JPH095746A - 液晶表示素子の配向処理方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 歩留りが向上し、設備価格が安価となる、液
晶表示素子の配向処理方法および装置を提供する。 【構成】 紫外線レーザ発生装置１と、このレーザ発生
装置１から発射されたレーザ光から基板４上の配向膜５
の表面に干渉縞を生成させるプリズム２と、加工エリア
が小さい場合は基板４を移動させ広範囲の加工を行なう
移動テーブル３とからなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子の液晶分
子を所定方向に配向させる配向処理方法および装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子では、液晶の電気光学的特
性を制御するために、液晶分子を特定の方向に配向させ
る必要がある。

【０００３】従来、この種の配向処理方法としては、例
えばポリイミドのような高分子樹脂からなる配向膜の表
面を、ナイロン系繊維を植毛したバフ布で擦る、いわゆ
るラビング法が多用されている。

【０００４】また、その他の方法としては、例えば特開
平３−２９６７２１号公報に記載されているような、感
光性樹脂膜にレーザ光の干渉縞で加工し、感光後に現像
する方法がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ラビング法では、ラビングの際に発生する塵、および静
電気により配向膜破壊や電極破壊などを引き起こす事が
あるため、液晶表示素子の歩留りが悪いという問題点が
ある。

【０００６】また、前記の特開平３−２９６７２１号公
報に記載されている方法では、感光性の樹脂膜をレーザ
光で露光し、その後現像するので現像工程が必要とな
り、設備価格が高くなるという問題点がある。

【０００７】そこで本発明は、上記従来技術の問題点に
鑑み、歩留りが向上し、設備価格が安価となる、液晶表
示素子の配向処理方法および装置を提供することを目的
とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、液晶表示素子の液晶分子を所定の方向に
配向させる配向処理方法において、プリズムを通すこと
で生じる紫外線レーザ光の明暗の干渉縞により、直接、
基板上の配向膜を一括微細溝加工処理することを特徴と
する。

【０００９】また、液晶表示素子の液晶分子を所定の方
向に配向させる配向処理装置において、紫外線レーザ発
生装置と、前記レーザ発生装置から発射されたレーザ光
から基板上の配向膜面に明暗の干渉縞を生成させるプリ
ズムと、加工エリアが小さい場合は前記基板を移動させ
広範囲の加工を行なう移動テーブルと、から構成された
ことを特徴とする。

【００１０】

【作用】上記のとおりに構成された本発明では、プリズ
ムを通すことで生じる紫外線レーザの明暗の干渉縞を、
基板上の配向膜の表面に生成させることにより、紫外線
レーザが照射されたライン状の明の部分のみがエッチン
グされ、配向膜の表面に複数本のライン状の配向溝が形
成される。

【００１１】

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。

【００１２】図１は本発明の配向処理方法の一実施例に
関する光学系の概略図、図２は図１の光学系を用いて形
成した配向溝を示した斜視図である。

【００１３】本実施例に好適な配向処理装置は、図１に
示すように、表面に配向膜５を有する基板４を搭載した
移動テーブル３を備える。移動テーブル３上にはプリズ
ム２を介して紫外線レーザ発生装置１が設置されてい
る。

【００１４】図１において、エキシマレーザ等の紫外線
レーザ発生装置１から照射されたレーザ光は、プリズム
２により屈折し、基板４上にポリイミド等を塗布あるい
は印刷して形成された配向膜５の表面に明暗の干渉縞を
生じる。この干渉縞の明の部分で配向膜５をエッチング
し、暗の部分ではエッチングしないように照射エネルギ
ーを調整することにより、配向膜５の表面を干渉縞のパ
ターンでエッチングでき、図２に示すような縞状の微細
な配向溝６が加工される。

【００１５】次に、一度の照射で加工される領域が基板
４上の配向膜５の全域に比べて小さい場合は、ＸＹ軸方
向に移動駆動される移動テーブル３により基板４を移動
させて照射を行なうという操作を複数回繰り返すことに
より、基板４上の配向膜５の全域を加工することができ
る。

【００１６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明による配向
処理方法および装置では、ラビング法のように、発塵、
静電気の発生を伴わないので、液晶表示素子の歩留りを
向上させることができる効果がある。

【００１７】またレーザ光の干渉縞を用いる方法として
は、配向膜を直接加工するので、感光性の樹脂膜を加工
する方法のように、露光後に現像を行なう必要がなく、
現像工程を必要としないので設備価格を低減できる効果
がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の配向処理方法の一実施例に関する光学
系の概略図である。

【図２】図１の光学系を用いて形成した配向溝を示した
斜視図である。

【符号の説明】

１ 紫外線レーザ発生装置 ２ プリズム ３ 移動テーブル ４ 基板 ５ 配向膜 ６ 配向溝

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶表示素子の液晶分子を所定の方向に
   配向させる配向処理方法において、 プリズムを通すことで生じる紫外線レーザ光の明暗の干
   渉縞により、直接、基板上の配向膜を一括微細溝加工処
   理することを特徴とする配向処理方法。
2. 【請求項２】 液晶表示素子の液晶分子を所定の方向に
   配向させる配向処理装置において、 紫外線レーザ発生装置と、 前記レーザ発生装置から発射されたレーザ光から基板上
   の配向膜面に明暗の干渉縞を生成させるプリズムと、 加工エリアが小さい場合は前記基板を移動させ広範囲の
   加工を行なう移動テーブルと、から構成されたことを特
   徴とする配向処理装置。