JPH0963979A - 注入イオン量計数装置 - Google Patents
注入イオン量計数装置Info
- Publication number
- JPH0963979A JPH0963979A JP21712495A JP21712495A JPH0963979A JP H0963979 A JPH0963979 A JP H0963979A JP 21712495 A JP21712495 A JP 21712495A JP 21712495 A JP21712495 A JP 21712495A JP H0963979 A JPH0963979 A JP H0963979A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- counter
- faraday cup
- amount
- implanted
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２次イオンが発生しても設定注入量と実注入
量の値に誤差を生じない注入イオン量計数装置を提供す
る。 【解決手段】 ２次電子漏れ防止用電極４に２次イオン
カウンタ９を設け、２次イオンカウンタ９からイオン注
入量カウンタ５にフイードバックパス１０を設けて、２
次電子７と２次イオン８の計数値をキャンセルし、イオ
ンビーム２のみの量が計数される。
量の値に誤差を生じない注入イオン量計数装置を提供す
る。 【解決手段】 ２次電子漏れ防止用電極４に２次イオン
カウンタ９を設け、２次イオンカウンタ９からイオン注
入量カウンタ５にフイードバックパス１０を設けて、２
次電子７と２次イオン８の計数値をキャンセルし、イオ
ンビーム２のみの量が計数される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は注入イオン量計数装
置に関し、詳しくは、半導体の製造過程において行なわ
れるイオン注入工程で用いられる注入イオン量計数装置
に関するものである。
置に関し、詳しくは、半導体の製造過程において行なわ
れるイオン注入工程で用いられる注入イオン量計数装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体の製造過程において、
真空中で半導体ウエハにイオンビームを照射してイオン
を注入する処理が行なわれており、このイオン注入処理
においては、ウエハに予定された数のイオンを正確に注
入する必要がある。そこで、イオン注入装置と並行して
注入イオン量を計数する、注入イオン量計数装置が一般
的に用いられている。この従来の注入イオン量計数装置
を一例として、図２に示し以下に構成と動作を説明す
る。
真空中で半導体ウエハにイオンビームを照射してイオン
を注入する処理が行なわれており、このイオン注入処理
においては、ウエハに予定された数のイオンを正確に注
入する必要がある。そこで、イオン注入装置と並行して
注入イオン量を計数する、注入イオン量計数装置が一般
的に用いられている。この従来の注入イオン量計数装置
を一例として、図２に示し以下に構成と動作を説明す
る。
【０００３】図２において、ファラデーカップ３は円筒
カップ状で、そのカップ中央部でイオン源から照射され
るイオンビーム２を受けるイオン受容部３ａを備え、フ
ァラデーカップ３の開口の周辺には、リング状の２次電
子漏れ防止用電極４が配置されている。そして、２次電
子漏れ防止用電極４は負バイアス電源６を介して、アー
スに接続されている。そして、ファラデーカップ３と接
地間には、イオン注入量カウンタ５が配置されている。
カップ状で、そのカップ中央部でイオン源から照射され
るイオンビーム２を受けるイオン受容部３ａを備え、フ
ァラデーカップ３の開口の周辺には、リング状の２次電
子漏れ防止用電極４が配置されている。そして、２次電
子漏れ防止用電極４は負バイアス電源６を介して、アー
スに接続されている。そして、ファラデーカップ３と接
地間には、イオン注入量カウンタ５が配置されている。
【０００４】この従来の注入イオン量計数装置において
は、イオン注入時に、スパッタ効果によって、２次電子
７（負電荷）、と２次イオン８（正電荷）が発生する。
そこで、２次電子７が外へ漏れない様にバイアス電源６
で２次電子漏れ防止用電極４を負電位にバイアスしてい
る。この効果で、ファラデーカップ３内で発生した２次
電子７は、ファラデーカップ３で捕捉される。
は、イオン注入時に、スパッタ効果によって、２次電子
７（負電荷）、と２次イオン８（正電荷）が発生する。
そこで、２次電子７が外へ漏れない様にバイアス電源６
で２次電子漏れ防止用電極４を負電位にバイアスしてい
る。この効果で、ファラデーカップ３内で発生した２次
電子７は、ファラデーカップ３で捕捉される。
【０００５】一方、２次イオン８は正電荷であるので、
２次電子漏れ防止用電極４に捕捉されアースへ流出す
る。この結果、２次イオン８がイオン注入量カウンター
５の値を減算し、注入する予定のイオンビーム量である
設定値より小さい値の注入量を表示してしまうと云う欠
点があった。特にイオン種の違いにより、スパッタ率が
異なる為、２次イオンの発生量が異なり設定値と実際の
注入量の間の誤差を大きくする要因となっていた。
２次電子漏れ防止用電極４に捕捉されアースへ流出す
る。この結果、２次イオン８がイオン注入量カウンター
５の値を減算し、注入する予定のイオンビーム量である
設定値より小さい値の注入量を表示してしまうと云う欠
点があった。特にイオン種の違いにより、スパッタ率が
異なる為、２次イオンの発生量が異なり設定値と実際の
注入量の間の誤差を大きくする要因となっていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、係る注入イオン量の計数装置の構造を改良して、設
定値と実際のイオン注入量の誤差を生じない注入イオン
量計数装置を提供することである。
は、係る注入イオン量の計数装置の構造を改良して、設
定値と実際のイオン注入量の誤差を生じない注入イオン
量計数装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに請求項１の発明に係る注入イオン量計数装置は、フ
ァラデーカップにイオン源から照射されるイオンビーム
を受けるイオン受容部を設け、ファラデーカップの開口
の周辺に２次電子漏れ防止用電極を配置し、２次電子漏
れ防止用電極を負バイアス電源、２次イオンカウンタを
介して、アースに接続し、ファラデーカップと接地間に
イオン注入量カウンタを配置し、２次イオンカウンタの
出力をイオン注入量カウンタにフィードバックするフィ
ードバックパスを設けて成る構成とし、ファラデーカッ
プ内で発生した２次電子は、２次電子漏れ防止用電極に
よってファラデーカップに戻される為、注入量に影響を
与えないが、一方２次イオンは、２次電子漏れ防止用電
極で捕捉され、注入量カウンタの計算値を減算してしま
うが、これは２次イオンカウンタで計数され、この計数
値はフィードバックパスを介してイオン注入量カウンタ
に加えられ、加算される。その結果、イオンビームのみ
の計数値をイオン注入量カウンタで計数させる。
めに請求項１の発明に係る注入イオン量計数装置は、フ
ァラデーカップにイオン源から照射されるイオンビーム
を受けるイオン受容部を設け、ファラデーカップの開口
の周辺に２次電子漏れ防止用電極を配置し、２次電子漏
れ防止用電極を負バイアス電源、２次イオンカウンタを
介して、アースに接続し、ファラデーカップと接地間に
イオン注入量カウンタを配置し、２次イオンカウンタの
出力をイオン注入量カウンタにフィードバックするフィ
ードバックパスを設けて成る構成とし、ファラデーカッ
プ内で発生した２次電子は、２次電子漏れ防止用電極に
よってファラデーカップに戻される為、注入量に影響を
与えないが、一方２次イオンは、２次電子漏れ防止用電
極で捕捉され、注入量カウンタの計算値を減算してしま
うが、これは２次イオンカウンタで計数され、この計数
値はフィードバックパスを介してイオン注入量カウンタ
に加えられ、加算される。その結果、イオンビームのみ
の計数値をイオン注入量カウンタで計数させる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図１を参照して、本発明の
注入イオン量計数装置の構造とその作用について説明す
る。
注入イオン量計数装置の構造とその作用について説明す
る。
【０００９】図１は本発明に係る注入計数量計数装置の
概ね原理図である。本発明の注入イオン量計数装置１
は、ファラデーカップ３が円筒カップ状で、そのカップ
中央部でイオン源から照射されるイオンビーム２を受け
るイオン受容部３ａを備え、ファラデーカップ３の開口
の周辺には、リング状の２次電子漏れ防止用電極４が配
置されている。そして、２次電子漏れ防止用電極４は負
バイアス電源６、２次イオンカウンタ９を介して、アー
スに接続されている。そして、ファラデーカップ３と接
地間には、イオン注入量カウンタ５が配置されている。
概ね原理図である。本発明の注入イオン量計数装置１
は、ファラデーカップ３が円筒カップ状で、そのカップ
中央部でイオン源から照射されるイオンビーム２を受け
るイオン受容部３ａを備え、ファラデーカップ３の開口
の周辺には、リング状の２次電子漏れ防止用電極４が配
置されている。そして、２次電子漏れ防止用電極４は負
バイアス電源６、２次イオンカウンタ９を介して、アー
スに接続されている。そして、ファラデーカップ３と接
地間には、イオン注入量カウンタ５が配置されている。
【００１０】そして、２次イオンカウンタ９の出力をフ
ィードバックパス１０を通じて、イオン注入量カウンタ
５にフィードバックする様に構成している。
ィードバックパス１０を通じて、イオン注入量カウンタ
５にフィードバックする様に構成している。
【００１１】この構成により、ファラデーカップ３内で
発生した２次電子７は、ファラデーカップ３に戻され、
負電荷であるのでイオン注入量カウンタ５の計数値を減
算する。一方２次イオン８は、２次電子漏れ防止用電極
４で捕捉され、２次イオンカウンタ９で計数され、この
計数値はフィードバックパス１０を介してイオン注入量
カウンタ５に加えられ加算される。その結果、イオンビ
ーム２のみの計数値をイオン注入量カウンタ５で計数す
ることができる。
発生した２次電子７は、ファラデーカップ３に戻され、
負電荷であるのでイオン注入量カウンタ５の計数値を減
算する。一方２次イオン８は、２次電子漏れ防止用電極
４で捕捉され、２次イオンカウンタ９で計数され、この
計数値はフィードバックパス１０を介してイオン注入量
カウンタ５に加えられ加算される。その結果、イオンビ
ーム２のみの計数値をイオン注入量カウンタ５で計数す
ることができる。
【００１２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に注入イオン量計数装置によれば、２次電子、２次イオ
ンの影響を受けることなく、設定値通りのイオン量を正
確に計数することができる。
に注入イオン量計数装置によれば、２次電子、２次イオ
ンの影響を受けることなく、設定値通りのイオン量を正
確に計数することができる。
【図１】本発明の注入イオン量計数装置の原理図。
【図２】従来の注入イオン量計数装置の原理図。
１ 本発明の注入イオン量計数装置 ２ イオンビーム ３ ファラデーカップ ４ ２次電子漏れ防止用電極 ５ イオン注入量カウンタ ６ 負バイアス電源 ７ ２次電子 ８ ２次イオン ９ ２次イオンカウンタ １０ フィードバックパス １０１ 従来の注入イオン量計数装置
Claims (1)
- 【請求項１】 ファラデーカップにイオン源から照射さ
れるイオンビームを受けるイオン受容部を設け、 前記ファラデーカップの開口の周辺に２次電子漏れ防止
用電極を配置し、 前記２次電子漏れ防止用電極を負バイアス電源、２次イ
オンカウンタを介して、アースに接続し、 前記ファラデーカップと接地間にイオン注入量カウンタ
を配置し、 前記２次イオンカウンタの出力をイオン注入量カウンタ
にフィードバックするフィードバックパスを設けて成る
注入イオン量計数装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21712495A JPH0963979A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 注入イオン量計数装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21712495A JPH0963979A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 注入イオン量計数装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0963979A true JPH0963979A (ja) | 1997-03-07 |
Family
ID=16699235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21712495A Pending JPH0963979A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 注入イオン量計数装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0963979A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4817574B2 (ja) * | 1999-10-27 | 2011-11-16 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | プラズマ処理装置内の電流測定値から変位電流を除去するための方法及び装置 |
-
1995
- 1995-08-25 JP JP21712495A patent/JPH0963979A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4817574B2 (ja) * | 1999-10-27 | 2011-11-16 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | プラズマ処理装置内の電流測定値から変位電流を除去するための方法及び装置 |
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