アレイカラーフィルタ基板１０上に間隙剤として粒径６
μｍのミクロパール（積水ファインケミカル社製）９０
を散布する。

【００６２】次に、ＴＦＴアレイカラーフィルタ基板１
０上の配向膜７２のラビング方向と、対向基板１００上
の配向膜１８０のラビング方向とのなす角度が９０度と
なるように、配向膜７２と配向膜１８０とを対向させ、
加熱して接着剤８１を硬化させることにより、ＴＦＴア
レイカラーフィルタ基板１０と対向基板１００とを張り
合わせる。

【００６３】最後に、通常の方法により液晶材料を注入
する。ここでは液晶材料は、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メ
ルク社製）に液晶組成物１１０としてネマティック液晶
であるＳ８１１を０．１ｗｔ％添加したものを用い、液
晶材料注入後、液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止し
て、図５に示す構造を有するカラー型液晶表示素子が得
られる。

【００６４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る液晶
表示素子の製造方法によれば、着色対象となる電極に電
圧を印加しつつ、着色材料を噴射することとしたので、
インクジェット法を用いたカラーフィルタ基板の製造方
法におけるカラーフィルタ基板上の着色層の形成時の滲
みを防止して精度を向上させ、かつ、カラーフィルタ基
板の製造工程を簡略化して、カラー型液晶表示素子の製
造工程におけるフォトリソグラフィ・プロセスの回数を
最低限のものとし、カラー型液晶表示素子を安価に提供
することができる。

【００６５】着色対象となる電極には所定極性の電圧を
印加し、かつ、それ以外の電極には逆極性の電圧を印加
しつつ、着色材料を噴射することとしたので、インクジ
ェット法を用いたカラーフィルタ基板の製造方法におけ
るカラーフィルタ基板上の着色層の形成時の滲みを防止
して精度をさらに向上させ、かつ、カラーフィルタ基板
の製造工程を簡略化して、カラー型液晶表示素子の製造
工程におけるフォトリソグラフィ・プロセスの回数を最
低限のものとし、カラー型液晶表示素子を安価に提供す
ることができる。

【００６６】電極及び基板上に着色材料を受容し得る受
容層を形成した上で、着色対象となる電極に電圧を印加
しつつ、着色材料を噴射することとしたので、インクジ
ェット法を用いたカラーフィルタ基板の製造方法におけ
るカラーフィルタ基板上の着色層の形成を滲みを防止し
て精度を向上させながら安定に行い、かつ、カラーフィ
ルタ基板の製造工程を簡略化して、カラー型液晶表示素
子の製造工程におけるフォトリソグラフィ・プロセスの
回数を最低限のものとし、また、着色材料の選択の幅が
広がり、カラー型液晶表示素子を安価に提供することが
できる。

【００６７】電極及び基板上に着色材料を受容し得る受
容層を形成した上で、着色対象となる電極には所定極性
の電圧を印加し、かつ、それ以外の電極には逆極性の電
圧を印加しつつ、着色材料を噴射することとしたので、
インクジェット法を用いたカラーフィルタ基板の製造方
法におけるカラーフィルタ基板上の着色層の形成を滲み
を防止して精度をさらに向上させながら安定に行い、か
つ、カラーフィルタ基板の製造工程を簡略化して、カラ
ー型液晶表示素子の製造工程におけるフォトリソグラフ
ィ・プロセスの回数を最低限のものとし、また、着色材
料の選択の幅が広がり、カラー型液晶表示素子を安価に
提供することができる。

【００６８】基板は、ＴＦＴアレイ基板であるものとし
たので、液晶表示素子の組立の際における対向基板との
位置決めの誤差を考慮する必要がなくなり、画素の開口
率が高く、表示性能の高いカラー型液晶表示素子を安価
に提供することができる。

【００６９】電圧を印加する電極と、着色材料を噴射す
る位置とを経時的に変更して、着色層を形成するものと
したので、カラーフィルタ基板の製造効率を向上させる
ことができる。

【００７０】電極に印加する電圧と、着色材料を噴射す
る装置に印加する信号とを同期させて、電圧を印加する
電極と、着色材料を噴射する位置とを経時的に変更し、
着色層を順次形成するものとしたので、カラーフィルタ
基板の製造工程の自動化が可能となり、製造効率を向上
させることができる。

【００７１】噴射される着色材料は複数種類であり、か
つ、着色材料の種類も経時的に変更するものとしたの
で、カラーフィルタ基板の製造工程の自動化が可能とな
り、製造効率をさらに向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶表示素子の製造方法の第１の
実施の形態、及び従来のカラーフィルタ基板の製造方法
の第３の例の説明図。

【図２】本発明に係る液晶表示素子の製造方法の第１ま
たは第２の実施の形態によって作製されたカラーフィル
タ基板を用いて組み立てられた液晶表示素子の構造の概
略を示す説明図。

【図３】本発明に係る液晶表示素子の製造方法の第２の
実施の形態の説明図。

【図４】本発明に係る液晶表示素子の製造方法の第３の
実施の形態の説明図。

【図５】本発明に係る液晶表示素子の製造方法の第３の
実施の形態によって作製されたカラーフィルタ基板を用
いて組み立てられた液晶表示素子の構造の概略を示す説
明図。

【図６】単純マトリクス駆動方式のカラー型ドットマト
リクス液晶表示素子の構成の概略を示す斜視図。

【図７】アクティブマトリクス駆動方式のカラー型ドッ
トマトリクス液晶表示素子の構成の概略を示す説明図。

【図８】従来のカラーフィルタ基板の製造方法の第１の
例の説明図。

【図９】従来のカラーフィルタ基板の製造方法の第２の
例の説明図。

【図１０】従来のカラーフィルタ基板の製造方法の第３
の例の説明図。

【符号の説明】

１Ｘ基板１ａＸ電極２Ｙ基板２ａＹ電極３駆動ＩＣ４ＴＦＴアレイ基板５薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）６表示電極７信号線電極８ゲート電極９対向基板９ａ対向電極１０ガラス基板（カラーフィルタ基板）２０、２１、２２、２３、２４、６０、６１、６２、１
７０ＩＴＯ５０、５１、１５３、１９０遮光層３０、３１、３２、３３、３４、２１０、２１１レジ
スト４０インクジェット装置２２０、２２１アクリル樹脂中に顔料等を分散させた
ネガ型レジスト２００トップコート層７０、７１、７２、７３、７４、１４０、１８０配向
膜８０、８１接着剤９０間隙剤（ミクロパール）１１０液晶組成物１００ガラス基板（対向基板）１３０画素１２０、１６０薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１５０、１５１、１５２受容層Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ
４１、Ｒ４２、Ｒ５１、Ｒ５２赤色着色層Ｇ１１、Ｇ２１、Ｇ３１、Ｇ４１、Ｇ５１緑色着色層Ｂ１１、Ｂ２１、Ｂ３１、Ｂ４１、Ｂ５１青色着色層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上の所定位置に１以上の電極を形成す
る第１の工程と、前記電極のうち着色する電極に電圧を印加しつつ、前記
着色する電極上に、着色材料を噴射して着色層を形成す
る第２の工程とを備えたことを特徴とする液晶表示素子
の製造方法。
【請求項２】基板上の所定位置に１以上の電極を形成す
る第１の工程と、前記電極のうち着色する電極には所定極性の電圧を印加
し、かつ、前記着色する電極以外の前記電極には前記所
定極性と逆極性の電圧を印加しつつ、前記着色する電極
上に、着色材料を噴射して着色層を形成する第２の工程
とを備えたことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】基板上の所定位置に１以上の電極を形成す
る第１の工程と、前記電極上、及び前記基板上の前記電極が形成された部
分以外の部分に、着色材料を受容し得る受容層を形成す
る第２の工程と、前記電極のうち、その電極上に前記受容層の着色する部
分が形成された電極に電圧を印加しつつ、前記受容層の
着色する部分上に、着色材料を噴射して着色層を形成す
る第３の工程とを備えたことを特徴とする液晶表示素子
の製造方法。
【請求項４】基板上の所定位置に１以上の電極を形成す
る第１の工程と、前記電極上、及び前記基板上の前記電極が形成された部
分以外の部分に、着色材料を受容し得る受容層を形成す
る第２の工程と、前記電極のうち、その電極上に前記受容層の着色する部
分が形成された電極には所定極性の電圧を印加し、か
つ、前記受容層の着色する部分が形成された電極以外の
前記電極には前記所定極性と逆極性の電圧を印加しつ
つ、前記受容層の着色する部分上に、着色材料を噴射し
て着色層を形成する第３の工程とを備えたことを特徴と
する液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】請求項１ないし４のいずれかに記載の液晶
表示素子の製造方法において、前記基板は、ＴＦＴアレ
イ基板であることを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。
【請求項６】請求項１ないし５のいずれかに記載の液晶
表示素子の製造方法において、前記電圧を印加する電極
と、前記着色材料を噴射する位置とを経時的に変更し
て、着色層を形成することを特徴とする液晶表示素子の
製造方法。
【請求項７】請求項１ないし６のいずれかに記載の液晶
表示素子の製造方法において、前記電極に印加する電圧
と、前記着色材料を噴射する装置に印加する信号とを同
期させて、前記電圧を印加する電極と、前記着色材料を
噴射する位置とを経時的に変更し、着色層を順次形成す
ることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】請求項６または７に記載の液晶表示素子の
製造方法において、噴射される前記着色材料は複数種類
であり、かつ、前記着色材料の種類も経時的に変更する
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。