JPH0961620A

JPH0961620A - カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置の製造方法

Info

Publication number: JPH0961620A
Application number: JP21880995A
Authority: JP
Inventors: Masaru Nikaido; 勝二階堂
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1995-08-28
Filing date: 1995-08-28
Publication date: 1997-03-07

Abstract

(57)【要約】【課題】ポリシランを着色層材料として用いたカラーフ
ィルタを２回の露光、着色により得る。【解決手段】例えばストライプ状の着色層１３が形成さ
れたカラーフィルタ１０を形成する場合、ポリシラン層
を基板１１上に形成し、一つ置きの着色層パターンの形
状に、例えばＲ１，Ｇ１，Ｂ１…というように、ポリシ
ラン層を露光してシラノール基を有する受容層を形成す
る。この受容層をインクジェットにより着色溶液にて着
色し、Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１…というように着色層１３ａ，
１３ｂ，１３ｃ…を得る。次に、未露光部分のポリシラ
ン層を露光し、同様に着色してＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３
…の着色層１３ｄを得てカラーフィルタ１０を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フルカラー表示の
可能な液晶表示装置等に使用するカラーフィルタの製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルタの製造方法として、イン
クジェット装置を用いて着色材料を受容層に投射してカ
ラーフィタを形成する製造方法が提案されている。特願
平７−８７８５７号には、インクジェット方式を用いた
製造方法が記載されており、受容層材料として、紫外線
を照射することによりその部分だけが活性化されるよう
な材料、例えば、ポリビニルアルコール，カゼイン，ア
クリル，ポリシラン等を用いている。この特許に記載さ
れている方法では、受容層の各画素に対応する部分毎に
選択的に紫外線を照射することにより、その部分だけが
活性化され、その部分は紫外線が照射されなかった他の
部分に比べてカラーフィルタの着色材料の受容性（被着
色性あるいは吸収性）が向上することを利用し、隣合う
画素同士の間隙部分に受容層が形成されない構造をとる
ことにより隣合う異なる色同士の混色を防止して、受容
層をインクジェット法により着色している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特許に記
載されている方法では、隣合う画素同士の間隙部分に受
容層が形成されないような構成にしなければならなかっ
た。本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、ポリシ
ランを着色層材料として用いたカラーフィルタに特に好
適な製造方法及び液晶表示装置の製造方法を提供するこ
とを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は上述の目的を達
成するために、インクジェット法による着色工程と着色
層材料としてポリシランを用いることを組み合わせてカ
ラーフィルタ及び液晶表示装置を製造した。

【０００５】本発明の基板上に複数色の着色層パターン
を形成するカラーフィルタの製造方法は、まず、基板上
にポリシラン層を形成する。ポリシランは、一般式
（１）に示されるもので、

【０００６】

【化４】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４は、置換もしくは無置
換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基、芳香族
炭化水素残基、水素基、アルコキシル基、アシロキシル
基からなる郡からそれぞれ選択される基であり、ｍ，ｎ
は整数である。）露光することにより、ポリシランのＳ
ｉ−Ｓｉ結合がきれてシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ基）を
生成するものである。

【０００７】次に、基板上に複数色のストライプ状の着
色層パターンからなる着色層が形成されたカラーフィル
タを、着色層パターンが１つ置きに配置された着色層パ
ターン状にポリシラン層を露光することにより、第１の
受容層を形成する。

【０００８】具体的に、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）
の３色のストライプ状の着色層パターンを形成する場合
を例に挙げて説明する。図４（ａ）に示すように、Ｒ１
（赤），Ｇ１（緑），Ｂ１（青），Ｒ２（赤），Ｇ２
（緑），Ｂ２（青），Ｒ３（赤），Ｇ３（緑），Ｂ３
（青）…の色の順序で繰り返して基板上にストライプ状
の着色層パターンからなる着色層を形成する場合では、
着色層パターンが１つ置きに配置された着色層パターン
状、即ち、Ｒ１，Ｂ１，Ｇ２，Ｒ３，Ｂ３…の着色層パ
ターン状にポリシラン層を露光して、第１の受容層を形
成することになる。

【０００９】また、他の例として、Ｒ（赤），Ｇ
（緑），Ｂ（青）の３色のモザイク状の着色層パターン
を形成する場合を説明する。例えば図６（ａ）に示すよ
うに、基板上にＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３色の
着色層パターンをモザイク状に形成する場合では、着色
層パターンが１つ置きに配置されかつ着色層パターン同
士が点接触をするように配置された着色層パターン、即
ち、Ｒ１１，Ｂ１３，Ｒ２２，Ｂ２４，Ｇ３１，Ｒ３３
…の着色層パターンに対応するポリシラン層を露光し
て、第１の受容層を形成することになる。尚，図４
（ａ）、図６（ａ）は基板上に複数色の着色層パターン
が形成されたカラーフィルタを上から見た平面図であ
る。

【００１０】次に、第１の受容層をインキジェットによ
り噴出した単色あるいは複数色の着色溶液例えば着色ゾ
ル溶液や染色液にて着色する。この際、露光によりシラ
ノール基が生成された第１の受容層部分のみが着色溶液
により着色される。

【００１１】次に、第１の受容層を着色後、これを乾燥
し、単色あるいは複数色の第１の着色層を形成する。受
容層を加熱、乾燥して着色層とすることにより、受容層
のシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ基）が脱水縮合して、ポリ
シロキサン骨格（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を主体とする着
色層となる。この着色層は、再度、着色溶液が接触した
としても着色されることはない。

【００１２】次に、第１の着色層以外のポリシラン層を
露光して第２の受容層を形成する。この第２の受容層
は、例えばストライプ状の着色層パターンを形成する場
合では、図４（ａ）に示すように、Ｇ１，Ｒ２，Ｂ２，
Ｇ３…の着色層パターンに対応するポリシラン層が露光
されてなる。また、モザイク状のカラーフィルタでは、
この第２の受容層は、Ｇ１２，Ｒ１４，Ｂ２１，Ｇ２
３，Ｒ２５，Ｂ３２，Ｇ３４…の着色層パターンに対応
するポリシラン層が露光されて形成されてなる。

【００１３】次に、第２の受容層をインキジェットによ
り噴出した単色あるいは複数色の着色溶液にて着色す
る。次に、前記第２の受容層を着色後、加熱，乾燥し、
単色あるいは複数色の第２の着色層を形成し、カラーフ
ィルタを製造する。

【００１４】また、本発明の他のカラーフィルタの製造
方法は、上記カラーフィルタの製造において用いるポリ
シランが、下記一般式（１）に示されることを特徴とし
ており、

【００１５】

【化５】（式中、Ｒ１，Ｒ２は、互いに同一または異種の置換も
しくは無置換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残
基、芳香族炭化水素残基、、水素基、アルコキシル基、
アシロキシル基であり、ｍは整数である。）更に、本発
明の他のカラーフィルタの製造方法は、上記一般式
（１）に示されるポリシランが、Ｒ１がフェニル基、Ｒ
２が水素基であることを特徴とする。

【００１６】また、本発明の他のカラーフィルタの製造
方法は、上記カラーフィルタの製造方法において、第１
の着色層をマスクとして、第１の着色層以外のポリシラ
ン層を露光して第２の受容層を形成することを特徴とす
る。これにより、ポリシラン層において未露光部分が存
在しなくなり、異なる着色層パターン間に着色されない
部分が存在しないカラーフィルタを確実に得ることがで
きる。

【００１７】また、本発明の液晶表示装置の製造方法
は、第１の基板上に、上記のカラーフィルタの製造方法
により着色層を形成した後、着色層が形成された第１の
基板及び第２の基板にそれぞれ電極を形成する。

【００１８】次に、第１の電極と着色層を有する第１の
基板と第２の電極を有する第２の基板とを間隙を有して
該両基板上の電極が対向するように対向配置し、該両基
板の周囲を封止して間隙に液晶層を封入して液晶表示装
置を製造する。

【００１９】また、本発明の他の液晶表示装置の製造方
法は、上記液晶表示装置の製造方法が、第１の基板上に
着色層を形成した後に電極を形成したものであるのに対
し、第１の基板上に電極を形成した後、この電極上に着
色層を形成したものであることを特徴とする。

【００２０】また、本発明の他の液晶表示装置の製造方
法は、まず、上記カラーフィルタの製造方法により第１
の基板に着色層を形成した後、着色層が形成された第１
の基板上に、互いに交差するように配列された走査線と
複数の信号線と該走査線及び該信号線の交差部毎に形成
された該走査線及び該信号線に接続されたスイッチング
素子と該スイッチング素子ごとに接続された画素電極と
を形成してスイッチング素子アレイ基板を作成する。

【００２１】次に、第２の基板上に対向電極を形成して
対向基板を作成する。次に、スイッチング素子アレイ基
板と対向基板とを間隙を有してスイッチング素子アレイ
基板上の画素電極と対向基板上の前記対向電極が対向す
るように対向配置し、該両基板の周囲を封止して間隙に
液晶層を封入して液晶表示装置を得る。

【００２２】また、本発明の他の液晶表示装置の製造方
法は、前記液晶表示装置の製造方法が第１の基板上に着
色層パターンを形成した後にスイッチング素子等を形成
したものであるのに対し、第１の基板上にスイッチング
素子等を形成した後、この電極上に着色層パターンを形
成したものであることを特徴とする。

【００２３】

【発明の実施の形態】

（実施例１）以下、ストライプ状のカラーフィルタを用
いた電極上型のシンプルマトリクス型液晶表示装置を例
にあげて、本発明の実施例を図１、図２、図３、図５を
用いて説明する。尚、電極上型とは、カラーフィルタの
上に電極が形成されているものである。

【００２４】図１（ａ）は基板上に複数色の着色パター
ンが形成されたカラーフィルタを上から見た概略平面図
であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の線１ｂ−１ｂで切っ
たときのカラーフィルタの縦断面図を示す。

【００２５】図５に示すように、本発明の製造方法によ
り得られた液晶表示装置４０は、第１の基板１１ａ及び
第２の基板１１ｂとを間隙を有して配置し、基板の周囲
を封止剤４１で封止して間隙に液晶層４２を封入してな
る。第１の基板１１ａには、ストライプ状の複数色の着
色層パターンからなる着色層１３が形成されている。こ
の着色層１３上には着色層１３のストライプ状と直交し
た形状で第１の電極であるストライプ状の電極４３ａが
形成され、それぞれの電極上にはラビング処理された配
向膜が形成されている。第２の基板１１ｂには、第１の
基板１１ａ上に形成されたストライプ形状の電極４３ａ
と直交した第２の電極であるストライプ形状の電極４３
ｂが形成されており、両基板１１ａ、１１ｂは電極４３
ａ，４３ｂが対向するようにして配置されている。

【００２６】図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１
の基板１１ａ上に着色層１３が形成されているカラーフ
ィルタ１０は、基板１１ａ上にストライプ状の着色層パ
ターンである赤（Ｒ）１３ａ、緑（Ｇ）１３ｂ、青
（Ｂ）１３ｃ、遮光層としての黒（ＢＬ）１３ｄの着色
層パターンからなる着色層が形成されており、第１の着
色層パターンであるＲ１，Ｇ１，Ｂ１，Ｒ２，Ｇ２…と
第２の着色層パターンであるＢＬ１，ＢＬ２，ＢＬ３，
ＢＬ４とは隣あって配置されている。この着色層１３は
ポリシランを原材料として形成されている。

【００２７】次に液晶表示装置の製造方法について説明
する。初めに、第１の基板１１ａ上に着色層１３が形成
されたカラーフィルタを製造する。図２（ａ）に示すよ
うに、基板１１上に着色層１３の原材料としてポリシラ
ンをノズルコート法により塗布，乾燥し、ポリシラン層
３０を形成する。ノズルコート法とは、所定の開口を有
するノズル１６の先端からインキを押し出しながら、ノ
ズルもしくはガラス基板を直線的に移動させながら、ベ
タパターンを形成する塗布方法を指し必要最低限の膜材
料で塗布できるものであり、他の膜形成方法であるスピ
ンコート法と比べ材料費コストを大幅に下げることがで
きる。用いるポリシランには、有機ポリシラン樹脂９９
％に架橋剤１％を添加したものを用いた。ポリシラン
は、式（１）

【００２８】

【化６】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４は、置換もしくは無置
換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基、芳香族
炭化水素残基、水素基、アルコキシ基、アシロキシル基
からなる郡からそれぞれ独立して選択される基であり、
ｍは整数である）からなるポリシランであって、例えば
Ｒ１，Ｒ３がメチル基、Ｒ２，Ｒ４がフェニル基である
フェニルメチルポリシラン、Ｒ１，Ｒ３がメチル基で、
Ｒ２がフェニル基で、Ｒ４がトリフルオロプロピル基で
あるフェニルメチル／メチルトリフルオロプロピルポリ
シランや、Ｒ１，Ｒ３が水素基、Ｒ２，Ｒ４がフェニル
基であるポリヒドロフェニルポリシランや、Ｒ１が水素
基、Ｒ３がメチル基、Ｒ２，Ｒ４がフェニル基であるポ
リヒドロフェニル／メチルフェニルポリシラン等があ
る。ポリシランは、露光によりＳｉ−Ｓｉ結合が切れ
て、Ｓｉ−ＯＨ結合（シラノール基）を生成する樹脂で
ある。本実施例では、式（２）

【００２９】

【化７】（ｍは、整数である。）で表されるポリシランを用い
た。

【００３０】架橋剤には、両末端にシラノール基を有す
るジメチルシリコーンオイル（東芝シリコーン社製シリ
コーンオイルＹＦ３９０２）９８．９％、メチルトリア
セトキシシラン１％、ジメチルチンジラウレート０．１
％からなるシリコーンゴム組成物を用いた。

【００３１】この後、図１（ａ）に示すように１つ置き
に配置された着色層パターン状、即ち、Ｒ１，Ｇ１，Ｂ
１，Ｒ２，Ｇ２という着色層パターン状に、図２（ｂ）
に示すように、マスクを用いて、ポリシラン層３０を露
光した。これにより、Ｒ１に対応する第１の受容層３１
ａ，Ｇ１に対応する第１の受容層３１ｂ，Ｂ１に対応す
る第１の受容層３１ｃ…というように受容層３１を得
た。また、未露光部分は、図１（ａ）に示す黒（ＢＬ）
の着色層パターンに対応したポリシラン層３０ｄであ
る。露光には、中圧水銀灯１８を用いて４〜６Ｊ／ｃｍ
２の光量の紫外線を用いた。露光されたポリシラン層部
分は、ポリシランのＳｉ−Ｓｉ結合が切れて、シラノー
ル基（Ｓｉ−ＯＨ）が生成される。

【００３２】次に、図２（ｃ）に示すように、第１の受
容層３１ａ，３１ｂ，３１ｃを、各色に対応させて赤，
緑，青の着色溶液である着色ゾル溶液１９が噴出される
インキジェット２０により着色した。

【００３３】第１の受容層を着色後、図３（ａ）に示す
ように、乾燥してポリシロキサン骨格（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓ
ｉ−）を主体とする複数色の着色層、即ち、赤の着色層
１３ａ，緑１３ｂ，青１３ｃの第１の着色層１３を同時
に形成した。この際、用いた着色ゾル溶液１９は、金属
アルコキシドをアルコールに溶解した溶液に顔料、例え
ば赤色の着色ゾル溶液ならば赤の顔料を分散させたもの
を用いた。金属アルコキシドとしては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｚ
ｒ、Ｔｉ等のアルコキシドを用いることができるが、特
にＳｉの金属アルコキシド、例えばテトラエトキシシラ
ンが適している。

【００３４】次に、図３（ｂ）に示すように、マスクを
使わずに既に着色した第１の着色層、即ち、赤１３ａ，
緑１３ｂ，青１３ｃの着色層をマスクとして、第１の着
色層以外のポリシラン層を露光して、黒１３ｄの第２の
受容層３１ｄを形成した。

【００３５】次に、図３（ｃ）に示すように、この第２
の受容層に黒色の着色ゾル溶液１９をインキジェット２
０から噴出して着色し、乾燥して第２の着色層である黒
の着色層、即ち、遮光層１３ｄを形成し、図１に示すよ
うにカラーフィルタ１０を得た。ここでは第２の受容層
形成にマスクを用いずに露光したが、マスクを用いて露
光しても良い。

【００３６】次に、製造したカラーフィルタ１０の着色
層１３上に真空成膜法で、着色層パターンのストライプ
形状と直交する形状にストライプ形状の第１の電極４３
ａを形成する。また、第２の基板１１ｂにも第２の電極
であるストライプ形状の電極４３ｂを形成する。

【００３７】次に、第１の基板１１ａ上と第２の基板１
１ｂ上に、配向膜５７を形成した後、各配向膜をラビン
グ処理し、それぞれの基板１１ａ，１１ｂ上に形成され
たストライプ形状の電極４３ａ，４３ｂ同志が直交する
ように、両基板間に間隙を有して両基板上の電極が対向
するように配置し、該両基板の周囲を封止剤４１により
封止して、間隙に液晶層４２を封入して液晶表示装置４
０を製造した。

【００３８】本実施例では、赤、緑、青、黒の４色の着
色層パターンからなる着色層を形成したカラーフィルタ
を用いたが、遮光層として、図６に示すように異なる色
の着色層１３のパターンの間に金属Ｃｒ６０を設けても
良い。この場合、金属Ｃｒ６０の厚さは数１０００オン
グストロームというように、着色層の厚さが数μｍであ
るのに対して非常に薄いので、この金属Ｃｒからなる遮
光層に着色層が重なっても、平滑な着色層を得ることが
できる。（実施例２）以下、モザイク状のカラーフィルタを用い
た電極下型のアクテイブマトリクス型液晶表示装置を例
にあげて、本発明の実施例を図６、図７を用いて説明す
る。尚、電極下型とは、カラーフィルタの下に電極が形
成されているものである。

【００３９】図６（ａ）は基板上に複数色の着色パター
ンが形成されたカラーフィルタを上から見た概略平面図
であり、図６（ｂ）は図６（ａ）の線６ｂ−６ｂで切っ
たときのカラーフィルタの縦断面図を示し、図７（ａ）
は基板上にスイッチング素子が形成されたスイッチング
素子アレイ基板を示し、図７（ｂ）は図７（ａ）のスイ
ッチング素子が形成されたスイッチング素子アレイ基板
を用いた液晶表示装置の縦断面図を示す。

【００４０】本実施例の液晶表示装置４０は、図７
（ｂ）に示すように、第１の基板４３ａ及び第２の基板
４３ｂとを間隙を有して該両基板の電極が対向するよう
に配置し、基板の周囲を封止剤４１により封止して間隙
に液晶層４２を封入してなる。第１の基板４３ａ上には
第１の電極４３ａが形成され、この第１の電極上４３ａ
にはモザイク状の複数色の着色層パターンからなる着色
層１３が形成され、この着色層１３上にはラビング処理
された配向膜５７が形成されている。図７（ｂ）に示す
ように、第２の基板上には、第２の電極として、互いに
交差するように配置された複数の走査線５０と複数の信
号線５１と該走査線５０および該信号線５１の交差部ご
とに形成されたスイッチング素子５２と、該スイッチン
グ素子５２毎に該スイッチング素子５２のソース電極５
６に一端が接続された画素電極５３とが形成され、図７
（ｂ）に示すようにこれらの上にラビング処理された配
向膜５７が形成され、スイッチング素子アレイ基板５４
となっている。

【００４１】図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１
の基板１１ａ上に着色層１３が形成されているカラーフ
ィルタ１０は、基板１１ａ上にモザイク状の着色層パタ
ーンである赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層パタ
ーンからなる着色層が形成されており、第１の着色層パ
ターンであるＲ１１，Ｂ１３，Ｇ１５，Ｒ２２，Ｂ２
４，Ｇ２６，Ｇ３１，Ｒ３３，Ｂ３５，Ｇ４２，Ｒ４
４，Ｂ４６…と第２の着色層パターンであるＧ１２，Ｒ
１４，Ｂ１６，Ｂ２１，Ｇ２３，Ｒ２５，Ｂ３２，Ｇ３
４，Ｒ３６，Ｒ４１，Ｂ４３，Ｇ４５…とは隣あって配
置されている。そして、第１の着色層パターン及び第２
の着色層パターンはそれぞれ１つ置きに配置されかつ着
色層パターン同士が点接触するように配置されている。
この着色層１３はポリシランを原材料として形成されて
いる。

【００４２】次に製造方法について説明する。初めに、
第１の基板１１ａ上に着色層１３が形成されたカラーフ
ィルタを製造する。まず、第１の基板１１ａ上にベタ状
に真空成膜法で第１の電極４３ａを形成する。次にこの
第１の電極上に、実施例１と同様の材料と方法を用い
て、基板１１上にポリシラン層を形成した。

【００４３】次に、着色層パターンが１つ置きに配置さ
れかつ着色層パターン同士が点接触するように配置され
た着色層パターン状、即ち、図６（ａ）に示すようなＲ
１１，Ｂ１３，Ｇ１５，Ｒ２２，Ｂ２４，Ｇ２６，Ｇ３
１，Ｒ３３，Ｂ３５，…という配置の着色層パターン状
に、マスクを用いて、実施例１と同様の露光条件でポリ
シラン層３０を露光して第１の受容層３１を得た。

【００４４】次に、実施例１と同様に、第１の受容層を
着色し、第１の受容層を着色後、乾燥して、ポリシロキ
サン骨格（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を主体とする複数色の
着色層、即ち、着色層パターンが１つ置きに配置されか
つ着色層パターン同士が点接触するように配置されたＲ
１１，Ｂ１３，Ｇ１５，Ｒ２２，Ｂ２４，Ｇ２６，Ｇ３
１，Ｒ３３，Ｂ３５，…という着色層パターン状の複数
色の第１の着色層１３を同時に形成した。

【００４５】次に、実施例１と同様に、第１の着色層を
マスクとしてポリシラン層を露光して第２の受容層を得
て、着色し、加熱，乾燥して第２の着色層を形成し、カ
ラーフィルタ１０を得た。ここでも第２の受容層形成に
マスクを用いずに露光したが、マスクを用いて露光して
も良い。

【００４６】次に、第２の基板１１ｂ上に、第２の電極
として、図７（ａ）に示すように、互いに交差するよう
に配置された複数の走査線５０と複数の信号線５１と該
走査線５０および該信号線５１の交差部ごとに形成され
たスイッチング素子５２と、該スイッチング素子毎に該
スイッチング素子５２のソース電極５６に一端が接続さ
れた画素電極５３とを形成して、スイッチング素子アレ
イ基板５４を作成した。

【００４７】次に第１の基板上と第２の基板であるスイ
ッチング素子アレイ基板５４上に、配向膜５７を形成
し、ラビング処理を行った。その後、該両基板の電極が
対向するように両基板を間隙を有して配置し、基板の周
囲を封止剤４１により封止して間隙に液晶層４２を封入
して液晶表示装置４０を製造した。

【００４８】以上、実施例１ではシンプルマトリクス型
液晶表示装置でストライプ形状の着色層パターンからな
る着色層上に電極が形成されている構造、実施例２では
アクティブマトリクス型液晶表示装置で電極上にモザイ
ク形状の着色層パターンからなる着色層が形成されてい
る構造を例にあげたが、これに限られるものでなく、着
色層パターン形状の種類、液晶表示装置の種類、電極と
着色層の構造配置による種々の組み合わせが可能である
ことはいうまでもない。（実施例３）以下、本発明の製造方法により製造した液
晶表示装置を図７（ａ）、図８を用いて説明する。

【００４９】本実施例の液晶表示装置は、アクテイブマ
トリクス型液晶表示装置で、スイッチング素子が形成さ
れたスイッチング素子アレイ基板上にストライプ形状の
カラーフィルタが形成され、画素電極がカラーフィルタ
より下に形成されている構造をとる。

【００５０】図８に示すように、液晶表示装置４０は、
第２の基板１１ｂ上に対向電極４３ｂが形成された対向
基板５５と、第１の基板上に走査線５０，信号線５１，
スイッチング素子５２，画素電極５３とが形成されたス
イッチング素子アレイ基板５４とを間隙を有して、両該
基板上の電極が対向するように配置し、基板の周囲を封
止剤４１により封止して間隙に液晶層４２を封入してな
る。図７（ａ）に示すように、スイッチング素子アレイ
基板５４には、互いに交差するように配置された複数の
走査線５０と複数の信号線５１と該走査線５０および該
信号線５１の交差部ごとに形成されたスイッチング素子
５２と、該スイッチング素子毎に接続された電極である
画素電極５３とが形成されている。このスイッチング素
子アレイ基板上には、画素電極５３に対応した信号線５
１と平行した形状のストライプ形状の複数色の着色層パ
ターンからなる着色層１３が形成されている。図８は、
図７（ａ）に示されるスイッチング素子アレイ基板上に
カラーフィルタを形成したもの用いた液晶表示装置の縦
断面図である。

【００５１】第１の基板１１ａ上に着色層１３が形成さ
れているカラーフィルタ１０は、基板１１ａ上にストラ
イプ形状の着色層パターンである赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）、遮光層である黒（ＢＬ）の着色層パターンか
らなる着色層が形成されており、第１の着色層パターン
であるＲ，Ｇ，Ｂ…と第２の着色層パターンであるＢＬ
とは隣あって配置されている。この着色層１３はポリシ
ランを原材料として形成されている。

【００５２】次に製造方法について説明する。初めに、
第１の基板１１ａ上に着色層１３が形成されたカラーフ
ィルタを製造する。まず、第１の基板１１ａ上に、互い
に交差するように配置された複数の走査線５０と複数の
信号線５１と該走査線５０および該信号線５１の交差部
ごとに形成されたスイッチング素子５２と、該スイッチ
ング素子毎に接続された電極である画素電極５３とを形
成する。

【００５３】次に、スイッチング素子５２が形成された
基板１１ａ上に、実施例１と同様の材料と方法を用い
て、ポリシラン層を形成した。次に、着色層パターンが
１つ置きに配置された着色層パターン状、即ち、図８に
示すような第１の着色層パターンであるＲ，Ｇ，Ｂの着
色層パターン状に、マスクを用いて、実施例１と同様の
露光条件でポリシラン層３０を露光して第１の受容層３
１を得た。

【００５４】次に、実施例１と同様に、実施例１と同様
の着色溶液をもちいて第１の受容層を着色し、第１の受
容層を着色後、乾燥して、ポリシロキサン骨格（−Ｓｉ
−Ｏ−Ｓｉ−）を主体とする複数色の第１の着色層１３
を同時に形成した。この時、実施例１と同様の着色溶液
を用いたが、画素電極がカラーフィルタより下側の配置
の場合、着色層の存在により電圧降下が起きるため、こ
れを防止する手段として着色溶液に導電性微粒子を加え
て、着色層に導電性をもたせると良い。

【００５５】次に、実施例１と同様に、第１の着色層を
マスクとして、ポリシラン層側から、ポリシラン層を露
光して第２の着色層パターンであるＢＬの着色層パター
ン状に第２の受容層を得て、実施例１と同様の着色溶液
を用いて着色し、乾燥して第２の着色層を形成し、カラ
ーフィルタ１０を得た。ここでも第２の受容層形成にマ
スクを用いずに露光したが、マスクを用いて露光しても
良い。ここでは、第２の着色層パターンはスイッチング
素子上にあり、これは光によるスイッチング素子の誤動
作を防止するため遮光性をもつことが要求される。

【００５６】次に、基板１１ｂ上にベタ状に対向電極４
３ｂを形成し、対向基板５５を形成した。次に対向基板
５５上とスイッチング素子アレイ基板５４上にそれぞれ
ラビング処理を施した配向膜５７を形成した後、両該基
板を電極が対向するように間隙を有して配置し、基板の
周囲を封止剤４１により封止して間隙に液晶層４２を封
入して液晶表示装置４０を製造した。

【００５７】また、実施例３では、スイッチング素子ア
レイ基板の電極上に着色層が形成された構造を例に挙げ
たが、図９に示すような着色層を先に形成した後、この
着色層上にスイッチング素子等の電極が形成された構造
にも適用できる。またストライプ状以外の形状のモザイ
ク状の着色層パターンを形成する場合にも適用できる。
この場合、各画素電極毎に図６に示されるような各着色
層パターンが対応するように形成されれば良い。

【００５８】また、上記各実施例では、着色溶液として
着色ゾル溶液を用いたが、染色溶液等でも同様の効果を
得ることができる。このように、本発明では、受容層材
料としてポリシランを用い、１回の着色工程毎に乾燥し
て着色層を形成することにより、着色層部分は再度、着
色材料に接触しても着色されることはないので、隣合う
画素同士の間隙部分に受容層が形成されないような構造
を取る必要がなく、また、隣合う色同士間に仕切板を使
わなくとも隣合う異なる色同士の混色を容易に防止でき
る。

【００５９】また、着色層材料に有機ポリシランを用い
てインキジェットにより着色するので、着色ゾル溶液に
浸漬して着色するよりも、着色ゾル溶液による層表面の
乱れを大幅に減少させることができ、また、１回の工程
で複数色の着色が可能である。そして、着色層が第１の
着色層パターンと第２の着色層パターンとが隣あう着色
層パターンからなり、第１の着色層パターン同士及び第
２の着色層パターン同士は接触しないので、２回の露
光、着色で複数色の着色層パターンを形成する事が可能
となる。

【００６０】また、着色層が第１の着色層パターンと第
２の着色層パターンとが隣あう着色層パターンからなる
着色層で、第１の着色層同士及び第２の着色層同士で異
なる色の着色層パターンが点接触するようなモザイク上
の着色層であっても、接触する箇所がわずかなため混色
は小さく、液晶表示装置としたときに非表示領域内にあ
さまるため表示上問題はなく、２回の露光、着色で複数
色の着色層パターンを形成する事ができる。

【００６１】

【発明の効果】本発明では、着色層が第１の着色層パタ
ーンと第２の着色層パターンとが隣あう着色層パターン
からなるので、第１の着色層パターン状にポリシラン層
を露光しインクジェットにより着色して第１の着色を形
成し、第２の着色層パターン状にポリシラン層を露光し
インクジェットにより着色して第２の着色層を形成する
ので、２回の工程で平滑な複数色の着色層を容易に得る
ことができ、工程数を大幅に減少することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）本発明の一実施例の製造方法により形成
されたカラーフィルタを示す概略図。（ｂ）図１（ａ）の線１ｂ−１ｂで切ったカラーフィル
タの縦断面図。

【図２】本発明のカラーフィルタの製造方法の工程の一
実施例を示す模式図。

【図３】図２のカラーフィルタの製造方法の工程の次の
工程を示す模式図。

【図４】（ａ）本発明の他の実施例の製造方法により形
成されたカラーフィルタを示す概略図。（ｂ）図４（ａ）の線１ｂ−１ｂで切ったカラーフィル
タの縦断面図。

【図５】本発明の一実施例により製造方法により製造さ
れた液晶表示装置の縦断面図。

【図６】（ａ）本発明の他の実施例の製造方法により形
成されたカラーフィルタを示す概略図。（ｂ）図６（ａ）の線１ｂ−１ｂで切ったカラーフィル
タの縦断面図。

【図７】（ａ）本発明の他の実施例の製造方法により形
成された液晶表示装置を示す概略図。（ｂ）図７（ａ）の線７ｂ−７ｂで切った液晶表示装置
の縦断面図。

【図８】本発明の他の実施例により製造方法により製造
された液晶表示装置の縦断面図。

【図９】本発明の他の実施例により製造方法により製造
された液晶表示装置の縦断面図。

【図１０】本発明のカラーフィルタの他の一実施例を示
す概略図。

【符号の説明】

１０…カラーフィルタ１１…基板１３…着色層１４…電極１９…着色ゾル溶液または染色液２０…インキジェット４０…液晶表示装置４２…液晶層４３ａ…第１の電極４３ｂ…第２の電極５０…走査線５１…信号線５２…スイッチング素子５３…画素電極５４…スイッチング素子アレイ基板５５…対向基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に複数色のストライプ状の着色層パ
ターンからなる着色層を形成するカラーフィルタの製造
方法において、基板上にポリシラン層を形成する工程
と、ストライプ状の着色層パターンが１つ置きに配置さ
れた着色層パターン上に前記ポリシラン層を露光して第
１の受容層を形成する工程と、前記第１の受容層をイン
キジェットにより噴出した単色あるいは複数色の着色溶
液にて着色する工程と、前記第１の受容層を着色後、こ
れを乾燥して単色あるいは複数色の第１の着色層を形成
する工程と、前記第１の着色層以外のポリシラン層を露
光して第２の受容層を形成する工程と、前記第２の受容
層をインキジェットにより噴出した単色あるいは複数色
の着色溶液にて着色する工程と、前記第２の受容層を着
色後、乾燥して単色あるいは複数色の第２の着色層を形
成する工程とを具備することを特徴とするカラーフィル
タの製造方法。
【請求項２】基板上に複数色のモザイク状の着色層パタ
ーンかららなる着色層を形成するカラーフィルタの製造
方法において、基板上にポリシラン層を形成する工程
と、モザイク状の着色層パターンが１つ置きに配置され
かつ着色層パターン同士が点接触をするように配置され
た着色層パターン状に前記ポリシラン層を露光して第１
の受容層を形成する工程と、前記第１の受容層をインキ
ジェットにより噴出した単色あるいは複数色の着色溶液
にて着色する工程と、前記第１の受容層を着色後、これ
を乾燥して単色あるいは複数色の第１の着色層を形成す
る工程と、前記第１の着色層以外のポリシラン層を露光
して第２の受容層を形成する工程と、前記第２の受容層
をインキジェットにより噴出した単色あるいは複数色の
着色溶液にて着色する工程と、前記第２の受容層を着色
後、乾燥して単色あるいは複数色の第２の着色層を形成
する工程とを具備することを特徴とするカラーフィルタ
の製造方法。
【請求項３】請求項１または請求項２記載のカラーフィ
ルタの製造方法において、前記ポリシラン層が、下記一
般式（１）に示されることを特徴とするカラーフィルタ
の製造方法。【化１】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４は、置換もしくは無置
換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基、芳香族
炭化水素残基、水素基、アルコキシル基、アシロキシル
基からなる郡からそれぞれ選択される基であり、ｍ，ｎ
は整数である。）
【請求項４】請求項３記載のカラーフィルタの製造方法
において、前記ポリシラン層が、Ｒ１，Ｒ３がフェニル
基、Ｒ２，Ｒ４が水素基である一般式（１）に示される
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】請求項１または請求項２記載のカラーフィ
ルタの製造方法において、前記第１の着色層をマスクと
して、第１の着色層以外のポリシラン層を露光して前記
第２の受容層を形成することを特徴とするカラーフィル
タの製造方法。
【請求項６】複数色のストライプ状の着色層パターンか
らなる着色層と第１の電極を有する第１の基板と第２の
電極を有する第２の基板とを間隙を有して該両基板上の
該両基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の
周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装
置の製造方法において、第１の基板上に、ポリシラン層
を形成する工程と、ストライプ状の着色層パターンが１
つ置きに配置され着色層パターン状に前記ポリシラン層
を露光して第１の受容層を形成する工程と、前記第１の
受容層をインキジェットにより噴出した単色あるいは複
数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第１の受容層
を着色後、これを乾燥して単色あるいは複数色の第１の
着色層を形成する工程と、前記第１の着色層以外のポリ
シラン層を露光して第２の受容層を形成する工程と、前
記第２の受容層をインキジェットにより噴出した単色あ
るいは複数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第２
の受容層を着色後、乾燥して単色あるいは複数色の第２
の着色層を形成する工程と、前記第１の着色層及び第２
の着色層上に第１の電極を形成する工程と、第２の基板
に第２の電極を形成する工程と、前記第１の着色層、前
記第２の着色層及び前記第１の電極を有する第１の基板
と第２の電極を有する第２の基板とを間隙を有して該両
基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の周囲
を封止して前記間隙に液晶層を封入する工程と、を含む
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】複数色のストライプ状の着色層パターンか
らなる着色層と第１の電極を有する第１の基板と第２の
電極を有する第２の基板とを間隙を有して該両基板上の
該両基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の
周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装
置の製造方法において、第１の基板上に第１の電極、第
２の基板上に第２の電極を形成する工程と、前記第１の
電極上に、ポリシラン層を形成する工程と、ストライプ
状の着色層パターンが１つ置きに配置された着色層パタ
ーン状に前記ポリシラン層を露光して第１の受容層を形
成する工程と、前記第１の受容層をインキジェットによ
り噴出した単色あるいは複数色の着色溶液にて着色する
工程と、前記第１の受容層を着色後、これを乾燥して単
色あるいは複数色の第１の着色層を形成する工程と、前
記第１の着色層以外のポリシラン層を露光して第２の受
容層を形成する工程と、前記第２の受容層をインキジェ
ットにより噴出した単色あるいは複数色の着色溶液にて
着色する工程と、前記第２の受容層を着色後、乾燥して
単色あるいは複数色の第２の着色層を形成する工程と、
前記第１の着色層、前記第２の着色層及び前記第１の電
極を有する第１の基板と第２の電極を有する第２の基板
とを間隙を有して該両基板上の電極が対向するように配
置し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封
入する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。
【請求項８】複数色のモザイク状の着色層パターンから
なる着色層と第１の電極を有する第１の基板と第２の電
極を有する第２の基板とを間隙を有して該両基板上の該
両基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の周
囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装置
の製造方法において、第１の基板上に、ポリシラン層を
形成する工程と、モザイク状の着色層パターンが１つ置
きに配置されかつモザイク状の着色層パターン同士が点
接触をするように配置された着色層パターン状に前記ポ
リシラン層を露光して第１の受容層を形成する工程と、
前記第１の受容層をインキジェットにより噴出した単色
あるいは複数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第
１の受容層を着色後、これを乾燥して単色あるいは複数
色の第１の着色層を形成する工程と、前記第１の着色層
以外のポリシラン層を露光して第２の受容層を形成する
工程と、前記第２の受容層をインキジェットにより噴出
した単色あるいは複数色の着色溶液にて着色する工程
と、前記第２の受容層を着色後、乾燥して単色あるいは
複数色の第２の着色層を形成する工程と、前記第１の着
色層及び第２の着色層上に第１の電極を形成する工程
と、第２の基板に第２の電極を形成する工程と、前記第
１の着色層、前記第２の着色層及び前記第１の電極を有
する第１の基板と第２の電極を有する第２の基板とを間
隙を有して該両基板上の電極が対向するように配置し、
該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する
工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
【請求項９】複数色のモザイク状の着色層パターンから
なる着色層と第１の電極を有する第１の基板と第２の電
極を有する第２の基板とを間隙を有して該両基板上の該
両基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の周
囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装置
の製造方法において、第１の基板上に第１の電極、第２
の基板上に第２の電極を形成する工程と、前記第１の電
極上に、ポリシラン層を形成する工程と、モザイク状の
着色層パターンが１つ置きに配置されかつモザイク状の
着色層パターン同士が点接触をするように配置された着
色層パターン状に前記ポリシラン層を露光して第１の受
容層を形成する工程と、前記第１の受容層をインキジェ
ットにより噴出した単色あるいは複数色の着色溶液にて
着色する工程と、前記第１の受容層を着色後、これを乾
燥して単色あるいは複数色の第１の着色層を形成する工
程と、前記第１の着色層以外のポリシラン層を露光して
第２の受容層を形成する工程と、前記第２の受容層をイ
ンキジェットにより噴出した単色あるいは複数色の着色
溶液にて着色する工程と、前記第２の受容層を着色後、
乾燥して単色あるいは複数色の第２の着色層を形成する
工程と、前記第１の着色層、第２の着色層及び第１の電
極を有する第１の基板と第２の電極を有する第２の基板
とを間隙を有して該両基板上の電極が対向するように配
置し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封
入する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。
【請求項１０】請求項６乃至請求項９いずれか記載のカ
ラーフィルタの製造方法において、前記ポリシラン層
が、下記一般式（１）に示されることを特徴とするカラ
ーフィルタの製造方法。【化２】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４は、置換もしくは無置
換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基、芳香族
炭化水素残基、水素基、アルコキシル基、アシロキシル
基からなる郡からそれぞれ選択される基であり、ｍ，ｎ
は整数である。）
【請求項１１】請求項１０記載のカラーフィルタの製造
方法において、前記ポリシラン層が、Ｒ１，Ｒ３がフェ
ニル基、Ｒ２，Ｒ４が水素基である一般式（１）に示さ
れることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】請求項６乃至請求項９いずれか記載の液
晶表示装置の製造方法において、前記第１の着色層をマ
スクとして、第１の着色層以外のポリシラン層を露光し
て前記第２の受容層を形成することを特徴とするカラー
フィルタの製造方法。
【請求項１３】第１の基板上に、複数色のストライプ状
の着色層パターンからなる着色層と、互いに交差するよ
うに配列された複数の走査線と、複数の信号線と、該走
査線及び該信号線の交差部毎に形成された該走査線及び
該信号線に接続されたスイッチング素子と、該スイッチ
ング素子ごとに接続された画素電極とが形成されたスイ
ッチング素子アレイ基板と、第２の基板上に対向電極が
形成された対向基板と、を間隙を有して該両基板上の該
両基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の周
囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装置
の製造方法において、第１の基板上に、ポリシラン層を
形成する工程と、ストライプ状の着色層パターンが１つ
置きに配置された着色層パターン状に前記ポリシラン層
を露光して第１の受容層を形成する工程と、前記第１の
受容層をインキジェットにより噴出した単色あるいは複
数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第１の受容層
を着色後、これを乾燥して単色あるいは複数色の第１の
着色層を形成する工程と、前記第１の着色層以外のポリ
シラン層を露光して第２の受容層を形成する工程と、前
記第２の受容層をインキジェットにより噴出した単色あ
るいは複数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第２
の受容層を着色後、乾燥して単色あるいは複数色の第２
の着色層を形成する工程と、前記第１の着色層及び前記
第２の着色層上に、互いに交差するように配列された複
数の走査線と複数の信号線と該走査線及び該信号線の交
差部毎に形成された該走査線及び該信号線に接続された
スイッチング素子と該スイッチング素子ごとに接続され
た画素電極とを形成してスイッチング素子アレイ基板を
作成する工程と、第２の基板上に対向電極を形成して対
向基板を作成する工程と、前記スイッチング素子アレイ
基板と前記対向基板とを間隙を有して前記スイッチング
素子アレイ基板上の前記画素電極と前記対向基板上の前
記対向電極が対向するように配置し、該両基板の周囲を
封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶層を封入する
工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
【請求項１４】第１の基板上に、複数色のストライプ状
の着色層パターンからなる着色層と、互いに交差するよ
うに配列された複数の走査線と、複数の信号線と、該走
査線及び該信号線の交差部毎に形成された該走査線及び
該信号線に接続されたスイッチング素子と、該スイッチ
ング素子ごとに接続された画素電極とが形成されたスイ
ッチング素子アレイ基板と、第２の基板上に対向電極が
形成された対向基板と、を間隙を有して該両基板上の該
両基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の周
囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装置
の製造方法において、第１の基板上に、互いに交差する
ように配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査
線及び該信号線の交差部毎に形成された該走査線及び該
信号線に接続されたスイッチング素子と該スイッチング
素子ごとに接続された画素電極とを形成してスイッチン
グ素子アレイ基板を作成する工程と、第２の基板上に対
向電極を形成して対向基板を作成する工程と、前記スイ
ッチング素子アレイ基板上にポリシラン層を形成する工
程と、ストライプ状の着色層パターンが１つ置きに配置
された着色層パターン状に前記ポリシラン層を露光して
第１の受容層を形成する工程と、前記第１の受容層をイ
ンキジェットにより噴出した単色あるいは複数色の着色
溶液にて着色する工程と、前記第１の受容層を着色後、
これを乾燥して単色あるいは複数色の第１の着色層を形
成する工程と、前記第１の受容層以外のポリシラン層を
露光して第２の受容層を形成する工程と、前記第２の受
容層をインキジェットにより噴出した単色あるいは複数
色の着色溶液にて着色する工程と、前記第２の受容層を
着色後、乾燥して単色あるいは複数色の第２の着色層を
形成する工程と、前記スイッチング素子アレイ基板と前
記対向基板とを間隙を有して前記スイッチング素子アレ
イ基板上の前記画素電極と前記対向基板上の前記対向電
極が対向するように配置し、該両基板の周囲を封止して
前記間隙に液晶層を封入する液晶層を封入する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】第１の基板上に、複数色のモザイク状の
着色層パターンからなる着色層と、互いに交差するよう
に配列された複数の走査線と、複数の信号線と、該走査
線及び該信号線の交差部毎に形成された該走査線及び該
信号線に接続されたスイッチング素子と、該スイッチン
グ素子ごとに接続された画素電極とが形成されたスイッ
チング素子アレイ基板と、第２の基板上に対向電極が形
成された対向基板と、を間隙を有して該両基板上の該両
基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の周囲
を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装置の
製造方法において、第１の基板上に、ポリシラン層を形
成する工程と、モザイク状の着色層パターンが１つ置き
に配置されかつモザイク状の着色層パターン同士が点接
触をするように配置された着色層パターン状に前記ポリ
シラン層を露光して第１の受容層を形成する工程と、前
記第１の受容層をインキジェットにより噴出した単色あ
るいは複数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第１
の受容層を着色後、これを乾燥して単色あるいは複数色
の第１の着色層を形成する工程と、前記第１の着色層以
外のポリシラン層を露光して第２の受容層を形成する工
程と、前記第２の受容層をインキジェットにより噴出し
た単色あるいは複数色の着色溶液にて着色する工程と、
前記第２の受容層を着色後、乾燥して単色あるいは複数
色の第２の着色層を形成する工程と、前記第１の基板上
の前記第１の着色層及び第２の着色層上に、互いに交差
するように配列された複数の走査線と複数の信号線と該
走査線及び該信号線の交差部毎に形成された該走査線及
び該信号線に接続されたスイッチング素子と該スイッチ
ング素子ごとに接続された画素電極とを形成してスイッ
チング素子アレイ基板を作成する工程と、第２の基板上
に対向電極を形成して対向基板を作成する工程と、前記
スイッチング素子アレイ基板と前記対向基板とを間隙を
有して前記スイッチング素子アレイ基板上の前記画素電
極と前記対向基板上の前記対向電極が対向するように配
置し、該両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封
入する液晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】第１の基板上に、モザイク状の複数色の
着色層パターンからなる着色層と、互いに交差するよう
に配列された複数の走査線と、複数の信号線と、該走査
線及び該信号線の交差部毎に形成された該走査線及び該
信号線に接続されたスイッチング素子と、該スイッチン
グ素子ごとに接続された画素電極とが形成されたスイッ
チング素子アレイ基板と、第２の基板上に対向電極が形
成された対向基板と、を間隙を有して該両基板上の該両
基板上の電極が対向するように配置し、該両基板の周囲
を封止して前記間隙に液晶層を封入する液晶表示装置の
製造方法において、第１の基板上に、互いに交差するよ
うに配列された複数の走査線と複数の信号線と該走査線
及び該信号線の交差部毎に形成された該走査線及び該信
号線に接続されたスイッチング素子と該スイッチング素
子ごとに接続された画素電極とを形成してスイッチング
素子アレイ基板を作成する工程と、第２の基板上に対向
電極を形成して対向基板を作成する工程と、前記スイッ
チング素子アレイ基板上に、ポリシラン層を形成する工
程と、モザイク状の着色層パターンが１つ置きに配置さ
れかつモザイク状の着色層パターン同士が点接触をする
ように配置された着色層パターン状に前記ポリシラン層
を露光して第１の受容層を形成する工程と、前記第１の
受容層をインキジェットにより噴出した単色あるいは複
数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第１の受容層
を着色後、これを乾燥して、単色あるいは複数色の第１
の着色層を形成する工程と、前記第１の着色層以外のポ
リシラン層を露光して第２の受容層を形成する工程と、
前記第２の受容層をインキジェットにより噴出した単色
あるいは複数色の着色溶液にて着色する工程と、前記第
２の受容層を着色後、乾燥して、単色あるいは複数色の
第２の着色層を形成する工程と、第２の基板上に対向電
極を形成して対向基板を作成する工程と、前記スイッチ
ング素子アレイ基板と前記対向基板とを間隙を有して前
記スイッチング素子アレイ基板上の前記画素電極と前記
対向基板上の前記対向電極が対向するように配置し、該
両基板の周囲を封止して前記間隙に液晶層を封入する液
晶層を封入する工程と、を含むことを特徴とする液晶表
示装置の製造方法。
【請求項１７】請求項１３乃至請求項１６いずれか記載
のカラーフィルタの製造方法において、前記ポリシラン
層が、下記一般式（１）に示されることを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法。【化３】（式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４は、置換もしくは無置
換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基、芳香族
炭化水素残基、水素基、アルコキシル基、アシロキシル
基からなる郡からそれぞれ選択される基であり、ｍ，ｎ
は整数である。）
【請求項１８】請求項１７記載のカラーフィルタの製造
方法において、前記ポリシラン層が、Ｒ１，Ｒ３がフェ
ニル基、Ｒ２，Ｒ４が水素基である一般式（１）に示さ
れることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１９】請求項１３乃至請求項１６いずれか記載
の液晶表示装置の製造方法において、前記第１の着色層
をマスクとして、第１の着色層以外のポリシラン層を露
光して前記第２の受容層を形成することを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法。