JPH0974273A - Copper plated laminated board for printed circuit board and adhesive agent used therefor - Google Patents

Copper plated laminated board for printed circuit board and adhesive agent used therefor

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JPH0974273A
JPH0974273A JP16414396A JP16414396A JPH0974273A JP H0974273 A JPH0974273 A JP H0974273A JP 16414396 A JP16414396 A JP 16414396A JP 16414396 A JP16414396 A JP 16414396A JP H0974273 A JPH0974273 A JP H0974273A
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JP
Japan
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adhesive
resin composition
resin
copper
copper foil
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JP16414396A
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Japanese (ja)
Inventor
Ataru Yokono
中 横野
Haruki Yokono
春樹 横野
Masahiro Miama
昌宏 美甘
Ryoichi Narishima
良一 成島
Takuya Iida
拓也 飯田
Yasuhiro Endou
安浩 遠藤
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Nippon Denkai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Denkai Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a copper-plated laminated board where an unroughened foil is used by a method wherein adhesive agent formed of various kinds of prescribed resins is used as adhesive ground represented by a specific formula on a copper foil. SOLUTION: An adhesive ground formed of silane coupling agent represented by a formula I (Q denotes a functional group which reacts with resin composition, R is a coupling group which couples Q with an Si atom, and X, Y, and Z denote a hydrolytic group or a hydroxyl group bonded to Si atom) or thiol coupling agent represented by a formula II (T is aromatic ring or the like, n denotes an integer of two or more) is formed on a copper foil. The copper foil is bonded to a laminated base material with adhesive agent formed of acrylic monomer, diallyl phthalate, peroxide curing resin composition of thermoplastic elastmer which contains ethylene butylene copolymer and styrene copolymer in a molecule, and polyvinyl butyral resin composition possessed of a side chain which contains unsaturated groups through the intermediary of the adhesive ground. The adhesive agent is turned into silanol groups through hydrolysis and reacts on the surface of the copper foil, whereby a copper plated laminated board can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプリント回路用銅張
積層板に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a copper clad laminate for printed circuits.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント回路用銅張積層板の積層基材と
しては、紙にフェノール樹脂を含浸した紙基材フェノー
ル樹脂プリプレグ、ガラス布にエポキシ樹脂組成物を含
浸したガラス布基材エポキシ樹脂プリプレグが一般に用
いられている。
2. Description of the Related Art As a laminated base material for a copper clad laminate for a printed circuit, a paper base phenol resin prepreg in which paper is impregnated with phenol resin and a glass cloth base epoxy resin prepreg in which glass cloth is impregnated with an epoxy resin composition are used. Is commonly used.

【0003】また、ガラス布やアラミド繊維布にポリイ
ミド樹脂やビスマレイミド樹脂、特殊な低誘電率性変性
エポキシ樹脂やフッ素樹脂を含浸したプリプレグ、さら
にはアルミ板等の金属板の表面に絶縁樹脂層を形成した
積層基材も実用に供されている。
Further, a glass cloth or aramid fiber cloth is impregnated with a polyimide resin, a bismaleimide resin, a special low dielectric constant modified epoxy resin or a fluororesin, and further, an insulating resin layer is formed on the surface of a metal plate such as an aluminum plate. The laminated base material on which is formed is also in practical use.

【0004】さらにまた、ポリエステルフィルムやポリ
イミドフィルムも積層基材として用いられ、これらは折
曲げ性が必要なフレキシブルプリント回路板やLSI実
装用TABテープ等の製造に供されている。
Furthermore, polyester films and polyimide films are also used as laminated base materials, and these are used for manufacturing flexible printed circuit boards, TAB tapes for mounting LSI, etc., which are required to be bendable.

【0005】銅張積層板用銅箔と積層基材、または銅張
積層板用銅箔と接着剤との接着力はファンデァワールス
力や水素結合等の二次結合力と、アンカー効果とに由来
するとされている。アンカー効果は、銅箔表面の凹凸構
造に樹脂が機械的に固着する現象で、凹凸が大きいほど
高い接着力が得られる。二次結合力は大きなものではな
く、アンカー効果の寄与が大きいとされている。
The adhesive force between the copper foil for a copper-clad laminate and the laminated base material, or the copper foil for a copper-clad laminate and the adhesive depends on the secondary bonding force such as van der Waals force and hydrogen bond, and the anchor effect. It is said to be derived. The anchor effect is a phenomenon in which the resin mechanically adheres to the uneven structure on the surface of the copper foil, and the larger the unevenness, the higher the adhesive force. It is said that the secondary bonding force is not large and the contribution of the anchor effect is large.

【0006】銅張積層板に用いられる銅箔は主に電解銅
箔である。電解銅箔(未粗化箔)は表面の凹凸が小さく
必要な接着力が得られないので、さらに微小な粒子(粗
化粒子)を凸部に形成する粗化が行われる。
The copper foil used for the copper-clad laminate is mainly an electrolytic copper foil. Since the electrolytic copper foil (unroughened foil) has a small unevenness on the surface and cannot obtain the necessary adhesive force, further roughening is performed to form finer particles (roughened particles) on the convex portions.

【0007】粗化された銅箔(粗化箔)にはクロメート
処理等の防錆を目的とする被覆層、および、プリント回
路板に要求される多様な特性を満足するため、各種合金
からなる被覆層を形成することも行われている。なお、
光沢のある面はシャイニー面(S面)、積層基材と接着
される光沢のない面はマット面(M面)と呼ばれる。
The roughened copper foil (roughened foil) is composed of a coating layer for the purpose of rust prevention such as chromate treatment and various alloys in order to satisfy various characteristics required for a printed circuit board. It is also practiced to form a coating layer. In addition,
The glossy surface is called the shiny surface (S surface), and the non-glossy surface that is bonded to the laminated base material is called the matte surface (M surface).

【0008】一方、圧延銅箔は電解銅箔よりも結晶粒界
が少なく耐折曲げ性に優れるので、主としてフレキシブ
ルプリント回路板用の銅張積層板に使用されている。ま
た、無酸素銅を用いたものは電気特性が優れているので
音響機器に適していると云われ、粗化されたものが少
量、ガラス布基材エポキシ樹脂銅張積層板に用いられて
いる。しかし、圧延銅箔は電解銅箔に比べて表面の凹凸
が小さく、接着力が低いので、銅張積層板の製造に供さ
れる量は電解銅箔に比べて著しく少ない。
On the other hand, the rolled copper foil has less crystal grain boundaries and is more excellent in bending resistance than the electrolytic copper foil, so that it is mainly used for copper clad laminates for flexible printed circuit boards. Also, it is said that the one using oxygen-free copper is suitable for audio equipment because it has excellent electric characteristics, and a small amount of roughened one is used for glass cloth base material epoxy resin copper clad laminate. . However, since the rolled copper foil has smaller unevenness on the surface and lower adhesive strength than the electrolytic copper foil, the amount used for manufacturing the copper clad laminate is significantly smaller than that of the electrolytic copper foil.

【0009】現在、一般に使用されている厚さ18μm
の銅箔で、工業的に実現可能な回路銅箔のピッチは20
0μm,線幅100μm程度である。これは積層基材中
に埋没した凸部と粗化粒子の除去に長時間を要し、エッ
チングが過剰となるためである。一方、電子機器の小型
・軽量化を目的として、導体回路のファインパターン化
が強く望まれている。例えば、TABの分野では40μ
mのピッチが要求されている。
Currently used thickness of 18 μm
With this copper foil, the pitch of circuit copper foil that can be industrially realized is 20
It is 0 μm and the line width is about 100 μm. This is because it takes a long time to remove the convex portions and the roughening particles buried in the laminated base material, and the etching becomes excessive. On the other hand, for the purpose of reducing the size and weight of electronic equipment, it is strongly desired to form a fine conductor circuit pattern. For example, 40μ in the field of TAB
A pitch of m is required.

【0010】そこで、従来に比べて表面粗さの小さな銅
箔が提案され一部で実用化されているが、銅箔と積層基
材との接着力が低いため、一般に採用されるには至って
いない。これは銅箔の凹凸に由来するアンカー効果が減
少するためである。即ち、アンカー効果に基づく従来の
接着技術では、接着力とピッチとは本質的に両立し得な
いものである。
Therefore, a copper foil having a surface roughness smaller than that of the conventional one has been proposed and partly put to practical use, but since the adhesive force between the copper foil and the laminated base material is low, it has been generally adopted. Not in. This is because the anchor effect derived from the unevenness of the copper foil is reduced. That is, the conventional adhesive technique based on the anchor effect is essentially incompatible with the adhesive force and the pitch.

【0011】銅箔と積層基材との接着力は、シランカッ
プリング剤処理により増大することが知られている。例
えば、特公昭60−15654号公報には、クロメート
処理を施した電解銅箔にシランカップリング剤処理を行
うことが述べられている。これによれば、シランカップ
リング剤の加水分解により生じるシラノール基はクロメ
ート処理層表面の水酸基と縮合して化学結合を形成す
る。
It is known that the adhesive force between the copper foil and the laminated base material is increased by the treatment with the silane coupling agent. For example, Japanese Patent Publication No. 60-15654 discloses that a chromate-treated electrolytic copper foil is treated with a silane coupling agent. According to this, the silanol group generated by the hydrolysis of the silane coupling agent is condensed with the hydroxyl group on the surface of the chromate-treated layer to form a chemical bond.

【0012】一方、シランカップリング剤のアミノ基等
の官能基は、積層基材や接着剤と反応して化学結合を形
成する。即ち、シランカップリング剤処理を行うことに
より銅箔と積層基材、接着剤とに間接的に化学結合が形
成され、接着力が増大するとされている。この点につい
て本発明者らの評価結果を表1に示す。
On the other hand, a functional group such as an amino group of the silane coupling agent reacts with the laminated base material and the adhesive to form a chemical bond. That is, it is said that the treatment with the silane coupling agent indirectly forms a chemical bond with the copper foil, the laminated base material, and the adhesive to increase the adhesive force. Table 1 shows the evaluation results of the present inventors in this respect.

【0013】なお、以下、JIS−B−0601に規定
された中心線平均粗さを表面粗さ(Ra)と称する。ま
た、試験方法JIS−C−6481に規定された引剥し
強さは、銅箔を積層基材から引剥すのに要する力で、接
着力の目安である。
The center line average roughness specified in JIS-B-0601 is hereinafter referred to as surface roughness (Ra). Further, the peel strength defined in the test method JIS-C-6481 is the force required to peel the copper foil from the laminated base material and is a measure of the adhesive strength.

【0014】[0014]

【表1】 [Table 1]

【0015】表面粗さの小さい場合には、シランカップ
リング剤処理の効果は殆どないことが分かる。即ち、十
分な接着力を得るためには表面の凹凸が重要なことが明
らかである。
It can be seen that when the surface roughness is small, the silane coupling agent treatment has almost no effect. That is, it is clear that the unevenness of the surface is important for obtaining a sufficient adhesive force.

【0016】化学結合が形成されていると考えらるにも
かかわらず接着力増大の効果が小さいのは、生成された
化学結合の量が十分でないか、接着界面における基材樹
脂の靱性が十分でないことによるものと考える。例え
ば、積層基材に用いられるエポキシ樹脂組成物は、一般
にビスフェノールA型エポキシ樹脂と硬化剤とを部分的
に反応させて得られたBステージと呼ばれる半硬化物
で、シランカップリング剤と反応するエポキシ基の数は
多くない。
The reason why the effect of increasing the adhesive strength is small even though it is considered that the chemical bond is formed is that the amount of the generated chemical bond is insufficient or the toughness of the base resin at the adhesive interface is sufficient. I think it is because it is not. For example, an epoxy resin composition used for a laminated base material is a semi-cured product called B stage which is generally obtained by partially reacting a bisphenol A type epoxy resin and a curing agent, and reacts with a silane coupling agent. The number of epoxy groups is not large.

【0017】また、本発明者らは、積層基材から分離し
たエポキシ樹脂組成物を硬化して作製したフィルムにつ
いて機械特性の測定を試みたが、伸びが殆どなかった。
ブチラール−フェノール樹脂系接着剤についても同様で
あった。即ち、これらの樹脂組成物の硬化物は比較的強
度はあるものの、伸びに欠け、靱性に乏しく、そのため
に、強力な接着力が得られないものと推定される。
Further, the present inventors tried to measure the mechanical properties of a film prepared by curing an epoxy resin composition separated from a laminated base material, but there was almost no elongation.
The same applies to the butyral-phenol resin adhesive. That is, it is presumed that the cured products of these resin compositions have relatively high strength, but lack elongation and poor toughness, and as a result, strong adhesive strength cannot be obtained.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】従来技術による銅箔と
積層基材との接着では、銅箔表面の凹凸が必要不可欠で
あった。このため、従来技術による銅張積層板を用いた
プリント回路板では、 (1) 回路形成のためのエッチングにおいて、積層基
材中に埋没した凸部と粗化粒子の除去に長時間を要し、
エッチングが過剰となるため200μmピッチ以下の微
細化が困難で、ファインパターン化の隘路となる。
In the conventional bonding of the copper foil and the laminated base material, the unevenness of the copper foil surface was indispensable. For this reason, in the printed circuit board using the copper clad laminate according to the related art, (1) it takes a long time to remove the protrusions and the roughening particles buried in the laminate substrate during the etching for forming the circuit. ,
Since etching becomes excessive, it is difficult to miniaturize to a pitch of 200 μm or less, which becomes a bottleneck for fine patterning.

【0019】(2) 電解銅箔表面の凹凸により、高周
波信号ではエネルギー損失や波形の乱れが大きくなる。
(2) Due to the unevenness of the surface of the electrolytic copper foil, the energy loss and the waveform distortion are increased in a high frequency signal.

【0020】(3) 凹凸の小さい圧延銅箔や、電解銅
箔では十分な接着力が得られない。
(3) Sufficient adhesive force cannot be obtained with rolled copper foil having small irregularities or electrolytic copper foil.

【0021】等の問題点があった。There are problems such as the above.

【0022】また、電解銅箔の製造においては、表面の
凹凸の形状制御と粗化粒子の制御技術が発達してきた
が、 (1) 作業マージンが狭隘化し、生産性が低下する。
In the production of electro-deposited copper foil, a technique for controlling the shape of surface irregularities and a technique for controlling roughening particles have been developed, but (1) the work margin is narrowed and the productivity is reduced.

【0023】(2) 凹凸による厚みの不均一が、しわ
発生,カール発生など不良の要因となる。
(2) Non-uniformity of thickness due to unevenness causes defects such as wrinkles and curls.

【0024】(3) 凹凸で表面がざらついているため
異物が付着し易い。
(3) Since the surface is rough due to unevenness, foreign matter is easily attached.

【0025】などの問題点があった。There are problems such as the above.

【0026】本発明者らは以上の技術的背景に鑑み、銅
箔と積層基材との接着技術について鋭意検討を行ってき
た。即ち、前述した問題はいずれも銅箔表面の凹凸に起
因するものであることから、こうした凹凸によらない高
い接着力の発現を検討してきた。凹凸構造を必要としな
い接着方法によれば、従来使用されなかった未粗化銅箔
をプリント回路板用の銅張積層板に供することができ
る。
In view of the above technical background, the present inventors have made extensive studies on the bonding technique between the copper foil and the laminated base material. That is, since all of the above-mentioned problems are caused by the unevenness of the copper foil surface, the development of a high adhesive force not depending on such unevenness has been studied. According to the bonding method that does not require the concavo-convex structure, the unroughened copper foil which has not been used conventionally can be provided to the copper clad laminate for printed circuit boards.

【0027】また、表面粗さの極めて小さな圧延銅箔や
電解銅箔を、銅張積層板に供することが可能となり、過
剰なエッチングを行う必要がなくなりファインパターン
の形成が容易になる。さらに、厚さ9μmや12μmの
極薄銅箔、アルミホイルやポリエステルフィルムを支持
体とする極薄銅箔も使用できる。
Further, a rolled copper foil or an electrolytic copper foil having an extremely small surface roughness can be provided to the copper clad laminate, and it is not necessary to perform excessive etching, and the fine pattern can be easily formed. Further, an ultrathin copper foil having a thickness of 9 μm or 12 μm, or an ultrathin copper foil having an aluminum foil or a polyester film as a support can be used.

【0028】アンカー効果によらずに高い接着力を得る
ためには、銅箔と基材樹脂との間に強力な化学的結合が
必須である。しかるに、シランカップリング剤処理は、
こうした化学結合が形成されていると云われているにも
かかわらず、十分な接着力は得られていない。これは、
実際には化学結合が十分に形成されていないこと、積層
基材や接着剤の強靭さが十分でないことが原因と推定さ
れる。
In order to obtain a high adhesive force without relying on the anchor effect, a strong chemical bond is essential between the copper foil and the base resin. However, the silane coupling agent treatment
Although it is said that such a chemical bond is formed, sufficient adhesive force has not been obtained. this is,
Actually, it is presumed that the chemical bond is not sufficiently formed and the toughness of the laminated base material and the adhesive is not sufficient.

【0029】そこで本発明者らは、機械的強度が大き
く、かつ、伸びの大きな強靱な樹脂を用い、しかもシラ
ンカップリング剤と十分に化学結合を形成させることが
できれば、高い接着力が得られると考えた。
Therefore, the inventors of the present invention can obtain a high adhesive force by using a tough resin having a large mechanical strength and a large elongation and being able to sufficiently form a chemical bond with the silane coupling agent. I thought.

【0030】本発明の目的は、強靭、かつ、反応性に富
む接着剤により、銅箔と積層基材とが強固に接着された
プリント回路用銅張積層板を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a copper clad laminate for a printed circuit, in which a copper foil and a laminate substrate are firmly adhered to each other with a tough and highly reactive adhesive.

【0031】本発明の他の目的は、上記プリント回路用
銅張積層板の銅箔と積層板との接着剤を提供することに
ある。
Another object of the present invention is to provide an adhesive between a copper foil and a laminate of the above copper clad laminate for a printed circuit.

【0032】[0032]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の要旨は次のとおりである。
Means for Solving the Problems The gist of the present invention for solving the above problems is as follows.

【0033】〔1〕 積層基材の片面または両面に銅箔
が積層接着された銅張積層板において、 a.前記銅箔上に一般式〔1〕
[1] A copper-clad laminate in which a copper foil is laminated and adhered to one side or both sides of a laminated base material: a. General formula [1] on the copper foil

【0034】[0034]

【化3】 QRSiXYZ …〔1〕 (但し、式中Qは下記の樹脂組成物と反応する官能基、
RはQとSi原子とを連結する結合基、X,Y,ZはS
i原子に結合する加水分解性の基または水酸基を表す)
で示されるシランカップリング剤、または、一般式
〔2〕
Embedded image QRSiXYZ [1] (wherein Q is a functional group that reacts with the following resin composition,
R is a linking group connecting Q and Si atoms, and X, Y and Z are S
represents a hydrolyzable group or a hydroxyl group bonded to an i atom)
Or a silane coupling agent represented by the general formula [2]

【0035】[0035]

【化4】 T(SH)n …〔2〕 (但し、Tは芳香環,脂肪族環,複素環,脂肪族鎖であ
り、nは2以上の整数)で示されるチオール系カップリ
ング剤よりなる接着性下地を介し、 b.(1)アクリルモノマ、メタクリルモノマ、それら
の重合体またはオレフィンとの共重合体、(2)ジアリ
ルフタレート、エポキシアクリレートまたはエポキシメ
タクリレートおよびそれらのオリゴマの過酸化物硬化性
樹脂組成物、(3)エチレンブチレン共重合体とスチレ
ン共重合体とを分子内に含有する熱可塑性エラストマの
過酸化物硬化性樹脂組成物、(4)グリシジル基を含有
するオレフィン共重合体の樹脂組成物、(5)不飽和基
を含む側鎖を有するポリビニルブチラール樹脂の樹脂組
成物、または、(6)ポリビニルブチラール樹脂とスピ
ロアセタール環を有するアミノ樹脂とエポキシ樹脂の樹
脂組成物、からなる接着剤により積層基材と接着されて
いるか、あるいは前記樹脂組成物の接着剤を兼ねた積層
基材と直接接着されていることを特徴とするプリント回
路用銅張積層板。
Embedded image From a thiol-based coupling agent represented by T (SH) n ... [2] (where T is an aromatic ring, an aliphatic ring, a heterocycle, or an aliphatic chain, and n is an integer of 2 or more) Through an adhesive substrate that is (1) Acrylic monomer, methacrylic monomer, a polymer thereof or a copolymer with an olefin, (2) a diallyl phthalate, an epoxy acrylate or an epoxy methacrylate and a peroxide-curable resin composition of the oligomer thereof, (3) ethylene Peroxide curable resin composition of thermoplastic elastomer containing butylene copolymer and styrene copolymer in the molecule, (4) Resin composition of olefin copolymer containing glycidyl group, (5) Adhesion to a laminated base material with an adhesive composed of a resin composition of polyvinyl butyral resin having a side chain containing a saturated group, or (6) a resin composition of polyvinyl butyral resin, amino resin having spiroacetal ring and epoxy resin Or is directly bonded to the laminated base material that also functions as an adhesive for the resin composition. Printed circuit, characterized in Rukoto copper-clad laminate.

【0036】〔2〕 前記銅箔の接着面にB,Al,
P,Zn,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,
Ag,In,Zr,Sn,Nb,Mo,Ru,Rh,P
d,Pb,Ta,W,Ir,Ptから選ばれる1種以上
の元素を含む金属,合金,酸化物,水酸化物および水和
物から選ばれる被覆層を有する前記〔1〕に記載のプリ
ント回路用銅張積層板。
[2] On the adhesive surface of the copper foil, B, Al,
P, Zn, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni,
Ag, In, Zr, Sn, Nb, Mo, Ru, Rh, P
The print according to the above [1], which has a coating layer selected from metals, alloys, oxides, hydroxides and hydrates containing at least one element selected from d, Pb, Ta, W, Ir and Pt. Copper clad laminate for circuits.

【0037】〔3〕 (1)アクリルモノマ、メタクリ
ルモノマ、それらの重合体またはオレフィンとの共重合
体、(2)ジアリルフタレート、エポキシアクリレート
またはエポキシメタクリレートおよびそれらのオリゴマ
の過酸化物硬化性樹脂組成物、(3)エチレンブチレン
共重合体とスチレン共重合体とを分子内に含有する熱可
塑性エラストマの過酸化物硬化性樹脂組成物、(4)グ
リシジル基を含有するオレフィン共重合体の樹脂組成
物、(5)不飽和基を含む側鎖を有するポリビニルブチ
ラール樹脂の樹脂組成物、または、(6)ポリビニルブ
チラール樹脂とスピロアセタール環を有するアミノ樹脂
とエポキシ樹脂の樹脂組成物、から選ばれる少なくとも
1種からなることを特徴とするプリント回路用銅張積層
板用の接着剤。
[3] (1) Acrylic monomer, methacrylic monomer, polymer thereof or copolymer with olefin, (2) diallyl phthalate, epoxy acrylate or epoxy methacrylate and peroxide curable resin composition of those oligomers. (3) Peroxide curable resin composition of thermoplastic elastomer containing ethylene butylene copolymer and styrene copolymer in the molecule, (4) Resin composition of olefin copolymer containing glycidyl group Or (5) a resin composition of a polyvinyl butyral resin having a side chain containing an unsaturated group, or (6) a resin composition of a polyvinyl butyral resin, an amino resin having a spiroacetal ring, and an epoxy resin. An adhesive for a copper clad laminate for a printed circuit, which is composed of one kind.

【0038】〔4〕 前記不飽和基を含む側鎖を有する
ポリビニルブチラール樹脂が、(1)不飽和アルデヒド
とポリビニルアルコールの縮合生成物、(2)不飽和基
を含むイソシアネート化合物とポリビニルアルコールと
の縮合生成物、または、(3)水酸基を含む液状ポリブ
タジエンとイソシアネート化合物とポリビニルアルコー
ルの縮合生成物、である前記〔3〕に記載のプリント回
路用銅張積層板用の接着剤。
[4] The polyvinyl butyral resin having a side chain containing an unsaturated group comprises (1) a condensation product of an unsaturated aldehyde and polyvinyl alcohol, and (2) an isocyanate compound containing an unsaturated group and polyvinyl alcohol. The adhesive for a copper clad laminate for a printed circuit according to the above [3], which is a condensation product or (3) a condensation product of a hydroxyl group-containing liquid polybutadiene, an isocyanate compound and polyvinyl alcohol.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】本発明に使用される銅箔の厚さと
しては、3〜500μmが望ましい。好ましくは、5〜
150μmがよい。銅箔の種類は粗化箔、未粗化箔のい
ずれでもよく、また、接着される面はS面でもM面でも
よい。また、圧延銅箔も粗化品、未粗化品共に使用でき
る。いずれを用いても銅箔と積層基材とが強固に接着し
た銅張積層板を得ることができるので、銅箔選択の自由
度が大きい。
The thickness of the copper foil used in the present invention is preferably 3 to 500 μm. Preferably 5 to
150 μm is preferable. The type of copper foil may be roughened foil or unroughened foil, and the surface to be bonded may be the S surface or the M surface. Further, the rolled copper foil can be used as both a roughened product and a non-roughened product. Since any of them can be used to obtain a copper-clad laminate in which the copper foil and the laminated base material are firmly adhered to each other, the degree of freedom in selecting the copper foil is large.

【0040】しかし、本発明が最もその効果を発揮する
のは、従来、実用に供されていない未粗化箔への適用で
ある。未粗化箔の表面粗さは、S面では0.10〜0.3
5μm、M面では0.10〜2.00μmである。また、
圧延銅箔では両面とも0.10〜0.15μmである。な
お、高周波回路に使用するプリント回路板には、表面粗
さが0.35μm以下、好ましくは0.20μm以下のも
のが求められている。
However, the most effective effect of the present invention is application to an unroughened foil which has not been put to practical use in the past. The surface roughness of the unroughened foil is 0.10 to 0.3 on the S side.
It is 5 μm, and is 0.10 to 2.00 μm on the M plane. Also,
Both sides of the rolled copper foil are 0.10 to 0.15 μm. A printed circuit board used for a high frequency circuit is required to have a surface roughness of 0.35 μm or less, preferably 0.20 μm or less.

【0041】前記銅箔の接着面に、B,Al,P,Z
n,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Ag,
In,Zr,Sn,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,P
b,Ta,W,Ir,Ptから選ばれる1種以上の元素
を含む被覆層を形成することができる。上記の被覆層
は、上記の金属またはそれらの合金、あるいは、酸化
物、水酸化物および水和物を含んでいてもよい。また、
上記の被覆層は2層以上からなる複合層でもよい。
On the adhesive surface of the copper foil, B, Al, P, Z
n, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Ag,
In, Zr, Sn, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, P
A coating layer containing one or more elements selected from b, Ta, W, Ir and Pt can be formed. The above-mentioned coating layer may contain the above-mentioned metals or their alloys, or oxides, hydroxides and hydrates. Also,
The coating layer may be a composite layer composed of two or more layers.

【0042】上記被覆層を構成する合金としては、例え
ば、Cu−Zn,Ni−Zn,Ni−Sn,Ni−C
u,Pd−P,Ni−P、Zn−Mo、Ni−Co−M
o、Sn−Zn、Zn−W、Zn−Cr、Cr−Mo、
Co−Mo、In−Zn等の金属元素の組み合わせから
なる各種合金がある。
As the alloy forming the coating layer, for example, Cu--Zn, Ni--Zn, Ni--Sn, Ni--C are used.
u, Pd-P, Ni-P, Zn-Mo, Ni-Co-M
o, Sn-Zn, Zn-W, Zn-Cr, Cr-Mo,
There are various alloys composed of combinations of metal elements such as Co-Mo and In-Zn.

【0043】なお、Cuを含む合金の場合のCu含有率
は1〜95重量%、好ましくは60〜95重量%がよ
い。また、Niを含む合金の場合はNi含有率が1〜9
5重量%、好ましくは60〜95重量%がよい。
In the case of an alloy containing Cu, the Cu content is 1 to 95% by weight, preferably 60 to 95% by weight. In the case of an alloy containing Ni, the Ni content is 1 to 9
5% by weight, preferably 60 to 95% by weight.

【0044】また、高周波回路に用いる銅箔では、被覆
層を構成する金属は非磁性金属が好ましく、例えば、P
d、または、PdとPd以外の元素(例えば、P)との
合金でPd含有率が1〜99重量%、好ましくは60〜
95重量%がよい。更にまた、合金層として複合金属層
が用いられるが、その場合の下地側がPd−P合金、表
面側がCu−Zn合金であることが好ましい。
In the copper foil used for the high frequency circuit, the metal forming the coating layer is preferably a non-magnetic metal, for example, P
d, or an alloy of Pd and an element other than Pd (for example, P), having a Pd content of 1 to 99% by weight, preferably 60 to
95% by weight is preferred. Furthermore, a composite metal layer is used as the alloy layer, and in this case, it is preferable that the base side is a Pd-P alloy and the surface side is a Cu-Zn alloy.

【0045】また、特公昭60−15654号公報に示
されるクロメート処理により、Crの酸化物、水酸化
物、水和物からなる被覆層を形成してもよい。
A coating layer made of Cr oxide, hydroxide or hydrate may be formed by the chromate treatment disclosed in JP-B-60-15654.

【0046】銅箔の表面に形成するこれら被覆層の厚さ
は5μm以下、好ましくは0.01〜5μmがよい。こ
れらは電気めっき、化学めっき、蒸着めっき、スパッタ
リング、浸漬処理等により形成できる。
The thickness of these coating layers formed on the surface of the copper foil is 5 μm or less, preferably 0.01 to 5 μm. These can be formed by electroplating, chemical plating, vapor deposition plating, sputtering, immersion treatment, or the like.

【0047】発明者らは、前記一般式〔1〕で示される
シランカップリング剤、または、一般式〔2〕で示され
るチオール系カップリング剤が、銅箔および本発明の接
着剤として用いる樹脂組成物の双方と強固な結合を形成
して、上記銅箔と接着層とが強固に接着していることを
見出した。
The inventors have used the silane coupling agent represented by the general formula [1] or the thiol-based coupling agent represented by the general formula [2] as a resin used as the copper foil and the adhesive of the present invention. It was found that a strong bond was formed with both of the compositions, and the copper foil and the adhesive layer were firmly bonded.

【0048】即ち、シランカップリング剤においてはメ
トキシ基、エトキシ基等の加水分解性の基が、加水分解
によりシラノール基(Si−OH)となり、これが銅箔
表面と反応して強固な結合を形成していること、官能基
Qが接着剤である樹脂組成物と結合していることであ
る。なお、グリシジル基を含有するオレフィン共重合体
においては、シランカップリング剤と直接に結合を形成
するが、グリシジル基を含まないその他の樹脂組成物、
即ち、過酸化物硬化性の樹脂組成物においては、過酸化
物の熱分解により生成したラジカルの作用により、樹脂
組成物とシランカップリング剤のとの間で結合が形成す
るものである。
That is, in the silane coupling agent, a hydrolyzable group such as a methoxy group and an ethoxy group becomes a silanol group (Si-OH) by hydrolysis, and this reacts with the surface of the copper foil to form a strong bond. That is, the functional group Q is bonded to the resin composition which is an adhesive. Incidentally, in the olefin copolymer containing a glycidyl group, although forming a bond directly with the silane coupling agent, other resin composition containing no glycidyl group,
That is, in the peroxide-curable resin composition, a bond is formed between the resin composition and the silane coupling agent by the action of radicals generated by thermal decomposition of the peroxide.

【0049】また、チオール系カップリング剤において
はチオール基が銅箔および本発明の樹脂組成物と同様に
強固に結合する。
Further, in the thiol-based coupling agent, the thiol group is firmly bonded like the copper foil and the resin composition of the present invention.

【0050】一般式〔1〕で示されるシランカップリン
グ剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、β−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエ
チル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシ
シラン等があり、これらの1種以上を用いることができ
る。
Examples of the silane coupling agent represented by the general formula [1] include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, β- (3,4).
-Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, N-β- ( Aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane,
N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane,
There are N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and the like. Can be used.

【0051】なお、シランカップリング剤において、官
能基Qとケイ素原子とを結合する結合基Rの大きさと化
学構造は、接着力にほとんど影響しないが、Rの炭素数
は2〜30が好ましい。シランカップリング剤は溶解性
をはじめ作業性,接着剤との反応性等により選択され
る。
In the silane coupling agent, the size and chemical structure of the bonding group R for bonding the functional group Q and the silicon atom have little influence on the adhesive force, but the carbon number of R is preferably 2-30. The silane coupling agent is selected based on the solubility, workability, reactivity with the adhesive, etc.

【0052】また、この他シランカップリング剤プライ
マとして市販されているものを用いることもできる。こ
のようなものには、X−12−413、X−12−41
4(信越化学工業)、AP−133、Y−5106、Y
−5254、APZ−6601(日本ユニカー)等があ
る。
In addition, a commercially available silane coupling agent primer may be used. These include X-12-413, X-12-41
4 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AP-133, Y-5106, Y
-5254, APZ-6601 (Nippon Unicar) and the like.

【0053】上記シランカップリング剤またはプライマ
の添加方法には、表面塗布法と内部添加法がある。表面
塗布法では、シランカップリング剤またはプライマを水
または有機溶剤に溶かして銅箔表面に塗布、乾燥(80
〜120℃)する。なお、上記シランカップリング剤ま
たはプライマの添加量は、水または有機溶剤に対し0.
01〜5重量%使用するのが好ましい。
The method of adding the silane coupling agent or the primer includes a surface coating method and an internal addition method. In the surface coating method, a silane coupling agent or a primer is dissolved in water or an organic solvent and coated on the copper foil surface and dried (80
~ 120 ° C). The amount of the silane coupling agent or primer added was 0. 0 with respect to water or an organic solvent.
It is preferred to use from 01 to 5% by weight.

【0054】内部添加法ではシランカップリング剤また
はプライマを接着剤に添加混合する。この方法では、樹
脂に対し1〜5重量%の添加が好ましい。
In the internal addition method, a silane coupling agent or a primer is added to and mixed with the adhesive. In this method, it is preferable to add 1 to 5% by weight to the resin.

【0055】また、一般式〔2〕で示されるチオール系
カップリング剤は、二個以上のチオール基を分子内に有
する化合物であり、チオール基の他、過酸化物硬化性樹
脂と結合を形成する官能基を有していてもよい。
The thiol-based coupling agent represented by the general formula [2] is a compound having two or more thiol groups in the molecule and forms a bond with a peroxide curable resin in addition to the thiol groups. It may have a functional group.

【0056】反応性の点から、チオール基がトリアジン
環に直接結合した構造を有するものが好ましい。即ち、
脂肪族炭化水素に結合するチオール基は反応性に富むた
め、保存安定性に問題がある。また、芳香環においては
複数のチオール基を導入することが難しく、著しく高価
なものとなる。
From the viewpoint of reactivity, those having a structure in which a thiol group is directly bonded to a triazine ring are preferable. That is,
Since the thiol group bonded to the aliphatic hydrocarbon is highly reactive, there is a problem in storage stability. In addition, it is difficult to introduce a plurality of thiol groups into the aromatic ring, which is extremely expensive.

【0057】このようなチオール系カップリング剤とし
ては、例えば、2,4,6−トリメルカプト−1,3,5−
トリアジン、2,4−ジメルカプト−6−メチルアミノ
−1,3,5−トリアジン、2,4−ジメルカプト−6−
エチルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジメル
カプト−6−プロピルアミノ−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジメルカプト−6−イソプロピルアミノ−1,
3,5−トリアジン、2,4−ジメルカプト−6−ブチル
アミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジメルカプト
−6−イソブチルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,
4−ジメルカプト−6−ジメチルアミノ−1,3,5−ト
リアジン、2,4−ジメルカプト−6−ジエチルアミノ
−1,3,5−トリアジン、2,4−ジメルカプト−6−
ジプロピルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ
メルカプト−6−ジイソプロピルアミノ−1,3,5−ト
リアジン、2,4−ジメルカプト−6−ジブチルアミノ
−1,3,5−トリアジン、2,4−ジメルカプト−6−
アリルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジメル
カプト−6−フェニルアミノ−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジメルカプト−6−p−トリルアミノ−1,3,
5−トリアジン、N,N'−ビス(2,4−ジメルカプト−
1,3,5−トリアジニル)エチレンジアミン、2,4−ジ
メルカプト−6−ヒドロキシエチルアミノ−1,3,5−
トリアジン、2,4−ジメルカプト−6−ビス(ヒドロキ
シエチル)アミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジメ
ルカプト−6−アクリルアミノ−1,3,5−トリアジン
等がある。
Examples of such thiol coupling agents include, for example, 2,4,6-trimercapto-1,3,5-
Triazine, 2,4-dimercapto-6-methylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-
Ethylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-propylamino-1,3,5-triazine,
2,4-dimercapto-6-isopropylamino-1,
3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-butylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-isobutylamino-1,3,5-triazine, 2,
4-dimercapto-6-dimethylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-diethylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-
Dipropylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-diisopropylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-dibutylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-
Allylamino-1,3,5-triazine, 2,4-dimercapto-6-phenylamino-1,3,5-triazine,
2,4-dimercapto-6-p-tolylamino-1,3,
5-triazine, N, N'-bis (2,4-dimercapto-
1,3,5-triazinyl) ethylenediamine, 2,4-dimercapto-6-hydroxyethylamino-1,3,5-
Examples include triazine, 2,4-dimercapto-6-bis (hydroxyethyl) amino-1,3,5-triazine and 2,4-dimercapto-6-acrylamino-1,3,5-triazine.

【0058】なお、以上の化合物の代わりに、これらの
モノナトリウム塩またはモノカリウム塩等の金属塩を用
いてもよい。これらのチオール系カップリング剤は、シ
ランカップリングと同様に使用される。これらに大きな
優劣はないが、チオール系カップリング剤は金属そのも
の、即ち、銅、または、各種金属、合金による被覆層
に、シランカップリング剤は防錆被覆層として用いられ
るクロメート処理等の金属酸化物、水酸化物、水和物を
含む被覆層との接着に適している。
In place of the above compounds, metal salts such as monosodium salt or monopotassium salt may be used. These thiol coupling agents are used similarly to silane coupling. Although there is no great advantage or inferiority in these, a thiol coupling agent is a metal itself, that is, a coating layer of copper or various metals or alloys, and a silane coupling agent is a metal oxide such as a chromate treatment used as an anticorrosion coating layer. It is suitable for adhesion to coating layers containing oxides, hydroxides and hydrates.

【0059】アクリルモノマ、メタクリルモノマ、それ
らの重合体またはオレフィンとの共重合体のアクリルモ
ノマには、アクリル酸、アクリル酸と一価または多価ア
ルコールとのエステルがある。
The acrylic monomers, methacrylic monomers, polymers thereof or copolymers of them with olefins include acrylic acid and esters of acrylic acid with monohydric or polyhydric alcohols.

【0060】これらの化合物を例示すれば、アクリル
酸、アクリル酸アリル、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アク
リル酸イソブチル、アクリル酸(2−エチルヘキシ
ル)、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、アク
リル酸ジエチレングリコールエトキシレート、アルキル
変性ジペンタエリスリトールのアクリレート、ε−カプ
ロラクトン変性ジペンタエリスリトールのアクリレー
ト、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオ
ペンチルグリコールエステルジアクリレート、ジグリシ
ジルビスフェノールAジアクリレート、ジペンタエリス
リトールモノヒドロキシアクリレート、n−ステアリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、1,4−ブタンジオールジ
アクリレート、2−プロペノイックアシッド[2−
〔1,1−ジメチル−2−(1−オキソ−2−プロペニ
ルオキシ)エチル〕−5−エチル−1,3−ジオキサン
−5−イル]メチルエステル、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ラウリル−トリデシル(混合)アクリ
レート等がある。
Examples of these compounds are acrylic acid, allyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, acrylic acid (2-ethylhexyl), dimethylamino acrylate. Ethyl ester, diethylene glycol ethoxylate acrylate, alkyl modified dipentaerythritol acrylate, ε-caprolactone modified dipentaerythritol acrylate, caprolactone modified tetrahydrofurfuryl acrylate, caprolactone modified hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester diacrylate, diglycidyl bisphenol A Diacrylate, dipentaerythritol monohydroxy acrylate, n-stearyl acrylate, tetrahydr Furfuryl acrylate,
Trimethylolpropane triacrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate diacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 2-propenoic acid [2-
[1,1-Dimethyl-2- (1-oxo-2-propenyloxy) ethyl] -5-ethyl-1,3-dioxan-5-yl] methyl ester, pentaerythritol triacrylate, lauryl-tridecyl (mixed) There are acrylates.

【0061】また、メタクリルモノマにはメタクリル
酸、メタクリル酸と一価または多価アルコールとのエス
テルがある。
Methacrylic monomers include methacrylic acid and esters of methacrylic acid with monohydric or polyhydric alcohols.

【0062】これらの化合物を例示すれば、メタクリル
酸、メタクリル酸アリル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブ
チル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−ブチ
ル、メタクリル酸(2−エチルヘキシル)、メタクリル
酸オクチル、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸ラ
ウリル、メタクリル酸ラウリル−トリデシル、メタクリ
ル酸トリデシル、メタクリル酸セチル−ステアリル、メ
タクリル酸ステアリル、メタクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリデシル、メタ
クリル酸(2−ヒドロキシエチル)、メタクリル酸ジエ
チルアミノエチル、メタクリル酸t−ブチルアミノエチ
ル、メタクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、メタク
リル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸グリシジ
ル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、ジメタクリ
ル酸エチレン、ジメタクリル酸ジエチレングリコール、
ジメタクリル酸トリエチレングリコール、ジメタクリル
酸テトラエチレングリコール、ジメタクリル酸エチレン
グリコール、ジメタクリル酸デカエチレングリコール、
ジメタクリル酸ペンタデカエチレングリコール、ジメタ
クリル酸エチレン、ジメタクリル酸ペンタコンタヘクタ
エチレングリコール、ジメタクリル酸−1,3−ブチレ
ン、メタクリル酸アリル、トリメタクリル酸トリメチロ
ールプロパン、テトラメタクリル酸ペンタエリスリトー
ル、ジメタクリルフタル酸ジエチレングリコール等があ
る。
Examples of these compounds are methacrylic acid, allyl methacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate and methacrylic acid (2-ethylhexyl). ), Octyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, lauryl methacrylate-tridecyl methacrylate, tridecyl methacrylate, cetyl-stearyl methacrylate, stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate,
Benzyl methacrylate, tridecyl methacrylate, methacrylate (2-hydroxyethyl), diethylaminoethyl methacrylate, t-butylaminoethyl methacrylate, methacrylate (2-hydroxypropyl), dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, methacryl Acid tetrahydrofurfuryl, ethylene dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate,
Triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, decaethylene glycol dimethacrylate,
Pentadeca ethylene glycol dimethacrylate, ethylene dimethacrylate, pentacontahector ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene dimethacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dimethacrylate. Examples include methacrylic acid diethylene glycol.

【0063】また、アクリル酸、メタクリル酸と各種ポ
リイソシアネート化合物との反応生成物も好適に用いる
ことができる。また、ポリイソシアネート化合物と多価
アルコール類、多塩基酸との反応生成物をアクリル酸、
メタクリル酸と反応させてもよい。さらにこれらの化合
物を同時に反応させてもよい。これらの反応生成物は一
般にウレタンアクリレートまたはウレタンメタクリレー
トと称されるものであり、原料化合物のモル比により、
粘度、軟化点、硬化物の機械特性を制御できる。
Further, reaction products of acrylic acid or methacrylic acid with various polyisocyanate compounds can also be suitably used. In addition, polyisocyanate compounds and polyhydric alcohols, the reaction product of polybasic acid acrylic acid,
It may be reacted with methacrylic acid. Furthermore, these compounds may be reacted simultaneously. These reaction products are generally called urethane acrylate or urethane methacrylate, and depending on the molar ratio of the raw material compounds,
The viscosity, softening point, and mechanical properties of the cured product can be controlled.

【0064】なお、ポリイソシアネート化合物として
は、トルイレンジイソシアナート、メタンジフェニルイ
ソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート等があ
り、多塩基酸としてはフタル酸、テレフタル酸、イソフ
タル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、しゅう酸、
こはく酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シ
クロヘキサンジカルボン酸、メチルシクロヘキサンジカ
ルボン酸等がある。
As the polyisocyanate compound, there are toluylene diisocyanate, methanediphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, etc., and the polybasic acid is phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid. Acid, oxalic acid,
Examples include succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, and methylcyclohexanedicarboxylic acid.

【0065】ジアリルフタレートには、テレフタル酸ジ
アリル、イソフタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリ
ル、トリアリルトリメリテート等があり、これらはいず
れも、重合反応を比較的低分子量に止めておき、オリゴ
マとして用いることができる。
The diallyl phthalates include diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, triallyl trimellitate, etc., all of which are used as oligomers by stopping the polymerization reaction at a relatively low molecular weight. You can

【0066】エポキシアクリレートまたはエポキシメタ
クリレートとしては、分子内に2個以上のエポキシ基を
含む各種エポキシ化合物と、アクリル酸またはメタクリ
ル酸との反応物があり、各種エポキシ化合物にはビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジ
グリシジルエーテルとビスフェノールAとからなり、分
子の両端にエポキシ基を有するオリゴマがあげられる。
As the epoxy acrylate or epoxy methacrylate, there are reaction products of various epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule with acrylic acid or methacrylic acid, and various epoxy compounds include bisphenol A diglycidyl ether, An oligomer which is composed of bisphenol A diglycidyl ether and bisphenol A and has epoxy groups at both ends of the molecule can be mentioned.

【0067】以上のモノマ、オリゴマ、重合体、共重合
体はいずれも単独で用いる他、混合して用いることがで
きる。さらに、ポリビニルブチラール、ポリオレフィ
ン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリ
ロニトリル共重合体、PPO樹脂、アリル変性PPO樹
脂等の各種樹脂を混合してもよい。
The above-mentioned monomers, oligomers, polymers and copolymers can be used alone or in combination. Further, various resins such as polyvinyl butyral, polyolefin, styrene-butadiene copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, PPO resin, and allyl-modified PPO resin may be mixed.

【0068】また、グリシジル基を含有するオレフィン
共重合体には、フェノールノボラック樹脂を添加するこ
とができる。但し、過酸化物を用いる場合には過酸化物
の効果を阻害するので好ましくない。特に、樹脂組成物
の軟化点が低く、樹脂組成物を塗布した銅箔の取扱い性
に支障がある場合にはこの方法が推奨される。また、塗
布後に加熱硬化、紫外線硬化等の方法により、樹脂組成
物の軟化点を向上させて取扱い性を改良することもでき
る。
A phenol novolac resin can be added to the olefin copolymer containing a glycidyl group. However, it is not preferable to use a peroxide because the effect of the peroxide is hindered. In particular, this method is recommended when the softening point of the resin composition is low and the handleability of the copper foil coated with the resin composition is impaired. In addition, it is also possible to improve the softening point of the resin composition and improve the handleability by a method such as heat curing or ultraviolet curing after coating.

【0069】エチレンブチレン共重合体とスチレン共重
合体は、スチレンとジエン類とのブロック共重合体に残
存する二重結合を水素添加して製造される。用いられる
ジエンとしてはイソプレン、ブタジエン、ピペリレン、
シクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン、シクロ
ヘキサジエン、ノルボルナジエン等がある。
The ethylene butylene copolymer and the styrene copolymer are produced by hydrogenating the double bond remaining in the block copolymer of styrene and dienes. The diene used is isoprene, butadiene, piperylene,
Examples include cyclopentadiene, ethylidene norbornene, cyclohexadiene, norbornadiene.

【0070】これらの樹脂を用いることにより、粘度が
低くそのままでは塗布しがたい樹脂組成物に適当な粘度
を与え、塗工作業が容易になるだけでなく、形成された
塗膜が強靱なものとなり、銅張積層板の特性を向上させ
る。
By using these resins, not only a resin composition having a low viscosity which is difficult to be applied as it is and an appropriate viscosity is provided, the coating operation is facilitated, and the formed coating film is tough. And improve the properties of the copper clad laminate.

【0071】特に、基材として紙基材フェノール樹脂を
用いる場合には、ポリビニルアセタール樹脂を混合して
用いるのがよい。ポリビニルアセタール樹脂はポリビニ
ルアルコールとアセトアルデヒドやブチルアルデヒド等
のアルデヒド類とのアセタール化反応により得られる樹
脂で機械的強度に優れ、フェノール樹脂やエポキシ樹脂
と組合せた樹脂組成物が紙基材フェノール樹脂を用いた
銅張積層板の接着剤として一般に用いられている。
In particular, when a paper base phenol resin is used as the base material, it is preferable to use a polyvinyl acetal resin as a mixture. Polyvinyl acetal resin is a resin obtained by acetalization reaction of polyvinyl alcohol with aldehydes such as acetaldehyde and butyraldehyde, and has excellent mechanical strength. The resin composition combined with phenol resin or epoxy resin uses paper-based phenol resin. It is commonly used as an adhesive for copper clad laminates.

【0072】本発明で用いるポリビニルアセタール樹脂
は、アルデヒドとしてアセトアルデヒドやブチルアルデ
ヒド等の飽和アルデヒドを用いたものの他、クロトンア
ルデヒド等の不飽和アルデヒドを用いて、側鎖に不飽和
結合を有するものも好適に用いられる。
The polyvinyl acetal resin used in the present invention is not limited to one using a saturated aldehyde such as acetaldehyde or butyraldehyde as an aldehyde, and one using an unsaturated aldehyde such as crotonaldehyde and having an unsaturated bond in its side chain is also preferable. Used for.

【0073】不飽和結合を有するポリビニルアセタール
樹脂においては、飽和のものに比べてモノマ類との反応
性が高く、得られる硬化物が、より均一に架橋されたも
のとなるので、耐熱性が向上する。
In the polyvinyl acetal resin having an unsaturated bond, the reactivity with the monomers is higher than that of the saturated one, and the obtained cured product is more uniformly crosslinked, so that the heat resistance is improved. To do.

【0074】また、イソシアネートエチルメタクリレー
ト等の、分子内に水酸基と反応し易い官能基と反応性に
富む不飽和結合を有する化合物を、ポリビニルアセター
ル樹脂と反応させることにより不飽和基を導入したも
の、末端水酸基型液状ポリブタジエンとジイソシアネー
ト化合物との反応により得られる末端イソシアネート型
液状ポリブタジエンとポリビニルアセタール樹脂とを反
応させて用いてもよい。
A compound having an unsaturated group introduced by reacting a polyvinyl acetal resin with a compound having a highly reactive unsaturated bond in the molecule such as isocyanate ethyl methacrylate and the like, The terminal isocyanate type liquid polybutadiene obtained by the reaction of the terminal hydroxyl group type liquid polybutadiene and the diisocyanate compound may be used by reacting with the polyvinyl acetal resin.

【0075】このような末端イソシアネート型液状ポリ
ブタジエンには、出光石油化学社のpoly bd H
TP−9がある。なお、ポリビニルアセタール樹脂は単
独では硬化せず、硬化剤を用いるのが一般的である。
Such a terminal isocyanate type liquid polybutadiene includes poly bd H produced by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.
There is TP-9. Incidentally, the polyvinyl acetal resin does not cure by itself, and it is common to use a curing agent.

【0076】上記の従来の銅張積層板において、フェノ
ール樹脂を用いた接着剤では、フェノール樹脂のメチロ
ール基がポリビニルアセタール樹脂の残存水酸基と容易
に反応して架橋反応が進行し、ポリビニルアセタール樹
脂とフェノール樹脂とが一体化した強靱な硬化物を与え
るので、高温での信頼性の問題は少ない。
In the above conventional copper-clad laminate, in the adhesive using a phenolic resin, the methylol group of the phenolic resin easily reacts with the residual hydroxyl group of the polyvinyl acetal resin to cause a cross-linking reaction, so that the polyvinyl acetal resin Since it gives a tough cured product that is integrated with the phenol resin, there are few reliability problems at high temperatures.

【0077】しかしながら、フェノール樹脂が炭化し易
く耐トラッキング性に問題があるので、耐トラッキング
性の要求される用途においては、フェノール樹脂の代わ
りにエポキシ樹脂を用いているが、エポキシ樹脂とポリ
ビニルアセタール樹脂との間での反応は期待できないの
で、メラミン樹脂を加えることが行われている。但し、
メラミン樹脂はフェノール樹脂に比べて耐トラッキング
性の低下は少ないものの好ましいものではない。
However, since the phenol resin is easily carbonized and has a problem in tracking resistance, an epoxy resin is used in place of the phenol resin in applications requiring tracking resistance. However, the epoxy resin and the polyvinyl acetal resin are used. Since no reaction between the and can be expected, melamine resin is added. However,
Although the melamine resin has less deterioration in tracking resistance than the phenol resin, it is not preferable.

【0078】しかし、メチロール基によるポリビニルア
セタール樹脂の架橋反応により、高温時の特性向上が期
待できるので、メラミン樹脂の添加は有益である。
However, the addition of the melamine resin is beneficial because it is expected that the properties at high temperature will be improved by the crosslinking reaction of the polyvinyl acetal resin with the methylol group.

【0079】メラミン樹脂と類似の化合物であるCTU
−グアナミン樹脂は、分子内にスピロアセタール環を有
するアミノ樹脂であり、メラミン樹脂に比べて耐トラッ
キング性の低下が少なく、他の特性も低下させないので
好適に使用できる。但し、その使用量はポリビニルアセ
タール樹脂に対して固形分換算で2割以下が好ましい。
添加量が多いと、接着剤の銅箔への塗工工程で過剰な架
橋反応が進行し、基材への接着性を低下させるし、ま
た、耐トラッキング性も低下する。
CTU, a compound similar to melamine resin
The guanamine resin is an amino resin having a spiroacetal ring in the molecule, has less deterioration in tracking resistance than the melamine resin, and does not deteriorate other properties, and therefore can be preferably used. However, the amount used is preferably 20% or less in terms of solid content with respect to the polyvinyl acetal resin.
When the amount of addition is large, an excessive crosslinking reaction proceeds in the step of applying the adhesive to the copper foil, which lowers the adhesiveness to the base material and also lowers the tracking resistance.

【0080】本発明の過酸化物硬化性樹脂組成物に用い
る過酸化物としては、プレス温度で熱分解によりラジカ
ルを発生する有機化合物を用いる。発生したラジカルに
より分子間が架橋され、三次元化することにより不溶不
融の硬化物となる。好ましい過酸化物は、1分間でその
半量が分解する温度(1分間半減温度)が150〜18
0℃のもの等であり、例えば、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチ
ル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン、ベン
ゾイルペルオキシド、2,4−ジクロルジベンゾイルペル
オキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、1,1−ビ
ス−t−ブチルペルオキシ−3,3,5−トリメチルシク
ロヘキサン、n−ブチル−4,4'−ビス−t−ブチルペ
ルオキシバレレート、ジ−(t−ブチルペルオキシ)−m
−ジ−イソプロピルベンゼン等があり、過酸化物硬化性
樹脂100重量部に対して、1〜5重量部加えればよ
い。
As the peroxide used in the peroxide-curable resin composition of the present invention, an organic compound that generates radicals by thermal decomposition at the pressing temperature is used. The generated radicals crosslink between the molecules, and become a three-dimensionalized insoluble and infusible cured product. A preferable peroxide has a temperature at which half of the peroxide decomposes in 1 minute (half-minute temperature for 1 minute) of 150 to 18
0 ° C., for example, 2,5-dimethyl-2,5
-Di (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorodibenzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, 1,1 -Bis-t-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane, n-butyl-4,4'-bis-t-butylperoxyvalerate, di- (t-butylperoxy) -m
There is di-isopropylbenzene or the like, and 1 to 5 parts by weight may be added to 100 parts by weight of the peroxide curable resin.

【0081】また、グリシジル基を含有するオレフィン
共重合体としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル
酸グリシジル等のグリシジル基を含有するビニル化合物
と、エチレン、プロピレン、ブテン等の各種オレフィン
との共重合体がある。また、この他にスチレン、α−メ
チルスチレン、酢酸ビニル、各種アクリルモノマー、各
種メタクリルモノマー等を共重合させてもよい。
As the glycidyl group-containing olefin copolymer, a copolymer of a glycidyl group-containing vinyl compound such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate and various olefins such as ethylene, propylene and butene can be used. is there. In addition to these, styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, various acrylic monomers, various methacrylic monomers and the like may be copolymerized.

【0082】また、不飽和結合を主鎖または側鎖に有す
る化合物を、空気または過酸化物により酸化してエポキ
シ基を導入したものでもよい。グリシジル基を含有する
オレフィン共重合体では過酸化物を添加しなくてもよい
が、過酸化物の添加により特性が向上する。
Further, a compound having an unsaturated bond in the main chain or side chain may be oxidized with air or peroxide to introduce an epoxy group. In the olefin copolymer containing a glycidyl group, it is not necessary to add a peroxide, but the addition of the peroxide improves the characteristics.

【0083】以上の樹脂組成物は単独でも、組合わせて
も使用でき、さらにまた、各種モノマも添加し使用でき
る。例えば、N,N'−m−フェニレンビスイミド等の各
種マレイミド化合物、トリアリルイソシアヌレート、ト
リメタアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレー
ト、トリアクリルホルマール、トリスエポキシプロピル
イソシアヌレート、N,N'−メチレンビスアクリルアミ
ド、N,N'−m−フェニレンビスアクリルアミド、N−
メチロールアクリルアミド等が挙げられる。
The above resin compositions may be used alone or in combination, and various monomers may be added and used. For example, various maleimide compounds such as N, N'-m-phenylenebisimide, triallyl isocyanurate, trimetaallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, triacryl formal, trisepoxypropyl isocyanurate, N, N'-methylene. Bisacrylamide, N, N'-m-phenylenebisacrylamide, N-
Methylol acrylamide etc. are mentioned.

【0084】また、液状ポリブタジエン等の各種液状ゴ
ムを添加することができる。これらの配合量は、主体と
なる上記化合物100重量部に対して0.1〜50重量
部である。特に、エチレンブチレン共重合体とスチレン
共重合体など不飽和結合を分子内に含まない場合には、
過酸化物により容易に硬化するが、同様に適切な不飽和
結合を有するモノマ、オリゴマ、ポリマを添加すること
ができる。
Further, various liquid rubbers such as liquid polybutadiene can be added. The blending amount of these is 0.1 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main compound. Especially when the unsaturated bond such as ethylene butylene copolymer and styrene copolymer is not contained in the molecule,
Monomers, oligomers and polymers, which cure easily with peroxides but also have suitable unsaturated bonds, can be added.

【0085】本発明の各種樹脂組成物を溶解する溶剤と
しては、一般的な塗料ワニスに用いられる各種の有機溶
剤が好適に用いられ、トルエン、キシレン等の各種芳香
族化合物、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等の各種ケトン類、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール等の各種アル
コール類、酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の各種セロ
ソルブ類等があり、溶解性と乾燥性から選択される。
As the solvent for dissolving the various resin compositions of the present invention, various organic solvents used in general paint varnishes are preferably used, and various aromatic compounds such as toluene and xylene, acetone, methyl ethyl ketone and methyl are used. There are various ketones such as isobutyl ketone and cyclohexanone, various alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, acetic acid esters such as butyl acetate and amyl acetate, and various cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve. Selected from sex.

【0086】溶解性としては、ワニス中の不揮発分が少
なくとも10重量%であり、100μm以下の塗布によ
り少なくとも厚さ1μm、好ましくは10μm以上の乾
燥塗膜が得られることが望ましい。
With regard to solubility, it is desirable that the nonvolatile content in the varnish is at least 10% by weight, and that a dry coating film having a thickness of at least 1 μm, preferably 10 μm or more can be obtained by applying 100 μm or less.

【0087】また、乾燥性の点からは、乾燥温度が12
0℃以下、乾燥時間10分以内でべたつきのない塗膜が
得られることが望ましい。
From the viewpoint of drying property, the drying temperature is 12
It is desirable to obtain a non-greasy coating film at a temperature of 0 ° C. or less and a drying time of 10 minutes or less.

【0088】本発明の効果を損なわない範囲において、
フィラとしてアルミナ、アタパルジャイト、カオリンク
レー、カーボンブラック、グラファイト、微粉けい酸、
けい酸カルシウム、けい藻士、酸化マグネシウム、酸化
チタン、酸化鉄、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニ
ウム、スレート粉、セリナイト、石英粉、含水シリカ、
溶融シリカ、ボロンナイトライド、炭酸カルシウム、炭
酸マグネシウム、タルク、長石粉、二酸化モリブデン、
バライト、蛭石、ホワイティング、マイカ、ロウ石クレ
ー、石膏等の無機系充填剤、あるいはフェノール樹脂マ
イクロバルン、ポリイミドマイクロバルン、木粉、有機
繊維粉等の有機充填剤を添加することができる。
Within a range that does not impair the effects of the present invention,
As a filler, alumina, attapulgite, kaolin clay, carbon black, graphite, fine silicic acid,
Calcium silicate, diatomite, magnesium oxide, titanium oxide, iron oxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, slate powder, serinite, quartz powder, hydrous silica,
Fused silica, boron nitride, calcium carbonate, magnesium carbonate, talc, feldspar powder, molybdenum dioxide,
An inorganic filler such as barite, vermiculite, whiting, mica, wax clay, gypsum or the like, or an organic filler such as phenol resin micro balun, polyimide micro baln, wood powder or organic fiber powder can be added.

【0089】また、炭素繊維、金属繊維、ウィスカ、ホ
ウ素繊維、ガラス繊維、セラミック繊維、ポリエステル
繊維、ビニロン繊維、ポリアミド繊維を使用することが
できる。これらはフィラメント、フィラメントヤーン、
チョップドファイバ、ステープルファイバ、パルプ、ス
パナイズドヤーン、クロス、不織布等の形態で積層基材
中に配してもよい。
Further, carbon fibers, metal fibers, whiskers, boron fibers, glass fibers, ceramic fibers, polyester fibers, vinylon fibers and polyamide fibers can be used. These are filaments, filament yarns,
It may be arranged in the laminated base material in the form of chopped fiber, staple fiber, pulp, spanned yarn, cloth, non-woven fabric or the like.

【0090】また、各種顔料、石油系のパラフィン系
油、ナフテン系油、芳香族系油等の軟化剤、更に、水酸
化アルミニウム、水和石膏、ほう酸亜鉛、明ばん石、赤
燐粉末、ハロゲン化有機化合物と三酸化アンチモンの混
合物等の難燃剤を添加することができる。
Various pigments, petroleum-based paraffin oils, naphthenic oils, aromatic oils and other softening agents, as well as aluminum hydroxide, hydrated gypsum, zinc borate, alumite, red phosphorus powder, halogens. A flame retardant such as a mixture of a fluorinated organic compound and antimony trioxide can be added.

【0091】本発明の銅張積層板は、シランカップリン
グ剤やチオール系カップリング剤により形成された銅箔
の接着性下地の表面に、接着剤により積層基材が接着さ
れているか、または、接着剤を兼ねた積層基材が接着さ
れている構造を有するものであれば、その層構成は特に
限定しない。
In the copper clad laminate of the present invention, the laminate base is adhered to the surface of the adhesive base of the copper foil formed of the silane coupling agent or the thiol coupling agent by an adhesive, or The layer structure is not particularly limited as long as it has a structure in which a laminated base material that also serves as an adhesive is adhered.

【0092】また、絶縁基板中に導体回路が形成されて
いてもよい。この導体回路は本発明で使用される銅箔か
ら形成されたものでも、従来の方法による導体回路であ
ってもよい。
Further, a conductor circuit may be formed in the insulating substrate. This conductor circuit may be formed from the copper foil used in the present invention or may be a conductor circuit manufactured by a conventional method.

【0093】更にまた、銅張積層板にはステンレス箔、
アルミニウム箔、ニッケル箔等の抵抗層が設けられてい
てもよく、上記抵抗層は本発明で用いられる接着方式を
用いて絶縁層に積層接着されたものであってもよい。
Furthermore, a stainless steel foil is used for the copper clad laminate,
A resistance layer such as an aluminum foil or a nickel foil may be provided, and the resistance layer may be laminated and adhered to the insulating layer by using the adhesion method used in the present invention.

【0094】その他、シリコン基板、ガリウム系基板、
ガラス基板、セラミック基板、ベリリヤ、黒鉛、ボロン
ナイトライド、紙類等からなる絶縁基板、または、鉄板
(けい素鋼板、ステンレス板)、アルミニウム板、チタ
ン板等の金属基板も絶縁層を形成して使用できる。
In addition, a silicon substrate, a gallium substrate,
An insulating substrate made of glass substrate, ceramic substrate, beryllia, graphite, boron nitride, paper, etc., or metal substrate such as iron plate (silicon steel plate, stainless steel plate), aluminum plate, titanium plate, etc. also forms an insulating layer. Can be used.

【0095】前記の積層接着の条件は、通常、100〜
250℃、1〜30MPa、5〜90分間の条件から選
択するのがよいが、これに限定されるものではない。
The above-mentioned conditions for lamination adhesion are usually 100 to 100.
It is preferable to select from conditions of 250 ° C., 1 to 30 MPa, and 5 to 90 minutes, but it is not limited thereto.

【0096】本発明で接着剤として用いる樹脂は、機械
的強度が大きく、かつ、伸びの大きな強靱な樹脂であ
り、外力による変形に追従し得る接着界面が実現された
結果、接着力が得られるのである。
The resin used as the adhesive in the present invention is a tough resin having high mechanical strength and large elongation, and as a result of realizing an adhesive interface capable of following deformation by external force, adhesive force is obtained. Of.

【0097】本発明により各種用途のプリント回路用銅
張積層板を提供することができる。
The present invention can provide a copper clad laminate for a printed circuit for various purposes.

【0098】本発明において、銅箔と積層基材とを強固
に接着しているのは、一種類の材料によるのではなく、
銅箔、シランカップリング剤またはチオール系カップリ
ング剤、接着剤を構成する樹脂による相乗効果によるも
のである。
In the present invention, the strong adhesion between the copper foil and the laminated base material is not caused by one kind of material, but by one kind of material.
This is due to the synergistic effect of the resin forming the copper foil, the silane coupling agent or the thiol coupling agent, and the adhesive.

【0099】シランカップリング剤またはチオール系カ
ップリング剤は、銅箔と反応して接着性下地を形成す
る。この下地と接着剤を構成するオレフィン共重合体と
が化学結合を形成することにより接着力が得られる。こ
れによって、未粗化箔や圧延銅箔に対しても強い接着力
を付与することができるので、銅箔の粗化を特に必要と
しない。その結果、製造工程が短縮でき、銅箔製造の歩
留まりも向上できる。
The silane coupling agent or thiol coupling agent reacts with the copper foil to form an adhesive base. Adhesive force is obtained by forming a chemical bond between the base and the olefin copolymer constituting the adhesive. As a result, a strong adhesive force can be imparted to the unroughened foil and the rolled copper foil, so that roughening of the copper foil is not particularly required. As a result, the manufacturing process can be shortened and the yield of copper foil manufacturing can be improved.

【0100】また、従来のようにプリント回路板のエッ
チングによる回路形成時の粗化粒子による銅残りがなく
なり、プリント回路板製造の歩留まり向上に寄与するこ
とができる。
Further, copper residue due to roughening particles at the time of forming a circuit by etching a printed circuit board as in the prior art is eliminated, and it is possible to contribute to an improvement in the yield of printed circuit board production.

【0101】また、接着剤を塗布する場合にも、銅箔の
平滑面上に塗布できるので塗膜の厚さを従来の1/2〜
1/5に低減できる。さらに、銅箔の平滑化に伴い、異
物の付着、製造時のしわやカール等の発生が少なくな
り、使い勝手がよく、高品質の銅箔を提供できる。
Further, even when the adhesive is applied, since it can be applied on the smooth surface of the copper foil, the thickness of the coating film can be reduced to 1/2 of the conventional thickness.
It can be reduced to 1/5. Further, with the smoothing of the copper foil, the adhesion of foreign matter, the generation of wrinkles and curls during manufacturing are reduced, and it is possible to provide a high-quality copper foil that is easy to use.

【0102】プリント回路板のエッチングによる回路形
成における限界線幅は、従来の銅箔の200μmピッチ
に対して、40μmピッチ(18μm厚)も可能で、プ
リント回路板のファインパターン化に大きく寄与でき
る。
The limit line width in the circuit formation by etching the printed circuit board can be 40 μm pitch (18 μm thickness) in comparison with the conventional copper foil 200 μm pitch, which can greatly contribute to the fine patterning of the printed circuit board.

【0103】さらに、本発明における樹脂は、本質的に
絶縁性が優れ、低誘電率であり、耐トラッキング性にも
優れている。特に、表裏共に平滑な面を有する圧延銅箔
を用いた銅張積層板は、高周波信号の波形歪が小さく、
高周波用回路板として優れている。
Further, the resin of the present invention is essentially excellent in insulation, has a low dielectric constant, and is excellent in tracking resistance. In particular, a copper clad laminate using a rolled copper foil having smooth surfaces on both sides has a small waveform distortion of a high frequency signal,
Excellent as a high frequency circuit board.

【0104】[0104]

【実施例】本発明を実施例により更に具体的に説明す
る。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples.

【0105】〔従来例 1〜4〕硫酸銅水溶液の電気分
解により、銅をチタン製回転陰極上に析出させ、厚さ3
5μmの銅箔(未粗化箔)を作製した。次いで、この未
粗化箔のM面に銅の微細な粒子(粗化粒子)を析出させ
る粗化処理を行い、粗化箔を得た。なお、粗化粒子の析
出は、硫酸銅水溶液を限界電流密度以上で電気分解して
行った。
[Conventional Examples 1 to 4] Copper was deposited on a titanium rotating cathode by electrolysis of an aqueous solution of copper sulfate, and a thickness of 3 was obtained.
A 5 μm copper foil (unroughened foil) was produced. Next, a roughening treatment was performed to deposit fine copper particles (roughened particles) on the M surface of the unroughened foil to obtain a roughened foil. The precipitation of the roughened particles was performed by electrolyzing an aqueous solution of copper sulfate at a limiting current density or higher.

【0106】上記の作業は実機を用いて行い、M面の表
面粗さ(Raμm)は未粗化箔が1.0、粗化箔は1.6
であった。
The above work was carried out using an actual machine, and the surface roughness (Ra μm) of the M side was 1.0 for the unroughened foil and 1.6 for the roughened foil.
Met.

【0107】次いで、この粗化箔および未粗化箔にクロ
メート処理を行った。即ち、重クロム酸水溶液中で、処
理面を陽極に向けて電流密度0.15A/dmで4秒間
行った後、水洗、直ちに60℃の熱風で10分間乾燥し
た。また、シランカップリング剤処理は、クロメート処
理した銅箔を乾燥することなく、シランカップリング剤
であるS−330(チッソ石油化学製:γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン)1gを純水llに溶解した溶
液に10秒間浸漬した後、水洗することなく、60℃の
熱風で10分間乾燥した。
Then, the roughened foil and the unroughened foil were subjected to chromate treatment. That is, in a dichromic acid aqueous solution, the treated surface was faced to the anode at a current density of 0.15 A / dm for 4 seconds, washed with water, and immediately dried with hot air at 60 ° C. for 10 minutes. Moreover, the silane coupling agent treatment dissolves 1 g of S-330 (manufactured by Chisso Petrochemical: γ-aminopropyltriethoxysilane) which is a silane coupling agent in pure water 11 without drying the chromate-treated copper foil. After immersing in the above solution for 10 seconds, it was dried with hot air at 60 ° C. for 10 minutes without washing with water.

【0108】以上の工程により作製した銅箔を用いて銅
張積層板を作製した。シランカップリング剤処理を行っ
た未粗化箔(銅箔A)と粗化箔(銅箔B)、シランカッ
プリング剤処理を行わなかった未粗化箔(銅箔C)と粗
化箔(銅箔D)である。銅箔M面にブチラール−フェノ
ール樹脂系接着ワニス(日立化成ポリマー製:VP−6
7)を100μmの厚さに塗布し、室温で1時間乾燥
後、120℃,3分間加熱して用いた。その接着剤被膜
厚さは27μmであった。
A copper clad laminate was produced using the copper foil produced through the above steps. Unroughened foil (copper foil A) and roughened foil (copper foil B) that have been treated with a silane coupling agent, unroughened foil (copper foil C) and roughened foil that have not been treated with a silane coupling agent (copper foil C) It is a copper foil D). Butyral-phenolic resin adhesive varnish on copper foil M surface (Hitachi Kasei Polymer VP-6
7) was applied to a thickness of 100 μm, dried at room temperature for 1 hour, and then heated at 120 ° C. for 3 minutes before use. The adhesive film thickness was 27 μm.

【0109】積層基材に紙基材フェノール樹脂プリプレ
グ(日立化成工業製:437F,厚さ0.2mm)を用
い、積層基材8枚と上記銅箔1枚とを168℃,15M
Paで1時間プレスして一体化し銅張積層板を得た。但
し、銅箔の接着剤塗布面が積層基材に面するように形成
した。
A paper-based phenolic resin prepreg (made by Hitachi Chemical Co., Ltd .: 437F, thickness: 0.2 mm) was used as the laminated base material, and 8 laminated base materials and 1 copper foil were laminated at 168 ° C. and 15 M.
It was pressed at Pa for 1 hour and integrated to obtain a copper clad laminate. However, it was formed so that the adhesive-coated surface of the copper foil faces the laminated base material.

【0110】上記の銅張積層板の引剥し強さをJIS−
C6481に準じて測定した。常態、加熱後(熱風乾燥
機中、180℃、48時間放置)について、引剥し強さ
の測定結果を表2に示す。
The peel strength of the above copper clad laminate was measured according to JIS-
It measured according to C6481. Table 2 shows the measurement results of the peel strength in the normal state and after heating (standing in a hot air dryer at 180 ° C. for 48 hours).

【0111】シランカップリング剤処理を行わなかった
粗化箔(銅箔D)を用いたものの常態の引剥し強さは
2.1kN/mであった。これに対し、未粗化箔(銅箔
C)を用いた場合には1.1kN/mであり、シランカ
ップリング剤を用いても未粗化箔(銅箔A)は1.3k
N/mで、実用できる接着強度のものではなく、粗化が
必要不可欠なことが分かる。
The normal peel strength of the roughened foil (copper foil D) which was not treated with the silane coupling agent was 2.1 kN / m. On the other hand, it is 1.1 kN / m when the unroughened foil (copper foil C) is used, and the unroughened foil (copper foil A) is 1.3 kN even when the silane coupling agent is used.
It can be seen that the adhesive strength is N / m and the adhesive strength is not practical, and roughening is indispensable.

【0112】[0112]

【表2】 [Table 2]

【0113】〔実施例 1〕ウレタン変性アクリルモノ
マであるダイヤビームUK−6038(三菱レイヨン
製)5gと、ポリビニルブチラール樹脂(略称PVB、
デンカ製、品番6000C)5gとを、メチルエチルケ
トンとエタノールとを6/4(重量比)で混合した溶媒
30gに溶解し、過酸化物であるパーブチルP(日本油
脂製)0.05gを添加して接着剤ワニスを作成した。
[Example 1] 5 g of Diabeam UK-6038 (manufactured by Mitsubishi Rayon), which is a urethane-modified acrylic monomer, and polyvinyl butyral resin (abbreviated as PVB,
Denka product number 6000C) 5 g was dissolved in a solvent 30 g in which methyl ethyl ketone and ethanol were mixed at a ratio of 6/4 (weight ratio), and peroxide Perbutyl P (manufactured by NOF Corporation) was added in an amount of 0.05 g. An adhesive varnish was created.

【0114】このワニスを前記従来例で用いたブチラー
ル−フェノール樹脂系接着ワニスの代わりに用いて、銅
箔Aに100μmの厚さに塗布し、120℃で10分間
乾燥し、従来例と同様にして銅張積層板を作製した。
Using this varnish instead of the butyral-phenol resin adhesive varnish used in the above-mentioned conventional example, it was applied to copper foil A to a thickness of 100 μm, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and then processed in the same manner as in the conventional example. To produce a copper clad laminate.

【0115】引剥し強さの測定結果を表3に示す。引剥
し強さは常態で2.1kN/m、加熱後で2.0kN/m
と、粗化箔を用いた場合と同等の接着力が得られた。
Table 3 shows the measurement results of the peel strength. Peeling strength is 2.1kN / m in normal condition, 2.0kN / m after heating
Then, an adhesive force equivalent to that when the roughened foil was used was obtained.

【0116】〔実施例 2〕過酸化物を0.15g用い
た他は実施例1と同様にして銅張積層板を作製した。引
剥し強さの測定結果を表3に示す。従来例1と同様に強
い接着力が得られた。
Example 2 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.15 g of peroxide was used. Table 3 shows the measurement results of the peel strength. As in the case of Conventional Example 1, a strong adhesive force was obtained.

【0117】〔実施例 3〕UK−6038の代わりに
UK−6039を用いた他は実施例1と同様にして銅張
積層板を作製した。引剥し強さの測定結果を表3に示
す。従来例1と同様に強い接着力が得られた。
Example 3 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that UK-6039 was used instead of UK-6038. Table 3 shows the measurement results of the peel strength. As in the case of Conventional Example 1, a strong adhesive force was obtained.

【0118】〔実施例 4〕過酸化物を0.15g用い
た他は実施例3と同様にして銅張積層板を作製した。引
剥し強さの測定結果を表3に示した。従来例1と同様に
強い接着力が得られた。
Example 4 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 3 except that 0.15 g of peroxide was used. Table 3 shows the measurement results of the peel strength. As in the case of Conventional Example 1, a strong adhesive force was obtained.

【0119】[0119]

【表3】 [Table 3]

【0120】〔実施例 5〕UK−6038の代わりに
ビニルエステルであるダイヤビームUK−6105(三
菱レイヨン製)0.5gを用い、200μmの厚さに塗
布した他は実施例1と同様にして銅張積層板を作製し
た。
Example 5 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 0.5 g of DiaBeam UK-6105 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), which is a vinyl ester, was used in place of UK-6038 and was applied to a thickness of 200 μm. A copper clad laminate was prepared.

【0121】引剥し強さの測定結果を表4に示す。ただ
し、銅箔にはクロメート処理の下地メッキ層として、N
i−Mo−Coの三元メッキを施した。引剥し強さは常
態で2.1kN/m、加熱後で2.0kN/mと、粗化箔
を用いた場合と同等の接着力が得られた。
Table 4 shows the measurement results of the peel strength. However, as a base plating layer for chromate treatment on copper foil, N
i-Mo-Co ternary plating was applied. The peel strength was 2.1 kN / m in the normal state and 2.0 kN / m after heating, and the adhesive strength equivalent to that when the roughened foil was used was obtained.

【0122】〔実施例 6〕UK−6105を1g用い
た他は実施例5と同様にして銅張積層板を作製した。引
剥し強さの測定結果を表4に示す。従来例1と同様に強
い接着力が得られた。
Example 6 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 5 except that 1 g of UK-6105 was used. Table 4 shows the measurement results of the peel strength. As in the case of Conventional Example 1, a strong adhesive force was obtained.

【0123】〔実施例 7〕UK−6105を1.5g
用いた他は実施例5と同様にして銅張積層板を作製し
た。引剥し強さの測定結果を表4に示す。従来例1と同
様に強い接着力が得られた。
[Example 7] 1.5 g of UK-6105
A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 5 except that the copper clad laminate was used. Table 4 shows the measurement results of the peel strength. As in the case of Conventional Example 1, a strong adhesive force was obtained.

【0124】〔比較例 1〕UK−6105を用いなか
った他は実施例5と同様にして銅張積層板を作製した。
引剥し強さの測定結果を表4に示す。1.2kN/mと
低い接着力しか得られなかった。
Comparative Example 1 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 5 except that UK-6105 was not used.
Table 4 shows the measurement results of the peel strength. Only a low adhesion of 1.2 kN / m was obtained.

【0125】[0125]

【表4】 [Table 4]

【0126】〔実施例 8〕ジアリルフタレート樹脂で
あるダップK(ダイソー製:ジアリルフタレートプレポ
リマ)10gをメチルエチルケトン10gに溶解し、過
酸化物であるパーブチルPを0.1g添加して接着剤ワ
ニスを作製した。
Example 8 10 g of DAP K (Daiso: diallyl phthalate prepolymer), which is a diallyl phthalate resin, was dissolved in 10 g of methyl ethyl ketone, and 0.1 g of perbutyl P, a peroxide, was added to form an adhesive varnish. It was made.

【0127】このワニスを前記従来例のブチラール−フ
ェノール樹脂系接着ワニスの代わりとして、銅箔に10
0μmの厚さで塗布し、120℃で10分間乾燥し、従
来例と同様にして銅張積層板を作製した。引剥し強さの
測定結果を表5に示す。但し、銅箔は従来例で用いた未
粗化箔にクロメート処理を行うことなく、2,4,6−ト
リメルカプト−1,3,5−トリアジン(三協化成製:ジ
スネットF)1gをTHFの1lに溶解した処理液に1
0秒間浸漬して、チオール系カップリング剤処理を行っ
たものを用いた。引剥し強さは、常態で3.1kN/
m、加熱後で2.8kN/mと強い接着力が得られた。
This varnish was used as a substitute for the butyral-phenolic resin-based adhesive varnish of the above-mentioned conventional example, and a copper foil 10
It was applied to a thickness of 0 μm and dried at 120 ° C. for 10 minutes to prepare a copper clad laminate in the same manner as in the conventional example. Table 5 shows the measurement results of the peel strength. However, for the copper foil, 1 g of 2,4,6-trimercapto-1,3,5-triazine (manufactured by Sankyo Kasei: Disnet F) was subjected to THF without chromating the unroughened foil used in the conventional example. 1 in 1 liter of treated solution
It was immersed for 0 seconds and treated with a thiol-based coupling agent. Peeling strength is 3.1kN /
m, and after heating, a strong adhesive force of 2.8 kN / m was obtained.

【0128】〔実施例 9〕過酸化物を0.3g用いた
他は実施例8と同様にして銅張積層板を作製した。引剥
し強さの測定結果を表5に示す。実施例8と同様に強い
接着力が得られた。
Example 9 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 8 except that 0.3 g of peroxide was used. Table 5 shows the measurement results of the peel strength. Similar to Example 8, a strong adhesive force was obtained.

【0129】〔実施例 10〕ダップKの代わりにイソ
ダップIKを用いた他は実施例8と同様にして銅張積層
板を作製した。引剥し強さの測定結果を表5に示す。実
施例8と同様に強い接着力が得られた。
[Example 10] A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 8 except that Isodap IK was used instead of DappK. Table 5 shows the measurement results of the peel strength. Similar to Example 8, a strong adhesive force was obtained.

【0130】〔実施例 11〕過酸化物を0.3g用い
た他は実施例10と同様にして銅張積層板を作製した。
Example 11 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 10 except that 0.3 g of peroxide was used.

【0131】引剥し強さの測定結果を表5に示す。実施
例8と同様に強い接着力が得られた。
Table 5 shows the measurement results of the peel strength. Similar to Example 8, a strong adhesive force was obtained.

【0132】[0132]

【表5】 [Table 5]

【0133】〔実施例 12〕水添スチレン−ブタジエ
ン共重合体(日本合成ゴム製:DYNARON:E46
00P)のペレット40gと、過酸化物であるパーブチ
ルP0.8gとを120℃に設定したミキサー中で混合
し、均一な塊状物とした。これを120℃に設定した二
本ロール圧延機によりフィルム状の厚さ50μmの接着
剤を得た。
Example 12 Hydrogenated styrene-butadiene copolymer (manufactured by Japan Synthetic Rubber: DYNARON: E46
00P) pellets (40 g) and peroxide perbutyl P (0.8 g) were mixed in a mixer set at 120 ° C. to form a uniform lump. A film-like adhesive having a thickness of 50 μm was obtained by using a two-roll mill set at 120 ° C.

【0134】このフィルム状の接着剤を介して銅箔と紙
基材フェノール樹脂プリプレグ8枚を積層し、前記従来
例1と同様にして銅張積層板を作製した。但し、銅箔に
は実施例5で用いたNi−Mo−Coの三元メッキを施
した銅箔を用い、M面が接着剤に面するようにした。引
剥し強さの測定結果を表6に示す。実施例1と同様に強
い接着力が得られた。
Copper foil and eight paper-based phenolic resin prepregs were laminated through the film-like adhesive, and a copper-clad laminate was prepared in the same manner as in Conventional Example 1. However, the copper foil used was the Ni-Mo-Co ternary-plated copper foil used in Example 5, and the M surface was made to face the adhesive. Table 6 shows the measurement results of the peel strength. A strong adhesive force was obtained as in Example 1.

【0135】〔比較例 2〕過酸化物を用いなかった他
は実施例12と同様にして銅張積層板を作製した。引剥
し強さの測定結果を表6に示す。過酸化物を用いた場合
よりも接着力が小さいことが分った。
[Comparative Example 2] A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 12 except that the peroxide was not used. Table 6 shows the measurement results of the peel strength. It was found that the adhesive strength was lower than that when the peroxide was used.

【0136】〔実施例 13〕水添スチレン−ブタジエ
ン共重合体の代わりに水添スチレン−イソプレン共重合
体を用いた他は実施例12と同様にして銅張積層板を作
製した。引剥し強さの測定結果を表6に示す。実施例1
2と同様に強い接着力が得られた。
Example 13 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 12 except that a hydrogenated styrene-isoprene copolymer was used instead of the hydrogenated styrene-butadiene copolymer. Table 6 shows the measurement results of the peel strength. Example 1
As with No. 2, a strong adhesive force was obtained.

【0137】〔比較例 3〕過酸化物を用いなかった他
は実施例13と同様にして銅張積層板を作製した。引剥
し強さの測定結果を表6に示す。過酸化物を用いた場合
よりも接着力が小さいことが分った。
[Comparative Example 3] A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 13 except that the peroxide was not used. Table 6 shows the measurement results of the peel strength. It was found that the adhesive strength was lower than that when the peroxide was used.

【0138】[0138]

【表6】 [Table 6]

【0139】〔実施例 14〕水添スチレン−イソプレ
ン共重合体の代わりにメタクリル酸グリシジル−エチレ
ン共重合体(日本石油化学製、日石レクスパール、銘
柄:RA3050)を用い、過酸化物を用いなかった他
は実施例12と同様にして銅張積層板を作製した。引剥
し強さの測定結果を表7に示す。実施例12と同様に強
い接着力が得られた。
Example 14 A hydrogenated styrene-isoprene copolymer was replaced with a glycidyl methacrylate-ethylene copolymer (manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd., Nisseki Lexpearl, brand: RA3050) and a peroxide was used. A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 12 except that the copper clad laminate was not used. Table 7 shows the measurement results of the peel strength. Similar to Example 12, a strong adhesive force was obtained.

【0140】〔実施例 15〕過酸化物を0.8g用い
た他は実施例14と同様にして銅張積層板を作製した。
引剥し強さの測定結果を表7に示す。実施例14よりも
強い接着力が得られた。
Example 15 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 14 except that 0.8 g of peroxide was used.
Table 7 shows the measurement results of the peel strength. A stronger adhesive strength than that of Example 14 was obtained.

【0141】〔実施例 16〕共架橋剤を0.8g用い
た他は実施例15と同様にして銅張積層板を作製した。
引剥し強さの測定結果を表7に示す。実施例14よりも
強い接着力が得られた。
Example 16 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 15 except that 0.8 g of the co-crosslinking agent was used.
Table 7 shows the measurement results of the peel strength. A stronger adhesive strength than that of Example 14 was obtained.

【0142】〔実施例 17〕日石レクスパールの代わ
りにボンドファースト(住友化学工業製、品種2A)を
用いた他は実施例14と同様にして銅張積層板を作製し
た。引剥し強さの測定結果を表7に示す。実施例14と
同様に強い接着力が得られた。
Example 17 A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 14 except that Bondfast (Sumitomo Chemical Co., Ltd., product type 2A) was used instead of Nisseki Lexpearl. Table 7 shows the measurement results of the peel strength. Strong adhesive strength was obtained as in Example 14.

【0143】[0143]

【表7】 [Table 7]

【0144】〔実施例 18〕ビニルエステルであるV
R−91(昭和高分子製)3gと、デンカ製ポリビニル
ブチラール樹脂6000Cの3gとを、トルエンとメチ
ルエチルケトンとメタノールとを7/1/2(重量比)
で混合した溶媒30gに溶解し、過酸化物であるパーブ
チルPを0.06g添加して接着剤ワニスを作製した。
Example 18 Vinyl ester V
R-91 (Showa High Polymer) 3g, Denka polyvinyl butyral resin 6000C 3g, toluene / methyl ethyl ketone / methanol 7/1/2 (weight ratio)
An adhesive varnish was prepared by dissolving in 30 g of the solvent mixed in above and adding 0.06 g of peroxide Perbutyl P.

【0145】このワニスを用い実施例1と同様にして銅
張積層板を作製した。これについて半田耐熱性と高温中
での引剥し強さを測定した。なお、半田耐熱性の測定
は、25mm角に成型した試験片を銅箔面を下側にして
260℃の半田浴上に浮かべ、破壊までの時間を測定し
た。また引剥し強さは150℃で行った。これらの結果
を表8に示す。
A copper clad laminate was produced in the same manner as in Example 1 using this varnish. The solder heat resistance and the peel strength at high temperature were measured for this. The solder heat resistance was measured by floating a test piece molded into a 25 mm square on a solder bath at 260 ° C. with the copper foil surface facing downward, and measuring the time until destruction. The peeling strength was 150 ° C. The results are shown in Table 8.

【0146】〔実施例 19〕ポリビニルブチラール樹
脂として6000Cの代わりにデンカ製BY−515を
用いた他は、実施例1と同様にして作製した試験片の評
価結果を表8に示す。
Example 19 Table 8 shows the evaluation results of test pieces produced in the same manner as in Example 1 except that BY-515 manufactured by Denka was used instead of 6000C as the polyvinyl butyral resin.

【0147】なお、上記BY−515の平均重合度は2
500で、6000Cと同等であるが、アセタール化に
用いたブチルアルデヒドのうち、3割をクロトンアルデ
ヒドに替えて、側鎖に不飽和結合を導入した点が異な
る。
The average degree of polymerization of BY-515 is 2
The value is 500, which is equivalent to 6000C, except that 30% of the butyraldehyde used for acetalization is replaced with crotonaldehyde and an unsaturated bond is introduced into the side chain.

【0148】〔実施例 20〕CTU−グアナミン樹脂
である富士化学製CTU−100を0.4g添加した他
は、実施例18と同様にして作製した試験片の評価結果
を表8に示す。
Example 20 Table 8 shows the evaluation results of test pieces produced in the same manner as in Example 18, except that 0.4 g of CTU-100 manufactured by Fuji Chemical Co., Ltd. which is a CTU-guanamine resin was added.

【0149】〔比較例4〕CTU−グアナミン樹脂の代
わりにメラミン樹脂である三和化学製MW−22を0.
4g添加した他は、実施例18と同様にして作製した試
験片の評価結果を表8に示す。
[Comparative Example 4] MW-22 manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd., which is a melamine resin, in place of CTU-guanamine resin was used.
Table 8 shows the evaluation results of the test pieces produced in the same manner as in Example 18 except that 4 g was added.

【0150】[0150]

【表8】 [Table 8]

【0151】[0151]

【発明の効果】本発明は、前記カップリング剤と銅箔と
の化学結合により形成された接着性下地と、前記の各種
樹脂とにより強力な接着力が得られることから、従来使
用できなかった未粗化箔を用いた銅張積層板を提供する
ことができる。
The present invention cannot be used conventionally because a strong adhesive force can be obtained by the adhesive base formed by the chemical bonding of the coupling agent and the copper foil and the various resins described above. A copper clad laminate using an unroughened foil can be provided.

【0152】また、粗化が困難な圧延銅箔に対しても強
固な接着力が付与でき、圧延銅箔の銅張積層板への利用
が可能となり、平滑な銅箔は異物の付着、製造時のしわ
の発生が少ないので高品質の銅張積層板を提供できる。
Further, a strong adhesive force can be imparted even to a rolled copper foil which is difficult to roughen, and the rolled copper foil can be used for a copper clad laminate. Since there are few wrinkles, it is possible to provide a high quality copper clad laminate.

【0153】また、従来のように、エッチングによるプ
リント回路板の回路形成時における銅残りがなくなるた
め、検査工程を簡略化でき歩留り向上と、ファインパタ
ーン化に大きく寄与する。
Further, unlike the prior art, copper residue is eliminated when the printed circuit board is formed with a circuit by etching, so that the inspection process can be simplified and the yield can be improved and a fine pattern can be greatly contributed.

【0154】さらにまた、表面の起伏が小さい無粗化銅
箔を用いることにより、従来の粗化銅箔よりも高周波特
性に優れた銅張積層板を得ることができるので、極めて
有用である。
Furthermore, by using a non-roughened copper foil having a small surface undulation, it is possible to obtain a copper-clad laminate excellent in high frequency characteristics as compared with the conventional roughened copper foil, which is extremely useful.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 133/06 JDB C09J 133/06 JDB 163/00 JFN 163/00 JFN (72)発明者 成島 良一 茨城県下館市下江連1226番地 日本電解株 式会社下館工場内 (72)発明者 飯田 拓也 茨城県下館市下江連1226番地 日本電解株 式会社下館工場内 (72)発明者 遠藤 安浩 茨城県下館市下江連1226番地 日本電解株 式会社下館工場内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C09J 133/06 JDB C09J 133/06 JDB 163/00 JFN 163/00 JFN (72) Inventor Ryoichi Narushima Shimodate, Shimodate, Ibaraki 1226 Japan Electrolysis Co., Ltd.Shimodate factory (72) Inventor Takuya Iida 1226 Shimoeden, Shimodate, Ibaraki Shimodate Japan Shimodate factory (72) Inventor Yasuhiro Endo Shimodate, Ibaraki Shimoeren 1226 Japan Electrolysis Company Shimodate Factory

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 積層基材の片面または両面に銅箔が積層
接着された銅張積層板において、 a.前記銅箔上に一般式〔1〕 【化1】 QRSiXYZ …〔1〕 (但し、式中Qは下記の樹脂組成物と反応する官能基、
RはQとSi原子とを連結する結合基、X,Y,ZはS
i原子に結合する加水分解性の基または水酸基を表す)
で示されるシランカップリング剤、または、一般式
〔2〕 【化2】 T(SH)n …〔2〕 (但し、Tは芳香環,脂肪族環,複素環,脂肪族鎖であ
り、nは2以上の整数)で示されるチオール系カップリ
ング剤よりなる接着性下地を介し、 b.(1)アクリルモノマ、メタクリルモノマ、それら
の重合体またはオレフィンとの共重合体、(2)ジアリ
ルフタレート、エポキシアクリレートまたはエポキシメ
タクリレートおよびそれらのオリゴマの過酸化物硬化性
樹脂組成物、(3)エチレンブチレン共重合体とスチレ
ン共重合体とを分子内に含有する熱可塑性エラストマの
過酸化物硬化性樹脂組成物、(4)グリシジル基を含有
するオレフィン共重合体の樹脂組成物、(5)不飽和基
を含む側鎖を有するポリビニルブチラール樹脂の樹脂組
成物、または、(6)ポリビニルブチラール樹脂とスピ
ロアセタール環を有するアミノ樹脂とエポキシ樹脂の樹
脂組成物、からなる接着剤により積層基材と接着されて
いるか、あるいは前記樹脂組成物の接着剤を兼ねた積層
基材と直接接着されていることを特徴とするプリント回
路用銅張積層板。
1. A copper-clad laminate in which a copper foil is laminated and adhered to one side or both sides of a laminated base material, comprising: a. General formula [1] QRSiXYZ ... [1] (where Q is a functional group that reacts with the following resin composition:
R is a linking group connecting Q and Si atoms, and X, Y and Z are S
represents a hydrolyzable group or a hydroxyl group bonded to an i atom)
Or a silane coupling agent represented by the general formula [2]: T (SH) n ... [2] (wherein T is an aromatic ring, an aliphatic ring, a heterocycle or an aliphatic chain, and n Is an integer of 2 or more) via an adhesive base consisting of a thiol-based coupling agent, b. (1) Acrylic monomer, methacrylic monomer, a polymer thereof or a copolymer with an olefin, (2) a diallyl phthalate, an epoxy acrylate or an epoxy methacrylate and a peroxide-curable resin composition of the oligomer thereof, (3) ethylene Peroxide curable resin composition of thermoplastic elastomer containing butylene copolymer and styrene copolymer in the molecule, (4) Resin composition of olefin copolymer containing glycidyl group, (5) Adhesion to a laminated base material with an adhesive composed of a resin composition of polyvinyl butyral resin having a side chain containing a saturated group, or (6) a resin composition of polyvinyl butyral resin, amino resin having spiroacetal ring and epoxy resin Or is directly bonded to the laminated base material that also functions as an adhesive for the resin composition. Printed circuit, characterized in Rukoto copper-clad laminate.
【請求項2】 前記銅箔の接着面にB,Al,P,Z
n,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Ag,
In,Zr,Sn,Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,P
b,Ta,W,Ir,Ptから選ばれる1種以上の元素
を含む金属,合金,酸化物,水酸化物および水和物から
選ばれる被覆層を有する請求項1に記載のプリント回路
用銅張積層板。
2. B, Al, P, Z on the adhesive surface of the copper foil
n, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Ag,
In, Zr, Sn, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, P
The copper for printed circuit according to claim 1, which has a coating layer selected from metals, alloys, oxides, hydroxides and hydrates containing at least one element selected from b, Ta, W, Ir and Pt. Upholstered laminate.
【請求項3】 前記不飽和基を含む側鎖を有するポリビ
ニルブチラール樹脂が、(1)不飽和アルデヒドとポリ
ビニルアルコールの縮合生成物、(2)不飽和基を含む
イソシアネート化合物とポリビニルアルコールの縮合生
成物、または、(3)水酸基を含む液状ポリブタジエン
とイソシアネート化合物とポリビニルアルコールの縮合
生成物、である請求項1に記載のプリント回路用銅張積
層板。
3. The polyvinyl butyral resin having a side chain containing an unsaturated group is (1) a condensation product of an unsaturated aldehyde and polyvinyl alcohol, and (2) a condensation product of an isocyanate compound containing an unsaturated group and polyvinyl alcohol. Or a (3) hydroxyl group-containing liquid polybutadiene, an isocyanate compound, and a condensation product of polyvinyl alcohol, the copper clad laminate for a printed circuit according to claim 1.
【請求項4】 前記不飽和基を含む側鎖を有するポリビ
ニルブチラール樹脂を含む樹脂組成物が、分子内にスピ
ロアセタール環を有するアミノ樹脂を含む請求項1に記
載のプリント回路用銅張積層板。
4. The copper clad laminate for a printed circuit according to claim 1, wherein the resin composition containing a polyvinyl butyral resin having a side chain containing an unsaturated group contains an amino resin having a spiroacetal ring in the molecule. .
【請求項5】 (1)アクリルモノマ、メタクリルモノ
マ、それらの重合体またはオレフィンとの共重合体、
(2)ジアリルフタレート、エポキシアクリレートまた
はエポキシメタクリレートおよびそれらのオリゴマの過
酸化物硬化性樹脂組成物、(3)エチレンブチレン共重
合体とスチレン共重合体とを分子内に含有する熱可塑性
エラストマの過酸化物硬化性樹脂組成物、(4)グリシ
ジル基を含有するオレフィン共重合体の樹脂組成物、
(5)不飽和基を含む側鎖を有するポリビニルブチラー
ル樹脂の樹脂組成物、または、(6)ポリビニルブチラ
ール樹脂とスピロアセタール環を有するアミノ樹脂とエ
ポキシ樹脂の樹脂組成物、から選ばれる少なくとも1種
からなることを特徴とするプリント回路用銅張積層板用
の接着剤。
5. (1) Acrylic monomers, methacrylic monomers, polymers thereof or copolymers with olefins,
(2) Peroxide curable resin composition of diallyl phthalate, epoxy acrylate or epoxy methacrylate and their oligomers, (3) thermoplastic elastomer containing ethylene butylene copolymer and styrene copolymer in the molecule. Oxide-curable resin composition, (4) glycidyl group-containing olefin copolymer resin composition,
At least one selected from (5) a resin composition of a polyvinyl butyral resin having a side chain containing an unsaturated group, or (6) a resin composition of a polyvinyl butyral resin, an amino resin having a spiroacetal ring, and an epoxy resin. An adhesive for a copper-clad laminate for a printed circuit, which comprises
【請求項6】 前記不飽和基を含む側鎖を有するポリビ
ニルブチラール樹脂が、(1)不飽和アルデヒドとポリ
ビニルアルコールの縮合生成物、(2)不飽和基を含む
イソシアネート化合物とポリビニルアルコールの縮合生
成物、または、(3)水酸基を含む液状ポリブタジエン
とイソシアネート化合物とポリビニルアルコールの縮合
生成物、である請求項5に記載のプリント回路用銅張積
層板用の接着剤。
6. The polyvinyl butyral resin having a side chain containing an unsaturated group is (1) a condensation product of an unsaturated aldehyde and polyvinyl alcohol, and (2) a condensation product of an isocyanate compound containing an unsaturated group and polyvinyl alcohol. The adhesive for a copper clad laminate for a printed circuit according to claim 5, wherein the adhesive is a condensation product of (3) liquid polybutadiene having a hydroxyl group, an isocyanate compound and polyvinyl alcohol.
【請求項7】 前記不飽和基を含む側鎖を有するポリビ
ニルブチラール樹脂を含む樹脂組成物が、分子内にスピ
ロアセタール環を有するアミノ樹脂を含む請求項5に記
載のプリント回路用銅張積層板用の接着剤。
7. The copper clad laminate for a printed circuit according to claim 5, wherein the resin composition containing a polyvinyl butyral resin having a side chain containing an unsaturated group contains an amino resin having a spiroacetal ring in the molecule. Adhesive for.
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