JPH0980333A - 走査光学系 - Google Patents

走査光学系

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JPH0980333A
JPH0980333A JP23692195A JP23692195A JPH0980333A JP H0980333 A JPH0980333 A JP H0980333A JP 23692195 A JP23692195 A JP 23692195A JP 23692195 A JP23692195 A JP 23692195A JP H0980333 A JPH0980333 A JP H0980333A
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JP
Japan
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optical system
intensity distribution
changing means
optical axis
scanning direction
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JP23692195A
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English (en)
Inventor
Masaya Kobayashi
雅也 小林
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 黒筋の発生を防止するレーザ光学系の走査光
学系を提供する。 【構成】 光源から発する光束が入射光学系を介して偏
向器で偏向され、走査光学系を介して被走査媒体に結像
する光学系において、透過率が光軸周辺ではほぼ1番大
きく、走査方向に光軸から離れるに従い、透過率が小さ
くなるような強度分布変更手段を入射光学系に備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光源を備えたレ
ーザ光学系に係わり、特にレーザプリンタ、デジタル複
写機等に使用されるレーザ光学系による走査光学系に関
する。
【0002】
【従来の技術】レーザプリンタ、レーザFAX、デジタ
ル複写機等の普及に伴い、走査光学系はますます安価で
しかもコンパクト、高性能なものが要求されつつある。
そのため、最近はレーザプリンタ等の走査光学系におい
ても、レンズ枚数を減らし、又コンパクト化のために非
球面レンズが多用されるが、この非球面レンズを安価に
得るためにプラスチックレンズの利用が不可欠になって
いる。
【0003】しかし、プラスチックレンズは樹脂成形用
金型により製造されるため、金型の加工精度が非常に重
要で、超高精度な加工精度が要求され、又成形技術も高
度なものが要求されている。レーザ光学系による走査光
学系に使用されるプラスチックレンズも、同様に非常に
高精度なものが要求されてはいるが、必ずしも満足のい
くものが提供されてはいなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近レ
ーザプリンタ等のさらなる高解像度化、高濃度階調化に
伴い走査光学系への性能向上の要求はさらに厳しくなり
つつある。
【0005】例えば、図1のような走査光学系におい
て、S4面が1部に図2(a)のようなPV0.05μ
m以上PV0.1μm以下の部分的なうねりが主走査方
向に存在するタイプAのような金型面であると、印字結
果において、ハーフトーン印字の時だけ、うねりに対応
する部分に副走査方向の黒筋が発生する場合がある。
又、図2(a)の面とは違い同じ位置で、図2(b)の
ようなうねりの少ない形状パターンのタイプBの金型面
であると、あまり黒筋は発生しない。
【0006】又このとき、前記面上のうねりに対応する
像面でのビーム径をみると、印字における黒筋と対応を
とることができる。一般的な走査光学系のビーム径評価
法は、図3のように像面におけるビーム強度分布(以後
ビームプロファイルと言う)に対して、最大強度に対し
て1/e2(13.5%)の強度における径(以後クリ
ップレベル13.5%と言う)を測定しているが、通常
これは解像度評価として用いており、印字黒筋の状態を
顕著に表すことは難しい。
【0007】しかし図3のように、ビームプロファイル
においてクリップレベルを13.5%より下げて測定を
行うと、印字における黒筋に対応することができる。
【0008】前記タイプA,タイプBについて図2
(a),(b)に相当する像高(+85mmから+12
5mm)に対して像高1mmピッチ、クリップレベル4
%,6%,8%,10%,13.5%で測定した結果を
図4〜7に示す。
【0009】ここで図4,5は各々、面がタイプAの時
の、主走査、副走査測定結果、図6,7は各々、面がタ
イプBの時の、主走査、副走査の結果である。
【0010】主走査方向のタイプA,タイプBのビーム
径測定結果、図4,6を比較すると、クリップレベル1
3.5%のビーム径については、あまり大きな変化は見
られないが、クリップレベル4%から8%で見るとタイ
プAのビーム径は大きく変動して、それに比べてタイプ
Bの変動は少ない。
【0011】これは、面のうねりの測定結果(図2
(a),(b))とまた印字結果と対応が取れている。
また、副走査方向については、図5,7を見て分かる様
にクリップレベルを下げても大きなビーム径変化は見ら
れない。
【0012】以上の結果から、印字における黒筋は面の
部分的なうねりが像面における主走査方向のビームプロ
ファイルに影響を及ぼし、その微妙なビーム形状の変化
が黒筋の要因となっていることが予想される。
【0013】このため、さらに部分的なうねりをPV
0.05μm以内に押さえるように加工技術の高精度化
を計らなければならないが、この場合加工機の限界の領
域となり、少なくとも10nm以内の精度の加工機が必
要となる。又今後、さらに高階調の感光体の開発が見込
まれ、さらに要求精度は厳しくなってくる可能性があ
り、プラスチックレンズで要求精度を満たすには限界で
あった。
【0014】本発明は、前記課題を解決するためになさ
れたものである。即ち、このような状況において、本発
明は黒筋の発生を防止するレーザ光学系の走査光学系を
提供することを目的としたものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】前記目的は、下記構成を
採ることによって達成される。
【0016】(1)光源から発する光束が入射光学系を
介して偏向器で偏向され、走査光学系を介して被走査媒
体に結像する光学系において、透過率が光軸周辺ではほ
ぼ1番大きく、走査方向に光軸から離れるに従い、透過
率が小さくなるような強度分布変更手段を入射光学系に
備えていることを特徴とする走査光学系。
【0017】(2)前記強度分布変更手段が強度分布変
更フィルタであることを特徴とする前記(1)記載の走
査光学系。
【0018】(3)前記強度分布変更手段が入射光学系
内の光学素子のコート膜であることを特徴とする前記
(1)記載の走査光学系。
【0019】(4)前記強度分布変更手段の透過率分布
は走査方向にのみ存在し、副走査方向については透過率
分布が均一であることを特徴とする前記(1),(2)
又は(3)記載の走査光学系。
【0020】(5)前記強度分布変更手段に入射する有
効光束の走査方向の端部に相当する振幅透過率をTma
xとして、光軸周辺での振幅透過率をToとすると、T
max/To≦0.3の関係を満たす強度分布変更手段
を設定したことを特徴とする前記(1)記載の走査光学
系。
【0021】
【作用】請求項1に係わる作用は、均一な光量分布の光
が入射すると、像面においてビームプロファイル形状は
サイドローブが無収差の状態でも、ある程度の強度で発
生する。このため、残留収差が残って、しかも光束がう
ねりの存在する屈折媒体(レンズ)を通ると、うねりの
位相の変化に応じてコマ収差が変動して、サイドローブ
の強度が変動する。これが黒筋の原因となる。
【0022】そこで、光軸周辺の強度が最大で光軸から
はなれるに従い、強度が小さくなる光が入射すると、無
収差の状態ではビームプロファイルサイドローブは小さ
くなる。このため、ある程度の残留収差が存在してうね
りが存在しても、黒筋発生に対して許容できる屈折媒体
の面のうねりのPV値を大きくできる。
【0023】又黒筋の発生は、走査方向の屈折媒体のう
ねりによる影響によることが大きいことが実験的に分か
っている。
【0024】以上のことから、透過率が光軸周辺ではほ
ぼ1番大きく、走査方向に光軸から離れるに従い、透過
率が小さくなるような強度分布変更手段を用いることは
有効である。
【0025】請求項2に係わる作用は、強度分布変更手
段が強度分布変更フィルタであると、配置も容易で光学
系も簡単にできる。
【0026】請求項3に係わる作用は、入射光学系内の
光学素子のコート膜を前記強度分布変更手段とすること
により、部品点数を増やさずにすみ、コスト的メリット
が大きい。
【0027】請求項4に係わる作用は、走査方向にのみ
透過率分布をつけることにより、よりコストダウンとな
る。
【0028】請求項5に係わる作用は、Tmax/To
≦0.3とすることにより、ビームプロファイルにおけ
るサイドローブがより小さくなり、多様な感光体にも対
処でき、光学系内の残留収差及び屈折媒体に微小なうね
りのPV値に対しても黒筋発生に対する許容幅が大きく
なる。
【0029】
【実施例】以下に実施例を示す。先ず、実施例の効果を
説明するために用いた強度分布変更手段の検証法(シミ
ュレーション法)について説明する。
【0030】*検証法 検証法としては、走査光学系を簡単なモデルにおきか
え、ビームプロファイル(PSF:点像分布関数)を算
出する。
【0031】以下にその手法を説明する。
【0032】(1)PSF(ビームプロファイル)の算
出法 実際に光学面の部分的なうねりがビームプロファイルに
どのように影響するか解析するため簡単なモデルを考え
た。このモデルを図8に示す。
【0033】これは走査レンズの主走査方向について想
定し、そのパワーを集約した理想レンズLと、このレン
ズと像面の間に配設される厚さが極めて薄い、連続的な
正弦波を想定した面のうねりを想定した、位相媒体を置
いた2次元モデルである。
【0034】尚、副走査方向については図5,図7の結
果からみてわかるように、印字時において黒筋発生にほ
とんど影響を及ぼさないため、考慮にいれない。また、
レンズの直前には幅2Dのスリットがあり、そのスリッ
トを通るビームはレーザを想定してガウス分布の強度分
布を持つ平行光が入射する。また、この入射光にはコリ
メータからの射出光の収差や走査光学系内で設計値とし
て存在する収差をまとめた波面収差を想定している。
【0035】このときのスリットの座標系をx1、位相
媒体の座標系をx0、像面の座標系をxfとする。また、
ガウシアンビームの振幅分布をG(x1)、スリットの
窓関数をΠ(x1/D)、スリットにおける波面収差を
E(x1)、位相媒体による振幅分布変化をUP(x0
とすると像面Iにおける振幅分布Uf(xf)は
【0036】
【数1】
【0037】という形で表される。ここで
【0038】
【数2】
【0039】ここで、fはレンズLの焦点距離、λは波
長、k=2π/λ、dは位相媒体から像面までの距離を
表す。
【0040】
【数3】
【0041】また、P(x1)は瞳関数を想定できる
が、ここではx1座標での振幅分布で
【0042】
【数4】
【0043】で表すことができる。また
【0044】
【数5】
【0045】となるので(1)式は次の様に置き換える
ことができる。
【0046】
【数6】
【0047】ここでガウシアン振幅分布G(x1)は G(x1)=G1exp(−αx1 2) ・・・(5) また、位相媒体による振幅変化Up(x0)は Up(x0)=Bexp〔jW(x0)〕・・・(6) (Bは定数) W(x0)は位相媒体による波面収差で
【0048】
【数7】
【0049】で表される。ここで、nは位相媒体の屈折
率、F(x0)はうねりの形状を表す関数を表す。
【0050】(4)式を見ると積分内部は、フーリエ変
換の形となっている。(4)式を手計算で解くのはかな
り困難であるが、モデル1と同様に高速フーリエ変換
(FFT)の数値計算を用いれば良い。
【0051】また、結像面での点像分布関数(PSF)
を、PSF(xf)とすると PSF(xf)=‖Uf(xf)‖2 ・・・(8) となり(8)式が像面におけるビームプロファイルとな
る。
【0052】さらにスリットに入射する振幅分布関数に
ついて各々説明する。振幅分布関数は、(4)式から、
スリットに到達するレーザの光量振幅分布G1(x1)と
スリットを規定するΠ(x1/D)、位相媒体による振
幅変化Up(x1)、位相媒体を除く光学系(コリメータ
等)により発生する残留波面収差WE(x1)からなる。
【0053】(2)ガウシアンビームの広がり度合いと
スリット幅の関係 図9のようにレーザから発する光がコリメータを介して
スリットに到達するとき、ガウシアン分布を持つレーザ
の振幅G1(x1)がスリットΠ(x1/D)によって、
どのくらいケラレるかによって、評価しようとする像面
におけるPSF形状が異なってくる。
【0054】ここで
【0055】
【数8】
【0056】このため、ここではガウシアンビームのけ
られ度合いも考慮しなければならない。(5)式におけ
るガウシアンビームの振幅分布関数G(x1)は(9)
式で表すことができる。
【0057】 G(x1)=G1・exp(−α・x1 2)・・・(9) (G1:光軸上での振幅値) ここでαは、レーザ光源からの光がコリメータを介して
スリットに到達するレーザ光の振幅分布において、ガウ
シアン分布の広がり度合いを表す定数であり、コリメー
タの開口数NACOLとレーザの主走査方向の広がり角
(ここでは半角とする)θLD、スリット幅2Dで決ま
る。
【0058】コリメータの開口数NACOLはコリメータ
の焦点距離をfCOLとすると、 NACOL=D/fCOL で表すことができる。
【0059】また、レーザの広がり角θLDは、ガウシア
ン分布を持つ強度分布プロファイルの最大強度に対して
1/e2での角度と定義する。
【0060】この広がり角を開口数NALDで表現すると NALD=SIN(θLD) ・・・(10) で表すことができる。
【0061】広がり角θLDの定義は、強度分布に対して
最大強度の1/e2での角度と定義しているので振幅分
布においては、最大振幅に対して1/eの位置での角度
となる。これに対応するスリット上での位置x1LDをも
とめると G1(x1LD)=1/e となり、(9)式から
【0062】
【数9】
【0063】となる。
【0064】このとき、図10から
【0065】
【数10】
【0066】の関係が成立する。
【0067】スリットによるレーザ光のけられ度合い
は、コリメータの開口数NACOLとレーザの発散角によ
る開口数NALDの関係によって決まる。このためけられ
度εを導入して ε=NACOL/NALD と定義すると
【0068】
【数11】
【0069】となる。けられ度εの値が小さいと、レー
ザから発する光のスリットによるケラレは大きくなり、
けられ度εが大きいとケラレは小さくなる。
【0070】(3)位相媒体の説明と実際の走査光学系
のモデルとの対応 位相媒体のうねりの関数をF(x)として、この位相
媒体により発生する波面収差をW(x0)とすると、位
相媒体のうねりと波面収差の関係は(7)式に示される
様に
【0071】
【数12】
【0072】で表すことができる(nは位相媒体の屈折
率)。ここで位相媒体の厚みは極めて薄いと仮定する。
このためこのモデルにおいて、位相媒体の平行平面板の
効果としての波面収差及びバックフォーカス変化はな
い。そのため、位相媒体による振幅分布の変化は
【0073】
【数13】
【0074】となる。
【0075】ここでは位相媒体のうねりの形状を正弦関
数として考える。うねりの形状F(x0)は
【0076】
【数14】
【0077】で表される図12は、図11のうねりを横
にして見たときの正弦関数である。
【0078】また、aはうねりの振幅、Tpはうねりの
ピッチ、δはうねりの光軸に対する位相を表す。また、
うねりのPV値は必然的に PV=2a ・・・(14) 実際に走査光学系においては図13で示す様に、ポリゴ
ンミラーによりビームがスキャンされS4面にうねりが
存在する時、ビームは周期的なうねりをほぼ等速に通過
する。
【0079】この事項について上記モデルで考えると、
図13のポリゴンミラーによる走査は、図14の位相媒
体を光軸に対してシフトすることと等しいと考えること
ができる。
【0080】そしてうねりの周期Tpに対して、位相δ
=0(A)の時のビームと、位相δ=Tp/4(B)の
時のビーム、位相δ=Tp/2(C)の時のビームによ
るプロファイルの形状の違いが、黒筋となって現れるこ
とが推測される。
【0081】(4)残留波面収差 モデル2においてはより現実に近づけるために、入射ビ
ームに波面収差ものせて考える。
【0082】実際の光学系においては、このシミュレー
ションでの入射ビームを作るコリメータ光学系に残留収
差が存在し、また走査光学系内においても像高を持つと
設計的なコマ収差が若干存在する。これらの残留収差が
黒筋に影響を及ぼす可能性がある。
【0083】このモデルでは主走査方向でしか論じてお
らず、1次元であるので、波面収差としてコマ収差及び
球面収差をのせる。波面収差を近似的にツェルニケ展開
を1次元化した形とすると、
【0084】
【数15】
【0085】となる。ρは瞳半径をノーマライズした値
である。SAは球面収差のツェルニケ係数で、CMはコ
マ収差のツェルニケ係数である。またSArmsは球面
収差のrms値、CMrmsはコマ収差のrms値とす
ると、
【0086】
【数16】
【0087】となる。
【0088】以上をふまえて(4)式、(8)式を解析
する。
【0089】以下のシミュレーションにおいては、高速
フーリエ変換を用いて数値解析を行った。また本シミュ
レーションにおいては、必要な結果はPSFビームプロ
ファイルの各クリップレベルにおけるビーム径であるた
め、PSFは最大強度でノーマライズしてある。このた
め(4)式の定数A,(5)式の定数G1,(6)式の
定数Bはそれぞれ1とした。
【0090】*実施例シミュレーション (1)共通条件 主走査のみの議論とする。レンズは焦点距離f=280
mmで、位相媒体は像面から100mmの位置に設け
る。即ち、 ・焦点距離f=280mm(波長780nm) ・位相媒体の位置は像面から100mmの位置 ・位相媒体の屈折率1.48595 ・波長780nm ・けられ度εは前記の通り、コリメータレンズのNA(
COL)と、レーザの強度で1/e2での拡がり角によるN
A(LD)によりNA(COL)/NA(LD)で決まるが、
レーザの拡がり角のばらつきを考慮して、3種類の値で
シミュレーションを行う。
【0091】ε=0.767 ε=0.623 ε=1.000 ・本発明の強度分布変更手段が無い場合、ある場合を含
めて、うねり(PV0μm)がなく残留収差もない(球
面収差rms値=0λ、コマ収差rms値=0λ、λ=
780nm)状態で解像度を設定するため1/e2(1
3.5%)でのビーム径がけられ度ε=0.767でほ
ぼ60μmとなる様にスリットを設定する。
【0092】(2)シミュレーション法 シミュレーションは次に説明する,の順序でおこな
った。
【0093】レーザ拡がり角の中心値を想定してけら
れ度ε=0.767に対して、本発明が無い状態と本発
明の実施例での位相媒体のうねりのPV値及び、残留収
差を0としたときクリップレベル1/e2(13.5
%)におけるビーム径がほぼ60μmとなるように
【0094】
【数17】
【0095】から、スリット幅2Dとガウシアン係数α
をもとめる。
【0096】このスリット幅2Dとαに対して、条件で
述べた3種類のεの値で位相媒体のうねりのPV及び残
留収差の値が0となるときのシミュレーションをおこな
い、1/e2でのビーム径を算出し、ビーム径のばらつ
きを見る。
【0097】この状態で、レンズ面に存在する微妙な
うねりを想定したシミュレーションを行う。
【0098】レンズ面のうねりを想定した位相媒体の条
件 ・うねりのPV値:0.05μm(加工限界) ・うねりの周期:位相媒体にあたる光束に対してうねり
1.65周期分となるよう設定する。スリット幅2D=
6mmで前記条件の場合、 Tp=d/f・2D/1.65≒1.3mm ・うねりの位相:0から2πまで1周期分 ・残留収差:LBPの場合LD及びコリメータ系に存在
する収差及び、走査光学系で設計時から発生している収
差を想定し、総括して残留収差を1次元的に波面収差r
ms値で設定する。(コマ収差、球面収差) (3)強度分布変更手段がないときの場合 スリット幅とガウシアン係数の決定 ε=0.767で1/e2でのビーム径をほぼ60μm
にするには、スリット幅の半値D=3mm、ガウシアン
係数α=0.0653 この結果
【0099】
【表1】
【0100】となる。
【0101】各けられ度εに対するPV0.05μm
のうねり位相媒体を入れたときの、うねりの光軸に対す
る位相変化によるビーム径の変化を検証 ・残留収差:球面収差rms=0.025λ、コマrm
s=0.025λ ・うねりの周期:Tp=1.3mm(位相媒体にあたる
光束に対してうねり1.65周期分) ・うねりの位相:0から2πまで変化したときのビーム
径変化を見る。
【0102】 結果 図15 (a) ε=0.767 (b) ε=0.623 (c) ε=1.000 この結果、図15(a),(b)のようにεの値が小さ
いとサイドローブの影響を受ける位相と受けない位相が
存在し、クリップレベル6%でのビーム径変化は極端に
大きくなっていることが分かる。これが印字において黒
筋が発生すると考えられる。
【0103】εが大きくなると、図15(c)のように
サイドローブの影響は受けなくなり、クリップレベルが
6%ではビーム径の変動は小さくなる。このため、けら
れ度εが小さい方が黒筋は発生しにくいことが分かる。
しかしながら、光源として半導体レーザを用いると、そ
の拡がり角のばらつきがかなり大きく、レーザの拡がり
角のばらつきにより、印字時に黒筋が発生することが分
かる。
【0104】(4)強度分布変更手段の具体的実施例 強度分布変更手段の実施例として図16のから、図
17の,の主走査方向における透過率分布を持つ計
6種類の強度分布変更手段を用いた。
【0105】実施例1 実施例1は図16ののような主走査方向の振幅透過率
の強度分布変更手段で、光軸周辺の振幅透過率はほぼ1
00%で、主走査方向開口周辺では振幅透過率はほぼ5
0%となる。又、この強度分布変更手段の透過率分布
は、主走査方向において、光軸周辺から開口周辺までリ
ニアに下がる。
【0106】光軸を原点としたときの主走査方向の座標
をxとし、強度分布変更手段の振幅透過率をT(x)
(単位:%)、開口の半径(あるいは開口の光軸から端
部までの距離)をDとしたとき、強度分布変更手段の振
幅透過率は、 T(x)=(1−0.5・x/D) としている。
【0107】この強度分布変更手段を用いた場合の前記
モデルを用いたシミュレーションを行って、効果の検証
を行った。
【0108】シミュレーション検証 スリット幅とガウシアン係数の決定 ε=0.767で1/e2でのビーム径をほぼ60μm
にするには、スリット幅の半値D=3.4mm、ガウシ
アン係数α=0.0509 この結果
【0109】
【表2】
【0110】となる。
【0111】各けられ度εに対するPV0.05μm
のうねり位相媒体を入れたときの、うねりの光軸に対す
る位相変化によるビーム径の変化を検証 ・残留収差:球面収差rms=0.025λ、コマrm
s=0.025λ ・うねりの周期:Tp=1.5mm(位相媒体にあたる
光束に対してうねり約1.65周期分) ・うねりの位相:0から2πまで変化したときのビーム
径変化を見る。
【0112】 結果 図18 (a) ε=0.767 (b) ε=0.623 (c) ε=1.000 図18(a)から図18(c)を見ても分かるように、
クリップレベル6%のビーム径ではサイドローブによる
影響は受けていない。強度分布変更手段が無い場合と比
較すると、実施例1の強度分布変更手段を用いた場合の
方が、サイドローブの影響を受けていないことが分か
る。
【0113】図18(a),(b)のように、けられ度
εが小さい値(ε=0.623)で、強度分布変更手段
を通過する前の光の主走査方向の光量分布が均一光量に
近づくと、クリップレベル4%のビーム径でサイドロー
ブの影響を受けているが、これはほとんど実際の画像に
は影響しない。但し、感度の高い感光体を使用する場合
には影響を受ける場合があるので、この場合はクリップ
レベル4%でのビーム径変化はあまり影響を受けないレ
ーザと感光体を用いることが望ましい。
【0114】実施例2 実施例2は図16ののような主走査方向の振幅透過率
の強度分布変更手段で、光軸周辺の振幅透過率はほぼ1
00%で、主走査方向開口周辺では振幅透過率はほぼ2
0%となる。又、この強度分布変更手段の透過率分布
は、主走査方向において、光軸周辺から開口周辺までリ
ニアに下がる。
【0115】光軸を原点としたときの主走査方向の座標
をxとし、強度分布変更手段の振幅透過率をT(x)
(単位:%)、開口の半径(あるいは開口の光軸から端
部までの距離)をDとしたとき、強度分布変更手段の振
幅透過率は、 T(x)=(1−0.8・x/D) としている。
【0116】この強度分布変更手段を用いた場合の前記
モデルを用いたシミュレーションを行って、効果の検証
を行った。
【0117】シミュレーション検証 スリット幅とガウシアン係数の決定 ε=0.767で1/e2でのビーム径をほぼ60μm
にするには、スリット幅の半値D=3.9mm、ガウシ
アン係数α=0.0387 この結果
【0118】
【表3】
【0119】となる。
【0120】各けられ度εに対するPV0.05μm
のうねり位相媒体を入れたときの、うねりの光軸に対す
る位相変化によるビーム径の変化を検証 ・残留収差:球面収差rms=0.025λ、コマrm
s=0.025λ ・うねりの周期:Tp=1.7mm(位相媒体にあたる
光束に対してうねり約1.65周期分) ・うねりの位相:0から2πまで変化したときのビーム
径変化を見る。
【0121】 結果 図19 (a) ε=0.767 (b) ε=0.623 (c) ε=1.000 図19(a)から図19(c)を見ても分かるように、
クリップレベル4%,6%のビーム径ではサイドローブ
による影響は受けていない。強度分布変更手段が無い場
合と比較すると、実施例2の強度分布変更手段を用いた
場合の方が、サイドローブの影響を受けていないことが
分かる。
【0122】又、実施例2の強度分布変更手段は、クリ
ップレベル4%でのビーム径でもサイドローブの影響を
受けず、うねりの位相変化に対してあまり大きなビーム
径変動はないため実施例1の強度分布変更手段に比べて
黒筋が発生しにくい。
【0123】実施例3 実施例3は図16ののような主走査方向の振幅透過率
の強度分布変更手段で、光軸周辺の振幅透過率はほぼ1
00%で、主走査方向開口周辺では振幅透過率はほぼ5
0%となる。又、この強度分布変更手段の透過率分布
は、主走査方向において、光軸周辺から開口周辺まで2
次関数的に下がる。
【0124】光軸を原点としたときの主走査方向の座標
をxとし、強度分布変更手段の振幅透過率をT(x)
(単位:%)、開口の半径(あるいは開口の光軸から端
部までの距離)をDとしたとき、強度分布変更手段の振
幅透過率は、 T(x)=(1−0.5・(x/D)2) としている。
【0125】この強度分布変更手段を用いた場合の前記
モデルを用いたシミュレーションを行って、効果の検証
を行った。
【0126】シミュレーション検証 スリット幅とガウシアン係数の決定 ε=0.767で1/e2でのビーム径をほぼ60μm
にするには、スリット幅の半値D=3.35mm、ガウ
シアン係数α=0.0524 この結果
【0127】
【表4】
【0128】となる。
【0129】各けられ度εに対するPV0.05μm
のうねり位相媒体を入れたときの、うねりの光軸に対す
る位相変化によるビーム径の変化を検証 ・残留収差:球面収差rms=0.025λ、コマrm
s=0.025λ ・うねりの周期:Tp=1.5mm(位相媒体にあたる
光束に対してうねり約1.65周期分) ・うねりの位相 0から2πまで変化したときのビーム
径変化を見る。
【0130】 結果 図20 (a) ε=0.767 (b) ε=0.623 (c) ε=1.000 図20(a),(b)のように、けられ度εが小さい値
で、強度分布変更手段を通過する前の光の主走査方向の
光量分布が均一光量に近づくと、クリップレベル4%の
ビーム径でサイドローブの影響を受けている。又、けら
れ度ε=0.623の場合、クリップレベル6%のビー
ム径でもサイドローブの影響を受けやすくなり、PV
0.05μmのうねりの位相変化に対してビーム径の変
動が大きくなっているが、強度分布変更手段が無い場合
と比較すると、サイドローブによるビーム径への影響が
少ない。
【0131】実施例4 実施例4は図16ののような主走査方向の振幅透過率
の強度分布変更手段で、光軸周辺の振幅透過率はほぼ1
00%で、主走査方向開口周辺では振幅透過率はほぼ2
0%となる。又、この強度分布変更手段の透過率分布
は、主走査方向において、光軸周辺から開口周辺まで2
次関数的に下がる。
【0132】光軸を原点としたときの主走査方向の座標
をxとし、強度分布変更手段の振幅透過率をT(x)
(単位:%)、開口の半径(あるいは開口の光軸から端
部までの距離)をDとしたとき、強度分布変更手段の振
幅透過率は、 T(x)=(1−0.8・(x/D)2) としている。
【0133】この強度分布変更手段を用いた場合の前記
モデルを用いたシミュレーションを行って、効果の検証
を行った。
【0134】シミュレーション検証 スリット幅とガウシアン係数の決定 ε=0.767で1/e2でのビーム径をほぼ60μm
にするには、スリット幅の半値D=3.70mm、ガウ
シアン係数α=0.0430 この結果
【0135】
【表5】
【0136】となる。
【0137】各けられ度εに対するPV0.05μm
のうねり位相媒体を入れたときの、うねりの光軸に対す
る位相変化によるビーム径の変化を検証 ・残留収差:球面収差rms=0.025λ、コマrm
s=0.025λ ・うねりの周期:Tp=1.6mm(位相媒体にあたる
光束に対してうねり約1.65周期分) ・うねりの位相:0から2πまで変化したときのビーム
径変化を見る。
【0138】 結果 図21 (a) ε=0.767 (b) ε=0.623 (c) ε=1.000 図21(a)から図21(c)を見ても分かるようにク
リップレベル6%のビーム径ではサイドローブによる影
響は受けていない。強度分布変更手段が無い場合と比較
すると、明らかなようにサイドローブの影響を受けてい
ないことが分かる。
【0139】図21(b)のように、けられ度εが小さ
い値(ε=0.623)で、強度分布変更手段を通過す
る前の光の主走査方向の光量分布が均一光量に近づく
と、クリップレベル4%のビーム径でサイドローブの影
響を受けている。この実施例も実施例1と同様にクリッ
プレベル4%でのビーム径変化はあまり影響を受けない
レーザと感光体を用いることが望ましい。
【0140】実施例5 実施例5は図17ののような主走査方向の振幅透過率
の強度分布変更手段で、光軸周辺の振幅透過率はほぼ1
00%で、主走査方向開口周辺では振幅透過率はほぼ5
0%となる。又、この強度分布変更手段の透過率分布
は、主走査方向において、光軸周辺から開口周辺まで余
弦的に下がる。
【0141】光軸を原点としたときの主走査方向の座標
をxとし、強度分布変更手段の振幅透過率をT(x)
(単位:%)、開口の半径(あるいは開口の光軸から端
部までの距離)をDとしたとき、強度分布変更手段の振
幅透過率は、
【0142】
【数18】
【0143】としている。
【0144】この強度分布変更手段を用いた場合の前記
モデルを用いたシミュレーションを行って、効果の検証
を行った。
【0145】シミュレーション検証 スリット幅とガウシアン係数の決定 ε=0.767で1/e2でのビーム径をほぼ60μm
にするには、スリット幅の半値D=3.50mm、ガウ
シアン係数α=0.0480 この結果
【0146】
【表6】
【0147】となる。
【0148】各けられ度εに対するPV0.05μm
のうねり位相媒体を入れたときの、うねりの光軸に対す
る位相変化によるビーム径の変化を検証 ・残留収差:球面収差rms=0.025λ、コマrm
s=0.025λ ・うねりの周期:Tp=1.5mm(位相媒体にあたる
光束に対してうねり約1.65周期分) ・うねりの位相:0から2πまで変化したときのビーム
径変化を見る。
【0149】 結果 図22 (a) ε=0.767 (b) ε=0.623 (c) ε=1.000 図22(a)から図22(c)を見ても分かるようにク
リップレベル6%のビーム径ではサイドローブによる影
響は受けていない。強度分布変更手段が無い場合と比較
すると、明らかなようにサイドローブの影響を受けてい
ないことが分かる。
【0150】図22(b)のように、けられ度εが小さ
い値(ε=0.623)で、強度分布変更手段を通過す
る前の光の主走査方向の光量分布が均一光量に近づく
と、クリップレベル4%のビーム径でサイドローブの影
響を受けている。又、実施例1よりもPV0.05μm
のうねりの位相変化に対してのビーム径変動への影響は
少ない。この実施例も実施例1と同様、クリップレベル
4%でのビーム径変化はあまり影響を受けないレーザと
感光体を用いることが望ましい。
【0151】実施例6 実施例6は図17ののような主走査方向の振幅透過率
の強度分布変更手段で、光軸周辺の振幅透過率はほぼ1
00%で、主走査方向開口周辺では振幅透過率はほぼ2
0%となる。又、この強度分布変更手段の透過率分布
は、主走査方向において、光軸周辺から開口周辺まで余
弦的に下がる。
【0152】光軸を原点としたときの主走査方向の座標
をxとし、強度分布変更手段の振幅透過率をT(x)
(単位:%)、開口の半径(あるいは開口の光軸から端
部までの距離)をDとしたとき、強度分布変更手段の振
幅透過率は、
【0153】
【数19】
【0154】としている。
【0155】この強度分布変更手段を用いた場合の前記
モデルを用いたシミュレーションを行って、効果の検証
を行った。
【0156】シミュレーション検証 スリット幅とガウシアン係数の決定 ε=0.767で1/e2でのビーム径をほぼ60μm
にするには、スリット幅の半値D=4.10mm、ガウ
シアン係数α=0.0350 この結果
【0157】
【表7】
【0158】となる。
【0159】各けられ度εに対するPV0.05μm
のうねり位相媒体を入れたときの、うねりの光軸に対す
る位相変化によるビーム径の変化を検証 ・残留収差:球面収差rms=0.025λ、コマrm
s=0.025λ ・うねりの周期:Tp=1.8mm(位相媒体にあたる
光束に対してうねり約1.65周期分) ・うねりの位相:0から2πまで変化したときのビーム
径変化を見る。
【0160】 結果 図23 (a) ε=0.767 (b) ε=0.623 (c) ε=1.000 図23(a)から図23(c)を見ても分かるようにク
リップレベル4%,6%のビーム径ではサイドローブに
よる影響は受けていない。強度分布変更手段が無い場合
と比較すると、明らかにサイドローブの影響を受けてい
ないことが分かる。又、本実施例の強度分布変更手段は
クリップレベル4%でのビーム径でもサイドローブの影
響を受けず、うねりの位相変化に対してあまり大きなビ
ーム径変動は無いため黒筋が発生しない。
【0161】以上の実施例に示した強度分布変更手段
は、均一光量分布をもつ光束が通過したときに、その光
束を位相分布変化のない所定の振幅分布を有する光束に
変更できるものであれば良く、強度分布変更フィルタあ
るいは光学素子のコート膜で構成することができる。
尚強度分布変更手段がフィルタである場合は、スリット
と一体としてもよい。
【0162】
【発明の効果】請求項1に係わる発明の効果は、黒筋の
発生を防止することができる。
【0163】請求項2に係わる発明の効果は、さらに配
置も容易で光学系も簡単にできる。
【0164】請求項3に係わる発明の効果は、さらに部
品点数を増やさずにすみ、光学配置の自由度が大きい。
【0165】請求項4に係わる発明の効果は、強度分布
変更手段を簡単に作成でき、大量生産しやすい。
【0166】請求項5に係わる発明の効果は、黒筋発生
に対する許容幅が大きくなる。
【0167】このように本発明により、黒筋の発生を防
止することができ、コスト的メリットが大きい走査光学
系が提供されることとなった。
【図面の簡単な説明】
【図1】走査光学系の1例を示す図。
【図2】レンズ面の極微小うねり測定結果を示す図。
【図3】ビームプロファイルと各クリップレベルを示す
図。
【図4】ビームプロファイルのレンズ面のうねりと各ク
リップレベルでの主走査測定値の図。
【図5】ビームプロファイルのレンズ面のうねりと各ク
リップレベルでの副走査測定値の図。
【図6】ビームプロファイルの別のレンズ面のうねりと
各クリップレベルでの主走査測定値の図。
【図7】ビームプロファイルの別のレンズ面のうねりと
各クリップレベルでの副走査測定値の図。
【図8】光学面のうねりがビームプロファイルに与える
影響を解析するモデルの図。
【図9】レーザから発する光がコリメータを介してスリ
ットに到達する図。
【図10】ガウシアン分布とスリットの図。
【図11】正弦関数のうねりを有する位相媒体の図。
【図12】図11のうねりを横にして見た図。
【図13】走査光学系のポリゴンミラーによるビームス
キャンの図。
【図14】図13のビームスキャンによるビームプロフ
ァイルa,b,cの相当図。
【図15】各けられ度でのうねりの位相変化(0〜2
π)時のビーム径変化の図。
【図16】強度分布変更手段による〜4種の透過率
分布を示す図。
【図17】強度分布変更手段による,2種の透過率
分布を示す図。
【図18】実施例1によるビーム径変化の図。
【図19】実施例2によるビーム径変化の図。
【図20】実施例3によるビーム径変化の図。
【図21】実施例4によるビーム径変化の図。
【図22】実施例5によるビーム径変化の図。
【図23】実施例6によるビーム径変化の図。
【符号の説明】
a うねりの振幅 δ うねりの光軸に対する位相 D スリット幅の半値 L 理想レンズ n 屈折率 P 位相媒体 S スリット Tp うねりのピッチ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源から発する光束が入射光学系を介し
    て偏向器で偏向され、走査光学系を介して被走査媒体に
    結像する光学系において、透過率が光軸周辺ではほぼ1
    番大きく、走査方向に光軸から離れるに従い、透過率が
    小さくなるような強度分布変更手段を入射光学系に備え
    ていることを特徴とする走査光学系。
  2. 【請求項2】 前記強度分布変更手段が強度分布変更フ
    ィルタであることを特徴とする請求項1記載の走査光学
    系。
  3. 【請求項3】 前記強度分布変更手段が入射光学系内の
    光学素子のコート膜であることを特徴とする請求項1記
    載の走査光学系。
  4. 【請求項4】 前記強度分布変更手段の透過率分布は走
    査方向にのみ存在し、副走査方向については透過率分布
    が均一であることを特徴とする請求項1,2又は3記載
    の走査光学系。
  5. 【請求項5】 前記強度分布変更手段に入射する有効光
    束の走査方向の端部に相当する振幅透過率をTmaxと
    して、光軸周辺での振幅透過率をToとすると以下の関
    係を満たす強度分布変更手段を設定したことを特徴とす
    る請求項1記載の走査光学系。 Tmax/To≦0.3
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6977781B2 (en) 2002-09-03 2005-12-20 Pentax Corporation Scanning optical system
US6999208B2 (en) 2000-09-22 2006-02-14 Ricoh Company, Ltd. Optical scanner, optical scanning method, scanning image forming optical system, optical scanning lens and image forming apparatus
US7019768B2 (en) 2002-11-28 2006-03-28 Pentax Corporation Scanning optical system
US7042608B2 (en) 2002-09-18 2006-05-09 Pentax Corporation Scanning optical system
WO2007111308A1 (ja) * 2006-03-24 2007-10-04 Fujifilm Corporation インナードラム露光系

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