JPH09505639A

JPH09505639A - プリント基板を処理するための装置

Info

Publication number: JPH09505639A
Application number: JP7529349A
Authority: JP
Inventors: ヘールマンマルセル; ホステンダニエル
Original assignee: シーメンスソシエテアノニム
Priority date: 1994-05-11
Filing date: 1995-05-11
Publication date: 1997-06-03
Anticipated expiration: 2013-05-13
Also published as: HK1008434A1; WO1995031590A1; CN1147838A; ES2114319T3; EP0759100B1; JP2749453B2; CN1116449C; DK0759100T3; DE59501606D1; EP0759100A1; US5833816A

Abstract

(57)【要約】プリント基板（ＬＰ）が、垂直位置で、並置して延びる水平方向の少なくとも２つの搬送経路（ＴＷ１乃至ＴＷ２）に沿って、処理浴（ＢＢ１乃至ＢＢ３）を介して案内され、該処理浴が、順次並置して配置された処理室（ＢＺ１０乃至ＢＺ１３；ＢＺ２０乃至ＢＺ２３；ＢＺ３０乃至ＢＺ３３；ＢＺ）内に収容されており、プリント基板を通過させるために、処理室の端壁が垂直方向のスリット（Ｓ）と、所属のシール（Ｄ）とを備えており、並置して配置された処理室から流出する浴液体が、共通の捕集トラフ（ＡＷ１乃至ＡＷ３；ＡＷ）内に捕集されかつポンプを介して処理室内に戻される。共通の捕集トラフ内に、並置して配置された処理領域用の共通の処理室を設けることができ、並置して延びる搬送経路へのプリント基板の搬送が、有利には、共通の搬送装置によって行われる。ツートラック又はマルチトラック式の処理によって、プリント基板処理量を安価に２倍もしくは４倍にすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】プリント基板を処理するための装置ヨーロッパ特許第０２５４９６２号明細書から、プリント基板をスルーホールメッキ及び電着するための装置が公知である。この場合、個々のプリント基板は、水平位置で、水平方向の搬送経路に沿って、順次配置された処理浴を介して連続的に案内される。処理室内に収容された処理浴を介したプリント基板の搬送は、水平に配置された搬送ローラを介して又はエンドレスに循環する駆動体に配置されたクランプを介して行われ、このクランプはプリント基板の側方の縁部をつかむ。電着式の処理の場合、クランプは同時にプリント基板のカソード式の接触接続をも担う。処理室の端壁内には、プリント基板を通過させるための水平方向のスリットが設けられていて、この場合、この水平方向のスリットには、シールとして、通過するプリント基板の速度に適合された回転数で駆動される水平に配置されたローラ対が配属されている。個々の処理室から流出する浴液体は、所属の捕集トラフ内に捕集されかつ適当なポンプを介して連続的に所属の処理室内に戻される。浴液体のこのような連続的な戻しによって、個々の処理室内でコンスタントな充填レベルを維持できる。ヨーロッパ特許第０４２１１２７号明細書から公知のプリント基板を処理するための装置では、個々のプリント基板は、垂直に縣架された位置で、水平方向の搬送経路に沿って、順次配置された処理浴を介して連続的に案内される。処理室内に収容された処理浴を介したプリント基板の搬送は、エンドレスに循環する駆動体に配置されたクランプを介して行われ、このクランプは、電着式の処理の場合、同時にプリント基板のカソード式の接触接続をも担う。処理室の端壁内には、プリント基板を通過させるための垂直方向のスリットが設けられていて、この場合、通過範囲にはブラシシール（Ｂｕｅｒｓｔｅｎｄｉｃｈｔｕｎｇ）又はストリップブラシシール（Ｓｔｒｅｉｆｅｎｂｕｅｒｓｔｅｎｄｉｃｈｔｕｎｇ）として構成されたシールが設けられている。個々の処理室は、捕集トラフ内に配置されていて、この捕集トラフからは、捕集された浴液体が適当なポンプを介して連続的に所属の処理室内に戻される。この場合にも、浴液体のこのような連続的な戻しによって、個々の処理室内でコンスタントな充填レベルを維持できる。更に、アメリカ国特許第４４０１５２２号明細書から、プリント基板を電解式に処理するための類似の構成の装置が公知であり、この場合、処理室の端壁内の垂直方向のスリットには、シールとして垂直に配置されたローラ対が配属されている。このローラ対の、弾性的な材料からなるローラは、互いに弾性的に押し付けられかつ通過するプリント基板の搬送速度に適合した回転数で駆動される。請求項１及び２に記載の本発明に課せられた課題は、比較的僅かな付加的な費用で処理量を著しく増大できるような、順次配置された処理浴内でプリント基板を処理するための装置を提供することにある。前記課題を解決するために本発明は次のような認識に基づいている。即ち、本発明は、垂直位置でのプリント基板の処理が、同じ高さで延びる平行に並置された少なくとも２つの搬送経路を有するスペースを節約したコンパクトな配置を可能にするという、認識に基づいている。この場合、共通の捕集トラフを使用することだけで別個に構成された単独装置に比して全費用が著しく低減される。この場合請求項１によれば、並置して配置された処理室から流出する浴液体用の共通の捕集トラフが設けられていて、他面請求項２によれば、搬送経路に配属された並置して配置された処理領域のために、共通の捕集トラフ並びに共通の処理室が設けられている。つまり、処理量を２倍もしくは４倍にすることができる。この場合、平行に延びる搬送経路の並置して配置された処理領域のために、共通の捕集トラフ、共通の加熱手段又は冷却手段、貯蔵タンク内の共通のレベル監視手段、適当な出力の共通のポンプ及び別の構成要素の共通の使用が、著しい節約を可能にする。更に、平行に延びる多数の搬送経路の場合にも、個々の処理浴への接近性、効果的な浴監視及び装置全体の簡単な保守が十分保証される。本発明において“プリント基板”という概念は、通常の作孔されたプリント基板のみならず、別のプレート状の配線体をも意味し、この配線体は、多数の配線層を形成するために場合によっては複数回装置を通過せしめられる。適当な前処理及び後処理ステップでプリント基板を従来のようにスルーホールメッキ及び電着する以外に、プリント基板の電気浸漬被膜形成（Ｅｌｅｋｔｒｏｔａｕｃｈｌａｃｋｉｅｒｕｎｇ））を行なうこともできる。この場合、電気浸漬被膜形成によって塗布される塗膜は、多層の配線体を形成する場合、ガルバノ（Ｇａｌｖａｎｏ・）レジスト、エッチングレジスト又はソルダーストップラック（Ｌｏｅｔｓｔｏｐｌａｃｋ）又は絶縁作用を有する中間層として用いられる。本発明によれば、プリント基板は、垂直位置で、処理室の端壁内の垂直方向のスリットを介して案内される。この場合“垂直方向”という概念は、絶対的な垂直な方向付けに限定されるものではない。プリント基板及びスリットの多少傾斜した配置によって、水平配置の装置に比して同様に本発明の利点が実現される。本発明の有利な構成は請求項３乃至１９に記載されている。請求項３の構成によって、特に簡単にプリント基板の懸架搬送を実現できる。請求項４の構成によって、簡単かつ確実にクランプによってプリント基板を保持できる。この場合、このようなクランプは特に、プリント基板の自動的な供給及び取出しにも適する。請求項５の構成によって、垂直位置での処理室を介したプリント基板の確実な搬送が保証される。請求項６の構成によって、並置して延びる搬送経路のための共通の搬送装置に基づき全費用を一層著しく低減できる。請求項７によるガイドレール及びガイドローラの使用によって、３つ以上の搬送経路の場合でも搬送手段の確実なガイドが保証される。請求項８の構成によって、プリント基板の搬送を一層簡略化でき、この場合、請求項９によるエンドレスに循環するチェーンの使用によって、特に確実でしかも頑丈な駆動手段が得られる。請求項１０による構成によって、プリント基板の電解式の処理が可能にされ、この場合、請求項１１による搬送経路の両側での電極の配置によって、電解式の処理の高い一様性及び有効性が保証される。請求項１２によれば、電解式の処理に際して、プリント基板の電気的な接触接続を搬送手段を介して特に簡単かつ確実に行うことができる。請求項１３の構成によって、化学的な又はアノード式のエッチングにより搬送手段上の金属析出物を簡単に除去できる。請求項１４の構成によって、プリント基板に浴液体を連続的にしかも目的通り供給することによりプリント基板を特に効果的に処理できる。この場合、請求項１５によるスプレイ管の垂直方向の方向付けが特に有利であり、他面、請求項１６による搬送経路の両側でのスプレイ管の配置によって、両プリント基板側部の同じ均一な処理が保証される。請求項１７による構成では、マイクロ乱流の発生によって処理強度が著しく高められる。従って、例えば電着式の処理室内に圧力空気を導入することによって、高い電流密度ひいては装置の全長が短縮される。請求項１８の構成によって、プリント基板を通過させるために必要なスリットを特に簡単かつ効果的にシールすることができる。この場合、請求項１９によれば、シールとして使用されるシリンダのルーズな垂直方向の方向付けをスルースチャンバ内にシールを収容することによって簡単に保証できる。次に図示の実施例につき本発明を説明する。第１図及び第２図は、プリント基板をマルチトラック式に処理するための装置の第１実施例の平面図及び横断面図、第３図及び第４図は、プリント基板をマルチトラック式に処理するための装置の第２実施例の平面図及び横断面図、第５図は、並置して配置された２つの処理室を有する電着式の処理モジュールの横断面図、第６図は、第５図で図示の処理モジュールの両処理室の正面側の平面図もしくは横断面図、第７図は、第５図で図示の処理モジュールの搬送装置の横断面図、第８図は、第７図の搬送装置の平面図である。第１図及び第２図では、極めて概略的にプリント基板ＬＰを処理するための装置の第１実施例を図示している。前記プリント基板ＬＰは、搬送手段Ｔを用いて垂直に懸架された位置で、同じ高さで延びる互いに平行に並置された水平方向の４つの搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４に沿って、順次配置された処理浴を介して案内される。第１図で図示の装置区分では、順次配置された処理浴は、符号ＢＢ１，ＢＢ２及びＢＢ３で示されている。処理浴ＢＢ１を受容するために、搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４に属する並置して配置された４つの処理室ＢＺ１０，ＢＺ１１，ＢＺ１２及びＢＺ１３が設けられていて、この処理室は共通の捕集トラフＡＷ１内に設置されている。処理浴ＢＢ２を受容するために、搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４に属する並置して配置された４つの処理室ＢＺ２０，ＢＺ２１，ＢＺ２２及びＢＺ２３が設けられていて、この処理室は共通の捕集トラフＡＷ２内に設置されている。処理浴ＢＢ３を受容するために、搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４に属する並置して配置された４つの処理室ＢＺ３０，ＢＺ３１，ＢＺ３２及びＢＺ３３が設けられていて、この処理室は共通の捕集トラフＡＷ３内に設置されている。全ての処理室の端壁は、垂直方向のスリットＳを備えていて、このスリットは、プリント基板ＬＰが搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４に沿って支障なく通過案内されるように、設計されている。処理室の端面に設けられたスルースチャンバＳＫは、垂直方向のスリットＳからの浴液体の流出を著しく減少するシールＤを有している。シールＤは、垂直方向に方向付けられてルーズに配置された対のシリンダとして形成されていて、このシリンダは、浴液体の圧力によって互いに押し付けられるか又はそれぞれ通過するプリント基板ＬＰに押し付けられる。スルースチャンバＳＫ及び共通の捕集トラフＡＷ１乃至ＡＷ３の端壁は、プリント基板ＬＰを通過させるために、処理室の端壁と同様に垂直方向のスリットＳを備えている。スリットＳの範囲で個々の処理室から流出する浴液体又は処理室から溢流する浴液体は、所属の共通の捕集トラフＡＷ１，ＡＷ２及びＡＷ３内に捕集される。第２図の、並置して配置された４つの処理室ＢＺ２０，ＢＺ２１，ＢＺ２２及びＢＺ２３及び処理室の共通の捕集トラフＡＷ２の横断面図から明らかなように、捕集された浴液体は共通のポンプＰを用いて連続的に所属の処理室ＢＺ２０，ＢＺ２１，ＢＺ２２及びＢＺ２３内に戻され、この場合、このような戻しは矢印Ｐｆで図示されている。このようにして、処理室ＢＺ２０，ＢＺ２１，ＢＺ２２及びＢＺ２３内で浴液体のコンスタントな充填レベルが維持される。更に、第２図の横断面図から明らかなように、クランプとして構成された４つの搬送手段Ｔは、共通の搬送装置ＴＥ１の一部である。この場合、搬送手段Ｔは、所属の搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４（第１図参照）の間隔で共通のホルダＨに固定されていて、このホルダ自体は、ガイドローラＦＲ１を介して両側で延びる円形のガイドレールＦＳ１に案内されている。全搬送装置ＴＥ１の駆動は、ホルダＨの両側に連結されたそれぞれエンドレスに循環するチェーンＫを介して行われる。共通の搬送装置ＴＥ１は、電解式の処理室の上側でプリント基板ＬＰのアノード式又はカソード式の接触接続を可能にする。しかしこのような接触接続の可能性は、第７図及び第８図で図示の搬送装置ＴＥ２に関連して後で詳述する。第３図及び第４図では、極めて概略的にプリント基板ＬＰを処理するための装置の第２実施例を図示している。前記プリント基板ＬＰは、第１実施例の場合のように、搬送手段Ｔを用いて垂直に懸架された位置で、同じ高さで延びる互いに平行に並置された水平方向の４つの搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４に沿って、順次配置された処理浴を介して案内される。第１図及び第２図もしくは第３図及び第４図で図示の実施例は、ほぼ同じ構造を有しかつ同じ構成部材及び浴には同じ符号が付されているので、以下においては両実施例の相違点について特に詳述する。第３図及び第４図で図示の第２実施例では、処理浴ＢＢ１乃至ＢＢ３を収容するための、互いに並置して配置された４つの個々の処理室の代わりに、それぞれ共通の処理室が設けられていて、この処理室は、全装置の、第３図で図示の区分において符号ＢＺ１，ＢＺ２及びＢＺ３で示されている。つまり、処理浴ＢＢ１は共通の処理室ＢＺ１内に収容され、この処理室を介して４つの搬送経路ＴＷ１，ＴＷ２，ＴＷ３及びＴＷ４が案内される。この場合にも、プリント基板ＬＰの通過個所には、シールＤを備えたスルースチャンバＳＫ及び垂直方向のスリットＳが設けられている。共通の処理室はやはり共通の捕集トラフＡＷ１内に設置される。相応の形式で、後続の処理浴ＢＢ２及びＢＢ３は、共通の処理室ＢＺ２及びＢＺ３内に収容され、この場合、共通の処理室ＢＺ２及びＢＺ３は、所属の共通の捕集トラフＡＷ２もしくはＡＷ３内に設置される。例えば共通の捕集トラフＡＷ２内に収容された浴液体の共通の処理室ＢＺ２内への戻しは、第４図で図示の横断面図によれば、４個所で行われる。浴液体の共通の戻し又は浴液体の別の形式の戻し及び分配も、同様に行うことができる。第５図では、互いに並置して配置された電着式の処理室ＢＺを備えた電着式の処理モジュールの横断面を図示していて、前記処理室は、共通の捕集トラフＡＷ内に配置されている。脚部ＦＵで設置されかつ上部で取り外し可能なカバーフードＡＨによって閉鎖された捕集トラフＡＷは、電着式の処理浴（充填レベルを符号ＰＧで図示）の貯蔵部を有している。共通の捕集トラフＡＷは、貯蔵タンクとしての機能の他に、両処理室ＢＺから流出する浴液体を受容するという機能を有している。両処理室ＢＺ内で充填レベルをコンスタントに維持するために、捕集トラフＡＷ内にプランジャポンプ（Ｔａｕｃｈｐｕｍｐ）として構成されたポンプＰが配置されているので、戻し導管ＲＬを介して浴液体が矢印Ｐｆ方向で連続的に処理室ＢＺ内に戻される。戻し量を調節するために、捕集トラフＡＷの外部に、ポンプＰの駆動モータＡＭの他に戻し導管ＲＬ内に挿入された調整弁ＲＶが配置されている。捕集トラフＡＷ内に配置された電着式の両処理室ＢＺを詳述するために第６図を参照する。第６図左側に図示の処理室ＢＺから明らかなように、処理室の端面にはプリント基板ＬＰを通過させるためのスリットＳが設けられている。スリットＳ及び所属のスルースチャンバＳＫ及びシールＤの詳細は、第１図に関連して既に説明した。処理室ＢＺの下側範囲には、中間底部ＺＢによって第１の分配室ＶＫ１が形成されていて、この分配室内には、第１の分配管ＶＲ１を介して、ポンプＰによって戻された浴液体の一部が導入される。第１の分配管ＶＲ１の下側には、互いに間隔をおいて配置された孔が設けられていて、この孔からは浴液体が流出する（第６図矢印Ｐｆ参照）。類似の形式で中間底部ＺＢ内に、相互間隔をおいて配置された２列の孔ＢＯ１が設けられていて、この孔を介して浴液体が第１の分配室ＶＫ１から垂直方向で上向きに本来の電着範囲に案内される。第１の分配室ＶＫ１内には、中間底部ＺＢに懸架された第２の分配室ＶＫ２が配置されていて、この分配室内には、第２の分配管ＶＲ２を介して、ポンプＰによって戻される浴液体の別の部分が導入される。次いで、第２の分配管ＶＲ２から浴液体はスプレイ管ＳＲ内に達し、このスプレイ管は、プリント基板ＬＰの搬送経路の両側で直立して中間底部ＺＢ内に固定されている。２列で配置されたスプレイ管ＳＲの内側には、多数のスプレイノズル（図示せず）が配置されていて、このスプレイノズルを介して通過するプリント基板ＬＰが直接フレッシュな浴液体で負荷される。第２の分配室ＶＫ２内には、中間底部ＺＢに懸架された第３の分配室ＶＫ３が配置されていて、この分配室内には圧力空気が導入される。この場合、矢印ＤＬによって示された圧力空気は、中間底部ＺＢ内に２列で設けられた孔ＢＯ２を介して電着範囲に達する。両列の孔ＢＯ２の間には、中間底部ＺＢ内にＵ字形の溝として設けられた、プリント基板ＬＰ用のガイドＦが設けられている。電着式の処理室ＢＺの内部には、中間底部ＺＢの上側で搬送経路の両側に配置された電極Ｅが設けられていて、この電極は、側壁に沿って搬送方向に延びている。図示の電着式の処理モジュールの場合、電極は陽極であり、この陽極は、電着による銅析出物が生じる場合、例えばチタンケージ及びチタンケージ内に収容された銅球体から形成される。第６図で図示の横断面図から明らかなように、処理室ＢＺの両側壁は斜め面取り部（図示せず）を備えている。これによって、側壁の上縁は、処理室ＢＺ内に戻された浴液体が常時溢流する規定のオーバーフローを成す。相互間隔をおいて図平面に対して垂直に延びる２つの搬送経路に沿ったプリント基板ＬＰの搬送は、共通の搬送装置ＴＥ２（第７図及び第８図で付加的に詳述する）を介して行われる。クランプとして構成された２つの搬送手段Ｔは、両処理室ＢＺを介して案内される搬送経路の間隔で支持体ＴＲに固定されていて、この支持体自体は、搬送方向に対して横方向に延びる共通のホルダＨに設けられている。それぞれ１つのホルダＨと、２つの支持体ＴＲと、支持体ＴＲに配置された１０個の搬送手段Ｔとから構成された個々の搬送キャリッジをガイドするために、ガイドレールＦＳ１及びＦＳ２並びにガイドローラＦＲ１及びＦＲ２が設けられている。全装置の内側で延びる円形のガイドレールＦＳ１は、図示の電着式の処理モジュールの範囲で、Ｌ字形部材ＷＩを介して捕集トラフＡＷに固定されているのに対して、横断面方形の第２のガイドレールＦＳ２は、両処理室ＢＺの間の範囲で延びている。内側のガイドレールＦＳ１には、それぞれ２つの上側のガイドローラ及び２つの下側のガイドローラＦＲ１を備えた搬送キャリッジが案内されるのに対して、中央のガイドレールＦＲ２に支持するために単一のガイドローラＦＲのみが設けられている。個々の搬送キャリッジを駆動するために、エンドレスに循環するチェーンＫが用いられ、このチェーンは、内側でガイドレールＦＳ１に対して平行に延びていてかつチェーンの連結リンクＫＧには個々のホルダＨが連結されている。図示の電着式の処理モジュールの範囲では、搬送装置ＴＥ２はプリント基板ＬＰのカソード式の接触接続をも担う。このために、ホルダＨの内側に位置する部分は受電部材ＳＡとして構成されていて、この受電部材は、例えば銅から形成されていてかつ受電した電流を、ホルダＨ、支持体ＴＲ及び搬送手段Ｔを介して、搬送手段に懸架されたプリント基板ＬＰに案内する。導電を改善するために、ホルダＨは特殊鋼によって被覆された銅ロッドから形成される。給電は、上側の導体レールＯＳを介して行われ、この導体レールは、チタンで被覆された銅ロッドから成りかつレール保持体ＳＨを介して捕集トラフＡＷに固定されている。上側の導体レールＯＳの下側にはスライドレールＧＳが設けられていて、このスライドレールは、例えばグラファイトから成りかつばねエレメントＦＥを介して、ばねエレメントに沿ってスライドする受電部材ＳＡに弾性的に押し付けられる。ばねエレメントＦＥを電気的に架橋するために、銅ケーブルＫＫが設けられている。電着式の処理室ＢＺ内では、通過するプリント基板ＬＰ上での所望の金属析出の他に、クランプとして構成された搬送手段Ｔ上での不所望の金属析出も生ずる。この不所望の金属析出を排除するために、搬送装置ＴＥ２の戻り側区分の範囲でカバーフードＡＨの下側に２つの浄化浴ＲＢが配置されていて、この浄化浴を介して搬送手段Ｔの下側範囲が案内される。脱金属化のために、アノード式のエッチングによって、即ち、搬送手段Ｔはこの戻り範囲でアノード式に接触接続される。給電は、処理室ＢＺの範囲の既に説明したカソード式の給電と同じ形式で行われる。同様に通過スリットを備えた浄化浴ＲＢの構造も、処理室ＢＺの構造にある程度類似する。この場合、浴液体の供給は供給管ＺＲを介して行われ、これに対し、捕集トラフＡＷ内への戻し及び排出のために排出管ＡＲが設けられている。浴液体を供給するために必要なポンプは、第５図では図示されていない。前述の浄化浴ＲＢの下側には、吸出部材ＡＧが設けられていて、この吸出部材は、捕集トラフＡＷ内部で負圧を発生させるために、中央の吸出装置（図示せず）に接続されている。

【手続補正書】特許法第１８４条の８【提出日】１９９６年３月８日【補正内容】この場合請求項１によれば、並置して配置された処理室から流出する浴液体用の共通の捕集トラフが設けられていて、他面、請求項２によれば、搬送経路に配属された並置して配置された処理領域のために、共通の捕集トラフ並びに共通の処理室が設けられている。つまり、処理量を２倍もしくは４倍にすることができる。この場合、平行に延びる搬送経路の並置して配置された処理領域のために、共通の捕集トラフ、共通の加熱手段又は冷却手段、貯蔵タンク内の共通のレベル監視手段、適当な出力の共通のポンプ及び別の構成要素の共通の使用が、著しい節約を可能にする。更に、平行に延びる多数の搬送経路の場合にも、個々の処理浴への接近性、効果的な浴監視及び装置全体の簡単な保守が十分保証される。本発明において“プリント基板”という概念は、通常の作孔されたプリント基板のみならず、別のプレート状の配線体をも意味し、この配線体は、多数の配線層を形成するために場合によっては複数回装置を通過せしめられる。適当な前処理及び後処理ステップでプリント基板を従来のようにスルーホールメッキ及び電着する以外に、本発明による装置においては例えばプリント基板の電気浸漬被膜形成（Ｅｌｅｋｔｒｏｔａｕｃｈｌａｃｋｉｅｒｕｎｇ））を行なうこともできる。この場合、電気浸漬被膜形成によって塗布される塗膜は、多層の配線体を形成する場合、ガルバノ（Ｇａｌｖａｎｏ・）レジスト、エッチングレジスト又はソルダーストップラック（Ｌｏｅｔｓｔｏｐｌａｃｋ）又は絶縁作用を有する中間層として用いられる。本発明によれば、プリント基板は、垂直位置で、処理室の端壁内の少なくともほぼ垂直方向に方向付けられたスリットを介して案内される。即ち、絶対的な垂直な方向付けに限定されるものではない。プリント基板及びスリットの多少傾斜した配置によって、水平配置の装置に比して同様に本発明の利点が達成される。本発明の有利な構成は請求項３乃至１９に記載されている。請求項３の構成によって、特に簡単にプリント基板の懸架搬送を実現できる。請求項４の構成によって、簡単かつ確実にクランプによってプリント基板を保持できる。この場合、このようなクランプは特に、プリント基板の自動的な供給及び取出しにも適する。請求項５の構成によって、垂直位置での処理室を介したプリント基板の確実な搬送が保証される。請求項６の構成によって、並置して延びる搬送経路のための共通の搬送装置に基づき全費用を一層著しく低減できる。請求項７によるガイドレール及びガイドローラの使用によって、３つ以上の搬送経路の場合でも搬送手段の確実なガイドが保証される。請求項８の構成によって、プリント基板の搬送を一層簡略化でき、この場合、請求項９によるエンドレスに循環するチェーンの使用によって、特に確実でしかも頑丈な駆動手段が得られる。請求の範囲１．プリント基板（ＬＰ）を処理するための装置において、プリント基板（ＬＰ）を、少なくともほぼ垂直位置で、並置して延びる水平方向の少なくとも２つの搬送経路（ＴＷ１乃至ＴＷ２）に沿って、順次配置された処理浴（ＢＢ１乃至ＢＢ３）を介して連続的に案内する搬送手段（Ｔ）と、処理浴を受容するための、順次並置して配置された処理室（ＢＺ１０乃至ＢＺ１３；ＢＺ２０乃至ＢＺ２３；ＢＺ３０乃至ＢＺ３３；ＢＺ）と、プリント基板を通過させるための、処理室の端壁内に配置された少なくともほぼ垂直方向に方向付けられたスリット（Ｓ）と、スリットに配属されたシール（Ｄ）と、並置して配置された処理室から流出する浴液体用の共通の捕集トラフ（ＡＷ１乃至ＡＷ３；ＡＷ）と、所属の処理室内に捕集トラフから浴液体を連続的に戻すためのポンプとが設けられていることを特徴とする、プリント基板を処理するための装置。２．プリント基板（ＬＰ）を処理するための装置において、プリント基板（ＬＰ）を、少なくともほぼ垂直位置で、並置して延びる水平方向の少なくとも２つの搬送経路（ＴＷ１乃至ＴＷ２）に沿って、順次配置された処理浴（ＢＢ１乃至ＢＢ３）を介して連続的に案内する搬送手段（Ｔ）と、処理浴を受容するための、順次配置された処理室（ＢＺ１乃至ＢＺ３）と、プリント基板を通過させるための、処理室の端壁内に配置された少なくともほぼ垂直方向に方向付けられたスリット（Ｓ）と、スリットに配属されたシール（Ｄ）と、処理室から流出する浴液体用の捕集トラフ（ＡＷ１乃至ＡＷ３；ＡＷ）と、所属の処理室内に捕集トラフから浴液体を連続的に戻すためのポンプとが設けられていることを特徴とする、プリント基板を処理するための装置。

Claims

【特許請求の範囲】１．プリント基板（ＬＰ）を処理するための装置において、プリント基板（ＬＰ）を、垂直位置で、並置して延びる水平方向の少なくとも２つの搬送経路（ＴＷ１乃至ＴＷ２）に沿って、順次配置された処理浴（ＢＢ１乃至ＢＢ３）を介して連続的に案内する搬送手段（Ｔ）と、処理浴を受容するための、順次並置して配置された処理室（ＢＺ１０乃至ＢＺ１３；ＢＺ２０乃至ＢＺ２３；ＢＺ３０乃至ＢＺ３３；ＢＺ）と、プリント基板を通過させるための、処理室の端壁内に配置された垂直方向のスリット（Ｓ）と、スリットに配属されたシール（Ｄ）と、並置して配置された処理室から流出する浴液体用の共通の捕集トラフ（ＡＷ１乃至ＡＷ３；ＡＷ）と、所属の処理室内に捕集トラフから浴液体を連続的に戻すためのポンプとが設けられていることを特徴とする、プリント基板を処理するための装置。２．プリント基板（ＬＰ）を処理するための装置において、プリント基板（ＬＰ）を、垂直位置で、並置して延びる水平方向の少なくとも２つの搬送経路（ＴＷ１乃至ＴＷ２）に沿って、順次配置された処理浴（ＢＢ１乃至ＢＢ３）を介して連続的に案内する搬送手段（Ｔ）と、処理浴を受容するための、順次配置された処理室（ＢＺ１乃至ＢＺ３）と、プリント基板を通過させるための、処理室の端壁内に配置された垂直方向のスリット（Ｓ）と、スリットに配属されたシール（Ｄ）と、処理室から流出する浴液体用の捕集トラフ（ＡＷ１乃至ＡＷ３；ＡＷ）と、所属の処理室内に捕集トラフから浴液体を連続的に戻すためのポンプとが設けられていることを特徴とする、プリント基板を処理するための装置。３．プリント基板を懸架して搬送するために搬送手段（Ｔ）が設けられている、請求項１または２記載の装置。４．搬送手段（Ｔ）が、クランプとして構成されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。５．処理室（ＢＺ）内に、プリント基板用のガイド（Ｆ）が配置されている、請求項３または４記載の装置。６．並置して延びる搬送経路の搬送手段（Ｔ）が、共通の搬送装置（ＴＥ１；ＴＥ２）に統合されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。７．共通の搬送装置が、ガイドレール（ＦＳ１，ＦＳ２）に沿って移動するガイドローラ（ＦＲ１，ＦＲ２）を備えている、請求項６記載の装置。８．共通の搬送装置の搬送手段が、エンドレスに循環する少なくとも１つの駆動体を介して駆動される、請求項６または７記載の装置。９．エンドレスに循環する駆動体が、チェーン（Ｋ）によって構成されている、請求項８記載の装置。 10．プリント基板をアノード式またはカソード式に接触接続させるための接触接続機構と、接触接続機構とは逆向きの極性を有する、電解式の処理室（ＢＺ）内に配置された電極（Ｅ）とが設けられている、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。 11．電極が、プリント基板の搬送経路の両側に配置されている、請求項１０記載の装置。 12．接触接続機構が搬送手段（Ｔ）によって形成されており、搬送手段に対する給電が、すり接触接続又はころがり接触接続によって行われる、請求項１０又は１１記載の装置。 13．エンドレスな駆動体の戻し側区分の範囲に、搬送手段を化学的又は電気化学的に浄化するために少なくとも１つの浄化浴（ＲＢ）が配置されている、請求項１２記載の装置。 14．浴液体の戻しが、少なくとも部分的に、所属の処理室（ＢＺ）内に配置されたスプレイ管（ＳＲ）を介して行われる、請求項１から１３までのいずれか１項記載の装置。 15．スプレイ管が垂直に方向付けられている、請求項１４記載の装置。 16．スプレイ管が、プリント基板の搬送経路の両側に配置されている、請求項１４又は１５記載の装置。 17．処理浴内に圧力空気（ＤＬ）を導入する手段が設けられている、請求項１から１６までのいずれか１項記載の装置。 18．シール（Ｄ）が、垂直に方向付けられてルーズに配置された対のシリンダによって形成されていて、該シリンダが、処理浴（ＢＢ１乃至ＢＢ３）の圧力によって互いに押し付けられるか又はそれぞれ通過するプリント基板（ＬＰ）に押し付けられる、請求項１から１７までのいずれか１項記載の装置。 19．シール（Ｄ）が、処理室の端面側に設けられたスルースチャンバ（ＳＫ）内に配置されている、請求項１８記載の装置。