JPH09506315A - ガス状流体をコンデンサに供給するための分配装置を制御する方法、この方法を実行するための手段、及びこの手段を備えた装置 - Google Patents

ガス状流体をコンデンサに供給するための分配装置を制御する方法、この方法を実行するための手段、及びこの手段を備えた装置

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JPH09506315A JP7514252A JP51425295A JPH09506315A JP H09506315 A JPH09506315 A JP H09506315A JP 7514252 A JP7514252 A JP 7514252A JP 51425295 A JP51425295 A JP 51425295A JP H09506315 A JPH09506315 A JP H09506315A
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Abstract

(57)【要約】 ガス状の流体(3)を空間(2)へ供給し、その供給が一旦阻止されると、その内容物を装置(4)へ送るために、前記空間(2)を急激に空にする分配装置を制御するための方法である。この方法は、装置の供給室の流体圧力を低下させ、供給室(5)と、この供給室(5)と遮断アセンブリとの間の供給回路の部分との中にある加圧流体を大気圧に排出せずに、分配装置(1)への加圧流体の供給が一旦阻止されたとき、密閉部材を急激に開くようにさせて、予め密閉座部(10)に対して密閉部材を保持していた前記加圧流体(3)を装置の排出ダクトへ放出することを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】 ガス状流体をコンデンサに供給するための分配装置を制御する方法、この方法 を実行するための手段、及びこの手段を備えた装置 (技術分野) 本発明は、第一に、加圧されたガス状流体をコンデンサに供給し、第二に、コ ンデンサから、加圧流体を利用する設備に急激に排出することを連続して行う分 配装置を制御するための方法に関する。 本発明は、この制御方法を実行する手段及びこの手段を備えた装置に関する。 本発明は、さらに特定すると、サイロ又はホッパのような設備の出口において 粒状物質又は微粉物質の流れを改善させるのに利用できるが、これに限定された ものではない。 (背景技術) 前述の形式の分配装置は、流体を加圧された状態で供給するとき、ある適当な 装置によって阻止される装置であり、特に、供給圧力が大気圧まで引き下げられ たとき、この分配装置と操作上で関連するコンデンサから急激な排出が行なわれ る。 フランス特許公開第2.660.395号には、以下の本体を含むそのような装置が開 示されている。すなわち、前記本体は、 −第一に、供給圧力まで加圧されたガス状流体を供給 するためのオリフィスと、第二に、このガス状流体をコンデンサへ送る通路を備 えている可変容積供給室と、 −本装置に取り付けられた設備に向けて流体を排出する可変容積室を有してお り、この可変容積室には、コンデンサに貯えられた流体用の通路チャネルを定め る切り口をこのために備えており、この切り口の縁取りに、特定の重さを有する 密閉部材の支持面が接して不浸透性をもたらす密閉座部が形成され、さらに、座 部から延びる排出パイプとして知られている導管によって、設備に接続されてい る。 流体をコンデンサに接続する通路は、微粉粒子が通過する危険を制限するため に特に狭くしており、さらに、通路全体が加圧された流体をコンデンサに急速に 供給するのに十分な長さを有している。 密閉部材は、第一に、一つは、支持面を介して排出導管の座部と協働する一方 の位置と、前記導管からかなり離れて配置される他方の位置との二つの対向位置 の間で移動可能であり、さらに、密閉部材は、 −流体が供給チャンバに直接配置されるときの圧力で流体の作用下にさらされ る第1表面と、 −第1表面と対向し、前記流体がコンデンサの中に直接配置されるときの圧力 で、流体の作用下にさらされる第2表面と、 −第1表面とは、やはり対向し、前記流体が排出導管に配置されるときの圧力 で、流体の作用下にさらされる 第3表面とを含んでいる。 流体の排出が急激に行われると、供給は阻止され、供給室は急激に空にされな ければならない。 もし、これが行われなければ、供給室に滞留し、前記の狭い通路からしか排出 されない空気が、ピストンの後退運動を阻止する。 公知の実施例においては、供給室が急激に空になると、供給室が大気圧に連通 するときに、制御装置によって、ピストンの後退運動が阻止される。 公知の装置は、騒音が出るという欠点がある。 事実、供給室が急激に空になって、大気圧に通気すると、特に、強烈な音が発 生する。 本発明が追求して獲得した成果の一つは、公知の装置に対して、音の伝達レベ ルを特に減衰させる上記の形式の装置を提供することである。 公知の装置は、流体の排出速度が遅いという欠点がある。 本発明が追求して獲得した別の成果は、公知の装置と比較して、コンデンサを 供給状態から空の状態にする流体の通過速度が特に増大する上記形式の装置を提 供することである。 (発明の開示) この結果、本発明は、上記形式の分配装置を制御するための方法に関する。そ こでは、供給室と阻止装置の間にある供給回路部と、供給室とに包含されている 加圧流 体を大気圧に通気させる代わりに、流体供給室の圧力を低下させ、分配装置の加 圧流体の供給を阻止する動作のほぼ終了段階で密閉部材を急激に解放するために 、少なくとも供給室に包含され、そのときまで密閉座部上での密閉部材が保持で きる加圧流体が、前記排出導管の中に供給される。 本発明は、前記方法を実行する手段及びその手段を備えた装置にも関する。 本発明は、図式的に示す添付の図面のみには限定されない実施例による以下の 説明によって、もっと容易に理解されるであろう。 (図面の簡単な説明) 図1は、縦軸線に沿って見た本発明に従う装置の断面図である。 図2及び図3は、二つの連続した操作段階における図1の装置の2つの半部を 示す各図である。 図4は、装置を取り付けるためのブロック図である。 (発明を実施するための最良の形態) 図面に基づいて説明すると、図1は、最初に、供給源Sの圧力レベルにある供 給圧力で、加圧されたガス状流体3をコンデンサ2(部分的に図示する)に供給 し、次に、加圧流体3を利用する設備(部分的に図示する)に向けて、このコン デンサ2から急激に流体を排出することを連続して行う単安定分配装置1を示し ている。 流体3は、導管3Aによって装置の供給入口Eへ送られる。 上述の形式の分配装置は、加圧流体の供給がその入口Eで装置Mによって阻止 され、供給圧力がほぼ大気圧まで低下させられると、この分配装置と操作上で関 連するコンデンサから急激な流体の排出が確実に行われる装置であることがわか るであろう。 加圧流体は、符号3によって各種の矢印で表示されている。 装置1は、本体1Aを含み、この本体は、 −前記供給圧力まで加圧されたガス状流体3を供給するためのオリフィス6と 、さらに、このガス状流体3をコンデンサ2に送るための通路7を備えている可 変容積供給室5と、 −装置1に取り付けられた設備に流体を排出するための可変容積室8を備え、 このために、可変容積室8には、コンデンサ2に貯えた流体用の通路チャンネル を定める切り口9を備えており、この切り口の縁取りに、特定の重さを有する密 閉部材12の支持面11が接して不浸透性をもたらす密閉座部10が形成され、さらに 、座部10から延びる排出導管13が、少なくとも設備4に接続されている。 コンデンサ2へ流体を送るための通路7は、第一に、微粉粒子が通過する危険 を制限するように極端に狭くしており、第二に、加圧流体をコンデンサへ急速に 供給す るのに十分な長さの通路を有している。 密閉部材は、その支持面11が排出導管13の座部10と協働する一方の位置と、密 閉部材が前記導管の座部からかなり離れている他方の位置との2つの対向位置間 で移動可能であり、 さらに、密閉部材は、 −流体が供給室5の中に直接配置されているときの圧力で、流体3の作用下に さらされる第1表面14と、 −第1表面14と対向し、流体がコンデンサ2の中に直接配置されるときの圧力 で、流体3の作用下にさらされる第2表面15と、 −第1表面14とは、やはり対向し、流体が排出導管13の中に配置されていると きの圧力で、流体3の作用下にさらされる第3表面16とを含んでいる。 密閉部材12の第1表面14の寸法は、通常、第2及び第3表面15,16の合計寸法 とほぼ同じである。 従って、加圧流体3の供給が、装置1の入口Eにおいて装置Mによって阻止さ れるとき、そして、特に、供給圧力がほぼ大気圧まで低下させられるときには、 第1表面14は、その供給圧力で流体3の作用下から解放される。すなわち、 コンデンサ2に包含され、第2表面15に作用する流体3は、密閉部材12を押し 戻し、設備4に接続されている排出導管13を介して、コンデンサ2から急激な流 体の排出(図3)を行う。 流体圧力は、その時まで第3表面16に抗して存在する流体圧力は、ホッパのよ うな設備4の中に存在する圧力であり、すなわち、その圧力は、ほぼ大気圧に等 しく、従って、前記供給室の中の流体が、実際に流出することができるときの供 給室内に存在する圧力となる。 供給室5と阻止装置Mの間の供給回路部P1と供給室5内に包含される加圧流 体3を大気圧に通気させる代わりに、加圧流体の供給室の圧力を低下させ、分配 装置1の加圧流体3の供給を阻止するほぼ終了段階において、密閉部材12を急激 に解放するために、少なくとも供給室5に包含され、そのときまで密閉座部10上 に密閉部材12を保持していた加圧流体3は、前記排出導管13へ送り込まれる。 従って、供給室5に包含される加圧流体を急激に収容しても、もはや直接騒音 を引き起こすことはない。 供給室5の中に包含される加圧流体3の他に、前記供給を阻止するための装置 M及びこの装置Mと前記供給室5の間に挿入された供給導管3Aの部分とを含む 供給回路の部分P2に包含される加圧流体3が、排出導管13へと送り込まれる。 これらの特別の特徴を維持すると、本発明の分配装置の音の伝達は、さらに減 衰される。 本発明は、この方法を実行する装置17にも関する。 もっと厳密に言えば、これは、密閉座部10上に密閉部材12を保持するために少 なくとも供給室5に包含される 加圧流体3を排出導管13へ送り込むための少なくとも一つの制御された装置に関 する。 これは、制御された解放装置17であることが望ましい。この解放装置は、供給 室5に包含される加圧流体3の排出の他に、前記供給を阻止するための装置Mと 、この装置Mと供給室5の間に挿入された供給導管3Aとを含む供給回路の一部 分P2に包含される加圧流体3を排出導管13へ送り込む。 一つの好適実施例において、これは、解放装置17を含む。この解放装置は、加 圧流体3の供給圧力に対して敏感であり、加圧流体3の供給圧力の値が、予め決 められた値よりも小さいときでも、ガス状流体3の作用により密閉部材12の第1 表面14に対して、流体が排出導管13の中に存在する時の圧力、すなわち密閉部材 12の第3表面16に作用する圧力を急激に加えることができる。 供給室に包含される加圧流体は、この供給室の供給導管3Aを介して阻止装置 の方へ排出する必要はもはやない。 1つの基本的な面から見れば、急激に供給を阻止するための装置Mには、実際 、以下のことを可能にする分配装置を備える必要がないということである。 すなわち、 −第一に、供給源Sから導入される加圧流体の流れを阻止すること、 −第二に、流体を供給室から、また分配装置と接続す る供給導管部から大気圧へ排出すること。 従って、密閉部材の第1及び第3表面に加えられる圧力の均衡が即座に達成さ れるので、装置の反応速度は、大幅に増加する。 解放装置17の予め決められた操作圧力値は、加圧流体3を装置1へ供給するた めの公称圧力値よりも低い。 例えば、予め決められた操作値が大気圧値に近くても、オペレータは、設備4 の操作パラメータに従って、この値を選択することができる。 これを行うために、加圧流体3の装置1への供給が阻止されるとき、特に、そ の供給入口Eが適切な装置(図示しない)によって大気圧にさらされる時に、解 放装置17が、操作状態に入る。 制御された急激な解放装置17は、 −密閉部材12に組み込まれ、それぞれ密閉部材12の第1及び第3表面14、16間 に開口するチャネル17Aを規定し、さらに、チャネル17Aの全通路部を密封する ための座部17Bを構成する切り口17Aと、 −チャネル17Aを密封するための要素17Cとを含んでいる。 また、この要素は、 ・チャネル17Aの座部17Bと協働するための密閉部材支持面17Dを有し、 ・チャネル17Aの座部17Bに抗して支持面17Dを有する一方の位置と、前記支 持面17Dが前記座部17Bから間 隔をおいて配置された他方の位置との2つの対向位置の間を移動可能であり、 ・共に、ガス状流体3の作用下にさらされるが、一方の表面17E、17Fは、流 体が本体2内に導入されるときの圧力に直接さらされ、もう一方の表面17Gは、 流体が前記供給室5に配置されるときの圧力にさらされる、少なくとも二つの対 向する表面17E、17F、17Gを有し、 さらに、 ・表面17Hを有しており、この表面は、密閉要素17Cの分離した壁18と一体の 相反する表面18Aへ向く時に、この相反する表面に沿って通路6を形成し、この 通路は、微粉粒子が通過する危険を制限するために十分狭くなっていて、さらに 、全通路部分が、供給室5、そしてコンデンサ2に加圧流体を急速に供給するの に十分な長さに延びている。 この実施例において、本装置1は特に有効に働く。 制御された解放装置17は、支持面17Dを介して密閉座部17Bに加えられる密閉 要素17Cの弾性部材17Iを有する。 それゆえ、解放装置17の予め決められた操作圧力値は、主に、密閉要素17Cを 密閉座部17Bに押圧する弾性部材17Iの剛性によって決定される。 密閉要素17Cは、二つの対向する位置の間で転位移動可能であり、少なくとも 間接的に、また、少なくともガス状流体3から密閉された転位案内装置19の付勢 力を介 して装置本体1Aと協働する。 この転位案内装置19の特徴は、装置の機能を最も効果的にする。 密閉部材12は、回転を生じさせることができるが、適切な装置20によって二つ の対向する位置の間を変位かつ案内され、密閉部材12がほぼ縦軸上に配置された 時にガス状流体3から密閉される。 案内装置20は、二つの対向端部20B、20Cを有する回転部分20Aを含み、一方 の端部20Bは、密閉部材12と関連しており、他の端部20Cは、円筒の支持面20D を有し、この支持面は、第一に、装置1の本体1Aと少なくとも間接的に連結し ている壁1Bの中に保有され、第二に、加圧流体3の供給源Sと少なくとも間接 的に接続されている転位案内孔20Eと協働する。 密閉部材12は、適切な要素20Fによって、排出導管13の座部19に対して、支持 面11を押圧する方向に弾力的に圧力が加えられている。 明らかなように、 −チャネル17Aを構成する切り口17Aは、密閉部材12のほぼ中心に組み込まれ ており、 −密閉部材12の転位案内装置20が有する回転部分20Aは、切り口17Aに対して ほぼ同軸で、ほぼ円筒の回転空胴21を有し、この空胴の一端部は、供給室5に開 口し、また他端部には、加圧流体の供給源Sに接続された前記転位案内装置の孔 20Eに開口する回転円筒導管22が同軸 配置されている。 −チャネル17Aを密閉する要素17Cは、肩部を有する回転本体で構成され、 この回転本体は、 ピストンとしての中間軸23を含み、この中間軸は、密閉部材12を転位案内する 装置20の回転部分20Aの空胴21の中にはまり込み、それによって、第一に、装置 の供給室5の供給通路としての特徴を有する通路6を構成するために空胴21の表 面18Aに対向する円筒面17Hを有し、第二に、2つの対向表面17F、17Gを有し 、その一方の面17Fは、空胴21の内部へ向いており、その供給圧力で流体3に直 接さらされており、他方の面17Gも供給室5に収容されている流体圧力で流体3 にさらされている。 ・さらに、端部が対向する二つの円筒軸24、25を含み、第一に、一方の軸24は 、供給室5に収容される流体3の圧力を受ける表面17Gによって支持され、チャ ネル17Aの座部17Bと協働するための密閉支持面17Dを有し、第二に、他方の軸 25は、空胴21の内部に向けられている表面17Fによって支持されて、加圧流体の 供給源Sと間接的に接続された導管22内を滑動するように係合しており、この軸 の自由面17Eだけではなく軸を支持する表面17Fとの接続面においてもほぼ軸方 向に開口された穿孔26を有している。 明らかに、加圧流体の供給源Sと間接的につながっている導管22は、肩部を有 してそこに弾性部材17Hを収容 しており、この弾性部材が、前記肩部にさらにその上の導管22と係合している軸 24の自由表面17Eに支えられている時に、密閉要素17Cは、その支持面17Dを介 して、密閉部材12内に開口するチャネル17Aの密閉座部17Bに確実に当接する。 明らかに、密閉部材12を転位案内する装置20に含まれる回転部分20Aは、肩部 の一部であり、 この回転部分は、 −側面20Dに回転する円筒を有し、壁1Bの中に保有され、少なくとも間接的 に装置1の本体1Aとつながっている転位案内支持面20Eと協働するようになっ ている支持面20Dを構成する軸27と、 −この軸27がつながっている肩部を有する表面28と、 −少なくとも間接的に装置1の本体1Aに接続された支持面20Gと協働し、流 体が供給室5の中に配置されたときの圧力で、前記支持面に当接するように、肩 部を有する表面28に供給室内に包含された流体の通路をもたらす少なくとも1つ のオリフィス30を含んでいる、前記軸と同軸の円筒回転面とを有する。 上記の特徴を備えることによって、特に強力で信頼性のある装置を製造するこ とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ),AM, AU,BB,BG,BR,BY,CA,CN,CZ,E E,FI,GE,HU,JP,KE,KG,KP,KR ,KZ,LK,LR,LT,LV,MD,MG,MN, MW,NO,NZ,PL,RO,RU,SD,SI,S K,TJ,TT,UA,US,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.第一に、供給源(S)の圧力レベルに加圧されたガス状流体(3)をその供 給圧力でコンデンサ(2)に供給し、これに続いて、1つの装置(M)によって 流体の供給を阻止し、前記コンデンサ(2)から、前記加圧流体(3)を利用す る設備(4)へ流体を急激に排出することを連続して行う分配装置(1)を制御 する方法であり、 前記加圧流体(3)は、流体を阻止するための装置(M)が挿入されている 導管(3A)によって分配装置(1)の供給入口Eへ送られており、 前記分配装置は、 −前記供給圧力に加圧されたガス状流体(3)を供給するための供給オリフ ィスと、このガス状流体(3)をコンデンサ(2)に供給するための通路と備え る可変容積供給室(5)と、 −設備(4)に備えた装置(1)へ排出する可変容積排出室(8)とを有す る本体(1A)を含み、 前記可変容積排出室(8)が、コンデンサ(2)に貯えた流体(3)のため の通路チャネルを規定する切り口(9)を備えており、この切り口の縁取りに、 特定の重さを有する密閉部材(12)の支持面(11)と協動して不浸透性を有する 密閉座部(10)が形成され、座部(10)から続く排出導管(13)によって、少な くとも設備(4)に接続しており、 前記密閉部材(12)は、支持面(11)を介して排出導管(13)の座部(10) と協働する一方の位置と、前記導管の座部からかなり離れている他方の位置との 2つの対向位置の間を移動可能であり、さらに、前記密閉部材(12)が、 −流体が直接供給室(5)の中に配置されるときの圧力で、流体(3)の作 用下にさらされる第1表面(14)と、 −第1表面(14)と対向しており、流体が直接コンデンサ(2)の中に配置 されるときの圧力で、流体(3)の作用下にさらされる第2表面(15)と、 −第1表面(14)とは、やはり対向しており、流体が排出導管(13)の中に 配置されるときの圧力で、流体(3)の作用下にさらされる第3表面(16)とを 含んでおり、 この第3表面では、供給室(5)と、この供給室(5)と阻止装置(M)の 間の供給回路部(P1)とに包含される加圧流体(3)を大気圧に通気させる代わ りに、流体供給室の圧力を低下させ、分配装置(1)の加圧流体(3)の供給を 阻止する動作のほぼ終了段階で、密閉部材(12)を急激に解放するために、少な くとも供給室に包含され、その時まで密閉座部(10)上に密閉部材(12)を保持 していた加圧流体(3)が、前記排出導管(13)の中へ送られるようになってい る制御方法。 2.供給室(5)に包含される加圧流体(3)の他に、供給回路の一部(P2)に 包含される加圧流体(3)がさらに排出導管(13)に送り込まれ、前記供給回路 は、流体の供給を阻止する装置(M)及びこの装置(M)と前記供給室(5)の 間に挿入される供給導管(3A)の一部を含むことを特徴とする請求項1に記載 の制御方法。 3.主として、密閉座部(10)上に密閉部材(12)を保持するように、少なくと も供給室(5)の中に包含される加圧流体(3)を排出導管(13)の中に供給す るための、少なくとも1つの制御装置を含んでいることを特徴とする、請求項1 または請求項2に従う方法を実行するための装置。 4.供給室(5)の中に包含される加圧流体(3)の排出の他に、前記流体の供 給を阻止するための装置(M)と、この装置(M)と前記供給室(5)の間に挿 入される供給導管(3A)を含む供給回路の一部(P2)の中に包含される加圧流 体(3)を排出導管(13)にも供給する、制御された解放装置(17)を含むこと を特徴とする請求項3に記載の装置。 5.制御された解放装置(17)は、 −密閉部材(12)に組み込まれ、この密閉部材(12)の第1表面(14)及び 第3表面(16)に開口するチャネル(17A)を形成し、さらに、その通路全体部 分に関してチャネル(17A)を密閉するための座部 (17B)を構成している切り口(17A)と、 −チャネル(17A)を密閉する要素(17C)を含んでおり、 該密閉要素は、 ・前記チャネル(17A)の座部(17B)と協働するようになっている密閉支 持面(17D)を有し、 ・密閉部材(12)よりも軽量であり、 ・前記チャネル(17A)の座部(17B)に対して支持面(17D)を有する一 方の位置と、前記支持面(17D)が前記座部(17B)から間隔をおいて配置され ている他方の位置との2つの対向位置の間で移動可能であり、 ・共にガス状流体(3)の作用下にさらされるが、一方の表面(17E、17F )は、流体が本体(2)の中へ導入されるときの圧力に直接さらされ、他方の表 面(17G)は、流体が前記供給室(5)に配置されたときの圧力にさらされてい る、少なくとも2つの対向表面(17E、17F、17G)を有し、 ・密閉要素(17C)と分離する部分(18)に一体形成された対向面(18A) の方に向き、この対向面(18A)との間で通路(6)を形成する表面(17B)を 有し、前記通路は、第一に、微粉粒子が通過する危険を制限するために十分狭く 、第二に、通路部分全体が、供給室(5)、そして、コンデンサ(2)に加圧流 体を急速に供給するのに十分な長さを有しているこ とを特徴とする請求項3または請求項4に記載の装置。 6.分配装置(1)に用いる請求項5に従った手段であって、 密閉部材(12)は、回転を生じさせて、適切な装置(20)によって対向する 2つの位置間を転位かつ案内され、この適切な装置は、前記密閉部材(12)のほ ぼ縦軸上に配置され、ガス状流体から密閉されており、さらに、2つの対向端部 (20B、20C)を有する回転部分(20A)を含んでおり、一方の端部(20B)は 、密閉部材(12)と関連し、他方の端部(20C)は、円筒の支持面(20D)を有 し、この支持面は、少なくとも装置(1)の本体(1A)に間接的につながって いる壁(18)の中に保有され、さらに加圧流体(3)の供給源(S)と少なくと も間接的に接続されている転位案内孔と協働し、そこでは、 −チャネル(17A)を構成する切り口(17A)は、密閉部材(12)のほぼ中 央に組み込まれ、 −密閉部材(12)を転位案内する装置(20)が有する回転部分(20A)は、 切り口(17A)に対してほぼ同軸で、ほぼ円筒の回転空胴(21)を有し、この回 転空胴の一端部は、供給室(5)に開口し、また他端部には、円筒形の回転導管 (22)を有し、この導管(22)は、加圧流体の供給源(S)と接続している前記 転位案内孔(20E)に開口しており、 −チャネル(17A)を密閉するための要素(17C)は、肩部を有する円筒形 の回転本体を含み、 この回転本体は、 ・ピストンとしての中間軸(23)を含み、この中間軸は、密閉部材(12)を 転位案内する装置(20)の回転部分(20A)の空胴(21)の中にはまり込み、そ れによって、第一に、装置の供給室(5)の供給通路(6)としての特徴を有す る通路(6)を構成するために、空胴(21)の表面(18A)に対向する円筒面( 17H)を有し、第二に、2つの対向表面(17F、17G)を有し、その一方の表面 (17F)は、空胴(21)の内部に向いており、その供給圧力で流体に直接さらさ れ、また、他方の表面(17G)も前記供給室(5)に収容されている流体圧力で 流体(3)にさらされており、さらに ・端部が対向する二つの円筒軸(24、25)を含み、第一に、一方の軸(24) は、供給室(5)に収容される流体(3)の圧力を受ける表面(17G)によって 支持され、チャネル(17A)の座部(17B)と協働するための密封支持面(17D )を有し、第二に、他方の軸(25)は、空胴(21)の内部へ向けられている表面 (17F)によって支持され、加圧流体の供給源(S)に間接的につながっている 導管(22)内を滑動するように係合しており、この軸の自由面(17E)だけでは なく軸を支持する表面との接続面においてもほぼ軸方 向に開口した穿孔(26)を含むことを特徴とする手段。 7.密閉部材(12)を転位案内する装置(20)に含まれる回転部分(20A)は、 肩部を有する部分であり、 この回転部分は、 −側面(20D)が円筒形であり、回転を生じて、少なくとも間接的に装置( 1)の本体(1A)に接続された壁(1B)の中に保有される転位案内支持面( 20E)と協働するようになっている支持面(20D)を構成する軸(27)と −前記軸(27)が連結された肩部を有する表面(28)と 軸(27)と同軸であり、少なくとも間接的に装置(1)の本体(1A)に接 続された支持面(20G)と協働し、流体が供給室(5)の中に配置されていると きの圧力で流体がその表面に加えられるように肩部を有する表面(28)に向けて 、供給室(5)内に含まれる流体の通路を確保する、少なくとも1つのオリフィ スを含む円筒形の回転表面(29)を有することを特徴とする請求項6に記載の手 段。 8.加圧流体の供給源(S)と間接的に接続された導管(22)には、肩部が設け られて、弾性部材(17H)を収容し、前記肩部及びこの導管(22)と係合する軸 (24)の自由表面(17E)との間にに前記弾性部材が支えられることにより、密 閉要素(17C)は、その支 持面(17D)を介して密閉部材(12)に開口するチャネル(17A)の密閉座部( 17B)に弾性的に押圧されることを特徴とする請求項6または7に記載の手段。 9.制御された解放装置(17)は、支持面(17D)を介して密閉座部(17B)に 対して加えられる密閉要素(17C)の弾性押圧要素(17I)を含んでいることを 特徴とする請求項5ないし請求項8のいずれか1項に記載された手段。 10.分配装置は、請求項5ないし請求項9のいずれか1項に記載された手段を備 えていることを特徴とする分配装置。
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